JPH0466804A - Absolute length measuring device - Google Patents
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 38
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 claims abstract description 13
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 claims description 8
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 abstract description 7
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 abstract description 7
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 6
- 241001417527 Pempheridae Species 0.000 abstract description 3
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 abstract 2
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 206010025135 lupus erythematosus Diseases 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は物体までの絶対距離を測定するアブソリュート
測長器に関し、特に、ＦＭヘテロダイン測長法を使用し
たアブソリュート測長器に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to an absolute length measuring device that measures the absolute distance to an object, and particularly relates to an absolute length measuring device using the FM heterodyne length measuring method.
（従来の技術）
近年、サブナノメートルの精度を要求される電子部品や
製造装置の要求か高まり、この産業界の要請に応しるべ
く、距離計測や形状計測に用いられる干渉計の分野で、
高精度な干渉縞計測技術の研究開発が活発化している。(Prior art) In recent years, the demand for electronic components and manufacturing equipment that requires sub-nanometer precision has increased, and in order to meet this industrial demand, in the field of interferometers used for distance measurement and shape measurement,
Research and development of high-precision interference fringe measurement technology is gaining momentum.
絶対距離を測定する測長法として、ＦＭヘテロダイン計
測法があり、最近、光源として半導体レーザを使用し、
注入電流を変化させることによりレーザ光をＦＭ変調し
く中心波長８３０ｒ＋ａ＋）、ヘテロダイン検波により
得られたビート信号の位相変化を測定することにより、
粗面散乱体に対して約５００１１ｆｆｌの絶対距離を約
５０μｍの精度で測定でき、かつ相対距離を約１０ｎｍ
の高精度で測定可能な測長器についての報告かなされて
いる（シ０ＦＳ４−８「半導体レーザによる距離の高分
解能ＦＭヘテロダイン測定法」、小林、田中、伊藤、大
高、福井大学工学部 Ｊａｎｕａｒｙ １２伺３．１９
８７． Ｊａｐａｎ ５ｏｃｉｅｔｙ ｏｒ＾ｐｐｌｉ
ｅｄ ｐｈｙｓｉｃｓ）。There is an FM heterodyne measurement method as a length measurement method for measuring absolute distance, and recently, a semiconductor laser is used as a light source.
By changing the injected current, the laser beam is FM modulated with a center wavelength of 830r+a+), and by measuring the phase change of the beat signal obtained by heterodyne detection.
It is possible to measure an absolute distance of about 50011ffl to a rough scatterer with an accuracy of about 50 μm, and a relative distance of about 10 nm.
There has been a report on a length measuring device that can measure with high precision (S0FS4-8 "High-resolution FM heterodyne measurement method of distance using semiconductor laser", Kobayashi, Tanaka, Ito, Otaka, Faculty of Engineering, University of Fukui January 12 Visit 3.19
87. Japan 5ociety or＾ppli
ed physics).
ＦＭヘテロダイン法を用いたアブソリュート測長器にお
いて、測定距離りは原理的に以下の式で求められる。In an absolute length measuring device using the FM heterodyne method, the measurement distance can be calculated in principle using the following formula.
Ｌ−（θ／４ π） ｆｃｏ ／ （Δｆ−ｎ）
１ここで、θは測定した干渉位相、ｃｏは真空中での光
の速度、Δｆは周波数可変幅、ｎは測定雰囲気中の空気
屈折率を表す。L-(θ/4 π) fco/(Δf-n)
1 Here, θ is the measured interference phase, co is the speed of light in vacuum, Δf is the frequency variable width, and n is the air refractive index in the measurement atmosphere.
ここで、問題となるのはΔｆの決定法であり、高精度に
測定または制御するのかむずかしい。そこで、上記の福
井大の小林能は、基準光路を設け、基準光路との比較測
定を行うことで測定距離りを求めている。この場合、
Ｌ −（Ｎｍ／Ｎ ｒ） ・Ｌ ｒ
となる。ここで、Ｌｒは基準光路長、Ｎｍはθ／２π、
Ｎｒはθｒ ／ ２π（θｒ二二基先光路得られた干渉
位相）を表す。この方法は、Δｆを測定しなくてもよく
測定方法が簡易であるという利点がある。Here, the problem is how to determine Δf, and it is difficult to measure or control it with high precision. Therefore, the above-mentioned Noh Kobayashi of Fukui University establishes a reference optical path and performs comparative measurements with the reference optical path to determine the measurement distance. In this case, L − (Nm/N r) ·L r . Here, Lr is the reference optical path length, Nm is θ/2π,
Nr represents θr/2π (interference phase obtained from θr22 optical path). This method has the advantage that it is not necessary to measure Δf and the measurement method is simple.
（発明か解決しようとする課題）
上述した従来の技術は、θとθｒの位相測定精度か等し
いとすると、測定精度は基準光路長の精度で決まってし
まう。従って、長い距離の測定をする場合、精度をおと
すか、測定スパン距離と等しい長さが必要となる。高精
度の長い基準長さを提供するのは容易ではなく、このた
めに、長い距離の高精度測定か困難であるという問題点
かある。(Problems to be Solved by the Invention) In the above-described conventional technology, assuming that the phase measurement accuracy of θ and θr is equal, the measurement accuracy is determined by the accuracy of the reference optical path length. Therefore, when measuring a long distance, it is necessary to reduce the accuracy or to have a length equal to the measurement span distance. It is not easy to provide a long reference length with high accuracy, which makes it difficult to measure long distances with high accuracy.
また、アブソリュート測長器の絶対精度は、基準光路長
Ｌｒの絶対精度で決まるが、ｉｐｐｍ以下の安定度を確
保するのはむすかしい。また、温度や振動による絶対値
のずれを補正する必要かあり、測定か複雑化するという
問題がある。Further, the absolute accuracy of the absolute length measuring device is determined by the absolute accuracy of the reference optical path length Lr, but it is difficult to ensure stability of less than ippm. Additionally, it is necessary to correct deviations in absolute values due to temperature and vibration, which complicates measurement.
本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり
、その目的は、アブソリュート測長の精度を向上させ、
測定スパン（測定対象までの距離）を拡大することにあ
る。The present invention was made in view of these problems, and its purpose is to improve the accuracy of absolute length measurement,
The goal is to expand the measurement span (distance to the measurement target).
（課題を解決するための手段）
本発明のアブソリュート測長器は、光の周波数を変化さ
せることができる光源と、特定の周波数域において光吸
収のピークを有する光吸収用セルと、負帰還制御により
、前記光源の出力光の周波数を前記光吸収用セルの吸収
ピークの周波数に安定化する周波数安定化手段と、長さ
基準と、前記光吸収用セルにより安定化された周波数を
利用し負帰還制御によって前記長さ基準の長さを所定値
に安定化する基準長さ安定化手段と、測長用干渉計と、
前記長さ基準から得られる干渉次数信号と前記測長用干
渉計とから得られる干渉信号とから絶対距離を求める手
段とを有することを特徴とする。(Means for Solving the Problems) The absolute length measuring device of the present invention includes a light source capable of changing the frequency of light, a light absorption cell having a light absorption peak in a specific frequency range, and a negative feedback control. A frequency stabilizing means for stabilizing the frequency of the output light of the light source to the frequency of the absorption peak of the light absorption cell, a length reference, and a frequency stabilized by the light absorption cell are used to stabilize the frequency of the light output from the light source. a reference length stabilizing means for stabilizing the length reference length to a predetermined value by feedback control; a length measurement interferometer;
It is characterized by comprising means for determining an absolute distance from an interference order signal obtained from the length reference and an interference signal obtained from the length measurement interferometer.
（作用）
負帰還制御を用いて基準長さの安定化を行い、その精度
を向上させることにより、測定精度の向上および測定ス
パンを拡大させる。(Function) By stabilizing the reference length using negative feedback control and improving its accuracy, measurement accuracy is improved and the measurement span is expanded.
（実施例）
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。(Example) Next, an example of the present invention will be described with reference to the drawings.
実施例１
第１図は本発明のアブソリュート測長器の一実施例の構
成を示す図である。Embodiment 1 FIG. 1 is a diagram showing the configuration of an embodiment of an absolute length measuring device of the present invention.
本実施例のアブソリュ−１・測長器において、周波数可
変レーサー光源（以下、ＬＤという）１から出射された
光は、コリメータレンズ２て平行光となり、アイソレー
タ３を経て取り出される。その後、ハーフミラ−４およ
び５て分岐された光はそれぞれ、周波数安定化部ならび
に測長用干渉部７、長さ基準部に入力される。In the Absolute 1 length measuring device of this embodiment, light emitted from a variable frequency laser light source (hereinafter referred to as LD) 1 is turned into parallel light by a collimator lens 2, and is extracted via an isolator 3. Thereafter, the lights branched by the half mirrors 4 and 5 are input to a frequency stabilizing section, a length measuring interference section 7, and a length reference section, respectively.
周波数安定化部では、ハーフミラ−ってさらに光か分岐
される。一方の光はレンズｌＯで集光され、フォトダイ
オード（以下、ＰＤという）１１て検出される。この検
出結果は、パワーモニターとして使用される。他方の光
はガスセル（所定周波数域において光の吸収ピークを有
する）８を通過後、レンズ１２で集光され、ＰＤ１３で
検出される。これは透過光検出用である。ＰＤｌ３の出
力とＰＤＩＩとの出力はそれぞれ、比較器２２の非反転
および反転端子に入力される。スイッチがスイッチコン
トローラ２３によって端子Ｂ側に切換えられると、帰還
ループが構成され、比較器２２の出力がＬＤＩに帰還さ
れ、ＬＤＩの周波数はガスセル８の吸収ピークの周波数
に安定化される。In the frequency stabilization section, the light is further branched by a half mirror. One of the lights is focused by a lens lO and detected by a photodiode (hereinafter referred to as PD) 11. This detection result is used as a power monitor. The other light passes through a gas cell (having a light absorption peak in a predetermined frequency range) 8, is focused by a lens 12, and is detected by a PD 13. This is for transmitted light detection. The output of PDl3 and the output of PDII are input to the non-inverting and inverting terminals of the comparator 22, respectively. When the switch is switched to the terminal B side by the switch controller 23, a feedback loop is formed, the output of the comparator 22 is fed back to the LDI, and the frequency of the LDI is stabilized at the absorption peak frequency of the gas cell 8.
長さ基準部６は、真空部６ａと、エアー（空気）ギャッ
プ部６ｂとからなり、真空部６ａの干渉信号はレンズ１
６を経てＰＤｌ４に入力され、検出される。エアーギャ
ップ部６ｂの信号はレンズＩ７て集光され、ＰＤｌ５て
検出される。The length reference part 6 consists of a vacuum part 6a and an air gap part 6b, and the interference signal of the vacuum part 6a is transmitted to the lens 1.
6 and is input to PD14 and detected. The signal from the air gap portion 6b is focused by the lens I7 and detected by the PD15.
ＬＤＩの周波数に関しては、スィーパ−２４による可変
と、周波数安定化部による安定化とが交互に行なわれて
おり、その切換えはスイッチコントローラ２３によって
行われる。この切換えに同期してサンプルホールド回路
１８および２ｏにサンプルホールド制御信号Ｓ。が出力
され、基準長さの安定化制御が行われる。Regarding the frequency of the LDI, variation by the sweeper 24 and stabilization by the frequency stabilizing section are performed alternately, and switching is performed by the switch controller 23. In synchronization with this switching, a sample and hold control signal S is supplied to the sample and hold circuits 18 and 2o. is output, and stabilization control of the reference length is performed.
長さ基準６は、ＬＤＩの周波数がガスセル８の吸収ピー
クの周波数に安定化されている時に、これに同期して負
帰還制御によって所定値になるように安定化される。す
なわち、ＰＤｌ４で検出した真空部６ａの干渉位相が一
定となるように、アンプＩ９と圧電アクチュエータ３０
（第３図に示されるように円筒形となっており、制御電
極２Ｉによって制御され、横方向に伸縮する）を用いて
制御される。When the frequency of the LDI is stabilized to the absorption peak frequency of the gas cell 8, the length reference 6 is stabilized to a predetermined value by negative feedback control in synchronization with this. That is, the amplifier I9 and the piezoelectric actuator 30 are adjusted so that the interference phase of the vacuum section 6a detected by the PDl4 is constant.
(As shown in FIG. 3, it has a cylindrical shape and is controlled by the control electrode 2I and expands and contracts in the lateral direction).
測長用干渉部７は、ハーフミラ−２５と２つのコーナー
キューブ２Ｇ、２７で構成され、信号はＰＤ２９で検出
される。測長スパンはＬｍである。なお、レンズ２８は
集光用である。The length measurement interference section 7 is composed of a half mirror 25 and two corner cubes 2G and 27, and a signal is detected by the PD 29. The length measurement span is Lm. Note that the lens 28 is for condensing light.
次に、第２図を用いて本実施例の動作合説明する。Next, the operation of this embodiment will be explained using FIG.
安定化時の動作
（ａ）スイッチコントローラ２３はスイッチをＢ端子側
（アンプ２２側）に切換え、サンプルホールド信号Ｓ。Operation during stabilization (a) The switch controller 23 switches the switch to the B terminal side (amplifier 22 side) to output the sample hold signal S.
はオン状態となってサンプルホールド回路１８．２０か
導通し、長さ基準の安定化ループが構成される。is turned on and the sample and hold circuits 18 and 20 are conductive, forming a length-based stabilizing loop.
（ｂ）ＬＤＩの周波数は安定化ループによりガスの吸収
線に高精度にロックされる。(b) The frequency of the LDI is locked to the absorption line of the gas with high precision by a stabilizing loop.
（ｃ）安定化された周波数は真空部の長さ基準６ａに入
射され、長さに対応した干渉位相がＰＤｌ４て検出され
る。このときの干渉位相θＶＡＣは、θＶＡＣ−（２π
／λ１．、）・２ＬＶＡＣと表される。このθＶＡＣを
基準位相θ１．と比較し、サンプルホールド回路２０を
介して制ａｌｌｌＦ１１２＋に制御電圧を供給し、θＶ
ＡＣが一定となるように負帰還制御を行う。すなわち、
長さ基準部６（空気ギャップ６ｂ）は第３図のような構
成となっており、制御電極２１に制御電圧を与え、圧電
アクチュエータ３０の伸縮を制御して側板３１の面間距
離りを調整する。真空部６ａと空気ギャップ６ｂのフラ
ンジは一体で作られており、空気ギャップ部の面間距離
りと連動して真空部の面間距離も制御される。(c) The stabilized frequency is input to the length reference 6a of the vacuum section, and the interference phase corresponding to the length is detected by PD14. The interference phase θVAC at this time is θVAC−(2π
/λ1. , )・2LVAC. This θVAC is the reference phase θ1. , a control voltage is supplied to the control allF112+ via the sample and hold circuit 20, and θV
Negative feedback control is performed to keep AC constant. That is,
The length reference part 6 (air gap 6b) has a configuration as shown in FIG. 3, and applies a control voltage to the control electrode 21 to control the expansion and contraction of the piezoelectric actuator 30 to adjust the distance between the surfaces of the side plates 31. do. The flanges of the vacuum section 6a and the air gap 6b are made integrally, and the distance between the surfaces of the vacuum section is also controlled in conjunction with the distance between the surfaces of the air gap section.
これにより、ＬＶＡＣ（真空の長さ基準）がλ５．。As a result, the LVAC (vacuum length standard) is λ5. .
の安定度と同等のレベルまで安定化される。stabilized to a level equivalent to that of .
周波数可変時
サンプルホールド信号ＳＣを最終値にホールドし、基準
長さのリアルタイム負帰還制御を中断し、この状態で干
渉位相（ＰＤ２９の出力）Ｎｍを測定する。The sample-and-hold signal SC at the time of frequency variation is held at the final value, the real-time negative feedback control of the reference length is interrupted, and the interference phase (output of the PD 29) Nm is measured in this state.
すなわち、ＰＤ２９から得られる干渉次数ＮｍとＰＤｌ
、５から得られる干渉次数Ｎｒより次式を用いて距離Ｌ
ｍを求める。That is, the interference order Nm obtained from PD29 and PDl
From the interference order Nr obtained from , 5, the distance L is calculated using the following formula:
Find m.
Ｌｍ−（Ｎｍ／Ｎｒ） ・Ｌｔｅｒ （Ｌ、、ｔは安
定化した基準長さ）
測定精度の検討
ここで測定精度について検討する。ＮｍとＮｒの測定精
度が等しいとすると、
ｄＬ／Ｌ−（ｄＬ、ｌ＋ ／Ｌｌ？＋ ）＋２ （ｄＮ
ｒ／ Ｎ ｒ ）
となる。つまり、Ｌ−Ｌ、。、とすると測定精度はＬ
ｖ ｅ ｌの絶対精度で決まる。長さの絶対値の測定精
度はせいぜい１ ｐｐｍであり、１ｍの長さを測定する
場合の精度は１μｍ程度までである。また、温度による
長さ基準の長さ変化が、測定結果に顕著に反映される誤
差となフてしまう（例えば、熱膨張係数α−１ｐｐｍ／
”Ｃで５℃変化すると５ ｐｐｍ）。Lm-(Nm/Nr) ・Lter (L,, t is the stabilized reference length) Examination of measurement accuracy Here, we will examine measurement accuracy. Assuming that the measurement accuracy of Nm and Nr is equal, dL/L-(dL, l+ /Ll?+)+2 (dN
r/N r ). In other words, L-L. , then the measurement accuracy is L
It is determined by the absolute precision of v e l. The measurement accuracy of the absolute value of length is at most 1 ppm, and the accuracy when measuring a length of 1 m is up to about 1 μm. In addition, changes in the length of the length standard due to temperature become an error that is significantly reflected in the measurement results (for example, thermal expansion coefficient α - 1 ppm /
5 ppm for a 5°C change).
また、測定距離が基準長さＬ ｒ ｅ ｌより長い時は
、その比たけ精度が低下する。従って、通常の長さ基準
では、１０″６以上の測定精度は実現できない。Furthermore, when the measurement distance is longer than the reference length L r e l , the relative accuracy is reduced. Therefore, with normal length standards, measurement accuracy of 10''6 or higher cannot be achieved.
一方、本実施例によれば、
ｄＬ、、ｌ ／Ｌ、、Ｉ ＝ｄ２．．．／λ□１ ＝Ｉ
Ｏ−８オーダとなり、測定精度が２桁はと向上できる。On the other hand, according to this embodiment, dL,,l/L,,I =d2. ．． ．． /λ□1 =I
It is on the order of O-8, and the measurement accuracy can be improved by two orders of magnitude.
また、ガスセルの吸収線を基準にフィードバックしてい
るため、温度変化による誤差は本質的に除去されるため
、高い安定度が得られる。Furthermore, since feedback is based on the absorption line of the gas cell, errors due to temperature changes are essentially eliminated, resulting in high stability.
（発明の効果）
以上説明したように本発明は、ガスセルを用いた波長の
安定化と、周波数を変化させての測定とそれに続く周波
数を固定しての相対モードでの測定システムの採用、な
らびに長さ基準の安定化制御により、下記の効果が得ら
れる。(Effects of the Invention) As explained above, the present invention employs a measurement system in which wavelength is stabilized using a gas cell, measurement is performed by changing the frequency, and then the frequency is fixed in a relative mode; Length-based stabilization control provides the following effects.
（１）通常の長さ基準（スーパーインバー等の線膨張係
数が約１ ｐｐｍの材料からなる）と比較し、２桁はと
測定精度が向上する。これにより、長さ基準が短くとも
、それ以上の測定スパンを高精度に測定でき、装置の小
型化が可能である。(1) Compared to a normal length standard (made of a material with a coefficient of linear expansion of approximately 1 ppm, such as Super Invar), measurement accuracy is improved by two orders of magnitude. As a result, even if the length reference is short, a measurement span longer than that can be measured with high precision, and the device can be downsized.
（２）温度が変化しても測定精度が維持され、振動にも
強い高性能なアブソリュートδＰｊ長器を提供できる。(2) It is possible to provide a high-performance absolute δPj length instrument that maintains measurement accuracy even when the temperature changes and is resistant to vibrations.
（３）これにより、例えば、極めて高精度な形状測定器
の提俄か可能となり、今後、サブナノメートルの精度を
要求される電子部品や製造装置分野の産業界の要請に応
え、各種の機器への適用、応用か期待される。(3) This will, for example, make it possible to provide extremely high-precision shape measuring instruments, which will be used in various types of equipment in response to the demands of industries such as electronic components and manufacturing equipment that require sub-nanometer precision. expected to be applied or applied.
第１図は本発明のアブソリュート測長器の一実施例の構
成を示す図、
第２図は本実施例の長さ基準安定化の動作を説明するた
めの図、
第３図は長さ基準部６の構造を示す断面図である。
１・・・半導体レーザ
２・・・コリメータレンズ
３・・・アイソレーション
４．５・・・ハーフミラ
５・・・反射ミラー（ＣＣ）
６・・・長さ基準部（６ｂ＝空気ギヤツプ、 ６ａ・真
空部）
７ 渭ｊ走用モ渉計
８・・カスセル
９・・・ハーフミラ−１０・・ハーフミラｌトフォトダ
イオード １２・・レンズ１３ １．４．１５・・・フ
ォトダイオード１．６．１７・・レンズ
１８、２０・サンプルホールド回路
１９、２２・・・比較器
２１・制御電極
２３・・スイッチコントローラ
２４・・・スィーパ−
２５・・・ハーフミラ−
２６、２７・・反射ミラー（ＣＣ）
２８・・・レンズ ２９フオトダイオード４
０・処理部
第２図
６ｂ（空気キ゛ヤップ）
２１ル膿電場Fig. 1 is a diagram showing the configuration of an embodiment of the absolute length measuring device of the present invention, Fig. 2 is a diagram for explaining the length reference stabilization operation of this embodiment, and Fig. 3 is a diagram showing the length reference. 6 is a cross-sectional view showing the structure of part 6. FIG. 1... Semiconductor laser 2... Collimator lens 3... Isolation 4.5... Half mirror 5... Reflection mirror (CC) 6... Length reference part (6b = air gap, 6a) Vacuum part) 7 Bicycle travel meter 8... Cassel 9... Half mirror 10... Half mirror photodiode 12... Lens 13 1.4.15... Photodiode 1.6.17. - Lenses 18, 20 - Sample and hold circuits 19, 22 - Comparator 21 - Control electrode 23 - Switch controller 24 - Sweeper 25 - Half mirror 26, 27 - Reflection mirror (CC) 28 -・・Lens 29 Photodiodes 4
0. Processing section Fig. 2 6b (air cap) 21 Lupus electric field
Claims (1)
用セル（８）と、 負帰還制御により、前記光源（１）の出力光の周波数を
前記光吸収用セル（８）の吸収ピークの周波数に安定化
する周波数安定化手段（８、９、１０、１１、１２、１
３、２２、２３）と、長さ基準（６）と、 前記光吸収用セル（８）により安定化された周波数を利
用し、負帰還制御によって前記長さ基準（６）の長さを
所定値に安定化する基準長さ安定化手段（６ａ、１４、
１８、１９、２０、２１）と、測長用干渉計（７）と、 前記長さ基準（６）から得られる干渉次数信号と前記測
長用干渉計（７）とから得られる干渉信号とから絶対距
離を求める手段（４０）とを有することを特徴とするア
ブソリュート測長器。[Claims] A light source (1) capable of changing the frequency of light; a light absorption cell (8) having a light absorption peak in a specific frequency range; frequency stabilizing means (8, 9, 10, 11, 12, 1
3, 22, 23), the length reference (6), and the frequency stabilized by the light absorption cell (8), the length of the length reference (6) is determined by negative feedback control. Reference length stabilizing means (6a, 14,
18, 19, 20, 21), a length measurement interferometer (7), an interference order signal obtained from the length reference (6), and an interference signal obtained from the length measurement interferometer (7). An absolute length measuring device comprising means (40) for determining an absolute distance from.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2179033A JPH0466804A (en) | 1990-07-06 | 1990-07-06 | Absolute length measuring device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2179033A JPH0466804A (en) | 1990-07-06 | 1990-07-06 | Absolute length measuring device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0466804A true JPH0466804A (en) | 1992-03-03 |
Family
ID=16058942
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2179033A Pending JPH0466804A (en) | 1990-07-06 | 1990-07-06 | Absolute length measuring device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0466804A (en) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010127885A (en) * | 2008-12-01 | 2010-06-10 | Mitsutoyo Corp | Laser interferometer |
| JP2010164328A (en) * | 2009-01-13 | 2010-07-29 | Mitsutoyo Corp | Laser interferometer |
| JP2011099756A (en) * | 2009-11-05 | 2011-05-19 | Canon Inc | Measuring apparatus |
| DE102021113200A1 (en) | 2021-05-20 | 2022-11-24 | Endress+Hauser SE+Co. KG | Detection of paramagnetic substances in fluids |
| WO2023280748A1 (en) | 2021-07-09 | 2023-01-12 | Endress+Hauser Flowtec Ag | Conductivity sensor |
| WO2023117258A1 (en) | 2021-12-22 | 2023-06-29 | Endress+Hauser Flowtec Ag | Microwave measuring device |
| US11906452B2 (en) | 2021-05-21 | 2024-02-20 | Endress+Hauser Conducta Gmbh+Co. Kg | PH-sensor for determining and/or measuring a pH-value of a medium |
-
1990
- 1990-07-06 JP JP2179033A patent/JPH0466804A/en active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010127885A (en) * | 2008-12-01 | 2010-06-10 | Mitsutoyo Corp | Laser interferometer |
| JP2010164328A (en) * | 2009-01-13 | 2010-07-29 | Mitsutoyo Corp | Laser interferometer |
| JP2011099756A (en) * | 2009-11-05 | 2011-05-19 | Canon Inc | Measuring apparatus |
| DE102021113200A1 (en) | 2021-05-20 | 2022-11-24 | Endress+Hauser SE+Co. KG | Detection of paramagnetic substances in fluids |
| US11906452B2 (en) | 2021-05-21 | 2024-02-20 | Endress+Hauser Conducta Gmbh+Co. Kg | PH-sensor for determining and/or measuring a pH-value of a medium |
| WO2023280748A1 (en) | 2021-07-09 | 2023-01-12 | Endress+Hauser Flowtec Ag | Conductivity sensor |
| WO2023117258A1 (en) | 2021-12-22 | 2023-06-29 | Endress+Hauser Flowtec Ag | Microwave measuring device |
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