JPH046389A - ランプ加熱装置 - Google Patents
ランプ加熱装置Info
- Publication number
- JPH046389A JPH046389A JP10536390A JP10536390A JPH046389A JP H046389 A JPH046389 A JP H046389A JP 10536390 A JP10536390 A JP 10536390A JP 10536390 A JP10536390 A JP 10536390A JP H046389 A JPH046389 A JP H046389A
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- JP
- Japan
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- wafer
- heated
- stage
- absorbed
- heating
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- Pending
Links
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- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 3
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Landscapes
- Control Of Resistance Heating (AREA)
- Furnace Details (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
本発明は、被加熱物を均一に加熱できるランプ加熱装置
に関する。
に関する。
（従来の技術）
ラングからの放射光を被加熱物に照射するランプ加熱装
置は、被加熱物に非接触で加熱でき、またランプの供給
電力により容易に加熱温度を制御できるという特長があ
る。このためラング加熱装置はウェハの表Ｊ脅を窒化ま
たは酸化するための熱処理工程や不純物拡散工程等の半
導体製造用に使用される。
置は、被加熱物に非接触で加熱でき、またランプの供給
電力により容易に加熱温度を制御できるという特長があ
る。このためラング加熱装置はウェハの表Ｊ脅を窒化ま
たは酸化するための熱処理工程や不純物拡散工程等の半
導体製造用に使用される。
従来のランプ加熱装置は、ステージに載置したウェハを
一個のランプで加熱するものであった。
一個のランプで加熱するものであった。
（発明が解決しようとする課題）
このような従来装置では、−個のランプで加熱するので
二次元的な広がりをもつ面光源を形成することができず
被加熱物の表面を均一な温度で加熱できない。特に半導
体ウェハの場合は、その周辺部の温度が熱放散により中
央部の温度に比べて低くなるので周辺部から中央部にか
けて損傷が発生することがある。
二次元的な広がりをもつ面光源を形成することができず
被加熱物の表面を均一な温度で加熱できない。特に半導
体ウェハの場合は、その周辺部の温度が熱放散により中
央部の温度に比べて低くなるので周辺部から中央部にか
けて損傷が発生することがある。
本発明は被加熱物を均一に且つ十分に加熱できるランプ
加熱装置を提供することにある。
加熱装置を提供することにある。
（産業上の利用分野）
上記目的を達成するために本発明は、被加熱物に吸収さ
れる放射波長で被加熱物を加熱する第１の刃口熱手段と
、被刀口熱物に吸収される放射波長と異なる放射波長で
加熱される被加熱部の周辺部を支持する支持手段と、支
持手段に吸収される放射波長で支持手段を加熱する第２
の加熱手段で構成する。
れる放射波長で被加熱物を加熱する第１の刃口熱手段と
、被刀口熱物に吸収される放射波長と異なる放射波長で
加熱される被加熱部の周辺部を支持する支持手段と、支
持手段に吸収される放射波長で支持手段を加熱する第２
の加熱手段で構成する。
（作用）
このような構成において第１の別懇手段で被加熱物をガ
ロ熱し、第１の加熱手段とは放射波長の異なる第２の加
熱手段で支持手段を加熱するので、被加熱物の中央部と
周辺部に温度差が発生せず被加熱物を損傷させず均一に
加熱することができる。
ロ熱し、第１の加熱手段とは放射波長の異なる第２の加
熱手段で支持手段を加熱するので、被加熱物の中央部と
周辺部に温度差が発生せず被加熱物を損傷させず均一に
加熱することができる。
（実施例〕
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
図面は、本発明のラング万■熱装置の外観図である。
ｌはウェハ加熱用ランプであり、ウェハ２に吸収されや
すくステージ５には吸収されにくい波長の元を放射する
。この放射光は反射板３で反射サレウエパ２を加熱する
。このとき、反射板３はウェハ加熱用ランプ１の放射光
がウエノ・２に最も照射されるように反射角度が調整さ
れている。
すくステージ５には吸収されにくい波長の元を放射する
。この放射光は反射板３で反射サレウエパ２を加熱する
。このとき、反射板３はウェハ加熱用ランプ１の放射光
がウエノ・２に最も照射されるように反射角度が調整さ
れている。
４はステージ加熱用ランプで、ステージ５に吸収されや
丁くウェノ・２には吸収されにくい波長の光を放射し、
ステージ５を刀ａ熱する。ステージ光にほとんど影響を
受けない。また、ステージ５は、載置されるウェハ２へ
の熱の伝導を避はウェー２の中央部と周辺部の温度差？
なくすように、中央部に穴を設はウェハ２の周辺部のみ
支持しウェハ２との接触部分が小さくなるようにしてい
る。
丁くウェノ・２には吸収されにくい波長の光を放射し、
ステージ５を刀ａ熱する。ステージ光にほとんど影響を
受けない。また、ステージ５は、載置されるウェハ２へ
の熱の伝導を避はウェー２の中央部と周辺部の温度差？
なくすように、中央部に穴を設はウェハ２の周辺部のみ
支持しウェハ２との接触部分が小さくなるようにしてい
る。
な２、ウェー・加熱用ランプ１とステージ加熱用ランプ
５め供給電力を調整してウェハ２とステージ５をできる
だけ同一温度にした方が熱伝導が小さくなるので望まし
い。
５め供給電力を調整してウェハ２とステージ５をできる
だけ同一温度にした方が熱伝導が小さくなるので望まし
い。
６はステージ用反射板で、ステージ加熱用ランプ５の放
射光を反射させる。このとき、この放射光がステージ５
に最も照射されるように反射角度が調整されている。
射光を反射させる。このとき、この放射光がステージ５
に最も照射されるように反射角度が調整されている。
本実施例では、ステージ５を加熱するのにステージ加熱
用ラング４を設けたが、例えば高周波誘導コイルで誘導
加熱するなど要旨を変更しない程度に変更することがで
きる。
用ラング４を設けたが、例えば高周波誘導コイルで誘導
加熱するなど要旨を変更しない程度に変更することがで
きる。
このように、被加熱物を加熱する第１の加熱手段とは異
なる第２の加熱手段で支持手段を加熱し被加熱物の中央
部と周辺部で温度差をなくすようにしたので、損傷をお
こすことなく被加熱物を均一に加熱することができるラ
ンプ刀■熱装置ケ得ることができる。
なる第２の加熱手段で支持手段を加熱し被加熱物の中央
部と周辺部で温度差をなくすようにしたので、損傷をお
こすことなく被加熱物を均一に加熱することができるラ
ンプ刀■熱装置ケ得ることができる。
図面は、本発明のランプ加熱装置の外観図である。
１・・・ウェハ加熱用ランプ
２・・・ウェハ
４°°°ステージ那熱用ランプ
５・・・ステージ
代理人 弁理士 則 近 憲 佑
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 被加熱物に吸収される放射波長で前記被加熱物を加熱
する第１の加熱手段と、 前記被加熱物に吸収される放射波長と異なる放射波長で
加熱される前記被加熱物の周辺部を支持する支持手段と
、 この支持手段に吸収される放射波長で前記支持手段を加
熱する第２の加熱手段と を有するランプ加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10536390A JPH046389A (ja) | 1990-04-23 | 1990-04-23 | ランプ加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10536390A JPH046389A (ja) | 1990-04-23 | 1990-04-23 | ランプ加熱装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH046389A true JPH046389A (ja) | 1992-01-10 |
Family
ID=14405646
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10536390A Pending JPH046389A (ja) | 1990-04-23 | 1990-04-23 | ランプ加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH046389A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6273883B1 (en) | 1996-04-09 | 2001-08-14 | Cynosure, Inc. | Alexandrite laser system for treatment of dermatological specimens |
-
1990
- 1990-04-23 JP JP10536390A patent/JPH046389A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6273883B1 (en) | 1996-04-09 | 2001-08-14 | Cynosure, Inc. | Alexandrite laser system for treatment of dermatological specimens |
| US6610052B2 (en) | 1996-04-09 | 2003-08-26 | Cynosure, Inc. | Laser system and method for treatment of biologic targets |
| US7118562B2 (en) | 1996-04-09 | 2006-10-10 | Cynosure, Inc. | Laser system and method for treatment of biologic targets |
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