JPH0463126A - 流体分配装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は流体と固体との接触技術に関する。さらに特
にこの発明は粒子状物体のベツドに流体を供給する技術
に関する。

〔従来の技術〕

流体と固体との接触装置は、広い範囲の各種形のものが
ある。このような装置は炭化水素コンバージョン、流体
組成物分解のための吸着コラムのプロセスに適用される
。流体固体接触装置が吸着コラムからなるときは粒子状
物は流体が通過する吸着剤を有する。炭化水素コンバー
ジョンの場合には、流体固体接触装置は典形的には触媒
担持反応器からなる。

典形的な炭化水素コンバージョン反応は、水素化合、水
素処理、水素化分解、水添脱アルキル化の実施の除行わ
れる。

この発明が適用される流体固体接触装置は、通常縦向き
の円筒または容器が設けられていて、それらをとおして
縦向きの流体流が維持される。この容器内に収納された
粒状物は１つ以上のベツド内に配置される。流体は容器
の上端に位置する入口から流入する。粒状物ベツド間か
ら流体が加入され、または引出されることがよく知られ
ている。これは粒子ベツド間をとおる流体成分が変化す
る吸着機構または、流体がベツド間を通過するときそれ
を冷却する冷却システムがある炭化水素変換プロセスに
おいてなされる。

特有のゾーンを通過する流体の成分または性質の変化は
、これらの変化が不均一に発生するという問題を生ずる
。吸着システムにおいて、これらの変化は吸着剤内にお
ける流体の保持または変位を生ずる。反応システムのた
めにベツドに含まれる粒状触媒によって温度及び流体の
成分の変化が引き起こされる。

これらのベツドを通る流体の不均一な流れは、ベツドに
流入する液体の貧弱な初期混合または粒子ベツドを横切
る流体抵抗の変化によって引き起される。ベツドを横切
る流体抵抗の変化は、粒子内の流体の接触時間を変更す
ることができ、それによりベツドを通過する流体流の不
平均反応または吸着をまねく。

極端な例の場合、チャネリングが生じベツドの限られた
部分を越えて流体が、縦方向に抵抗なしに流れて狭い開
口区域に移動することが許される。チャネリングが発生
すると、ベツドを通過する流体の部分は、ベツドの粒状
物との接触が最小となる。もしプロセスが吸着の一種と
すると、チャネルを通過する流体は吸着されず、それに
より吸着ベツドの他の部分を通過する流体に関して、こ
の流体の成分を変える。触媒反応のために、触媒接触時
間の減少はまた、触媒ベツドの異った部分を離れるにつ
れて、流体の生成成分を変える。

流体の成分に加えて、粒子ベツドにおける不規則は、ベ
ツドを通過する流体の密度及び温度に影響を与える。多
くの分離プロセスのために、流体の収容され変位された
成分は、ベツドを通過する流体のプロフィルを***する
傾向をもつ異った密度を有する。

吸着粒子との不均一接触は、ベツドを通過する流体の密
度に大きな変化をもたらして問題を悪化させ、それによ
って流体が粒子ベツドを通過するにつれて、流体の流れ
プロフィルをさらに悪化させる。

反応ゾーンにおいて、不均一触媒接触と同時に温度変化
が起り、それはそのようなシステムの吸熱性または発熱
性に起因する。触媒との不均一接触は、反応物質を過加
熱または過冷却することによって生ずる反応に影響を与
える。この問題は発熱性反応において最も重大であり、
そこでは高温が供給物または他の流体成分を望ましくな
い生成物とする反応を引き起すことができ、または触媒
または機械的組成物に損傷を与える局部的なホットスポ
ットを生ずることができる。

容器内への不均一流体流は、ベツドの頂部面を***する
ことができる。この***は個々のベツド粒子を動かすに
充分な速度で、ベツドの表面を横切って流体が流れるこ
とによって生ずる。限られたベツドにとって、この***
または粒子移動は粒子を互いに消耗させあって、微粒子
といえる小さな粒子を生成させることになる。これらの
微粒子はベツド内における圧力低下を増大し、またはベ
ツドから逸出させ、それによってベツド内の全体の粒子
量を減少し、流下作用と干渉する。非制限ベツドにおい
て、交叉流体流は大量の粒子を変位し、ベツドの表面は
高度に不規則となる。

これらの交叉流は比較的小さな直径のノズルを通して、
比較的大きな直径の容器内に流体を充填する。小さな直
径のノズルを通して容器内に流体を充填することによっ
て、ノズルから容器内に延びる高速ジェットを生成する
。比較的制限された触媒ベツド表面、またはその近くに
このジェットで衝撃を与えることによって流体を外方に
拡げ、それによってベツド表面と交叉する旋回流と流速
とを発生する。比較的小さな直径のノズルと組合わされ
た入口は、ノズルの上流のエルボの存在によって複合さ
れ、ノズルは容器に入る流体に他の交叉成分を導入する
。これらの入口は全体として、粒子を粒子ベツドの周囲
に衝突させ、またはベツドの一側から他側へ粒子を変位
させる。

これらの好ましくない入口の影響は、容器に流体が入る
につれて一様に散乱させることによって避けられる。−
様な散乱はノズルと触媒ベツド表面との間の長さを充分
に長くすることによってえられ、流体ジェットと他の交
叉流速は粒子ベツドの上流を消散する。しかしながら多
くの場合において、必要な後続容器の切線長さによる入
口の影響を消散させるために必要な長さとすることは実
際的ではない。事実多くの工業においては、入口ノズル
と粒子ベツドの表面との間の長を減少する傾向があり、
それは容器内の粒子の全容積を増大し、それによって一
定時間内における大きな流体量またはベツドの寿命中に
おける大きな粒子をつるためである。

〔発明が解決しようとする課題〕

これらの理由によって、入口分配器は流体ジェットを破
壊し、粒子ベツドの頂面を越えて流体を再分配するのに
用いられる。そのような装置の１つが、Ｋａｚｍｉｅｒ
ｃｚａｋ外のアメリカ特許筒２，９２５，３３１号に開
示されており、これでは流体流が触媒ベツドの頂面に向
けて流下され、一連の環状板を有する分配器を通過し、
前記環状板は流体の流れ方向に沿って、順次その内径が
減少し、流体流の一部は効率的に剥離され、粒子ベツド
の表面を越えて半径方向外方に導かれる。炭化水素工業
においては、環状板の内縁に流体流の方向に延びている
円筒形リングを取付けることが公知である。粒子ベツド
の上流の流体流を向は直し、再混合するのに用いられる
他の形式の分配装置がＨｅｎｎｅｍｎｔｈ外のアメリカ
特許筒３，５９８，５４１号及びＣａｒｓｏｎ外のアメ
リカ特許筒３．５９８．５４２号に開示されている。Ｈ
ｅｎｎｅｍｎｔｈ分配装置は粒子ベツドの頂面と連通ず
る流体混合装置内の流体を再分配する円周方向に間隔を
おいた一連の孔を有している。Ｃａｒｓｏｎ分配装置は
粒子ベツドの頂面を横切って流体を半径方向に排出する
円周方向に間隔をおいた一連の孔を有している。このよ
うにして従来技術は、流体固体接触容積に用いられる多
数の分配装置を公開している。

各種の入口分配器を用いてもベツド粉砕は問題が残って
いる。Ｋａｚｍｉｅｒｃｚａｋ装置の環状板またはバッ
フルを使用する分配装置は、ベツドの変動を減少するが
消滅はしない。それ故、粒子ベツド表面の大きな変位、
特に流体流の速度が高速化がまだ発生する。そのような
粉砕は直線状の翼と他の流量分配装置が、交叉流体成分
を消滅するために、上流エルボに付加された場合でも、
発生することが知られている。バッフルと直線上翼のよ
うな付加的な再分配装置が存在するに拘らず、容器に入
る流体流が入口ノズルの上流で方向変換し、これらの問
題を克服するのに必要な２方向に流体を分配する分配装
置が発見された。

そこでこの発明の目的は、粒子ベツドの表面上への流体
の分配を改良するにある。

この発明の他の目的は、ベツドの頂面の破損を防止する
にある。

この発明の他の目的は、容器に流れる流体に組合わされ
るジェットや交叉流のような入口効果を消散し、入口ノ
ズルと粒子ベツド表面との間の距離を最小にするにある
。

この発明の他の目的は、比゛較的小さいノズルを通して
容器に入る交叉流速成分を消滅する流体分配装置を提供
するにある。

〔課題を解決するための手段］ これら及び他の目的は、この発明の装置によって達成さ
れ、この装置は粒子ベツドを越えて軸方向に流れる大部
分の流体を、半径方向と円周方向へ向は直す。この２つ
の方向への分配は、不均一交叉流速成分及び渦流を消散
し、これらは他の分配装置では消滅しないものである。

さらに特にこの発明は、一連の流体通路に主として軸方
向に流体を流す流体分配装置である。これらの流体通路
は円筒形の出口筒体で終り、この筒体は円周方向に等間
隔で配置された透孔をもち、各通路を離れる流体を円周
方向に再分配するために／ｊ１さな圧力低下を生じさせ
る。円筒形の有孔筒体は入口ノズルから順次増大した距
離をもって隔てられ、全粒子ベツド表面を越えて流れる
流体の分散を増大する。

したがって１実施例において、この発明の流体分配装置
は、導管、多数の仕切板及び−連の透孔をもっている。

導管は流体流を受入れる入口をもっている。多数の仕切
板は導管の多くの断面部分を少くとも２つの環状収集ゾ
ーンに再分割する。仕切板はまた少くとも一部において
、一連の出口筒体を形成し、この筒体は導管の軸線を中
心としている。各出口筒体は１収集ゾーンの端部に位置
し、最外方収集ゾーンは入口の一番近くに位置する出口
筒体で終り、順次内方へ隔てられた各収集ゾーンは入口
から離れている出口筒体で終っている。一連の透孔は各
筒体の円周上に一定の間隔をおいて配置され、各出口筒
体から流体を円周方向に分配する。

第２実施例において、この発明は円筒形容器、多数の仕
切板及び容器の周壁に一定間隔をおいて配置された透孔
とをもっている。円筒形容器は一端に１取入口を、他端
に端板をもっている。多数の仕切板は容器内に配置され
て、容器の内部に一連の環状入口と、容器壁に沿った一
連の円筒形出口筒体とを形成している。仕切板は１つの
出口で各入口と連通し、環状入口と出口との間の流体の
流れ方向を変える。透孔は各円筒形出口筒体内にある。

透孔は各出口筒体の周囲に等間隔をおいて配置され、各
筒体から再分配される流体の円周方向流れに小さな圧力
低下を起させる。

他の実施例は下流容器内に位置する固体粒子ベットを交
叉して流れる流体を分配する方法を含み、該容器は流体
入口と出口をもち、入口内に容器への第１または第２実
施例流体分配装置を具え、前記ベツドと接触するに先立
って選択的に２つの方向へ流体を分配する状態で入口に
流体を供給する。

付加的なこの発明の目的、実施例、特徴及び詳細は下記
の詳細な説明に述べられる。

［実施例］ この発明の分配装置は物質ベツドと結合して使用される
。典形的には物質ベツドと入口分配器とが、触媒反応ま
たは吸着工程のために容器内に配置される。この発明は
入ロノズルから物質の無制約ベツドを介して流下される
流体を有する容器に用いられるとき最大の利点が認めら
れる。この発明はまた制約付き物質ベツドを用いること
ができる。制約付きベツドの場合、上流ベツド表面の大
規模な変更は、スクリーンまたは他の制約装置による制
限とは関係ないが、ベツド表面のみだれが初物の減少や
損耗を惹起する。このようにしてもっとも適した流下型
容器のために、この発明はまた最初は水平または上昇い
ずれの流体流となっていても使用できる。

物質ベツドへのパイプ流のために、物質ベツド表面上に
入口から流体を供給する上流用屈曲パイプまたはエルボ
を使用するようになっている。屈曲管を介しての通過は
他の半径の屈曲管内に流れを集中する。この発明の分配
装置は特にベツド乱れの貢献から屈曲効果を免れるのに
特に有効である。屈曲効果流体流の環状分離部を物質ベ
ツドへ円周方向に再分配することによって矯正される。

この発明の分配装置への流体の流入は、ガス状、液状ま
たはそれらの結合状態で行われる。最大の利点は入口再
分配器を介して流入する流体がガス状である場合にえら
れる。

この発明は第１図に示す典形的な流下型容器に関連して
さらに充分に説明される。この説明の残りは流体として
ガスに関するものである。このことはこの発明をガス状
流体に制限することを意味しない。再び第１図に関連し
て、上部パイプＩＯはガス状流体を入口ノズル１４を介
して容器１２内に供給し、ノズル１４はパイブスウエッ
ジ１６及びエルボ１８を介してパイプ１０に連結されて
いる。もし無制限にエルボ１８からの流体の排出は、ガ
スジェットを発生し、容器１２に入るガス流体内に横断
速度成分を導入する。

しかしながら容器１２に入る全ガス流は、分配器２０に
よって第１に遮ぎられる。分配器２０はパイプスウエッ
ジ１６の底部と入口ノズル１４の頂部との間にサンドイ
ッチ状に配置された入口板２２をもっている。パイブス
ウエッジ１６と入口１４との間のサンドイッチ状板２２
は、分配器２０を容器１２に取付け、パイプスウエッジ
１６と入口板２２との間のシールは、分配器２０を通過
することなく、容器１２から流体が逸出するのを防止す
る。分配器２０を容器１２にまたはパイプスウエッジ１
６に取付けるには公知の方法が用いられる。どのような
方法が用いられても、分配器２０の周りの流体がバイパ
スして容器１２内に入らないような方法であることが重
要である。このバイパスは分配器２０の効果を最小にし
、または損うこととなる集中的な流体ジェット流を発生
する。

これから述べる方法において、分配器２０は容器１２の
断面を覆うガスを散乱する。この散乱されたガスは上面
２５を有する粒子ベツド２４に入る。ベツド２４は固体
粒子で構成され、この固体粒子は球形、円筒形または他
の所望の形状となっていてよい。粒子の実際の特性は容
器内において実施されるプロセスによる。

一般に粒子は吸着剤または触媒として作用する。ベツド
変更を阻止する他の方法として、通常セラミック球から
なる支持物の層が付加され、粒子ベツドの上面を有する
。流下式反応の場合にベツド面２５は単に負荷時に水平
となる粒子からなっている。閉鎖型触媒ベツドの場合に
は、スクリーンまたは薄板層が表面２５に置かれる。ガ
スが上面２５を交叉して通過すると、それはベツド２４
の残部を通って降下する。ガスが水平となっているベツ
ド面をわずかの距離だけ移動すると、ガスの完全な再゛
分配が達成され、ベツドの残部を一様に通過する。分配
器２０がベツド面２５を通って完全に一様に分配するこ
とは重要ではない。分配器２０の目的は流体、この場合
はガスを分散させることであり、分散表面２５に対して
充分な流速をもち、渦流または逆流を消滅させるに充分
な一様性をもつことである。予め決められた接触時間の
後に、ガスは多孔支持部材２６を通過して触媒ベツド２
４を離れる。支持部材２６は触媒ベツド２４にかかる重
量及び圧力を支持するのに充分な強さのスクリーンまた
は他の多孔物質よりなる剛性体からなる。触媒ベツド及
び支持部材２６を通過する微粒子を収集する出口スクリ
ーン２８を通ってガスは排出される。スクリーン２８か
ら出たガスは下部パイプ３２に連結された出口ノズル３
０を通って容器Ｉ２から離れる。

流体分散における分配器２０の機能は、第２図に示す装
置によってよく理解でき、同図にはこの発明によって設
計された２方向分配装置の１つが示されている。第２図
は一連の透孔３４をもっている入口板２２を示し、透孔
３４は分配器へガスを流すために入口板に集合的に設け
られている。透孔３４が入口板２２の入口と交叉して用
いられる必要はない。入口板２２は小数の大きな開口ま
たは単一の開口を備えていてもよい。透孔を使用するこ
とによって、分配器へのガスの流れの一様性が増大し、
その結果入口を横切る増大圧力の低下に対してバランス
するという利点がある。圧力低下は入口板２２の開口の
数と寸法とを調節することによって考慮される。通常入
口板の透孔は、入力ガス流の速度水頭の少くとも２倍の
圧力低下をもたらすような寸法となっている。開口は導
管３６の壁面いっばいに延びており、導管３６は入口板
２２を通過するガスを受入れる。

一連の仕切板４２．４４．４６．４８．５０．５２が導
管３６の突出部を一連の環状収集ゾーンに分割している
。一連の出口筒体５４．５６．５８．６０．６２゜６４
がそれぞれ仕切板と組合わされて収集ゾーンを形成し、
各仕切板と各出口筒体とで形成される各仕切板のスペー
スが収集ゾーンの容積となる。仕切板４２と出口筒体５
４とで形成される収集ゾーンは、導管３６を通過するガ
ス流の最外側環状層を形成し、ガス流を出口筒体５４内
に位置する一連の透孔６６に向けて向きを変える。この
場合透孔６６は出口筒体５４の円周に沿って均等間隔を
もって配置された一連の透孔からなっている。透孔６６
における圧力低下は低く保持されて、仕切板４２に対す
るガスの衝撃で生成される水平速度成分が維持されて、
ガスの半径方向モーメントにより分配器から離れるのに
貢献する。透孔６６は各仕切板におけるガス流の周辺へ
の再分配するという重要な機能をもっている。従来技術
に施されているように完全に開口した出口筒体は、周辺
への再分配のために必要な圧力低下をもたらさない。半
径方向速度水頭を超過し、しばしば透孔６６を通過する
半径方向速度水頭より大きな最小圧力低下は、必要な周
辺再分配を提供する。下流仕切板４４．４６．４８．５
０．５２と組合された収集ゾーンは、漸次直径が減小す
る環状層からのガス流を半径方向外方へ向ける。各仕切
板によって拡げられたガス流は、各出口筒体の透孔６６
を通過し、該出口筒体は前記したような方法で流れを周
辺に再分配する。

仕切板５２を通過した流体は、出口筒体６８と底板７０
とからなる最終の出口部材に流入する。

底板７０がベットに比較して大きな直径をもつとき、小
さな透孔がガスの小部分を下方の粒子ベットの中心に向
けるために設けられ、分配器の下にベツド上に再び渦流
を導入するデッドスペースが形成されるのが避けられる
。

しかしながら仕切板５２の下方を通過するガス流の大部
分は、出口筒体６８を通って半径方向に導かれる。底板
７０における透孔を通るガス流は、容積測定ガスを超え
ることがなく、半径方向排出ガスの直接の流路において
ではない、ベツドの中心部を通る平均ガス流を満足させ
る。底板７０を流れるガスは、下流ベツド表面に衝撃を
与え、これを損傷するジェットを発生する。ジェットの
長さは底板７０の透孔の寸法を限定する。

分配器２０の形状はそれが挿入される容器の形状、収集
ゾーンの数と形とによって変えられる。入口板２２と第
１出口筒体との間における導管３６の長さは、入口ノズ
ル１４の下方の透孔６６により、そこを半径方向に通過
する流体がノズルの壁面に衝突しないような寸法となっ
ている。粒子分配器に用いられる収集ゾーンの数は、ガ
ス流の流速、入口ノズルと容器との相対的寸法、及び流
れ誘起変動に対する粒子ベツドの対応性によって変えら
れる。２つ以上の収集ゾーンが用いられる。一般に多く
の収集ゾーンが用いられるほど、触媒ベツドを通る分配
がより良く行われる。仕切板の幅が大きくなる第１図に
示す形状の分配器においては、各出口筒体における半径
方向ガス流は増大する。各出口筒体の透孔の数及び寸法
を調節することにより、異った出口同体における半径方
向ガス流速度または透孔を変える。収集ゾーンと透孔の
寸法を適当なものとすることにより、この分配器は殆ん
どすべての形または寸法の粒子ベツドを超えて良好なガ
ス分散を提供することができる。

この発明の分配装置の変形が第３図に示されている。こ
の場合この分配装置は入口板２２′、筒体形容器７２、
上部仕切板７４、中間仕切板７６、下部仕切板７８、端
板８０からなる。容器７２の上端には入口板２２′が取
付けられている。入口板２２′は該入口板を通るガスが
圧力低下を起すように、均等に間隔をおいて配置された
一連の透孔が設けられている。仕切板７４はその外周が
容器７２の内面に取付けられた環状板８２と、環状板８
２の内周に取付けられ、第１人口に向って上方に延びる
リング８４をもっている。リング８４と容器７２の壁面
とで、リング８４の頂部と容器７２の壁面との間を延び
ている環状入口を形成し、容器の壁面に沿って下方へ移
動するガスを収集する。このガス流は仕切板７４によっ
て半径方向外方へ向きを変え、出口筒体９０の一連の透
孔８８を通る。出口筒体９０はリング８４と対向して容
器７２の一部として構成されている。透孔８８はそれを
通過する際小量の圧力低下をもたらすような寸法となっ
ている。

中間仕切板７６は外周が容器７２の内側に取付けられ、
内周にリング９４が取付けられた環状板９２をもってい
る。出口筒体の透孔８８の数と寸法は、所望の流量及び
筒体レベルにおける所望度の圧力低下をもたらすように
調節される。各環状入口に発生した速度水頭が付加的な
圧力低下をもたらし、調節して用いられ、混乱なしに出
口筒体レベルに圧力低下を変え、全環状入口にわたって
圧力が均衡するように用いられる。下部仕切板７８は外
周が容器の内面に取付けられ、内周にリング９８が取付
けられている環状板９６を有し、リング９８は入口に向
って上方に延びている。環状板８２．９２．９６は容器
７２の壁面それらの中間に位置するそれらと同数の縦向
きの出口筒体１００に分割する。

１つのリングと、これに隣接するリングとの間に形成さ
れた水平区域からなる環状入口は軸方向に流れるガスを
急速に環状入口上に収集する。環状入口によって収集さ
れたガスは、環状筒体１００内に位置する一連の透孔８
８を介して半径方向に向きを変えて排出される。透孔８
８は各出口筒体の局面に均一間隔をおいて設けられてい
る。小さな圧力低下によって、透孔８８は出口筒体から
半径方向に流れるガスを全周面にわたって−様なものと
する。透孔８８を通る小さな圧力低下が、所望の周辺に
おける再分配を提供するのに必要である。リング９４．
９８は入口に向って上方に延び、隣接する環状板より上
方にまで延びるのが好ましい。

リングが隣接する環状板の上方に延びていることによっ
て、少くとも隣接するリング間に小さな縦方向通路を形
成し、ガスが仕切板と接触するにつれて内方に拡がり、
方向が急激に変化するのを陽圧することによって、環状
のガス流部分がトラップするのを助ける。好ましくはリ
ングの隣接環状板より上方に延びている部分は、少くと
も隣接リング間の水平方向距離の４分の１に等しくなっ
ていることである。

円筒形容器７２の中心を下動するガス流は、内側リング
９８を通過して環状板９６、端板８ｏ及び容器７３によ
って形成された室に入る。この室内に入ったガスの部分
は透孔１０２を介して半径方向外部へ向う。端板８０に
透孔を設けた点が、第４図に明示されている。端数１８
は中心にリング９８の内孔と等しい直径の非穿孔部を有
する。端板の残りの部分は、端板の周面に均等な間隔を
おいて配置された透孔１０６が設けられている。透孔１
０２．１０６の総合計面積は、これらの透孔を通る流体
に非常に小さい圧力低下をもたらす。透孔１０６は環状
板９６の下方に位置し、分配装置から直接軸方向にガス
が流れるのを阻止し、好ましくはその寸法が粒子ベツド
の表面部分にガス流を提供するような大きさ、すなわち
少くとも全粒子ベツド表面を通るガス流が平均するよう
な大きさとなっていることである。前記したようにベツ
ドの頂面に軸方向に流下されたガス流体が、ベツドを損
傷する水平方向または横方向流れとなるのを阻止する。

【図面の簡単な説明】

第１図は入口分配器と物体ベツドとを有する流下式反応
装置の縦断面図、第２図はこの発明の入口分配器の第１
例を示す図面、第３図は同上の第２例の図面、第４図は
第３図の底面図である。 ３６・・・導管　　　　　　４２，４４，４６．４８・
・・仕切板５４、５６．５８．６０．６２・・・出口環
状体７４．７６．７８・・・仕切板　　７２・・・円筒
形室８０・・・端板

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、（ａ）流体流を受入れるための入口２２を有する導
   管３６と、 （ｂ）少くとも前記導管の横断面の半分を少くとも２つ
   の環状収集ゾーンに分割する複数の仕切板４２、４４、
   ４６、４８、５０と、（ｃ）前記導管の縦軸を中心とし
   てその周囲に配置された一連の出口環状体５４、５６、
   ５８、６０、６２、６４であって、各環状体は収集ゾー
   ンの外側区域に沿って位置していて、 前記入口縁に一番近い環状体は一番外側の収集ゾーンに
   位置し、つぎの環状体は入口環状収集ゾーンから軸方向
   に離れ、その内方位置を順次増大する出口環状体と、 （ｄ）各環状体から流体流を円周方向に再分配するため
   に各環状体の周囲に一定の間隔をもって設けられた一連
   の透孔６６、 とを有する流体分配装置。 ２、請求項１に記載の流体分配装置であって、仕切板７
   ４、７６、７８は前記出口環状体からの放射状の流体流
   を制限された軸方向流れとする。 ３、請求項１に記載の流体分配装置であって、導管３６
   と出口環状体は一定の直径をもっていて、入口２２′の
   反対側端部に端板８０を有する円筒形室７２を有する。 ４、請求項３に記載の流体分配装置であって、入口２２
   ′は前記端板と連通し、この端板８０は多孔板からなる
   。 ５、請求項１に記載の流体分配装置であって、前記出口
   環状体は順次小さな直径となっており、最小直径の環状
   体は入口からもっとも離れた位置となっている。 ６、請求項１に記載の流体分配装置であって、前記仕切
   板は前記入口からの距離が増大するにつれて、順次その
   内径が小さくなり、リングは先行の環状板をすぎる各環
   状板の内径から前記入口に向けて延びている。 ７、入口と出口を有する下流容器内に位置する固体物質
   のベッドをとおして流体流を分配し、下流容器は請求項
   １ないし６のいずれかに記載の分配装置を具え、容器へ
   の流体入口において、流体流を前記ベッドに接触するに
   先立って２つの方向の流体分配流を達成するようにその
   条件を選択する分配方法。