JPH0459995A - Electroplating apparatus and method - Google Patents
Electroplating apparatus and methodInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、コンダクタ−ロールにスナバ−ロールが設置
されたラジアル型電気めっき装置およびその方法に関す
るものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention relates to a radial electroplating apparatus in which a snubber roll is installed on a conductor roll, and a method thereof.
〈従来の技術〉
従来のラジアル型電気めっき装置では、第３図に部分的
に示すように、めっきが施される鋼板ｌをコンダクタ−
ロール４にて巻き込み、搬送しながら、鋼板１をめつき
浴槽中のめっき液３に浸漬し、めっき液３中で、コンダ
クタ−ロール４の周縁をある角度長さにわたって覆うア
ノード５からコンダクタ−ロール４ヘイオン電流が流れ
ることにより金属イオンが鋼板１に電着され、これによ
りめっきが施されている。<Prior art> In a conventional radial electroplating apparatus, as partially shown in FIG.
The steel plate 1 is immersed in a plating solution 3 in a plating bath while being rolled up and conveyed by the rolls 4. In the plating solution 3, the conductor roll is removed from an anode 5 that covers the periphery of the conductor roll 4 over a certain angular length. Metal ions are electrodeposited on the steel plate 1 by the flow of a 4-ion current, thereby performing plating.
この電気めっき装置には、ホットスポット防止対策とし
て、めっき液３上で鋼板１をコンダフタ−ロール４に圧
下するスナバ−ロール６が鋼板１の搬送方向上流側に設
置されている。In this electroplating apparatus, as a measure to prevent hot spots, a snubber roll 6 is installed on the upstream side in the conveying direction of the steel plate 1 for rolling down the steel plate 1 onto a conductor cover roll 4 over the plating solution 3.
このスナバ−ロール６にはネオブレンゴムのライニング
材７が被覆されている。This snubber roll 6 is coated with a lining material 7 made of neoprene rubber.
〈発明が解決しようとする課題〉
しかしながら、従来の電気めっき装置では、鋼板１に形
成されためっき層から剥離した金属電析物の核９が、ラ
イニング材７の表面に付着し、このとき、金属電析物の
核９がコンダクタ−ロール４と同電位となると、アノー
ド５からの洩れ電流工′が、鋼板ｌに残留するめっき液
３を伝わって、金属電析物の核９に流れ、このため、核
９を中心として、スナバ−ロール６のライニング材７の
外周に金属電析物１０が析出されていくという問題点が
あった。<Problems to be Solved by the Invention> However, in the conventional electroplating apparatus, the cores 9 of the metal deposits peeled off from the plating layer formed on the steel sheet 1 adhere to the surface of the lining material 7, and at this time, When the core 9 of the metal deposits has the same potential as the conductor roll 4, the leakage current from the anode 5 passes through the plating solution 3 remaining on the steel plate l and flows to the core 9 of the metal deposits. Therefore, there was a problem in that the metal electrodeposit 10 was deposited around the core 9 on the outer periphery of the lining material 7 of the snubber roll 6.
本発明の目的は、上述した問題点を解消し、上記金属電
析物がスナバ−ロール外周へ付着しない電気めっき装置
および電気めっき方法を提供するにある。An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and provide an electroplating apparatus and an electroplating method in which the metal deposits do not adhere to the outer periphery of a snubber roll.
く課題を解決するための手段〉
本発明によれば、コンダクタ−ロールと、アノードと、
スナバ−ロールとを有するラジアル型の電気めっき装置
において、前記スナバ−ロールの外周に導電性ゴム膜を
設け、スナバ−ロールからコンダクタ−ロールに、電流
を供給することができるように構成したことを特徴とす
る電気めっき装置を提供する。Means for Solving the Problems> According to the present invention, a conductor roll, an anode,
A radial electroplating apparatus having a snubber roll is configured such that a conductive rubber film is provided on the outer periphery of the snubber roll so that current can be supplied from the snubber roll to the conductor roll. Provides an electroplating device with characteristics.
本発明によれば、上記電気めっき装置を用いて電気めっ
きするに当たり、導電性ゴムが外周に被覆されたスナバ
−ロールからコンダクタ−ロールに、少なくともアノー
ドの洩れ電流より等しいかまたは大きな電流を供給しな
がら、めっきを施すことを特徴とする電気めっき方法を
提供する。According to the present invention, when performing electroplating using the electroplating apparatus described above, a current that is at least equal to or larger than the leakage current of the anode is supplied from the snubber roll whose outer periphery is coated with conductive rubber to the conductor roll. However, the present invention provides an electroplating method characterized by applying plating.
本発明では、スナバ−ロールの外周に導電性ゴムを被覆
し、スナバ−ロールからコンダクタ−ロールに電流が流
れる構成とし、この構成のためスナバ−ロールからコン
ダクタ−ロールへ少なくともアノードの洩れ電流と等し
いかまたは大きな電流を供給するため、スナバ−ロール
の外周に金属電析物の核が付着しても、スナバ−ロール
から導電性ゴムを経て電流が供給され、金属電析物の核
が随時強制的に電解される。 しかも、アノードの洩れ
電流が金属電析物の核へ流れ込むことによる金属電析物
が析出していく量と比べて、スナバ−ロールの電流によ
り付着した電析物を強制的に電解する量が少なくとも等
しいかまたは大きいため、金属電析物が付着してもスナ
バ−ロールの外周はすぐに清浄化される。 したがって
、金属電析物がスナバ−ロールの外周に析出することは
ない。In the present invention, the outer periphery of the snubber roll is coated with conductive rubber so that a current flows from the snubber roll to the conductor roll, and due to this configuration, the leakage current from the snubber roll to the conductor roll is at least equal to the leakage current of the anode. In order to supply a large current, even if the core of the metal deposits adheres to the outer periphery of the snubber roll, the current is supplied from the snubber roll through the conductive rubber, and the core of the metal deposits is forced at any time. electrolyzed. Moreover, compared to the amount of metal deposits that are deposited due to the leakage current of the anode flowing into the core of the metal deposits, the amount of deposits that are forcibly electrolyzed by the current of the snubber roll is Because they are at least equal or larger, the outer periphery of the snubber roll is quickly cleaned even if metal deposits are deposited. Therefore, metal electrodeposit is not deposited on the outer periphery of the snubber roll.
以下に本発明な一実施例に基づいてさらに詳細に説明す
る。A more detailed explanation will be given below based on one embodiment of the present invention.
第１図は本発明を実施するラジアル型めっきセルを有す
る電気めっき装置の一例を示す線図的側断面の概略図で
ある。 １１はめっきされる鋼板を、１２はデフレクタ
−ロールを、１４はデフレクタ−ロール１２から搬送さ
れた鋼板１１をめっき浴槽１３中に浸漬するコンダクタ
−ロールをそれぞれ示す。FIG. 1 is a schematic side sectional view showing an example of an electroplating apparatus having a radial type plating cell embodying the present invention. Reference numeral 11 indicates a steel plate to be plated, 12 a deflector roll, and 14 a conductor roll for immersing the steel plate 11 conveyed from the deflector roll 12 into the plating bath 13.
デフレクタ−ロール１２は、めっき浴槽上の鋼板１１の
搬送方向に対して、上流側および下流側にそれぞれ設置
されている。The deflector rolls 12 are installed on the upstream side and the downstream side, respectively, with respect to the conveying direction of the steel plate 11 on the plating bath.
コンダクタ−ロール１４は、例えば軸を有する中空の円
筒体とし、さらに中空内部に冷却水が流通されるように
構成することもできる。The conductor roll 14 may be, for example, a hollow cylindrical body having a shaft, and may also be configured such that cooling water flows through the hollow interior.
このような構成のコンダクタ−ロール１４は、めっき浴
槽１３のめつき液中に部分的に浸漬されるように配置さ
れる。 コンダクタ−ロール１４の外周面には、図示し
ないが、ラバー製のライニング材が設けられており、こ
のライニング材は鋼板１１の両端縁からめつき液が進入
するのを防止し、鋼板１１の裏側にめっき層が形成され
るのを防止する役目を果たす。 このライニング材とし
ては、めっき液に対する耐食性およびシール性を達成す
る伸縮性、さらに鋼板に対する耐摩耗性を適度に備えた
もの、例えばウレタンゴムが望ましい。The conductor roll 14 having such a configuration is arranged so as to be partially immersed in the plating solution in the plating bath 13. Although not shown, a rubber lining material is provided on the outer circumferential surface of the conductor roll 14, and this lining material prevents the plating liquid from entering from both edges of the steel plate 11, and protects the back side of the steel plate 11. It serves to prevent the formation of a plating layer. The lining material is preferably one that has corrosion resistance against the plating solution and elasticity to achieve sealing properties, and has appropriate abrasion resistance against the steel plate, such as urethane rubber.
めっき浴槽１３には、電解液またはめつき溶剤が入れら
れている。The plating bath 13 contains an electrolytic solution or a plating solvent.
デフレクタ−ロール１２およびコンダクタ−ロール１４
の幅は鋼板１１の幅より長いものとする。 めっき浴槽
１３中にはアノード１５が、コンダクタ−ロール１４に
面するようにして設置される。Deflector roll 12 and conductor roll 14
The width of the steel plate 11 is longer than that of the steel plate 11. An anode 15 is placed in the plating bath 13 so as to face the conductor roll 14 .
アノード１５の主アノードにより支持されるアノード板
は、鋼板１１に対するめっきの種類により、可溶性のも
のまたは不溶性のものを選択する。The anode plate supported by the main anode of the anode 15 is selected to be soluble or insoluble depending on the type of plating on the steel plate 11.
このアノード１５には電源の陽極が接続される。 電源
の陰極はコンダクタ−ロール１４の軸に接続され、この
軸はコンダクタ−ロールの外周面に電気的に接続されて
いる。 またデフレクタ−ロール１２とコンダクタ−ロ
ール１４との間で鋼板１１がコンダクタ−ロール１４の
外周に接触する位置に、コンダクタ−ロール１４に鋼板
１１を挟んで面するようにスナバ−ロール１６を設置す
る。 このスナバ−ロール１６の設置の仕方は、スナバ
−ロール１６が鋼板１１をコンダクタ−ロール１４に一
定の圧力にて圧下するように弾性的とする。 このスナ
バ−ロール１６の外周には、本発明においては、導電性
のゴムをライニング材１７として使用するのがよい。
さらに、本発明においては、電源からアノード１５まで
の電流通路をスナバ−ロール１６の軸に可変抵抗器１９
を介してバイパスしてバイパス回路１８を形成する。The anode 15 is connected to the anode of a power source. The cathode of the power supply is connected to the shaft of the conductor roll 14, which shaft is electrically connected to the outer circumferential surface of the conductor roll. Further, a snubber roll 16 is installed between the deflector roll 12 and the conductor roll 14 at a position where the steel plate 11 contacts the outer periphery of the conductor roll 14 so as to face the conductor roll 14 with the steel plate 11 sandwiched therebetween. . The snubber roll 16 is installed elastically so that the snubber roll 16 rolls down the steel plate 11 onto the conductor roll 14 with a constant pressure. In the present invention, it is preferable to use conductive rubber as a lining material 17 on the outer periphery of the snubber roll 16.
Furthermore, in the present invention, the current path from the power supply to the anode 15 is connected to the shaft of the snubber roll 16 by a variable resistor 19.
A bypass circuit 18 is formed.
このスナバ−ロール１６の軸もまたスナバ−ロール１６
の外周面に電気的に接続されている。The axis of this snubber roll 16 is also the axis of the snubber roll 16.
electrically connected to the outer peripheral surface of the
なお、スナバ−ロール１６が鋼板１１をコンダクタ−ロ
ール１４へ圧下する圧力は、ホットスポット防止するに
十分な値の範囲であれば良い。The pressure with which the snubber roll 16 lowers the steel plate 11 onto the conductor roll 14 may be within a range of values sufficient to prevent hot spots.
導電性ゴムとしては、感圧導電性ゴムが望ましく、例え
ばＹＣＲ−３０００（横浜ゴム（株）製）を用いる。
ＹＣＲ−３０００は第４図に示す特異な性質、即ちあ
る一定以上の圧力がかかると抵抗値が急激に低下する性
質な有しており、そのため鋼板１１に圧下される部分の
みの抵抗値が極端に低下し、本発明に好都合である。
この場合、導電性ゴムは、その抵抗値の低下する圧力が
、上記のホットスポットを防止するに十分な圧力より小
さい特性のものを選択する。 ただし、このような感圧
導電性ゴムであればいかなるものでもかまわない。The conductive rubber is preferably a pressure-sensitive conductive rubber, such as YCR-3000 (manufactured by Yokohama Rubber Co., Ltd.).
YCR-3000 has a unique property as shown in Figure 4, that is, the resistance value drops rapidly when pressure above a certain level is applied, and as a result, the resistance value only at the part that is rolled down to the steel plate 11 is extremely low. This is advantageous for the present invention.
In this case, the conductive rubber is selected such that the pressure at which its resistance value decreases is less than the pressure sufficient to prevent the above-mentioned hot spots. However, any pressure-sensitive conductive rubber may be used.
このような構成の装置において、めっきは以下のように
して行われる。In an apparatus having such a configuration, plating is performed as follows.
デフレクタ−ロール１２により搬送された鋼板１１はコ
ンダクタ−ロール１４でめっき浴槽１３に浸漬され、こ
のとき湾曲したアノード１５の弧の内側を通過する際に
、コンダクタ−ロール１４およびアノード１５の間にイ
オン電流が発生し、金属イオンが鋼板１１に電着される
。 めっき後の鋼板１１はコンダクタ−ロール１４の外
周を倣ってめっき浴槽１３からデフレクタ−ロール１２
に搬出される。The steel plate 11 conveyed by the deflector roll 12 is immersed in the plating bath 13 by the conductor roll 14, and at this time, when passing inside the arc of the curved anode 15, ions are generated between the conductor roll 14 and the anode 15. A current is generated and metal ions are electrodeposited on the steel plate 11. The plated steel plate 11 is transferred from the plating bath 13 to the deflector roll 12 following the outer circumference of the conductor roll 14.
It will be transported to
このめっき工程時の通電されたスナバ−ロールの動作に
ついて第２図に基づき説明すると、金属電析物１０がめ
つき処理中にライニング材１７に付着する。 この付着
した金属電析物１０を強制的に電解するため、バイパス
回路１８を通る電流Ｉが、可変抵抗器１９にて制御され
た後、スナバ−ロール１６のロール軸に供給され、この
ロール軸からロール外周に伝わり、ライニング材１７の
鋼板ｌＮを圧下している部分から電流が流れ、その電流
が、ライニング材１７に付着している金属電析物ｌＯを
強制的に電解し、電解されためっき金属は鋼板１１に付
着する。 この電流Ｉは、アノード１５からの洩れ電流
工′との関係で決定されるものであり、少なくともアノ
ード１５からの洩れ電流工′と等しいかまたは大きな電
流値とすれば、ライニング材１７に付着した金属電析物
１０は強制的に電解され、金属電析物ｌＯが析出される
ことはない。 このためスナバ−ロール１６のライニン
グ材１７は、金属電析物の核が付着したとしても随時電
解されてい（ので、ライニング材は清浄化される。The operation of the energized snubber roll during this plating process will be explained with reference to FIG. 2. Metal deposits 10 adhere to the lining material 17 during the plating process. In order to forcibly electrolyze the adhered metal deposits 10, the current I passing through the bypass circuit 18 is controlled by a variable resistor 19 and then supplied to the roll shaft of the snubber roll 16. A current flows from the part of the lining material 17 where the steel plate 1N is rolled down, and the current forcibly electrolyzes the metal deposits 1O attached to the lining material 17, resulting in electrolysis. The plated metal adheres to the steel plate 11. This current I is determined in relation to the leakage current from the anode 15, and if the current value is at least equal to or larger than the leakage current from the anode 15, the The metal electrodeposit 10 is forcibly electrolyzed, and the metal electrodeposit 10 is not deposited. For this reason, the lining material 17 of the snubber roll 16 is constantly electrolyzed even if nuclei of metal deposits adhere to it (therefore, the lining material is cleaned).
なお、アノードからの洩れ電流は、投入電流にめっき効
率を乗した値から、付着量の実績値から算出される実績
めっき電流を差し引いて検出され、その検出値が制御回
路にフィードバックされ、この制御回路の制御のもとに
バイパス回路の可変抵抗器が制御され、制御された電流
がスナバ−ロールに自動的に供給されるようにするのが
よい。The leakage current from the anode is detected by subtracting the actual plating current calculated from the actual value of the coating amount from the value obtained by multiplying the input current by the plating efficiency.The detected value is fed back to the control circuit, and this control Preferably, the variable resistor of the bypass circuit is controlled under the control of the circuit so that a controlled current is automatically supplied to the snubber roll.
〈実施例〉 以下に本発明を実施例に基づいて具体的に説明する。<Example> The present invention will be specifically described below based on Examples.
（実施例１）
０．７ｍｍＸ１５００ｍｍの鋼板を塩化物めっき浴槽で
、ラインスピード９０ｍｐｍで電気めっきを行った。(Example 1) A 0.7 mm x 1500 mm steel plate was electroplated in a chloride plating bath at a line speed of 90 mpm.
スナバ−ロール１６のライニング材１７に例えばＹＣＲ
−３０００（横浜ゴム（株）製）を用い、アノード１５
への供給電圧１５Ｖとし、可変抵抗器９の抵抗値をＲ＝
０．５オームとした。 バイパス回路８に電流Ｉ＝２０
Ａが流れ、アノード１５からの洩れ電流Ｉ’＝１０〜１
５Ａであった。めっき処理後、スナバ−ロール１６のロ
ール外周を目視にて検査したところ、金属電析物１０の
付着はなかった。The lining material 17 of the snubber roll 16 is made of, for example, YCR.
-3000 (manufactured by Yokohama Rubber Co., Ltd.), anode 15
The supply voltage is 15V, and the resistance value of the variable resistor 9 is R=
It was set to 0.5 ohm. Current I=20 in bypass circuit 8
A flows, leakage current I' from the anode 15 = 10~1
It was 5A. After the plating treatment, the outer periphery of the snubber roll 16 was visually inspected, and no metal deposits 10 were found to be attached thereto.
〈発明の効果〉
以上の説明から明らかなように、本発明は、スナバ−ロ
ールの外周にコンダクタ−ロールと同電位の金属電析物
の核が付着しても、スナバ−ロールから導電性ゴムを経
て電流が供給され、金属電析物の核が随時強制的に電解
される。 しかも、付着した金属電析物を強制的に電解
する電流が洩れ電流より大きいため、金属電析物が付着
してもスナバ−ロールの外周は随時清浄化される。 し
たがって、金属電析物がスナバ−ロールの外周に析出す
ることはない。<Effects of the Invention> As is clear from the above description, the present invention allows conductive rubber to be removed from the snubber roll even if nuclei of metal deposits having the same potential as the conductor roll adhere to the outer periphery of the snubber roll. An electric current is supplied through the electrode, and the core of the metal deposit is forcibly electrolyzed at any time. Moreover, since the current for forcibly electrolyzing the deposited metal deposits is larger than the leakage current, the outer periphery of the snubber roll is constantly cleaned even if the metal deposits are deposited. Therefore, metal electrodeposit is not deposited on the outer periphery of the snubber roll.
このためロールの手入時間によるライン停止がなくなり
、生産性を向上する。This eliminates line stoppages due to roll maintenance time, improving productivity.
第１図は本発明の電気めっき装置の側断面の概略図であ
る。
第２図は本発明のスナバ−ロールの様子を示す線図的概
略図である。
第３図は従来の電気めっき装置のスナバ−ロールの様子
を示す線図的概略図である。
第４図は本発明で用いられる導電性ゴムの性質を示すグ
ラフ図である。
１９・・・可変抵抗器
符号の説明
１０・・・金属電析物、
１１・・・鋼板、
１２・・・デフレクタ−ロール、
１３・・・めっき浴槽、
１４・・・コンダクタ−ロール、
１５・・・アノード、
１６・・・スナバ−ロール、
１７・・・ライニング材、
１８・・・バイパス回路、
Ｆ Ｉ Ｇ、 １
ＦＩＧ、２
ＦＩＧ、３
Ｆ Ｉ Ｇ、４
１甲、圧力 （ｋｇ）FIG. 1 is a schematic side sectional view of the electroplating apparatus of the present invention. FIG. 2 is a schematic diagram showing the snubber roll of the present invention. FIG. 3 is a schematic diagram showing the state of a snubber roll in a conventional electroplating apparatus. FIG. 4 is a graph showing the properties of the conductive rubber used in the present invention. 19... Explanation of variable resistor symbols 10... Metal electrodeposit, 11... Steel plate, 12... Deflector roll, 13... Plating bathtub, 14... Conductor roll, 15. ... Anode, 16... Snubber roll, 17... Lining material, 18... Bypass circuit, FI G, 1 FIG, 2 FIG, 3 FI G, 4 1, pressure (kg)
Claims (2)
ールとを有するラジアル型の電気めっき装置において、 前記スナバーロールの外周に導電性ゴム膜を設け、スナ
バーロールからコンダクターロールに、電流を供給する
ことができるように構成したことを特徴とする電気めっ
き装置。(1) In a radial electroplating apparatus having a conductor roll, an anode, and a snubber roll, a conductive rubber film is provided on the outer periphery of the snubber roll, and current can be supplied from the snubber roll to the conductor roll. An electroplating device characterized by being configured as follows.
めっきするに当たり、 導電性ゴムが外周に被覆されたスナバーロールからコン
ダクターロールに、少なくともアノードの洩れ電流より
等しいかまたは大きな電流を供給しながら、めっきを施
すことを特徴とする電気めっき方法。(2) When performing electroplating using the electroplating apparatus according to claim 1, a current at least equal to or larger than the leakage current of the anode is supplied from the snubber roll whose outer periphery is coated with conductive rubber to the conductor roll. An electroplating method characterized by plating.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16897290A JPH0459995A (en) | 1990-06-27 | 1990-06-27 | Electroplating apparatus and method |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP16897290A JPH0459995A (en) | 1990-06-27 | 1990-06-27 | Electroplating apparatus and method |
Publications (1)
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| JPH0459995A true JPH0459995A (en) | 1992-02-26 |
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|---|---|---|---|
| JP16897290A Pending JPH0459995A (en) | 1990-06-27 | 1990-06-27 | Electroplating apparatus and method |
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| JP (1) | JPH0459995A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003531301A (en) * | 2000-04-20 | 2003-10-21 | アトーテヒ ドイッチュラント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | Elastic contact element |
-
1990
- 1990-06-27 JP JP16897290A patent/JPH0459995A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003531301A (en) * | 2000-04-20 | 2003-10-21 | アトーテヒ ドイッチュラント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | Elastic contact element |
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