JPH04501288A - Atomization of metal - Google Patents

Atomization of metal

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Abstract

A device for gas atomizing a liquid stream (41), such as a stream of molten metal or metal alloy, has an atomizing device (43) including, for example, an annular opening for receiving the stream. The atomizing device is arranged for applying atomizing gas to the stream so as to form a spray (50) of atomized particles. The atomizing device includes at least one atomizing rotor (45) which produces an atomizing gas flow field which is asymmetric with respect to the axis of the stream whereby, by varying the positional relationship of the symmetric gas flow field with respect to the stream, movement is imparted to the spray. The atomizer itself may also be tilted to and fro, the movements in combination enabling more flexibility with improved uniformity and control of deposition.

Description

【発明の詳細な説明】 金属のアトマイズ化 本発明は、例えば溶融金属又は合金の流れなど液体流をガスアトマイズする装置 に関する。[Detailed description of the invention] Atomization of metal The present invention provides an apparatus for gas atomizing a liquid stream, such as a stream of molten metal or alloy. Regarding.

液体金属の流れをアトマイズ化し、噴射して沈積することは、例えば英国特許第 １，２６２，４７１号、第１゜３７９．２６１号、第１，４７２．９３９号から 良く知られている。しかし、沈積面上での金属の広がり沈積を制御することは常 に問題であった。Atomizing, injecting and depositing a stream of liquid metal is described, for example, in British patent no. From No. 1,262,471, No. 1゜379.261, No. 1,472.939 well known. However, it is always difficult to control the spread and deposition of metals on the deposition surface. It was a problem.

ガスアトマイズされた金属の沈積層の広がり分布の制御を改善する１つの提案は 、英国特許第１，４５５，８６２号に示され、ここではアトマイズされる粒子の スプレィを、アトマイズするなめ第１次のガスジェットの組と、二組の第二次ジ ェットとを使って振動することが提案され、二次ジェットは、アトマイズされる 金属のスプレィに振動を与えるため速かに断続される。One proposal to improve the control of the spread distribution of gas atomized metal deposits is to , UK Patent No. 1,455,862, in which the particles to be atomized are A set of primary gas jets and two sets of secondary jets are used to atomize the spray. It is proposed to oscillate using a secondary jet, and the secondary jet is atomized. Rapidly intermittent to create vibrations in the metal spray.

代りの提案は、欧州特許公報第０１２７３０３Ａ号に示され、ここではスプレィ をアトマイズ及び振動する両機能を達成するなめ別々のガスジェットが断続され る。An alternative proposal is presented in European Patent Publication No. 0127303A, where spray Separate gas jets are intermittent to achieve both the atomizing and vibrating functions. Ru.

しかし、これら両方法は制御が困難であることが見出だされている。第１の提案 では、二次ジェットの使用は沈積する金属を過度に冷却することになり、続いて 到着する粒子が既に沈積した金属と正しく合体しないことを意味する。第２の方 法ではスプレィの型と特性（例えば温度）が、別々のジェットが断続する時に変 化し、これが一様な沈積と固化との条件を確保することを極めて困難にする。従 って溶融金属又は合金のアトマイズされた液体流により制御され正確な運動を与 えるための改善された装置が欧州特許公報第２２５０８０号に提案され、この装 置は軸線上で現実のアトマイズ装置を傾けることを意味し、それによりアトマイ ズされたガス流領域は同じく維持されるが、アトマイズ装置を前後に傾けること により前後に動かされる。しかし、このような装置ではより制御された沈積がで きるが、機械的に前後に傾けることに固有の慣性問題が起り得る。However, both of these methods have been found to be difficult to control. First proposal , the use of a secondary jet would result in excessive cooling of the depositing metal, and subsequently This means that the arriving particles do not properly coalesce with the metal that has already been deposited. the second person The method involves changing the type and characteristics of the spray (e.g. temperature) as separate jets are interrupted. This makes it extremely difficult to ensure uniform deposition and solidification conditions. subordinate atomized liquid flow of molten metal or alloy to provide controlled and precise motion. An improved device for Positioning means tilting the real atomizing device on its axis, thereby The reduced gas flow area is maintained the same, but by tilting the atomizer back and forth. is moved back and forth. However, such equipment allows for more controlled deposition. However, there can be inertia issues inherent in mechanically tilting back and forth.

従って、本発明の目的は改善されたアトマイズ装置とアトマイズする方法とを得 ることである。SUMMARY OF THE INVENTION It is therefore an object of the present invention to provide an improved atomizing device and method. Is Rukoto.

本発明により液体流をガスアトマイズする装置が得られ、該装置は、 流れが注がれる開口を形成するアトマイズ装置と、流れの軸線に関して非対称で あり、流れを小滴のスプレィにアトマイズするアトマイズガス流領域を形成する アトマイズする装置と、 流れに関する非対称ガス流領域の位置関係を変える装置とを有し、それによりガ ス流領域の非対称性がスプレィに運動を与え、一方アトマイズするガス流領域の 全体的形状がほぼ一定に維持されるものである。The invention provides a device for gas atomizing a liquid stream, which device comprises: an atomizing device forming an aperture into which the flow is poured, and an atomizing device that is asymmetrical with respect to the axis of the flow; Yes, forming an atomized gas flow region that atomizes the flow into a spray of droplets an atomizing device, a device for changing the position of the asymmetric gas flow region with respect to the flow, thereby The asymmetry in the gas flow region imparts motion to the spray, while the atomizing gas flow region imparts motion to the spray. The overall shape remains approximately constant.

本発明は又、スプレィを動かす方法を有し、該方法は、溶融金属又は合金などの 液体流をアトマイズ装置を経て進める工程と、流れに関し非対称のアトマイズガ ス流領域を形成するようアトマイズガスを適用することにより流れを小滴にアト マイズする工程と、アトマイズする間に、流れに関するガス流領域の非対称関係 を変える工程とを有し、それによりガス流領域の非対称性がスプレィに運動を与 え、一方アトマイズするガス流領域の全体形状はほぼ一定に維持される。The invention also includes a method of moving a spray of molten metal or alloy. The process of advancing the liquid stream through the atomization device and the atomization mechanism that is asymmetrical with respect to the flow. Atomizes the flow into droplets by applying an atomizing gas to form a gas flow region. During the atomizing process, the asymmetric relationship of the gas flow region with respect to the flow the asymmetry of the gas flow field imparts motion to the spray. However, the overall shape of the atomizing gas flow region remains approximately constant.

本発明の改善された方法は、スプレィを動かすためガスジェットを断続すること を必要としない０代りに溶融金属が出るノズルの近くにあるにも拘らず、スプレ ィが、アトマイズジェットそれ自体を、おそらく望むならば、加えて全アトマイ ズ装置を傾けて動かすことにより、動かされる装置が工夫されている。このこと は既存の方法と比べて次の特定の利点を持っている。The improved method of the present invention includes intermittent gas jets to move the spray. Despite being close to the nozzle where molten metal comes out, the spray the atomized jet itself, perhaps in addition to all the atomized jets if desired. A device that can be moved by tilting the zoom device has been devised. this thing has the following specific advantages over existing methods:

（ａ）概して、アトマイズ状態は、ガスジェットが断続されないためにより不変 に保つことができる。(a) In general, the atomized state is more constant because the gas jet is not interrupted. can be kept.

（ｂ）与えられる運動はなるべく流れのまわりでの回転又は傾斜振動がよく、そ れによりスプレィはアトマイズロータの運動を変える。望むならばアトマイザを 傾斜することにより極めて容易に動かすことができる。(b) The motion given should preferably be rotation around the flow or tilt vibration; This causes the spray to change the motion of the atomizing rotor. Atomizer if desired By tilting it, it can be moved very easily.

（Ｃ）運動の割合は、ロータの速度により必要ならば、アトマイザの傾斜により 容易に変えることができる。(C) The rate of movement is determined by the inclination of the atomizer, if required by the speed of the rotor. Can be easily changed.

（ｄ）沈積の問、どんな瞬間でもスプレィ軸線の軌跡の運動速度を容易に変える ことができる。(d) Easily change the velocity of the trajectory of the spray axis at any moment during deposition. be able to.

（ｅ）アルミニウム合金、鋳鉄、錫、及び亜鉛合金など合金によっては、比較的 小さい拡がり角のスプレィ円錐を作る傾向があり、従って、飛行中の粒子の冷却 が抑制される。沈積面での比較的高い局部的法がり流れを共に考える時、これは 過度の付着温度を生じる０本発明によりガス領域に対応する運動を起させるよう アトマイザを回転又は傾斜振動させることにより、スプレィを拡げることは、こ の場合より一様なより冷たい沈積条件を生ずることができる。その結果沈積割合 を増すことができる。(e) Some alloys, such as aluminum alloys, cast iron, tin, and zinc alloys, are relatively tends to create a spray cone with a small divergence angle, thus reducing the cooling of particles in flight is suppressed. When considering the relatively high local slope flow at the deposition surface, this The present invention causes a corresponding movement in the gas region, resulting in excessive deposition temperatures. Spreading the spray by rotating or tilting the atomizer is can result in more uniform and colder deposition conditions. As a result, the deposition rate can be increased.

（「）スプレィの主軸線は広い範囲の予め決められ通路、例えば円形、楕円形通 路に従うよう作ることができる。(“) The main axis of the spray is a wide range of predetermined passages, e.g. circular, oval passages. It can be made to follow the path.

このことは、スプレィの通路が直線に沿って前後にだけある従来の傾斜方法に対 比される。従ってスプレィの運動をより以上に制御し、作動時の適応性を増加す る。This contrasts with traditional tilting methods where the spray path is only forward and backward along a straight line. be compared. This allows greater control over the spray movement and increases flexibility during operation. Ru.

（０）沈積割合は、金属が沈積する面積が増すために（即ち製品に関しスプレィ の寸法が増す）増すことができる。このことは、金属がより速やかに冷却しより 高い割合で注入することができるから達成される。(0) Deposition rate increases due to the increase in the area over which metal is deposited (i.e., the spray (dimensions of can increase). This means that the metal cools more quickly and This is achieved because it can be injected at a high rate.

（ｈ）被覆の品質は、微小構造と孔の分布がより一様になるため改善される。(h) The quality of the coating is improved due to a more uniform microstructure and pore distribution.

従って、本発明の装置と方法は、今までに達成できなかったアトマイズ装置とス プレィの運動とに高度の制御を与えている。このことにより、スプレィ軸線の軌 跡を作られる被覆の形状に適するよう又は沈積面上のスプレィの沈積条件及び又 はスズ。レイの形状を制御するよう変えることができる。Therefore, the device and method of the present invention provide an atomization device and a speed that have not been achieved hitherto. It gives you a high degree of control over the movement and play. This allows the trajectory of the spray axis to The deposition conditions of the spray on the deposition surface and/or the shape of the coating to be traced or is tin. The shape of the ray can be varied to control it.

本発明方法の一態様では、液体流は溶融金属又は合金であり、スプレィはスプレ ィを通して連続して動く基板上に向けられ、スプレィは運動方向に横方向に基板 の幅を横切って被覆の厚さを一様にするよう動かされ、ガス流領域の非対称性に より運動方向の横方向に拡げられ、それにより帯材、被覆帯材、板又は被覆板の 製品が形成される。In one embodiment of the method, the liquid stream is a molten metal or alloy and the spray is a molten metal or alloy. The spray is directed onto the substrate in continuous motion through the is driven to make the coating thickness uniform across the width of the spread out laterally in the direction of movement, thereby increasing the width of the strip, covering strip, plate or covering plate. A product is formed.

図１は最近の従来技術のアトマイザの側方断面図である。FIG. 1 is a side cross-sectional view of a recent prior art atomizer.

図２ａ、２ｂ、２ｃは図１の装置を使ったチューブ、棒の被覆の形成の斜視図で スプレィの広がり流れの輪郭はチューブに適用されるものを示す図である。Figures 2a, 2b and 2c are perspective views of the formation of coatings on tubes and rods using the apparatus of Figure 1. The spread flow profile of the spray is shown as it is applied to the tube.

図３ａ、３ｂ、３ｃは図１による従来技術のアトマイザを使った時の帯の形成の 側面図、図３ａの線Ａ−Ａにおける断面図及びスプレィ塩がり流れの輪郭を示す 図である。Figures 3a, 3b and 3c show the formation of bands when using the prior art atomizer according to Figure 1. Side view, cross-sectional view at line A-A in Figure 3a and showing the spray salt flow profile It is a diagram.

図４は本発明によるアトマイズ装置の第１実施例の断面図である。FIG. 4 is a sectional view of a first embodiment of an atomizing device according to the present invention.

図５は本発明によるアトマイズ装置の第２実施例の断面図である。FIG. 5 is a sectional view of a second embodiment of an atomizing device according to the invention.

図６は本発明のによるアトマイズ装置の第３実施例の断面図である。FIG. 6 is a sectional view of a third embodiment of an atomizing device according to the present invention.

図７ａ、７ｂは本発明により達成のできるスプレィ輪郭の例を示す図である。Figures 7a and 7b show examples of splay profiles that can be achieved with the present invention.

図８ａ、８ｂ、８ｃは本発明の装置を使ったチューブ及び棒被覆の形成を図２ａ 、２ｂのものと比較して示す斜視図で、スプレィ塩がり流れの輪郭はチューブに 適用されるものを示す図である。Figures 8a, 8b and 8c illustrate the formation of tube and rod coatings using the apparatus of the present invention. , a perspective view shown in comparison with that of 2b, where the outline of the spray salt flow is in the tube. It is a figure showing what is applied.

図９ａ、９ｂ、９ｃは夫々、図３ａと比較した帯の基部の側面図、矢印Ｂの方向 の側面図、スプレィ塩がり流れの輪郭を示す図である。Figures 9a, 9b and 9c are respectively side views of the base of the band compared to Figure 3a, in the direction of arrow B. Figure 3 is a side view of the spray salt flow profile.

図１０ａ、１０ｂは夫々図１の傾斜式アトマイズ装置を使った時と、傾斜を組入 れて本発明の回転式装置とを使った時との帯の形成のためのスプレィの広がり流 れの輪郭を示す図である。Figures 10a and 10b show the case of using the tilting type atomizer of Figure 1 and the case of incorporating the tilting device, respectively. The spreading flow of the spray for the formation of bands when using the rotary device of the present invention FIG.

最も近い従来技術を示す図面では、アトマイズ装置１０はアトマイザハウジング １１の中、大皿１３のノズル開口１２の下に置かれる。アトマイズ装置１０はア トマイズガスジェット開口１５を持つ充満室１４を有する。アトマイズ装置１０ は中心開口１６を持つほぼ環状形であり、開口を通して大皿１３からの流れ１７ が通るよう置かれる。アトマイズ装置はハウジング１１内に直径方向に相対する 支持体１８．１９により支持され、支持体はアトマイズ装置１０から外方に突出 し、大皿１３の底部から十分遠くに置かれ、アトマイズ装置が傾斜運動を受ける ようにされるような寸法の中心開口１６を持っている。この傾斜運動が達成でき るように、支持体１８．１９はアトマイザハウジング１１内で夫々ベアリング２ ０．２１の中に装架される。一方の支持体１８は又アトマイズガスを充満室１４ に供給するための管２２として働く。In the drawings showing the closest prior art, the atomizing device 10 is shown as an atomizer housing. 11 and placed below the nozzle opening 12 of the platter 13. The atomization device 10 is It has a full chamber 14 with tomized gas jet openings 15. Atomization device 10 is generally annular in shape with a central opening 16 through which flow 17 from the platter 13 is conducted. It is placed so that it can pass through. The atomizing device is diametrically opposed within the housing 11 supported by supports 18 , 19 which project outwardly from the atomizing device 10 ; and placed sufficiently far from the bottom of the platter 13 so that the atomizing device undergoes a tilting motion. It has a central aperture 16 sized to allow it to be opened. This tilting motion can be achieved The supports 18, 19 each bear a bearing 2 within the atomizer housing 11, as shown in FIG. Mounted in 0.21. One support 18 also has a chamber 14 filled with atomized gas. It serves as a pipe 22 for supplying.

アトマイズ装置１０の運動は、回転カムと、カム輪郭（図示せず）に向けて保持 されたカム従動体とからなる機械装置により行われる。カム従動体はこれに回動 結合され、板３０上の回動結合体２９まで延びる結合腕２７を持っている。板３ ０は自由に動くことができ、回動結合体２９から偏った所で支持体１９に固定さ れる。The movement of the atomizing device 10 is maintained towards the rotating cam and the cam profile (not shown). This is done by a mechanical device consisting of a cam follower and a cam follower. The cam follower rotates accordingly. It has a coupling arm 27 which is coupled and extends to a pivot coupling 29 on the plate 30. Board 3 0 can move freely and is fixed to the support body 19 at a position offset from the rotation coupling body 29. It will be done.

従って、回転カムの運動はカム従動体結合腕２７と板３０とを経てアトマイズ装 置１０の運動に転換されることが理解される。カム輪郭は予め決められた運動の 角度と、アトマイズ装置の運動速度を制御するカムの回転速度とを画定するよう 設計される。アトマイズ装置の前後傾斜運動は、この装置１０がこれと共にアト マイズガスジェット開口１５を担持しているから、スプレィ３１に対応する走査 運動を与える。この装置のさらに詳細は上記欧州特許公開第２２５０８０号から 得ることができる。Therefore, the movement of the rotating cam is transferred to the atomizing device via the cam follower coupling arm 27 and the plate 30. It is understood that the position is converted into a motion of 10. The cam profile has a predetermined movement. to define the angle and the rotational speed of the cam which controls the speed of movement of the atomizing device. Designed. The forward and backward tilting movement of the atomizing device causes this device 10 to move along with it. Since it carries the Mize gas jet aperture 15, the scanning corresponding to the spray 31 Give exercise. Further details of this device can be found in the above-mentioned European Patent Publication No. 225080. Obtainable.

図１の装置を使って形成された製品の例のために図２ａ、２ｂ、２Ｃを参照する ことができる。これら図面でスプレィ３１は沈積面を、チューブ３３（図２ａ） の形成では矢印３２の軸線方向に、又は棒被覆３４ではその端部のまわりで走査 するよう示され、棒はチューブと同様に矢印３５の方向に回転し、且つ図２ｂに 示すよう矢印３６の方向に軸線方向に動かされる。See Figures 2a, 2b, 2C for examples of products formed using the apparatus of Figure 1. be able to. In these drawings, spray 31 covers the deposition surface, tube 33 (Figure 2a) in the direction of the axis of the arrow 32 in the formation of the rod or around its end in the bar coating 34. 2b, the rod is rotated in the direction of arrow 35 in the same way as the tube, and It is moved axially in the direction of arrow 36 as shown.

スプレィがこれら図面に示すよう棒端を横切り、又は回転チューブに沿って走査 される時、面上のスプレィ軸線３７の軌跡は前後方向の直線通路に従う、従って スプレィの走査振動数が十分に高く生じた回転当りの層が実際に一様であること を確実にすることが絶対必要である。The spray can be scanned across the rod end or along the rotating tube as shown in these drawings. , the trajectory of the spray axis 37 on the surface follows a straight path in the front-rear direction, thus The scanning frequency of the spray is high enough that the layer per revolution produced is practically uniform. It is absolutely necessary to ensure that

例えば、チューブの形成に関して図２ｃに示すように、スプレィ軸線の軌跡のま わりに形成されるスプレィ輪郭３８は、各回転毎に一様な沈積を与えるよう重な り合わねばならない。しかし、例えばチューブの形成では、沈積体の必要直径が 増大する時、走査振動数と回転速度との比は増大し、これが傾斜アトマイザの固 有の慣性のために機械的設計の問題に連なる。For example, as shown in Figure 2c for tube formation, the trajectory of the spray axis is The spray profile 38 formed instead overlaps to provide uniform deposition with each rotation. must be matched. However, in the formation of tubes, for example, the required diameter of the deposit is When increasing, the ratio of scanning frequency to rotational speed increases, which increases the rigidity of the tilt atomizer. This leads to mechanical design problems due to the inertia of the material.

図３ａでは、矢印６２の方向に動く基板６１上に形成される帯又は板６０が示さ れている。しかし、最大のスプレィ密度を達成して一方、結果として熱すぎる沈 積の欠点のないスプレィの最大スプレィ塩がり流れ輪郭に適応するため（スプレ ィ輪郭６４に関して線６３で示す）矢印６７で示すよう運動方向に横方向にアト マイズスプレィ６６が走査する場合でも断面を通して十分に一様な沈積状態を持 つ帯を作るため、２つ又はそれ以上のアトマイズスプレィ６６の２つ又はそれ以 上の列を使うことが必要である。In FIG. 3a a band or plate 60 is shown formed on a substrate 61 moving in the direction of arrow 62. It is. However, achieving maximum spray density may result in too hot a sediment. To accommodate the maximum spray flow profile without product defects (spray (represented by line 63 with respect to contour 64) laterally in the direction of motion as shown by arrow 67. Even when Mize Spray 66 scans, it maintains a sufficiently uniform deposition condition throughout the cross section. Two or more of the two or more atomized sprays 66 to create a band It is necessary to use the upper row.

図１の傾斜アトマイザでは、アトマイズ装置で生ずるスプレィ円錐は常に維持さ れ、アトマイザの傾斜はスプレィ円錐の前後運動を達成し、ガスジェットはアト マイズのためだけに使われる。In the tilted atomizer of Figure 1, the spray cone created by the atomizing device is always maintained. The tilt of the atomizer achieves the back and forth motion of the spray cone, and the gas jet Used only for Mize.

本発明では、アトマイズ装置は傾斜することができるが、スプレィの運動はこの ような運動をせずに達成される。例えば図４では、溶融金属又は合金の液体流れ ４１はアトマイザ本体４３にバイブ４２を経て供給されるガスでアトマ・イズさ れる。ガスはロータ４５内の液体流れ４１のまわりに置かれたオリフィス４４を 経て流出し、ロータは液体流れ４１の軸線のまわりで動くことができ、且つ流れ のまわりで前後に傾斜振動を受けるよう又は流れのまわりで完全に回転するよう 置かれる。図面から分かるように、オリフィス４４の寸法は、非対称アトマイズ ガス領域を発生するため液体流れのまわりの周辺位置によって異なる。In the present invention, the atomizing device can be tilted, but the spray motion is It is achieved without any physical exertion. For example, in Figure 4, the liquid flow of molten metal or alloy 41 is the gas supplied to the atomizer body 43 via the vibrator 42, and the atomizer body 43 It will be done. The gas passes through an orifice 44 placed around the liquid stream 41 in the rotor 45. The rotor can move around the axis of the liquid flow 41 and the flow to undergo tilting oscillations back and forth around the flow or to rotate completely around the flow. placed. As can be seen from the drawing, the dimensions of the orifice 44 are asymmetrical atomized. Depending on the peripheral position around the liquid flow to generate the gas region.

ロータ４５はベアリング４６．４７によりその位置に保持され、ガスの洩れは図 示の適当なシール４８．４９によりロータ４５とアトマイザ本体４３との間で防 がれる。オリフィス４４からでるガスジェットは、スプレィ５０を形成するよう 液体流れ４１をアトマイズする。ロータ４５は例えばスパーギアーなと被駆動作 動装置により流れ４１のまわりで動くことができる。ロータの回転時又は前後の 傾斜振動時に、アトマイズガス領域の全体の非対称性は同じに維持されるが、そ の流れに関する位置が変わるから、ガス流領域の異なる非対称位置ガスプレイ５ ０に回転又は振動を与える。The rotor 45 is held in position by bearings 46, 47 and gas leakage is prevented. A suitable seal 48,49 shown in FIG. I can escape. The gas jet exiting the orifice 44 is configured to form a spray 50. Atomize liquid stream 41. The rotor 45 is driven by a spur gear, for example. It can be moved around the stream 41 by means of a moving device. When the rotor rotates or before and after During tilt oscillations, the overall asymmetry of the atomized gas region remains the same, but its Since the position with respect to the flow changes, the asymmetrical position gas play 5 of the gas flow area changes. Give rotation or vibration to 0.

図５ではロータ１４５を有する同様な装置が示され図４のこれら同様な符号は対 応する部品を示すため１００代の符号として使われている。しかし図５では、ア トマイズ装置の周辺のまわりのオリフィス１４４の寸法が、変わる代りに符号１ ５２で示す出現するガスジェットの攻撃角は非対称スプレィ模様を作るため周辺 のまわりで変化する。In FIG. 5 a similar device is shown having a rotor 145, and these like numbers in FIG. It is used as a code in the 100s to indicate the corresponding parts. However, in Figure 5, The dimensions of the orifice 144 around the periphery of the tomizing device are changed to 1 instead of The attack angle of the emerging gas jet shown at 52 is change around.

望むならば、図４と図５とを組合わせること、即ちオリフィス寸法と攻撃角とを 変えることは可能である。If desired, it is possible to combine Figures 4 and 5, i.e., the orifice dimensions and angle of attack. It is possible to change.

図６の実施例では、非対称アトマイズガス領域は２つのロータにより作られ、ロ ータは互いに及びアトマイザ本体に関し回転することができる０図６でアトマイ ザ本体を通して進む液体金属の流れ２４１は、バイブ２４２を経てアトマイザ本 体２４３に供給されるアトマイズガスによりアトマイズされる。ガスは充満室２ ５３内に受けられアトマイズオリフィス２４４を経てアトマイザ本体２４３を出 る。オリフィス２４４は２つの同心ロータ２５４，２５５内で２つの円形列に置 かれこれをアトマイズするため流れ２４１のまわりに分布される。各ロータ２５ ４，２５５内のオリフィスの寸法は、非対称アトマイズガス領域を発生するため 液体流のまわりの周辺位置によって異なる。しかし、２つのロータ２５４，２５ ５を使うことにより、結果としてのスプレィ形状の制御により融通性がある。In the embodiment of FIG. 6, the asymmetric atomized gas region is created by two rotors; The atomizer can rotate with respect to each other and the atomizer body. The flow of liquid metal 241 that advances through the atomizer body passes through the vibrator 242 and the atomizer main body. It is atomized by the atomizing gas supplied to the body 243. Gas is in full chamber 2 53 and exits the atomizer body 243 via the atomizing orifice 244. Ru. The orifices 244 are arranged in two circular rows within the two concentric rotors 254, 255. distributed around stream 241 to atomize it. Each rotor 25 The orifice dimensions in 4,255 Depends on the peripheral position around the liquid flow. However, the two rotors 254, 25 5 provides more flexibility in controlling the resulting spray shape.

内側ロータ２５４はベアリング２４６．２４７によりその位置に保持され、外側 ロータ２５５はベアリング２５６．２５７により保持される。ガスの洩れは適当 なシール２４８，２４９，２５８によりロータ２５４，２５５とアトマイザ本体 ２４３との間で防がれる。オリフィス２４４から出るアトマイズガスジェットは 液体流れをスプレィ２５０を形成するようにアトマイズする。夫々のロータ２５ ４，２５５内のガスジェットの列は流れに関する１つのアトマイズ点又は、流れ がスプレィに破砕されるアトマイズ領域２５９で焦点が合わされる。The inner rotor 254 is held in position by bearings 246,247 and the outer rotor 254 The rotor 255 is held by bearings 256,257. Appropriate gas leakage The rotors 254, 255 and the atomizer body are separated by the seals 248, 249, 258. 243 is prevented. The atomized gas jet coming out of the orifice 244 is The liquid stream is atomized to form a spray 250. each rotor 25 The array of gas jets in 4,255 has one atomization point on the flow or is focused in an atomized region 259 where the particles are broken up into a spray.

ロータ２５４，２５５は夫々ベベルギア−２６０，２６１により動くことかで゛ きる。２つのロータ２５４，２５５を同期することにより、非対称ガス流領域は ほぼ一定に保つことができ、回転又は前後の傾斜振動は運動をスプレィに与え、 一方これはガス流領域により決められる同じ断面形に保持する。しかし、一方の ロータと他方に関し動かすことによりガス流領域の形状はさらに変えることがで き、これが融通性を増加する。The rotors 254 and 255 can be moved by bevel gears 260 and 261, respectively. Wear. By synchronizing the two rotors 254, 255, the asymmetric gas flow region is can be kept nearly constant, rotation or back-and-forth tilt vibration imparts motion to the spray, On the other hand, it maintains the same cross-sectional shape determined by the gas flow area. However, one By moving the rotor relative to the other, the shape of the gas flow region can be further changed. This increases flexibility.

望むならば、流れのまわりで回転及び又は前後に傾斜振動するためロータを持つ アトマイザは図１の傾斜配置に使うことができ、それによりアトマイザ装置は同 時に傾斜、回転し又は傾斜振動をする。If desired, have a rotor to rotate and or oscillate back and forth around the flow. The atomizer can be used in the tilted arrangement of Figure 1, so that the atomizer device is Sometimes it tilts, rotates, or oscillates.

使用時に、図７ａ、７ｂを参照して、夫々のオリフィス４４．１４４．２４４か らでるアトマイズガスジェット３００の模様が、結果として円錐形ジェットであ るように置かれて、その軸線３０１が夫々のロータの回転軸線に関して小さい角 度で傾いていれば、スプレィ輪郭３０３は、ガス領域がアトマイズ装置に関して 非対称であっても円錐形ジェット軸線３０１のまわりで対称であり、特に液体流 れ３０２の主軸線はこの場合ロータ軸線と同一である。もしロータが流れのまわ りで前後に傾斜振動するならば、有効スプレィ輪郭は図７ａの底部に平面図３０ ４で示されるように修正される。In use, with reference to Figures 7a and 7b, each orifice 44.144.244 or The pattern of the atomized gas jet 300 that emerges is a conical jet as a result. so that its axis 301 lies at a small angle with respect to the axis of rotation of the respective rotor. degree, the spray profile 303 indicates that the gas region is Even though it is asymmetrical, it is symmetrical about the conical jet axis 301, especially when the liquid flow The main axis of the rotor 302 is in this case the same as the rotor axis. If the rotor moves in the flow If the slope oscillates back and forth, the effective spray profile is shown in plan view 30 at the bottom of Figure 7a. Modified as shown in 4.

図７ｂでは、ロータは有効スプレィ輪郭３０５を形成するよう回転する。明らか に作られる実際のスプレィ輪郭は、ガスジェットの模様と傾斜振動又は回転であ る夫々のロータに加えられる速度輪郭との関数である。In FIG. 7b, the rotor rotates to form an effective spray profile 305. In FIG. clear The actual spray profile created is a combination of the gas jet pattern and tilting vibration or rotation. is a function of the velocity profile applied to each rotor.

図８ａ、８ｂ、８ｃでは、本発明の利点がチューブ４００と棒４０１との被覆を 形成することで示されている。8a, 8b, 8c, the advantages of the present invention include coating tube 400 and rod 401. It is shown by forming.

両方の場合夫々被覆を形成するため矢印４０２，４０３で示す回転運動と軸線運 動とがあり、その上矢印４０６で示すスプレィの走査運動がある。図２ａ、２ｂ 、２ｃに示されるようなアトマイザを傾斜することによってだけ与えられるスプ レィ運動とは対照的にアトマイザロータの追加の回転又は傾斜振動により夫々図 ８ａ、８ｂに線４０４゜４０５で示されるスプレィ軸線の軌跡は拡げられ、（又 は図８ｃにチューブの形成に関して示されるように有効なより広いスプレィ輪郭 ４０７を持つように）、このことによりスプレィの走査速度を減らすことができ 、−万一様な被覆を与えるようそれでもなお必要な重なりを達成することができ る。走査速度が減少する時、より多くの金属を、完成被覆の所望の特性上に損失 効果を持つことなく沈積することができる。In both cases a rotational movement and an axial movement as indicated by arrows 402, 403 are required to form the coating respectively. There is a scanning motion of the spray, indicated by an upward arrow 406. Figures 2a, 2b , 2c, which can only be given by tilting the atomizer. In contrast to the lay motion, additional rotation or tilting vibrations of the atomizer rotor The locus of the spray axis indicated by lines 404 and 405 in 8a and 8b is widened (and is the effective wider spray profile as shown for tube formation in Figure 8c. 407), this allows you to reduce the scanning speed of the spray. , - if it is possible to still achieve the required overlap so as to give a uniform coverage. Ru. When the scanning speed decreases, more metal is lost on the desired properties of the finished coating. Can be deposited without any effect.

図９ａ、９ｂでは帯又は板４１０の製作が図解して示されている。図３ａ、３ｂ の傾斜と異なり、アトマイザロータに回転又は傾斜振動を加えることは、図９Ｃ のスプレィ輪郭４１１で示される一様性の拡がりを生じ、従って、必要で製作割 合を多分増加する２つの極めて簡単化された工場に対して、必要な傾斜式アトマ イザ（４１２）は−例だけとなる。もちろん図３ａ、９ａには二列のアト゛マイ ザが示されているが、幅のせまい帯又は板が必要ならば、本発明では今までは前 後に置かれた２つのアトマイザに対して１つのアトマイザだけで十分である。In Figures 9a, 9b the fabrication of a strip or plate 410 is shown diagrammatically. Figures 3a, 3b Unlike the tilting of FIG. 9C, applying rotational or tilting vibration to the atomizer rotor This results in a uniformity spread as shown by the splay profile 411, thus reducing the required manufacturing cost. The required tilting atma for two highly simplified plants, which will likely increase the Isa (412) is an example only. Of course, in Figures 3a and 9a, there are two rows of atomic Although a narrow band or plate is shown, if a narrow strip or plate is required, the present invention has heretofore provided Only one atomizer is sufficient for two atomizers placed after.

帯の形成で対比するスプレィ輪郭は図１０ａ、１０ｂに詳しく示され、ここでは 回転と傾斜との組合わせが説明されている。特に、アトマイザを傾斜し回転を加 えることによるスプレィの走査は、帯の製作においては、厚さの正しい一様性を 得るため、スプレィを傾斜することにより横に拡げ、回転により又長手方向に拡 げることにより、利点を持っている。従って、図１０ａはアトマイザ−を前後に 傾けることによってだけ達成するスプレィ輪郭４２０を示しているのに、図１０ ｂはより大きい拡がりを得るため回転又は傾斜振動を加えられたスプレィ輪郭４ ２１を示している。この結果、帯の厚さの全体にわたってより一様な沈積条件を 生じ、これが帯被覆の下面、上面の孔の量を減少する（スプレィの縁の沈積割合 が低いことから生じる）。Contrasting splay profiles with band formation are shown in detail in Figures 10a, 10b, where A combination of rotation and tilting is described. In particular, tilt the atomizer and apply rotation. The scanning of the spray by means of a To achieve this, the spray is spread horizontally by tilting it and longitudinally by rotating It has an advantage by giving more. Therefore, in Figure 10a, the atomizer is moved back and forth. Although FIG. 10 shows a splay profile 420 achieved only by tilting, FIG. b is a spray profile 4 subjected to rotational or tilting vibration to obtain a larger spread. 21 is shown. This results in more uniform deposition conditions throughout the thickness of the zone. This reduces the amount of pores on the lower and upper surfaces of the band coating (deposition rate at the edges of the spray). ).

本発明では、沈積面がスプレィの下で移動する時沈積割合の変化が少なく従って 孔は減少する。In the present invention, when the deposition surface moves under the spray, the change in deposition rate is small and therefore The pores are reduced.

本発明の回転方法は、チューブ、ビレット、クラツド材の製作、特にビレット、 大直径のチューブ製作に著しい利点を持っている。この理由は、スプレィが大き い領域をカバー、即ちより大きい足跡を持ち、従って、従来の傾斜だけの方法と 比べてチューブ又はビレット面を容易に完全に被うからである。本発明は回転可 能のアトマイズ装置の中心を通る流れの軸線について、特に説明したけれども、 アトマイザ−の回転軸線又はジェットの軸線は金属の流れの軸線と異なってもよ い、この配置では、孔は一様にでき、一方ガス流領域、従ってスプレィの形状は 液体流れに非対称である。その上、ジェットは円形に置く必要はなく、例えばジ ェットは楕円形に置いて１つ、２つ又はそれ以上のロータがあってもよい、２つ のロータの場合、これらは同方向又は反対に回転してもよい（又は同方向又は反 対方向に傾斜振動する）。The rotation method of the present invention can be used to produce tubes, billets, and clad materials, especially billets, It has significant advantages in producing large diameter tubes. The reason for this is that the spray is large. covers a smaller area, i.e. has a larger footprint, and therefore This is because it easily and completely covers the tube or billet surface. The present invention can be rotated. Although we have specifically discussed the axis of flow through the center of the Noh atomizing device, The axis of rotation of the atomizer or the axis of the jet may be different from the axis of metal flow. In this arrangement, the pores can be uniform, while the gas flow area, and therefore the shape of the spray, can be Asymmetrical to liquid flow. Moreover, the jets do not have to be placed in a circle, e.g. The jet may have one, two or more rotors placed in an oval shape. rotors, these may rotate in the same or opposite directions (or in the same or opposite directions). tilt vibration in opposite directions).

上記装置はガスアトマイズされる金属粉末の製作に使うことができ、それにより スプレィの運動はアトマイズされる粒子に改善された冷却を与えることができる 。The above equipment can be used to produce metal powders that are gas atomized, thereby Spray motion can provide improved cooling to the atomized particles .

ＦＩＧ、２ｂ　ＦＩＧ、２ｃ ＦＩＧ、９ａ 国際調査報告 １ｅｔ−〇′Ｉｅａｎｔ　Ｊｌ−−ｌ−ｎ　Ｈ１′ＰＣ丁／ＱＢ　８９１０１２ ４８国際調査報告 ＰＣＴ／ＧＢ　８９１０Ｘ２４１’１FIG, 2b FIG, 2c FIG. 9a international search report 1et-〇'Ieant Jl--l-n H1'PC ding/QB 891012 48 International Search Report PCT/GB　8910X241’1

Claims (20)

【特許請求の範囲】[Claims] （１）液体の流れが注がれる開口を形成するアトマイズ装置と、 前記液体流れの軸線に関して非対称形で、前記流れを小滴のスプレイにアトマイ ズするアトマイズガス流れ領域を形成するアトマイズする装置と、 前記流れに関し前記非対称ガス流領域の位置関係を変える装置とを有し、前記ア トマイズガス流領域の非対称性が前記液体流れの軸線に関して前記スプレイに運 動を与え、一方前記アトマイズガス流領域の全形状はほぼ一定に維持されるガス アトマイズ装置。(1) an atomizing device forming an opening into which a liquid stream is poured; atomizing the flow into a spray of droplets in an asymmetric manner with respect to the axis of the liquid flow; an atomizing device forming an atomizing gas flow region that a device for changing the positional relationship of the asymmetric gas flow region with respect to the flow; The asymmetry of the tomized gas flow field contributes to the spray with respect to the axis of the liquid flow. the atomized gas flow region, while the overall shape of the atomized gas flow region remains approximately constant. Atomization device. （２）請求項１の前記アトマイズする装置はロータ内に複数個のアトマイズジェ ットを有し、前記ロータは前記アトマイズ装置に関し動くことができるガスアト マイズ装置。(2) The atomizing device according to claim 1 includes a plurality of atomizing gels within the rotor. a gas atomizer movable with respect to the atomizing device; Mize device. （３）請求項２の前記非対称ガス流領域は、前記ロータ内のそのまわりで寸法の 変わるオリフィスからでるアトマイズジェットにより作られるガスアトマイズ装 置。(3) The asymmetric gas flow region of claim 2 has a dimension around it within the rotor. A gas atomization device made by an atomization jet coming out of a changing orifice. Place. （４）請求項２の前記非対称ガス流領域は、前記ロータのまわりの前記アトマイ ズジェットの攻撃の角度を変えることにより作られるガスアトマイズ装置。(4) The asymmetric gas flow region of claim 2 comprises the atomizer around the rotor. A gas atomization device created by changing the angle of attack of the jet. （５）請求項２の前記非対称ガス流領域は、前記ロータの軸線が前記流れの軸線 から隔てられることにより作られるガスアトマイズ装置。(5) The asymmetric gas flow region according to claim 2 is characterized in that the axis of the rotor is the axis of the flow. A gas atomization device made by separating the （６）請求項２の前記非対称ガス流領域は、前記ローク内でその軸線に関し非対 称に置かれるアトマイズガスジェットにより作られるガスアトマイズ装置。(6) The asymmetric gas flow region of claim 2 is asymmetric within the loak with respect to its axis. A gas atomizing device made by an atomizing gas jet placed in the （７）請求項１の前記アトマイズする装置はロータ内に環状開口を有し、前記開 口の幅又は前記ロータ内のその位置は、非対称ガス流領域を得るよう前記ロータ のまわりで変わるガスアトマイズ装置。(7) The atomizing device according to claim 1 has an annular opening in the rotor; The width of the mouth or its location within the rotor may be adjusted to obtain an asymmetric gas flow area. Gas atomization equipment that changes around. （８）請求項２の前記アトマイズする装置は２つのロータを有し、その各々は前 記液体流れの軸線に関し非対称ガス流領域を形成するためアトマイズジェットを 有し、前記ロータの各々は互いに且つ前記アトマイズ装置に関し可動であって、 組合わせた時に前記液体流れに関する前記ガス流領域の非対称性が変わるガスア トマイズ装置。(8) The atomizing device according to claim 2 has two rotors, each of which has a front An atomizing jet is used to create an asymmetric gas flow region with respect to the liquid flow axis. each of the rotors is movable with respect to each other and the atomization device; gas supplies that, when combined, alter the asymmetry of the gas flow region with respect to the liquid flow; Tomizing device. （９）請求項１から８までの何れか１項のガスアトマイズ装置において、さらに 前記アトマイズ装置を傾斜して、アトマイズ時に前記スプレイが前記アトマイズ 装置の傾斜により前後に動くことのできる装置を有するガスアトマイズ装置。(9) In the gas atomization device according to any one of claims 1 to 8, further Tilt the atomizing device so that during atomization the spray is A gas atomization device that has a device that can move back and forth by tilting the device. （１０）流れをガスアトマイズして、前記アトマイズされた流れの沈積物から形 成される被覆の沈積状態を制御する装置において、 前記流れが通る中心開口を持つアトマイズ装置と、前記アトマイズ装置の中に形 成された充満室と、前記アトマイズ装置を支持するため前記アトマイズ装置に結 合され、前記充満室をアトマイズガス源に連絡する入口通路を有する装置と、 前記アトマイズ装置に関し動かすよう前記アトマイズ装置内に装架されたロータ と、 開口を通して進む前記流れにアトマイズガスを導くため前記ロータ内に形成され た複数個のアトマイズガスジェット開口とを有し、前記アトマイズガスジェット 開口は互いに関し予め決められた関係に置かれて、予め決められた形状の非対称 アトマイズガス流領域を形成し、さらに、 前記ロータを前記アトマイズ装置に関し動かす装置を有し、前記非対称アトマイ ズガス流領域は前記スプレイに、前記アトマイズガス流領域の形状がほぼ一定に 維持されるように運動を与えて、形成された被覆の形状及び沈積状態が制御され るガスアトマイズ装置。(10) gas atomizing the flow to form a shape from the deposits of the atomized flow; In a device for controlling the deposition state of a coating formed, an atomizing device having a central opening through which the flow passes; and a shape inside the atomizing device. a filled chamber formed and connected to said atomizing device to support said atomizing device. an inlet passage connected to the plenum and connecting the plenum to a source of atomizing gas; a rotor mounted within the atomizing device for movement with respect to the atomizing device; and, formed in the rotor to direct atomized gas into the flow proceeding through the apertures; a plurality of atomized gas jet openings; The apertures are placed in a predetermined relationship with respect to each other to form an asymmetrical shape of a predetermined shape. forming an atomized gas flow region; a device for moving the rotor relative to the atomizing device; The shape of the atomized gas flow region is approximately constant in the spray. The shape and deposition state of the formed coating are controlled by applying movement so that it is maintained. Gas atomization equipment. （１１）請求項１０のガスアトマイズ装置はさらに、前記ロータに傾斜振動又は 完全回転を与えるよう作動する制御装置を有するガスアトマイズ装置。(11) The gas atomizing device according to claim 10 further includes tilting vibration or vibration in the rotor. A gas atomizing device having a control device operative to provide full rotation. （１２）請求項１１の前記制御装置は前記ロータを前記アトマイズ装置に関して 動かすよう作動する前記ロータと結合するスパーギアーを有するガスアトマイズ 装置。(12) The control device according to claim 11 controls the rotor with respect to the atomizing device. a gas atomizer having a spur gear coupled to said rotor operative to move the gas atomizer; Device. （１３）液体の流れが注がれる開口を形成するアトマイズ装置と、 前記液体の流れの軸線に関して非対称形であり、前記流れを小滴のスプレイにア トマイズするアトマイズガス流領域を形成するアトマイズする装置とを有し、前 記アトマイズする装置は少くとも第１及び第２のロータを有し、前記ロータは互 いに且つ前記アトマイズ装置に関して可動であり、さらに、 前記流れに関して前記ガス流領域の位置関係及び（又は）非対称性を変える装置 を有し、前記アトマイズガス流領域は、前記液体流れの軸線に関し、前記ロータ が同期する時は、前記アトマイズガス流領域の全体形状をほぼ一定に維持するよ うに、又は前記アトマイズガス流領域の形状が前記ロータ間の相対運動時に変わ るよう前記スプレイに運動を与えるガスアトマイズ装置。(13) an atomizing device forming an opening into which a stream of liquid is poured; is asymmetrical with respect to the axis of the liquid flow and directs the flow into a spray of droplets. an atomizing device forming an atomizing gas flow region; The atomizing device has at least first and second rotors, the rotors being mutually and movable with respect to the atomizing device; a device that changes the positional relationship and/or asymmetry of the gas flow region with respect to the flow; , the atomized gas flow region is relative to the liquid flow axis and the rotor When synchronized, the overall shape of the atomized gas flow region is maintained almost constant. or the shape of the atomized gas flow region changes during relative movement between the rotors. A gas atomizing device that imparts motion to the spray so as to cause the spray to move. （１４）スプレイを動かす方法において、溶融金属又は合金など液体の流れをア トマイズ装置を経て進める工程と、前記流れの軸線に関して非対称形で前記流れ を小滴のスプレイにアトマイズするアトマイズガス流領域を形成するアトマイズ ガスを適用することにより、前記流れをアトマイズする工程と、アトマイズ時に 、前記スプレイに運動を与え、一方前記アトマイズガス流領域をほぼ一定に維持 するよう前記流れに関する前記アトマイズガス流領域の位置関係を変える工程と からなるスプレイ運動方法。(14) In the method of moving a spray, a flow of liquid such as molten metal or alloy is applied. passing the stream through a tomizing device and asymmetrically with respect to the axis of the stream; Atomize to form a gas flow region that atomizes into a spray of droplets atomizing said flow by applying a gas; , imparting motion to the spray while maintaining the atomized gas flow field approximately constant. changing the positional relationship of the atomized gas flow region with respect to the flow so as to A spray exercise method consisting of: （１５）請求項１４のスプレイ運動方法において、さらに前記非対称ガス流領域 に前後運動を与えるよう軸線のまわりで前記アトマイズ装置を傾ける工程を有す るスプレイ運動方法。(15) The spray motion method according to claim 14, further comprising the asymmetric gas flow region. tilting the atomizing device about an axis to impart back-and-forth motion to the atomizing device; Spray exercise method. （１６）請求項１４の前記液体流れは溶融金属又は合金であり、前記スプレイは 前記スプレイを通して連続的に動く基板に向けられ、前記スプレイは前記アトマ イズ装置を前後に傾けることにより前記運動方向に横方向に動いて前記基板を横 切って沈積の厚さを一様にし、前記スプレイは前記非対称ガス流領域の位置関係 を変えることにより運動方向に横方向に拡げられて前記基板の運動方向の沈積の 一様性を達成して、帯、被覆帯、板、又は被覆板の製品が形成されるスプレイ運 動方法。(16) The liquid stream of claim 14 is a molten metal or an alloy, and the spray is The spray is directed at a continuously moving substrate through the spray, and the spray By tilting the size device back and forth, it moves laterally in the direction of movement and moves the substrate laterally. The spray is cut to make the thickness of the deposit uniform, and the spray is adjusted in relation to the position of the asymmetric gas flow region. is expanded laterally in the direction of motion by changing the direction of motion of the substrate. A spray operation that achieves uniformity and forms a product of strips, cladding, plates, or cladding. How it works. （１７）請求項１４，１５又は１６のスプレイ運動方法において、金属又はセラ ミック粒子が、集められる基板上に形成される被覆の中に組入れられるよう前記 スプレイに適用されるスプレイ運動方法。(17) In the spray movement method according to claim 14, 15 or 16, the metal or ceramic the particles are incorporated into a coating formed on the substrate from which they are collected. Spray movement method applied to spray. （１８）請求項１４，１５，１６，１７の何れか１項のスプレイ運動方法におい て、前記スプレイの運動は、スプレイで被覆された鋳塊、棒、チューブ、リング 、ロール、円錐体、鍛造及び押出し素材、チキソトロピー（ｔｈｉｘｏｔｒｏｐ ｉｃ）変形用型材、積層又は被覆製品及び金属マトリックス（Ｍａ−ｔｒｉｘ） 複合体を作るよう制御されるスプレイ運動方法。(18) In the spray movement method according to any one of claims 14, 15, 16, and 17. The movement of the spray is applied to the ingots, rods, tubes, rings coated with the spray. , rolls, cones, forged and extruded materials, thixotrop ic) Deformable profiles, laminated or coated products and metal matrices (Ma-trix) Controlled spray motion method to create complexes. （１９）スプレイを動かす方法において、溶融金属又は合金などの液体の流れを アトマイズ装置を経て進める工程と、前記流れの軸線に関し非対称形で前記流れ を小滴のスプレイにアトマイズするアトマイズガス流領域を形成するため少くと も２つの相対回転可能のロータから出るアトマイズガスを適用することにより前 記流れをアトマイズする工程と、アトマイズ時に前記スプレイに運動を与えるよ う前記流れに関する前記ガス流領域の位置関係及び（又は）非対称性を変える工 程とからなり、前記ロータを同期する時は、前記アトマイズガス流領域の全体形 状をほぼ一定に維持し、又はアトマイズ時の前記ロータ間の有効相対運動が前記 ガス流領域の非対称性を変えるスプレイ運動方法。(19) In a method of moving a spray, the flow of liquid such as molten metal or alloy is the step of proceeding through an atomizing device and the step of advancing said flow in an asymmetric manner with respect to the axis of said flow; The atomize gas flows to form a region that atomizes into a spray of small droplets. by applying atomizing gas coming from two relatively rotatable rotors. The process of atomizing the flow and giving motion to the spray during atomization. a process that changes the positional relationship and/or asymmetry of the gas flow region with respect to the flow; and when synchronizing the rotor, the overall shape of the atomized gas flow region or the effective relative movement between the rotors during atomization is maintained substantially constant. A spray motion method that changes the asymmetry of the gas flow field. （２０）請求項１４の前記液体の流れは溶融金属又は合金であり、前記スプレイ は飛行中に冷却及び固化することができ、金属粉末が形成されるスプレイ運動方 法。(20) The liquid stream of claim 14 is a molten metal or an alloy, and the spray The spray movement method allows metal powder to cool and solidify during flight and form metal powder. Law.
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