JPH0433880B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 発明の目的 〔産業上の利用分野〕 本発明は、短尺で板状の被メツキ物への全面メ
ツキ方法、上記方法を実施するために直接使用す
る全面メツキ用被メツキ物保持ドラム、同じく全
面メツキ装置、同じく全面メツキ用補助処理装置
に関するものである（本明細書中で「補助処理」
とは、被メツキ物に全面メツキを行う際の、狭義
のメツキ処理に対する前処理または後処理であ
り、水洗・脱脂・酸洗処理等の補助的な処理を指
す）。

〔従来の技術〕

短尺の板状被メツキ物への全面メツキ、例えば
短尺のICリードフレーム（モールドされる前・
後のものを含む）や板状電子部品に、ニツケルや
半田あるいはその他の金属を全面メツキする場
合、従来用いられている全面メツキ手段として
は、次のようなものがある。

() まず一般に行われているラツキング法があ
る。これは、引掛け用部をもつラツク（治具）
に、一枚または複数枚の被メツキ物を陰極に接
触させて吊るし、メツキ液中で電解処理するよ
うにしたものである（例えば「実用めつきマニ
ユアル」友野理平著、オーム社発行、第57頁な
いし第78頁、特に第72頁参照）。

() また、本件出願人が先に提案した特公昭63
−14079号公報に記載のものがある。これは、
メツキ処理室の側上部に沿つて移動する循環移
動機機構に、被メツキ物を横長に立てて係合可
能な凹溝付の被メツキ物保持部を、支持椀を介
してメツキ処理室内で水平状になる如く多数個
並列状に設けたものである。

() さらに、同じく本件出願人が開発した特願
昭52−330431号の明細書・図面に記載のものが
ある。これは、被メツキ物と陽極との配置を平
行状にするとともに、両者間に陽極用開口部を
有する遮蔽板を設け、被メツキ物の中央部が上
記開口部の位置に来た際に一時停止させるよう
にしたものである。

〔発明が解決しようとする課題〕 上記従来の全面メツキ手段には、次のような問
題点があつた。

まず上記（）のラツキング法は、所謂エツジ
現象により、被メツキ物の側部寄りほど厚くメツ
キが付きやすく、メツキ膜厚にバラツキが生じ
た。そのため、被メツキ物が例えばICリードフ
レームやプリント基板の如く、特に高精度なメツ
キを要求されるものにとつて、適切な手段ではな
かつた。

また被メツキ物の長さ・幅等によつて、ラツク
の大きさ・陰極の位置・形状等を変える必要があ
り、専用のラツク・陰極を用意しておき交換する
手間を要し、大量生産には不適当であつた。

さらに、ラツクが全工程を移動するので、各メ
ツキ処理槽や前または後の補助処理槽で、各処理
液を持ち出し・持ち込み量が多いし、ラツクの昇
降作動のため装置が大型化していた。

次に、上記（）の特公昭63−14079号公報の
ものは、い被メツキ物が例えば汎用的なサイズの
ICリードプレームなら、ラツク自体や陰極の位
置・形状等を交換せずとも、あらゆるパターン・
サイズのものを全面メツキできる。また多数の被
メツキ物を、順次に連続して処理槽内を移動させ
るので、大量生産性に優れている。

しかしこれは、陽極が被メツキ物の各部分に対
して均等な間隔をもつ位置にあるとは言えぬの
で、被メツキ物の各部分のメツキ膜厚にやはり差
が生じた。

また、被メツキ物保持部が全工程を移動するた
め、各処理槽での処理液の持ち込み・持ち出し量
が多いし、並列状に設けた各治具間には、一定寸
法以上の間隔をあける必要があるため、装置が大
型化せざるを得ない。

さらに、上記（）の特願昭62−330431号の明
細書・図面のものは、被メツキ物の各部でメツキ
膜厚を均一にできるし、長さ・幅等に関係なく被
メツキ物を保持治具へ投入可能で、全面メツキの
自動化が容易となる。

しかしこれは、被メツキ物を長手方向に移動さ
せているため、各処理槽が長くなつてしまつた。
特に大量生産を行うため、多くの被メツキ物を速
く移動させようとすれば、各処理槽を一層長いも
のにする必要があり、装置が大型化するという問
題点が残つていた。

本発明は、上記従来の板状被メツキ物への全面
メツキ手段が有する各種の問題点を解決しようと
するものである。即ち本発明の目的は、被メツキ
物の各部でメツキ膜厚が均一になつてメツキの高
精度化を図ることができ、大量に全面メツキが可
能で生産性を大幅に向上でき、各処理槽での処理
液の持ち出し・持ち込みを少なくして、経済性と
メツキ品質の向上を図られ、かつ装置を小型化し
て設置が容易にできる、板状被メツキ物への全面
メツキ方法、上記方法の実施に直接使用する全面
メツキ用被メツキ物保持ドラム、同全面メツキ装
置、同全面メツキ用補助処理装置を提供すること
にある。

発明の構成 〔課題を解決するための手段〕 本発明の第１は、板状被メツキ物の全面メツ
キ方法であり、 前の補助処理槽１３で前の補助処理を受けた
多数枚の板状被メツキ物７を、 メツキ処理槽１内で横軸の周りに間欠回転す
る被メツキ物保持ドラム２外周部の、等間隔状
で多数枚の隔板１０間の各被メツキ物保持部１
１へ順次に搬入させ、 各保持部１１で保持された各被メツキ物７
が、保持ドラム２の回転で下半部寄りへ来た際
に、隔板３外周に沿つて移動する無端状の陰極
４へ接触させて、保持ドラム２の中心線ａと平
行状の陽極３との間でメツキ処理を行わせ、 メツキ処理の所要時間を経過し保持ドラム２
の回転で上方へ来た保持部１１内の被メツキ物
７を、順次に搬出し後の補助処理槽１３内へ搬
入し後の処理を行わせ、 他方上記無端状の陰極４を、メツキ処理槽１
から一旦出して剥離槽５の剥離液中を通過させ
てから、メツキ処理槽１へ循環させるようにし
たものである。

本発明の第２は、上記全面メツキ方法の実施
に直接使用する全面メツキ用被メツキ物保持ド
ラムであり、 横向き筒状で、予定される最長の板状被メツ
キ物７とほぼ同じ長さの横幅を有し、 その周壁８全体に液通孔９を多数個形成する
とともに、 周壁８外周部に中心線ａと平行状の隔板１０
を周方向に等間隔状で多数枚立設して、各隔板
１０間を被メツキ物保持部に１１形成したもの
である。

本発明の第３は、上記全面メツキ方法の実施
に直接使用する全面メツキ装置であり、 メツキ処理槽１内に、横軸の周りに間欠回転
する被メツキ物保持ドラム２と、陽極３および
陰極４とを設け、メツキ処理槽１外に、陰極４
の剥離槽５と被メツキ物７の搬入・搬出機構６
とを設けたもので、 上記被メツキ物保持ドラム２は、予定される
最長の板状被メツキ物７とほぼ同じ長さの横向
き筒状で、その周壁８全体に液通孔９を多数個
形成するとともに、周壁８外周部に中心線ａと
平行状の隔板１０を周方向に等間隔状で多数枚
立設して、各隔板１０間を被メツキ物保持部１
１に形成し、 上記陽極３は、保持ドラム２の中心線ａと平
行状に設け、 上記陰極４は無端状として、保持ドラム２下
半部寄りの保持部１１内の被メツキ物７へ接触
可能に、保持ドラム２下半部寄りの隔板１０外
周部に沿わせるとともに、一旦メツキ処理槽１
から出て剥離槽５内を通過する循環移動式に設
けたものである。

本発明の第４は、上記全面メツキ方法の実施
に直接使用する全面メツキ用補助処理装置であ
り、 メツキ処理槽１の前または後の補助処理槽１
３内に、横軸の周りに間欠回転する被メツキ物
保持ドラム２と、処理液の液噴出パイプ１９
と、被メツキ物の脱落防止枠１４とを設たもの
で、 上記被メツキ物保持ドラム２は、予定される
最長の板状被メツキ物７とほぼ同じ長さの横向
き筒状とし、その周壁８全体に液通孔９を多数
個形成するとともに、周壁８外周部に中心線ａ
と平行状の隔板１０を周方向に等間隔状で多数
枚立設して、各隔板１０間を被メツキ物保持部
１１に形成し、 上記液噴出パイプ１９は、保持ドラム２内の
下部寄りに、保持ドラム２の中心線ａと平行状
に横設し、 上記脱落防止枠１４は、保持ドラム２の下半
部の隔板１０外周部を囲繞する如く設けたもの
である。

上記構成において、メツキ処理槽１内や、前
または後の補助処理槽１３の各被メツキ物保持
ドラム２は、少なくとも下半部を各処理槽１，
１３内の処理液中に浸漬して、間欠的に回転す
るようにしておく。

保持ドラム２の間欠的回転の速度は、通常は
該保持ドラム２の１回転で各処理の所要時間を
満足するように設定しておくことが望ましい。

また保持ドラム２が処理液中に浸漬している
部分の高さを変えることで、メツキ処理槽１や
前または後の補助処理槽１３での処理時間の調
節を行なうようにすればよい。

メツキ処理槽１の陽極３は、保持ドラム２の
中心線ａと平行状に横設するが、それには網目
材による筒状の陽極ケース１５内に、チツプ状
の陽極材を収容したものを用いればよい。しか
しそれに限らず、板状の陽極３を保持ドラム２
内周面に張設してもよいし、また細幅の板状陽
極３を各隔板１０内に内装させてもよい。

〔作用〕

Ａ まず、本発明の板状被メツキ物の全面メツキ
方法と、全面メツキ用被メツキ物保持ドラムお
よび全面メツキ装置の作用について述べる。

() 前の補助処理槽１３で前の補助処理を経
た板状被メツキ物７を、メツキ処理槽１内に
横設した被メツキ物保持ドラム２外用部の、
等間隔状で多数枚立設した隔板１０間の各被
メツキ物保持部１１へ搬入させる。

上記搬入は、上記保持ドラム２が間欠的に
回転しているので、各保持部１１が搬入・搬
出機構６と対応する位置へ順次に来て停止し
た際に、搬入・搬出機構６により被メツキ物
７を、保持部１１内へ順次に搬入させればよ
い。

() 該保持ドラム２は、少なくとも下半部を
メツキ処理槽１内のメツキ液中に浸漬してお
り、保持ドラム２下半部寄りの隔板１０外周
部に沿う如く陰極４が移動している。そのた
め、保持ドラム２外周部の多数の各保持部１
１内の各被メツキ物７は、該保持ドラム２の
回転で下分部寄りへ来た際に、陰極４と接触
する。

それゆえ各保持部１１内の板状被メツキ物
７は、ドラム２が１回転する間に、該陰極４
と、該保持ドラム２の中心線ａと平行状に設
けた陽極３とによつて、例えばニツケル・半
田・その他の金属の全面メツキ処理が施され
る。

() 上記メツキ処理は、陽極３が保持ドラム
２の中心線ａと平行状に設けられているた
め、被メツキ物７の中央部でも両側部でも、
陽極３との間はほぼ等間隔になつており、被
メツキ物７へのメツキ膜は均一に形成され
る。

保持ドラム２下部寄りの保持部１１の被メ
ツキ物７は、無端状の陰極４が該保持ドラム
２の下半部寄りの隔板１０外周部に沿つて設
けてあるため、該陰極４により外側から支承
されて保持部１１外へ落下することがない。

() 上記メツキ処理が行わてれいる間に、保
持ドラム２の回転で上方寄りに来た別の保持
部１１では、被メツキ物７の搬入・搬出が行
われている。

なお、上記の陽極３を、保持ドラム２内の
下部寄りと、保持ドラム２外で陰極４を間に
した対向位置との両方に設けてあれば、一層
均一なメツキ膜が形成される。また陽極３が
一箇所でも、保持ドラム２内の下部寄りにメ
ツキ液の液噴出パイプ１２を設けてあれば、
メツキ液が周壁８の液通孔９を通過しよく撹
拌されて被メツキ物７へ当たるので、良好な
メツキ処理が行われる。

() 被メツキ物保持ドラム２が１回転し、メ
ツキ処理の所要時間を経過すると、保持部１
１が上部寄りへ来る。該保持部１１内にある
被メツキ物７は、搬入・搬出機構６により搬
出され、後の補助処理槽１３内の同様な被メ
ツキ物保持ドラム２の各保持部１１内へ搬入
される。この搬出・搬入は、保持ドラム２の
回転で順次に各保持部１１が上部寄りへ来く
るので、各保持部１１内の各被メツキ物７は
全てが順次に搬出・搬入が行われる。

上記板状被メツキ物７が後の補助処理槽１
３へ搬出・搬入される際、保持ドラム２は移
動せず、被メツキ物７だけが移動している。
そのため、メツキ液の持ち出し・持ち込みは
殆ど無い。

() 無端状の陰極４は、被メツキ物保持ドラ
ム２下半部寄りの隔板１０外周部に沿つて移
動した後、メツキ処理槽１から出て外部の剥
離槽５を通過する。そのため、メツキ処理槽
１内で陰極４に付着したメツキは剥離・除去
されてから、再びメツキ処理槽１へ戻つてい
く。

陰極４を、金属細線による細幅ベルトまた
はワイヤロープを２本以上平行状に並べたも
のにしてあれば、メツキ液や剥離液の持ち出
し・持ち込みが殆ど生じなくなる。さらに、
上記剥離槽５の剥離液をメツキ液成分の少な
くとも１種類からなるものにしてあれば、陰
極４の循環によるメツキ液や剥離液の持ち込
み・持ち出しは全く問題とならないし、電解
剥離後に陰極４を水洗する必要もなくなる。

() 上記メツキ処理槽１内の保持ドラム２
は、予想される最大長の板状被メツキ物７と
ほぼ同じ長さにしてあるため、保持ドラム２
の長さは短くてよく、メツキ液は少なくてよ
く、しかも装置全体が小型化されている。

Ｂ 次に、本発明の板状被メツキ物の全面メツキ
方法と、全面メツキ用被メツキ物保持ドラムお
よび全面メツキ用補助装置の作用について述べ
る。

() 前の補助処理を受けていない板状被メツ
キ物７を、前の補助処理槽１３へ搬入し、ま
たメツキ物処理を受けた板状被メツキ物７を
後の補助処理槽１３内へ搬入する。

上記前または後の補助処理槽１３内には、
上記メツキ処理槽１内の保持ドラム２と同様
の被メツキ物保持ドラム２が横設されている
ので、上記被メツキ物７を、該保持ドラム２
外周部の等間隔状で多数枚立設した隔板１０
間の各被メツキ物保持部１１へ搬入させる。

上記搬入は、上記メツキ処理の場合と同様
に保持ドラム２が間欠的に回転しているの
で、各保持部１１が搬入・搬出機構６と対応
する位置へ来て停止した際に、該搬入・搬出
機構６によつて、順次に被メツキ物７を保持
部１１内へ搬入させればよい。

() 該保持ドラム２は、上記メツキ処理槽１
内の保持ドラム２と同様に、少なくとも下半
分を補助処理槽１内の前または後の処理液中
に浸漬して間欠的に回転している。また該保
持ドラム２内の下部寄りにその中心線ａと平
行状に処理液の噴出パイプ１９が横設され
て、前または後の処理液が噴出している。

そのため、該保持ドラム２の回転で下半部
寄りへ来た保持部１１内の各被メツキ物７に
は、上記噴出パイプ１９から噴出した新鮮な
処理液が、保持ドラム２の周壁８の多数の液
通孔９から流出して当たり、前または後の補
助処理が行われる。

上記前または後の補助処理は、処理液の液
噴出パイプ１２が保持ドラム２内にその中心
線ａと平行状に設けられ、かつ噴出した処理
液は保持ドラム２の周壁８の多数の液通孔９
を通過してよく撹拌されている。そのため、
各保持部１１内の被メツキ物７は、均等かつ
効率よく前または後の補助処理がなされる。

() 上記前または後の補助処理も、メツキ処
理槽１での処理の場合と同様に、補助処理槽
１３内で保持ドラム１が１回転する間になさ
れる。この補助処理時間の調節も、保持ドラ
ム２が処理液中に浸漬している深さを変える
ことで行えばよい。

() 上記保持ドラム２の回転で保持部１１が
下半部寄りへ来た際の被メツキ物７は、脱落
防止枠１４が保持ドラム２下半部の隔板１０
外周を囲繞する如く設けてあるので、保持部
１１から脱落することはない。

() 前または後の補助処理の所要時間が経過
し、保持ドラム２が１回転して保持部１１が
上方へ来ると、該保持部１１内の被メツキ物
７は搬入・搬出機構６により搬出され、次に
設けたメツキ処理槽１または次の補助処理槽
１３の保持ドラム２の保持部１１内へ搬入さ
れる。

上記被メツキ物７の移動時にも、被メツキ
物７だけが移動して保持ドラム２は移動しな
いので、各処理槽１３，１間での処理液の持
ち出し・持ち込みは殆ど無い。

() なおこの全面メツキ用補助処理装置で
も、保持ドラム２は、予定される最長の被メ
ツキ物７とほぼ同じ長さをもち、各処理槽１
３はそれを浸漬可能な幅にしてある。そのた
め、各補助処理槽１３の処理液量は少なくて
よいし、装置全体も小型化されている。

〔実施例〕

第１図は全面メツキ装置を示し、第２図は全面
メツキ用補助処理装置、第３図・第４図は全面メ
ツキ用被メツキ物保持ドラムを示している。

上記全面メツキ装置または全面メツキ用補助処
理装置において、各処理槽１，１３内で可回動に
横設される被メツキ物保持ドラム２は同じものを
用いればよい。

即ち、予定される最長の板状被メツキ物７とほ
ぼ同じ長さの横向き筒状で、横軸の周りに回転可
能に設けてある。該保持ドラム２の周壁８全体に
メツキ液通孔９を多数個形成するとともに、周壁
８外周部に中心線ａと平行状の隔板１０を周方向
に等間隔状で多数枚立設して、該各隔板１０間を
被メツキ物保持部１１としてある。

上記ドラム２の隔板１０は、第１図ないし第１
２図で示す如く全ての隔板１０を等間隔状に設け
てもよいが、第１３図・第１４図で示す如く隔板
１０の複数枚（上記図では４枚）を１組として、
その多数組を隣接のものと接続用部２０で接続し
て、ドラム２外周に等間隔状に設けてもよい。な
お、保持部１１内の被メツキ物７へ処理液の当た
りを一層良くするため、各隔板１０にも液通孔１
６を形成しておくのがよい。

全面メツキ装置での陽極３は、第１図・第４図
で示す如く網目材による筒状の陽極ケース１５内
に、チツプ状の陽極材を収容したものを用いてお
り、これを被メツキ物保持ドラム２内の下部寄り
に横設している。また、メツキ効率をさらによく
するため、第１図・第７図では保持ドラム２外で
陰極４を間にした対向位置にも陽極３を横設して
ある。

しかし陽極３はこれに限らず、特に電解脱脂や
不溶性陽極を使用可能なメツキ処理の場合には、
第８図・第９図で示す如く、板状の陽極３を保持
ドラム２内周面に張設したり、第１０図・第１１
図で示す如く、細幅の板状の陽極３を各隔板１０
内に内装させるのが望ましい。これらの場合に
は、メツキ処理効率を高めるため、第９図・第１
１図で示す如く、保持ドラム２内の下部寄りにメ
ツキ液の液噴出パイプ１２を横設しておくのがよ
い。

全面メツキ装置での陰極４は、第１図で示す如
く、無端状としてメツキ処理槽１と剥離槽５の間
を循環移動するようにしてある。該陰極４は、保
持部１１内の被メツキ物７へ接触可能に、第１
図・第４図・第７図ないし第１１図で示す如く、
被メツキ物保持ドラム２下半部寄りの隔板１０外
周部に沿つて移動可能に設けてある。

また該陰極４は、メツキ処理槽１と剥離槽５間
を通過し循環移動する際に、メツキ液や剥離液の
持ち出し・持ち込みを最小限にするため、第４図
で示す如く金属細線による細幅ベルトまたはワイ
ヤーロープを、２本以上平行状に並べたものを用
いるのがよい。

なお、全面メツキ装置での剥離槽５の剥離液に
は、陰極４の循環によるメツキ液や剥離液の持ち
込み・持ち出しをなくし、電解剥離後の陰極４の
水洗を不要とするため、メツキ液自体または光沢
剤等を除いたメツキ液成分を用いるのがよい。

全面メツキ装置または全面メツキ用補助処理装
置での被メツキ物の搬入・搬出は、先の処理槽
１，１３の保持ドラム２の保持部１１内から被メ
ツキ物７を搬出させ、同時にそれを次の処理槽１
３，１の保持ドラム２の保持部１１内へ搬入させ
るのがよい。

それには搬入・搬出機構６を、第６図Ａで示す
如く、各保持ドラム２の保持部１１内の被メツキ
物７を側方から押すか引いて、連動して一定幅だ
け水平移動させるような構造にしておくのがよ
い。それに限らず、被メツキ物７を上方から保持
部１１内へ搬入・搬出させるべく、昇降移動可能
としてもよい。

全面メツキ用補助処理装置での脱落防止枠１４
は、第１２図で示す如く細幅ベルトまたはロープ
状のものを、２本以上平行状に並べて半円弧形に
すればよい。

全面メツキ装置または全面メツキ用補助処理装
置で、各保持ドラム２を間欠的に回転させる機構
は、第１図・第２図・第４図等で示す如く各保持
ドラム２の両側外周寄りに環状歯車１８を設け、
これを駆動側歯車１７を噛合させて可回動とすれ
ばよい。

メツキ処理槽１でのメツキ処理時間は、前また
は後の補助処理槽１３での補助処理時間よりも長
いため、保持ドラム２が１回転する間に充分なメ
ツキ処理ができぬ場合もある。そのような場合
は、第６図Ｂで示す如く、メツキ処理槽１を連続
して設け、１つのメツキ処理槽１で保持ドラム２
を１回転させてメツキ処理の後、隣のメツキ処理
槽１の保持ドラム２でもう１回転のメツキ処理を
行うようにする。

なお、本発明は上記全面メツキに限らず、他の
金属表面処理分野の酸洗い・陽極酸化、または化
成被膜の形成等の連続処理工程にも応用可能であ
る。

発明の効果 本発明に係る板状被メツキ物への全面メツキ方
法、上記方法を実施するために直接使用する全面
メツキ用被メツキ物保持ドラム、全面メツキ装
置、および全面メツキ用補助処理装置によれば、
以下の如く効果が発揮される。

(a) 板状被メツキ物への全面メツキのメツキ膜厚
が均一になり、メツキの高精度化を図ることが
できる。

即ち本発明は、従来のラツキング法と異な
り、横向き筒状の被メツキ物保持ドラムを用い
て処理を行うもので、該ドラムの外周部には中
心線と平行状でかつ周方向に等間隔状で多数枚
の隔板が立設され、各隔板間の被メツキ物保持
部に板状被メツキ物を搬入・保持させ、全面メ
ツキ処理や前または後の補助処理を行つてい
る。

特にメツキ処理槽でのメツキ処理では、板状
被メツキ物は上記保持ドラムの中心線と平行状
に設けた陽極との間でメツキ処理される。その
ため、各保持部内の被メツキ物は、長手方向の
各部分で陽極との間隔がほぼ一定となるので、
メツキの付き方が均等化するし、メツキ膜厚を
均一化することができる。

したがつて、特に高精度なメツキが要求され
るICリードフレームや板状電子部品への全面
メツキ手段として、最適なものである。

(b) 一度に多量の板状被メツキ物に、全面メツキ
処理や前または後の補助処理を行うことがで
き、全面メツキの生産性を大幅に向上できる。

即ち本発明は、従来のラツキング法その他の
ものと異なり、上記の如く外周部に周方向へ等
間隔状に被メツキ物保持部を多数個形成した被
メツキ物保持ドラムを用いており、各保持部に
板状被メツキ物を搬入させ、処理液中で回転さ
せながら全面メツキの各処理を行うものであ
る。

そのため、メツキ処理槽または補助処理槽内
の１個の被メツキ物保持ドラムで、多数枚の被
メツキ物を同時に処理できる。またドラムの回
転で上半部寄りへ来た保持部で、処理後の被メ
ツキ物の搬出と未処理の被メツキ物の搬入とが
同時に行うことが可能で、しかもその搬出・搬
入が行われてる間も、下半部寄りにある保持部
内の被メツキ物は、全面メツキや前または後の
補助処理を受けている。

したがつて、板状被メツキ物の全面メツキの
生産性を大幅に向上できる。

(c) メツキ処理槽や補助処理槽での各処理液の持
ち出し・持ち込みを少なくし、メツキの品質と
経済性の向上を図ることができる。

即ち本発明は、従来のラツキング法その他の
ものと異なり、被メツキ物だけがメツキ処理槽
または補助処理槽の間を移動するもので、従来
のラツキングや搬送用治具に相当する被メツキ
物保持ドラムは、各処理槽間を移動しない。

そのため、各処理槽での化処理液の持ち出
し・持ち込みが殆ど無くなり、メツキの品質が
向上するとともに経済性も良くなる。

(d) 全面メツキ装置の全体を小型化でき、装置の
設置が容易となる。

即ち本発明は、従来のラツキング法その他の
のもと異なり、多数の被メツキ物保持部をもつ
被メツキ物保持ドラムは、予定される最長寸法
の被メツキ物とほぼ同じ長さでよい。また各処
理槽間を移動するのは、板状被メツキ物だけで
保持ドラムは移動する必要がない。

そのため、多数枚の被メツキ物を同時処理で
きるにも拘らず、各処理槽は保持ドラムが浸漬
可能な大きさを有すればよく、処理槽を非常に
小型化できる。また搬入・搬出機構も、保持ド
ラムを移動させる必要がないから、これも小型
化できる。

したがつて、メツキ装置全体を大幅に小型化
でき、設置面積も小さくなつて設置が容易にな
る。

(e) なお本発明では、陰極を無端状として剥離槽
を通過させているが、この剥離液にメツキ液成
分の少なくとも１種類からなるものを用いれ
ば、メツキ液と同質の剥離液は変質しないし、
逆に剥離液のメツキ槽への持ち込みも何ら問題
とならない。

そのため、この面からも全面メツキの品質が
向上するとともに、経済的である。

【図面の簡単な説明】

図は本発明の板状被メツキ物の全面メツキ方法
の実施例を示し、第１図は全面メツキ装置の縦断
側面図、第２図は全面メツキ用補助処理装置の縦
断側面図、第３図は被メツキ物保持ドラムの上半
部の拡大側面図で、第４図は同保持ドラムの縦断
正面図、第５図は同保持ドラムの環状歯車を省略
した縦断斜視図、第６図Ａは本全面メツキ方法の
処理工程の主要部を示す概略正面図、第６図Ｂは
メツキ処理を２工程とした場合の概略正面図、第
７図は全面メツキ装置で陽極を保持ドラムの内・
外に設けた場合の要部の側面図、第８図は全面メ
ツキ装置で陽極を保持ドラムの内周面に設けた場
合の要部の側面図、第９図は第８図のものに液噴
流パイプを付加した場合の要部の側面図、第１０
図は全面メツキ装置で陽極を各隔板内に横設した
場合の要部の側面図、第１１図は第１０図のもの
に液噴流パイプを付加した例の要部の側面図、第
１２図は全面メツキ用補助処理装置の要部の側面
図、第１３図は被メツキ物保持ドラムの他の実施
例の上半部の側面図、第１４図は第１３図で示し
たものの一部拡大側面図を示す。 図面符号、１……メツキ処理槽、２……被メツ
キ物保持ドラム、３……陽極、４…陰極、５……
剥離槽、６……搬入・搬出機構、７……板状被メ
ツキ物、８……周壁、９……液通孔、１０……隔
板、１１……被メツキ物保持部、１２……液噴出
パイプ、１３……補助処理槽、１４……脱落防止
枠、１５……陽極ケース、１６……液通孔、１７
……駆動側歯車、１８……環状歯車、１９……液
噴出パイプ、ａ……中心線。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 前の補助処理槽１３で前の補助処理を受けた
   多数枚の板状被メツキ物７を、 メツキ処理槽１内で横軸の周りに間欠回転する
   被メツキ物保持ドラム２外周部の、等間隔状で多
   数枚の隔板１０間の各被メツキ物保持部１１へ順
   次に搬入させ、 各保持部１１で保持された各被メツキ物７が、
   保持ドラム２の回転で下半部寄りへ来た際に、隔
   板３外周に沿つて移動する無端状の陰極４へ接触
   させて、保持ドラム２の中心線ａと平行状の陽極
   ３との間でメツキ処理を行わせ、 メツキ処理の所要時間を経過し保持ドラム２の
   回転で上方へ来た保持部１１内の被メツキ物７
   を、順次に搬出し後の補助処理槽１３内へ搬入さ
   せて後の補助処理を行わせ、 他方上記無端状の陰極４を、メツキ処理槽１か
   ら一旦出して剥離槽５の剥離液中を通過させてか
   ら、メツキ処理槽１へ循環させるようにしたこと
   を特徴とする、板状被メツキ物の全面メツキ方
   法。 ２ 請求項１に記載の板状被メツキ物の全面メツ
   キ方法において、 前または後の補助処理を行う多数枚の板状被メ
   ツキ物７を、前または後の補助処理槽１３内で、
   メツキ処理槽１のドラム２と同じ被メツキ物保持
   ドラム２外周部の、等間隔状で多数枚の隔板１０
   間の各被メツキ物保持部１１へ順次に搬入させ、 各保持部１１で保持された各被メツキ物７が、
   保持ドラム２の回転で下半部寄りへ来た際に、保
   持ドラム２内にその中心線ａと平行状に設けた液
   噴出パイプ１９から噴出する処理液で補助処理を
   行わせ、 前または後の補助処理の所要時間を経過し保持
   ドラム２の回転で上方へ来た保持部１１内の被メ
   ツキ物７を、順次に搬出して次のメツキ処理槽１
   または後の補助処理槽１３へ搬入するようにし
   た、全面メツキ方法。 ３ 横向き筒状で、予定される最長の板状被メツ
   キ物７とほぼ同じ長さの横幅を有し、 その周壁８全体に液通孔９を多数個形成すると
   ともに、 周壁８外周部に中心線ａと平行状の隔板１０を
   周方向に等間隔状で多数枚立設して、各隔板１０
   間を被メツキ物保持部１１に形成したことを特徴
   とする、全面メツキ用被メツキ物保持ドラム。 ４ メツキ処理槽１内に、横軸の周りに間欠回転
   する被メツキ物保持ドラム２と、陽極３および陰
   極４とを設け、メツキ処理槽１外に、陰極４の剥
   離槽５と被メツキ物７の搬入・搬出機構６とを設
   けたもので、 上記被メツキ物保持ドラム２は、予定される最
   長の板状被メツキ物７とほぼ同じ長さの横向き筒
   状で、その周壁８全体に液通孔９を多数個形成す
   るとともに、周壁８外周部に中心線ａと平行状の
   隔板１０を周方向に等間隔状で多数枚立設して、
   各隔板１０間を被メツキ物保持部１１に形成し、 上記陽極３は、保持ドラム２の中心線ａと平行
   状に設け、 上記陰極４は無端状として、保持ドラム２下半
   部寄りの保持部１１内の被メツキ物７へ接触可能
   に、保持ドラム２下半部寄りの隔板１０外周部に
   沿わせるとともに、一旦メツキ処理槽１から出て
   剥離槽５内を通過する循環移動式に設けたことを
   特徴とする、全面メツキ装置。 ５ 請求項４に記載の全面メツキ装置において、
   陽極３として、網目材による筒状の陽極ケース１
   ５内に、チツプ状の陽極材を収容して、被メツキ
   物保持ドラム２内の下部寄りに横設した、全面メ
   ツキ装置。 ６ 請求項４に記載の全面メツキ装置において、
   陽極３として、板状の陽極３を被メツキ物保持ド
   ラム２内周面に張設した、全面メツキ装置。 ７ 請求項４に記載の全面メツキ装置において、
   陽極３として、細幅の板状の陽極３を各隔板１０
   内に内装させた、全面メツキ装置。 ８ メツキ処理槽１の前または後の補助処理槽１
   ３内に、横軸の周りに間欠回転する被メツキ物保
   持ドラム２と、処理液の液噴出パイプ１９と、被
   メツキ物の脱落防止枠１４とを設たもので、 上記被メツキ物保持ドラム２は、予定される最
   長の板状被メツキ物７とほぼ同じ長さの横向き筒
   状とし、その周壁８全体に液通孔９を多数個形成
   するとともに、周壁８外周部に中心線ａと平行状
   の隔板１０を周方向に等間隔状で多数枚立設し
   て、各隔板１０間を被メツキ物保持部１１に形成
   し、 上記液噴出パイプ１９は、保持ドラム２内の下
   部寄りに、保持ドラム２の中心線ａと平行状に横
   設し、 上記脱落防止枠１４は、保持ドラム２の下半部
   の隔板１０外周部を囲繞する如く設けたことを特
   徴とする、全面メツキ用補助処理装置。