JPH04337328A - ホスファゼン重合体の製造方法 - Google Patents
ホスファゼン重合体の製造方法Info
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- JPH04337328A JPH04337328A JP3137287A JP13728791A JPH04337328A JP H04337328 A JPH04337328 A JP H04337328A JP 3137287 A JP3137287 A JP 3137287A JP 13728791 A JP13728791 A JP 13728791A JP H04337328 A JPH04337328 A JP H04337328A
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Landscapes
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業の利用分野】本発明は、耐熱性、耐寒性及び耐油
性などの性能に優れるホスファゼン重合体の新規な製造
方法に関する。
性などの性能に優れるホスファゼン重合体の新規な製造
方法に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】ホスフ
ァゼン重合体は、P=N骨格を有する高分子化合物であ
り、優れた難然性、低発煙性を有すると共に、燐原子に
結合する有機基の種類によって様々な特性を付与するこ
とができ、高機能材料として注目されている。
ァゼン重合体は、P=N骨格を有する高分子化合物であ
り、優れた難然性、低発煙性を有すると共に、燐原子に
結合する有機基の種類によって様々な特性を付与するこ
とができ、高機能材料として注目されている。
【0003】従来、このホスファゼン重合体を製造する
方法としては、ヘキサクロロシクロトリホスファゼンを
開環重合させてジクロロホスファゼン重合体とした後、
この化合物中の塩素原子を種々の有機基で置換する方法
が知られている(米国特許第3,370,020号)。 また、重縮合反応によるホスファゼン重合体の製造方法
として、N−(ジクロロホスホリル)トリクロロホスフ
ァゼンを重縮合する方法も提案されている(特表昭62
−501144号公報)。
方法としては、ヘキサクロロシクロトリホスファゼンを
開環重合させてジクロロホスファゼン重合体とした後、
この化合物中の塩素原子を種々の有機基で置換する方法
が知られている(米国特許第3,370,020号)。 また、重縮合反応によるホスファゼン重合体の製造方法
として、N−(ジクロロホスホリル)トリクロロホスフ
ァゼンを重縮合する方法も提案されている(特表昭62
−501144号公報)。
【0004】しかし、ヘキサクロロシクロトリホスファ
ゼンを開環重合させる方法においては、ポリマー収率が
60%前後になると架橋反応が起こってゲル化してしま
うため、重合反応をポリマー収率が50%程度となった
時点で停止させなければならず、また重合後ポリマー中
の塩素原子を種々の有機基で置換するのに手間がかかり
、得られたポリマーが極めて高価なものになってしまう
。更に、上記置換反応においても塩素原子を完全に置換
するのは困難であり、微量の残存塩素がポリマーの性能
に影響を与える場合があるという問題点を有する。また
、N−(ジクロロホスホリル)トリクロロホスファゼン
を重縮合する方法においては、ポリマー収率に関しては
改善されるものの、残存塩素に関する問題は解消されて
いない。
ゼンを開環重合させる方法においては、ポリマー収率が
60%前後になると架橋反応が起こってゲル化してしま
うため、重合反応をポリマー収率が50%程度となった
時点で停止させなければならず、また重合後ポリマー中
の塩素原子を種々の有機基で置換するのに手間がかかり
、得られたポリマーが極めて高価なものになってしまう
。更に、上記置換反応においても塩素原子を完全に置換
するのは困難であり、微量の残存塩素がポリマーの性能
に影響を与える場合があるという問題点を有する。また
、N−(ジクロロホスホリル)トリクロロホスファゼン
を重縮合する方法においては、ポリマー収率に関しては
改善されるものの、残存塩素に関する問題は解消されて
いない。
【0005】このため、残存塩素の問題を生じることの
ないホスファゼン重合体の製造方法として、オルガノホ
スファゼン単量体であるN−トリメチルシリルホスファ
ゼンを重縮合させる方法も提案されている(米国特許第
4,412,053号)。
ないホスファゼン重合体の製造方法として、オルガノホ
スファゼン単量体であるN−トリメチルシリルホスファ
ゼンを重縮合させる方法も提案されている(米国特許第
4,412,053号)。
【0006】しかし、この製造方法においては、ポリマ
ー収率及び残存塩素の問題は改善されるものの、反応温
度が190℃以上と高く、しかも反応時間が40時間以
上も必要であるという問題点を有している。
ー収率及び残存塩素の問題は改善されるものの、反応温
度が190℃以上と高く、しかも反応時間が40時間以
上も必要であるという問題点を有している。
【0007】本発明は、上記事情に鑑みなされたもので
、残存塩素の問題を生じることなく、比較的穏和な反応
条件で短時間に、しかも高収率にホスファゼン重合体を
製造することができる新規なホスファゼン重合体の製造
方法を提供することを目的とする。
、残存塩素の問題を生じることなく、比較的穏和な反応
条件で短時間に、しかも高収率にホスファゼン重合体を
製造することができる新規なホスファゼン重合体の製造
方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明者は、上
記目的を達成するため鋭意検討を行なった結果、下記一
般式(1)で表されるオルガノホスフィン−イミンを加
熱重縮合してホスファゼンポリマーを得る場合に、重縮
合触媒として下記一般式(2)で表されるイオン性化合
物を用いて重縮合することにより、重縮合反応を効率よ
く促進し、50〜180℃といった比較的低い温度で3
〜30時間といった短時間に収率よくホスファゼン重合
体を製造することができること、しかもこの場合出発原
料にも触媒にも塩素原子を含んでいないため、上記残存
塩素の問題を生じることなく重合体を製造し得ることを
見出し、本発明を完成したものである。
記目的を達成するため鋭意検討を行なった結果、下記一
般式(1)で表されるオルガノホスフィン−イミンを加
熱重縮合してホスファゼンポリマーを得る場合に、重縮
合触媒として下記一般式(2)で表されるイオン性化合
物を用いて重縮合することにより、重縮合反応を効率よ
く促進し、50〜180℃といった比較的低い温度で3
〜30時間といった短時間に収率よくホスファゼン重合
体を製造することができること、しかもこの場合出発原
料にも触媒にも塩素原子を含んでいないため、上記残存
塩素の問題を生じることなく重合体を製造し得ることを
見出し、本発明を完成したものである。
【0009】
【化2】
【0010】従って、本発明は、上記一般式(1)で表
されるオルガノホスフィン−イミンを、重縮合触媒とし
て上記一般式(2)で表されるイオン性化合物を用いて
、重縮合することを特徴とするホスファゼン重合体の製
造方法を提供するものである。
されるオルガノホスフィン−イミンを、重縮合触媒とし
て上記一般式(2)で表されるイオン性化合物を用いて
、重縮合することを特徴とするホスファゼン重合体の製
造方法を提供するものである。
【0011】以下、本発明につき、更に詳しく説明する
と、本発明の製造方法において、出発原料として用いら
れるホスファゼンモノマーは、上述したように下記一般
式(1)で表されるオルガノホスフィン−イミンである
。
と、本発明の製造方法において、出発原料として用いら
れるホスファゼンモノマーは、上述したように下記一般
式(1)で表されるオルガノホスフィン−イミンである
。
【0012】
【化3】
【0013】ここで、一般式(1)中のR1は、アルキ
ル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、
アラルキル基等の一価炭化水素基、好ましくは炭素数1
〜8の一価炭化水素基の水素原子の一部又は全部をフッ
素原子で置換したものであり、具体的にはメチル基、エ
チル基、イソプロピル基、フェニル基、トルイル基、2
,2,2−トリフルオロエチル基、1−トリフルオロメ
チル−2,2,2−トリフルオロエチル基、2,2,3
,3,3−ペンタフルオロプロピル基、2,2,3,3
−テトラフルオロプロピル基等が挙げられるが、これら
の中では特にフェニル基、2,2,2−トリフルオロエ
チル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基で
あることが好ましい。また、一般式(1)中のR2は、
水素原子或いは一価の有機基であり、好ましくは炭素数
1〜10のものである。具体的には水素原子、メチル基
,エチル基,n−プロピル基,イソプロピル基,n−ブ
チル基,イソブチル基等のアルキル基、フェニル基等の
アリール基、ビニル基等のアルケニル基、メトキシ基,
エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリー
ルオキシ基、3,3,3−トリフロオルプロピル基,ク
ロロメチル基,3−クロロプロピル基等の置換一価炭化
水素基などが例示されるが、一般的にはメチル基とされ
る。
ル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、
アラルキル基等の一価炭化水素基、好ましくは炭素数1
〜8の一価炭化水素基の水素原子の一部又は全部をフッ
素原子で置換したものであり、具体的にはメチル基、エ
チル基、イソプロピル基、フェニル基、トルイル基、2
,2,2−トリフルオロエチル基、1−トリフルオロメ
チル−2,2,2−トリフルオロエチル基、2,2,3
,3,3−ペンタフルオロプロピル基、2,2,3,3
−テトラフルオロプロピル基等が挙げられるが、これら
の中では特にフェニル基、2,2,2−トリフルオロエ
チル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基で
あることが好ましい。また、一般式(1)中のR2は、
水素原子或いは一価の有機基であり、好ましくは炭素数
1〜10のものである。具体的には水素原子、メチル基
,エチル基,n−プロピル基,イソプロピル基,n−ブ
チル基,イソブチル基等のアルキル基、フェニル基等の
アリール基、ビニル基等のアルケニル基、メトキシ基,
エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリー
ルオキシ基、3,3,3−トリフロオルプロピル基,ク
ロロメチル基,3−クロロプロピル基等の置換一価炭化
水素基などが例示されるが、一般的にはメチル基とされ
る。
【0014】この一般式(1)で表されるオルガノホス
フィン−イミンとして具体的には、N−トリメチルシリ
ル−トリス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)ホス
フィンイミン、N−トリメチルシリル−ビス(2,2,
2−トリフルオロエトキシ)エトキシホスフィンイミン
、N−トリメチルシリル−ビス(2,2,2−トリフル
オロエトキシ)フェノキシホスフィンイミン、N−トリ
メチルシリル−ビス(2,2−ジメチルプロピルオキシ
)2,2,2−トリフルオロエトキシホスフィンイミン
、N−トリメチルシリル−ビス(1−トリフルオロメチ
ル−2,2,2−トリフルオロエチルオキシ)2,2,
2−トリフルオロエトキシエトキシホスフィンイミン、
N−トリメチルシリル−トリス(1−トリフルオロメチ
ル−2,2,2−トリフルオロエチルオキシ)ホスフィ
ンイミン、N−トリメチルシリル−トリス(2,2,3
,3−テトラフルオロプロピルオキシ)ホスフィンイミ
ンなどを例示することができる。なお、これらのオルガ
ノホスフィン−イミンは、対応するホスフィンとシリル
アジドとの反応などによって得ることができる。
フィン−イミンとして具体的には、N−トリメチルシリ
ル−トリス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)ホス
フィンイミン、N−トリメチルシリル−ビス(2,2,
2−トリフルオロエトキシ)エトキシホスフィンイミン
、N−トリメチルシリル−ビス(2,2,2−トリフル
オロエトキシ)フェノキシホスフィンイミン、N−トリ
メチルシリル−ビス(2,2−ジメチルプロピルオキシ
)2,2,2−トリフルオロエトキシホスフィンイミン
、N−トリメチルシリル−ビス(1−トリフルオロメチ
ル−2,2,2−トリフルオロエチルオキシ)2,2,
2−トリフルオロエトキシエトキシホスフィンイミン、
N−トリメチルシリル−トリス(1−トリフルオロメチ
ル−2,2,2−トリフルオロエチルオキシ)ホスフィ
ンイミン、N−トリメチルシリル−トリス(2,2,3
,3−テトラフルオロプロピルオキシ)ホスフィンイミ
ンなどを例示することができる。なお、これらのオルガ
ノホスフィン−イミンは、対応するホスフィンとシリル
アジドとの反応などによって得ることができる。
【0015】また、本発明の製造方法に重縮合触媒とし
て用いられる硫黄原子を含むイオン性化合物は、下記一
般式(2)で表されるものであるが、この一般式(2)
中R3は置換又は非置換の一価炭化水素基であり、具体
的にはメチル基,エチル基,プロピル基,ブチル基等の
アルキル基、フェニル基等のアリール基、ベンジル基等
のアラルキル基などが挙げられるが、通常はメチル基又
はエチル基とされる。更に、X−は下記式(3)又は(
4)で示されるものであり、式(3)中R4は水素原子
或いは一価の有機基を示し、上記R2と同様の基を例示
することができる。
て用いられる硫黄原子を含むイオン性化合物は、下記一
般式(2)で表されるものであるが、この一般式(2)
中R3は置換又は非置換の一価炭化水素基であり、具体
的にはメチル基,エチル基,プロピル基,ブチル基等の
アルキル基、フェニル基等のアリール基、ベンジル基等
のアラルキル基などが挙げられるが、通常はメチル基又
はエチル基とされる。更に、X−は下記式(3)又は(
4)で示されるものであり、式(3)中R4は水素原子
或いは一価の有機基を示し、上記R2と同様の基を例示
することができる。
【0016】
【化4】
【0017】この硫黄を含むイオン性化合物として具体
的には、次のような化合物を例示することができる。な
お、下記式中Meはメチル基、Etはエチル基、Phは
フェニル基を示す。
的には、次のような化合物を例示することができる。な
お、下記式中Meはメチル基、Etはエチル基、Phは
フェニル基を示す。
【0018】
【化5】
【0019】本発明の製造方法は、上記出発原料モノマ
ーのオルガノホスフィン−イミンを上記イオン性化合物
を重縮合触媒として用いて加熱し、重縮合させるもので
あるが、この場合重縮合触媒として用いられる上記イオ
ン性化合物の使用量は、触媒量とすることができ、通常
出発原料のホスファゼン単量体に対してモル比で1/1
0〜1/106程度とされる。また、上記イオン性化合
物の添加方法は、これをそのまま反応系に添加しても、
適宜な溶媒に溶解して添加してもよく、この場合の溶媒
としては、ジグライム、N,N−ジメチルホルムアミド
等を用いることができる。
ーのオルガノホスフィン−イミンを上記イオン性化合物
を重縮合触媒として用いて加熱し、重縮合させるもので
あるが、この場合重縮合触媒として用いられる上記イオ
ン性化合物の使用量は、触媒量とすることができ、通常
出発原料のホスファゼン単量体に対してモル比で1/1
0〜1/106程度とされる。また、上記イオン性化合
物の添加方法は、これをそのまま反応系に添加しても、
適宜な溶媒に溶解して添加してもよく、この場合の溶媒
としては、ジグライム、N,N−ジメチルホルムアミド
等を用いることができる。
【0020】この重縮合反応は、原料モノマーであるオ
ルガノホスフィン−イミン〔(R1O)3P=NSiR
2 3〕中の燐原子に結合した〔R1O〕基及び窒素原
子に結合した〔SiR2 3〕が〔R1OSiR2 3
〕の形で脱離し、ポリマーの主鎖が伸びていくもので、
この場合反応は無溶媒で行なっても、適当な有機溶媒中
で行なってもよく、反応溶媒としては、ジグライム、ト
リグライム、テトラグライム、N,N−ジメチルホルム
アミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピ
ロリドンなどを使用することができる。また、この重縮
合反応は、窒素ガス,アルゴンガス等の不活性ガス雰囲
気下で行なうことが好ましい。更に、反応条件は50〜
180℃、特に80〜130℃の反応温度で、3時間以
上、特に5〜20時間反応させることが好ましく、反応
系内から揮発性の縮合物を溜去しながら反応を行なうこ
とが好適である。なお、生成したホスファゼン重合体は
、塊状重合の場合は、そのまま次ぎの加工工程に供する
ことができ、また溶媒を用いた溶液重合の場合は、通常
の分離手段、例えばメタノール等の非溶媒を用いて再沈
殿させるなどの方法により容易に分離,精製することが
できる。
ルガノホスフィン−イミン〔(R1O)3P=NSiR
2 3〕中の燐原子に結合した〔R1O〕基及び窒素原
子に結合した〔SiR2 3〕が〔R1OSiR2 3
〕の形で脱離し、ポリマーの主鎖が伸びていくもので、
この場合反応は無溶媒で行なっても、適当な有機溶媒中
で行なってもよく、反応溶媒としては、ジグライム、ト
リグライム、テトラグライム、N,N−ジメチルホルム
アミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピ
ロリドンなどを使用することができる。また、この重縮
合反応は、窒素ガス,アルゴンガス等の不活性ガス雰囲
気下で行なうことが好ましい。更に、反応条件は50〜
180℃、特に80〜130℃の反応温度で、3時間以
上、特に5〜20時間反応させることが好ましく、反応
系内から揮発性の縮合物を溜去しながら反応を行なうこ
とが好適である。なお、生成したホスファゼン重合体は
、塊状重合の場合は、そのまま次ぎの加工工程に供する
ことができ、また溶媒を用いた溶液重合の場合は、通常
の分離手段、例えばメタノール等の非溶媒を用いて再沈
殿させるなどの方法により容易に分離,精製することが
できる。
【0021】本発明の製造方法においては、上記重縮合
反応は殆ど定量的に進行してホスファゼン重合体を極め
て高い収率で製造することができ、更に反応系の温度を
室温に戻して反応を一端停止させた後に、出発原料のホ
スファゼン単量体を追加して加熱し、反応系を重合条件
の温度に戻すことにより、重合反応を再開することが可
能であり、この操作により得られるホスファゼン重合体
の重合度を増大させることができる。
反応は殆ど定量的に進行してホスファゼン重合体を極め
て高い収率で製造することができ、更に反応系の温度を
室温に戻して反応を一端停止させた後に、出発原料のホ
スファゼン単量体を追加して加熱し、反応系を重合条件
の温度に戻すことにより、重合反応を再開することが可
能であり、この操作により得られるホスファゼン重合体
の重合度を増大させることができる。
【0022】
【実施例】以下、実施例を示して本発明を具体的に説明
するが、本発明は下記実施例に制限されるものではない
。なお、下記例において、重合体の分子量はGPC分子
量測定装置(トーソー製HLC−8020)で測定した
ものである。
するが、本発明は下記実施例に制限されるものではない
。なお、下記例において、重合体の分子量はGPC分子
量測定装置(トーソー製HLC−8020)で測定した
ものである。
【0023】[実施例1]
撹拌棒、エステルアダプター、還流冷却器を取り付けた
50mlのフラスコにN−トリメチルシリル−トリス(
2,2,2−トリフルオロエトキシ)ホスフィンイミン
20.7gを収容し、これにトリス(ジエチルアミノ)
スルホニウムトリメチルジフルオロシリケート75mg
を添加し、窒素雰囲気下に100℃で20時間撹拌して
重縮合反応を行なった後、反応混合物を140℃/2m
mHg下に5時間放置して揮発分を除去し、ホスファゼ
ン重合体11.4gを得た。
50mlのフラスコにN−トリメチルシリル−トリス(
2,2,2−トリフルオロエトキシ)ホスフィンイミン
20.7gを収容し、これにトリス(ジエチルアミノ)
スルホニウムトリメチルジフルオロシリケート75mg
を添加し、窒素雰囲気下に100℃で20時間撹拌して
重縮合反応を行なった後、反応混合物を140℃/2m
mHg下に5時間放置して揮発分を除去し、ホスファゼ
ン重合体11.4gを得た。
【0024】得られたホスファゼン重合体の数平均分子
量は8.0万、重量平均分子量は9.8万であった。
量は8.0万、重量平均分子量は9.8万であった。
【0025】[実施例2]
実施例1で用いたものと同様のフラスコにN−トリメチ
ルシリル−トリス(2,2,2−トリフルオロエトキシ
)ホスフィンイミン22.0gを収容し、これにトリス
(ジメチルアミノ)スルホニウムトリメチルジフルオロ
シリケート58mgを添加し、窒素雰囲気下に120℃
で20時間撹拌して重縮合反応を行なった後、反応混合
物を100mlのメタノールで洗い、固体分を減圧下で
乾燥してホスファゼン重合体9.9gを得た。
ルシリル−トリス(2,2,2−トリフルオロエトキシ
)ホスフィンイミン22.0gを収容し、これにトリス
(ジメチルアミノ)スルホニウムトリメチルジフルオロ
シリケート58mgを添加し、窒素雰囲気下に120℃
で20時間撹拌して重縮合反応を行なった後、反応混合
物を100mlのメタノールで洗い、固体分を減圧下で
乾燥してホスファゼン重合体9.9gを得た。
【0026】得られたホスファゼン重合体の数平均分子
量は9.4万、重量平均分子量は11.3万であった。
量は9.4万、重量平均分子量は11.3万であった。
【0027】[実施例3]
実施例1で用いたものと同様のフラスコにN−フェニル
ジメチルシリル−トリス(2,2,2−トリフルオロエ
トキシ)ホスフィンイミン21.8gを収容し、これに
トリス(ジエチルアミノ)スルホニウムハイドロジェン
ジフルオライド52mgを添加し、窒素雰囲気下に12
0℃で20時間撹拌して重縮合反応を行なった後、反応
混合物を100mlのメタノールで洗い、固体分を減圧
下で乾燥してホスファゼン重合体10.7gを得た。
ジメチルシリル−トリス(2,2,2−トリフルオロエ
トキシ)ホスフィンイミン21.8gを収容し、これに
トリス(ジエチルアミノ)スルホニウムハイドロジェン
ジフルオライド52mgを添加し、窒素雰囲気下に12
0℃で20時間撹拌して重縮合反応を行なった後、反応
混合物を100mlのメタノールで洗い、固体分を減圧
下で乾燥してホスファゼン重合体10.7gを得た。
【0028】得られたホスファゼン重合体の数平均分子
量は11.0万、重量平均分子量は13.2万であった
。
量は11.0万、重量平均分子量は13.2万であった
。
【0029】[実施例4]
実施例1で用いたものと同様のフラスコにN−トリメチ
ルシリル−ビス(1−トリフルオロメチル−2,2,2
−トリフルオロエチルオキシ)2,2,2−トリフルオ
ロエトキシエトキシホスフィンイミン28.3gを収容
し、これにトリス(ジエチルアミノ)スルホニウムトリ
メチルジフルオロシリケート79mgを添加し、窒素雰
囲気下に120℃で25時間撹拌して重縮合反応を行な
った後、反応混合物を100mlのメタノールで洗い、
固体分を減圧下で乾燥してホスファゼン重合体11.7
gを得た。
ルシリル−ビス(1−トリフルオロメチル−2,2,2
−トリフルオロエチルオキシ)2,2,2−トリフルオ
ロエトキシエトキシホスフィンイミン28.3gを収容
し、これにトリス(ジエチルアミノ)スルホニウムトリ
メチルジフルオロシリケート79mgを添加し、窒素雰
囲気下に120℃で25時間撹拌して重縮合反応を行な
った後、反応混合物を100mlのメタノールで洗い、
固体分を減圧下で乾燥してホスファゼン重合体11.7
gを得た。
【0030】得られたホスファゼン重合体の数平均分子
量は10.1万、重量平均分子量は12.7万であった
。
量は10.1万、重量平均分子量は12.7万であった
。
【0031】[実施例5]
実施例1で用いたものと同様のフラスコにN−フェニル
ジメチルシリル−トリス(2,2,2−トリフルオロエ
トキシ)ホスフィンイミン23.5gを収容し、これに
トリス(ジエチルアミノ)スルホニウムトリメチルジフ
ルオロシリケート66mgを添加し、窒素雰囲気下に1
20℃で20時間撹拌して重縮合反応を行なった後、反
応混合物を100mlのメタノールで洗い、固体分を減
圧下で乾燥してホスファゼン重合体10.0gを得た。
ジメチルシリル−トリス(2,2,2−トリフルオロエ
トキシ)ホスフィンイミン23.5gを収容し、これに
トリス(ジエチルアミノ)スルホニウムトリメチルジフ
ルオロシリケート66mgを添加し、窒素雰囲気下に1
20℃で20時間撹拌して重縮合反応を行なった後、反
応混合物を100mlのメタノールで洗い、固体分を減
圧下で乾燥してホスファゼン重合体10.0gを得た。
【0032】得られたホスファゼン重合体の数平均分子
量は9.2万、重量平均分子量は10.7万であった。
量は9.2万、重量平均分子量は10.7万であった。
【0033】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のホスファ
ゼン重合体の製造方法によれば、重合温度5〜180℃
、反応時間3時間以上という比較的穏和な反応条件で容
易かつ高収率に塩素原子をまったく含まないホスファゼ
ン重合体を製造することができ、このため従来の製造方
法において必須であった未反応単量体の分離工程や置換
は反応工程等の後処理工程を省略することが可能であり
、ホスファゼン重合体を工業的に極めて有利に製造する
ことができる。
ゼン重合体の製造方法によれば、重合温度5〜180℃
、反応時間3時間以上という比較的穏和な反応条件で容
易かつ高収率に塩素原子をまったく含まないホスファゼ
ン重合体を製造することができ、このため従来の製造方
法において必須であった未反応単量体の分離工程や置換
は反応工程等の後処理工程を省略することが可能であり
、ホスファゼン重合体を工業的に極めて有利に製造する
ことができる。
Claims (1)
- 【請求項1】 下記一般式(1)で表されるオルガノ
ホスフィン−イミンを、重縮合触媒として下記一般式(
2)で表されるイオン性化合物を用いて、重縮合するこ
とを特徴とするホスファゼン重合体の製造方法。 【化1】
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3137287A JPH04337328A (ja) | 1991-05-13 | 1991-05-13 | ホスファゼン重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3137287A JPH04337328A (ja) | 1991-05-13 | 1991-05-13 | ホスファゼン重合体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04337328A true JPH04337328A (ja) | 1992-11-25 |
Family
ID=15195160
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3137287A Pending JPH04337328A (ja) | 1991-05-13 | 1991-05-13 | ホスファゼン重合体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04337328A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7922764B2 (en) | 2006-10-10 | 2011-04-12 | Celonova Bioscience, Inc. | Bioprosthetic heart valve with polyphosphazene |
US10973770B2 (en) | 2004-10-25 | 2021-04-13 | Varian Medical Systems, Inc. | Color-coded and sized loadable polymeric particles for therapeutic and/or diagnostic applications and methods of preparing and using the same |
-
1991
- 1991-05-13 JP JP3137287A patent/JPH04337328A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10973770B2 (en) | 2004-10-25 | 2021-04-13 | Varian Medical Systems, Inc. | Color-coded and sized loadable polymeric particles for therapeutic and/or diagnostic applications and methods of preparing and using the same |
US7922764B2 (en) | 2006-10-10 | 2011-04-12 | Celonova Bioscience, Inc. | Bioprosthetic heart valve with polyphosphazene |
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