JPH04269713A - 多色パターンの製造方法 - Google Patents
多色パターンの製造方法Info
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- JPH04269713A JPH04269713A JP3030464A JP3046491A JPH04269713A JP H04269713 A JPH04269713 A JP H04269713A JP 3030464 A JP3030464 A JP 3030464A JP 3046491 A JP3046491 A JP 3046491A JP H04269713 A JPH04269713 A JP H04269713A
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/164—Coating processes; Apparatus therefor using electric, electrostatic or magnetic means; powder coating
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、カラー表示装置等に
用いられる、電着法を用いた多色パターンの製造方法に
関する。
用いられる、電着法を用いた多色パターンの製造方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の電着法を用いた多色パターンの製
造方法は、図４に示すように、任意のパターンを有する
導電膜２（図４（ａ））上に電着により着色層３を形成
し（図４（ｂ））、ついで黒色の顔料を分散したネガ型
感光性樹脂７を塗布し（図４（ｃ））、着色層をフォト
マスクとして基板背面から露光し（図４（ｃ））、現像
後（図４（ｄ））透明導電膜４を形成（図４（ｅ））し
ていた。
造方法は、図４に示すように、任意のパターンを有する
導電膜２（図４（ａ））上に電着により着色層３を形成
し（図４（ｂ））、ついで黒色の顔料を分散したネガ型
感光性樹脂７を塗布し（図４（ｃ））、着色層をフォト
マスクとして基板背面から露光し（図４（ｃ））、現像
後（図４（ｄ））透明導電膜４を形成（図４（ｅ））し
ていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし最近、将来が有
望視されているＴＦＴ方式のＬＣＤにおいては、スィッ
チング素子の光リークを防ぐため、遮光膜の遮光率向上
が要求されている。更に、画質向上のため、遮光膜のパ
ターンは格子状であることが望ましい。しかし、従来の
製造方法では、レジスト中に黒色顔料を分散させている
ため添加量に限界があり、要求される遮光率が得られて
いない。また、着色層をマスクとした基板背面からの露
光により遮光膜を形成しているため、遮光膜を格子状に
形成することが困難であるというという課題があった。
望視されているＴＦＴ方式のＬＣＤにおいては、スィッ
チング素子の光リークを防ぐため、遮光膜の遮光率向上
が要求されている。更に、画質向上のため、遮光膜のパ
ターンは格子状であることが望ましい。しかし、従来の
製造方法では、レジスト中に黒色顔料を分散させている
ため添加量に限界があり、要求される遮光率が得られて
いない。また、着色層をマスクとした基板背面からの露
光により遮光膜を形成しているため、遮光膜を格子状に
形成することが困難であるというという課題があった。
【０００４】そこで、この発明の目的は、従来のこのよ
うな課題を解決し、高遮光率であり且つ任意のパターン
形状が可能な遮光膜を有する多色パタ−ンの製造方法を
得ることである。
うな課題を解決し、高遮光率であり且つ任意のパターン
形状が可能な遮光膜を有する多色パタ−ンの製造方法を
得ることである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、この発明は、多色パターンの製造方法において、表
面が絶縁性である基板上に任意のパターンを有する導電
膜を形成する第１工程、該導電膜上に電着により着色層
を形成する第２工程、該着色層上に透明導電膜を形成す
る第３工程、該透明導電膜上に任意のパターンを有する
金属膜を形成する第４工程から構成することにより、高
遮光率であり且つ任意のパターン形状が可能な遮光膜を
有する多色パターンの製造が図れるようにした。
に、この発明は、多色パターンの製造方法において、表
面が絶縁性である基板上に任意のパターンを有する導電
膜を形成する第１工程、該導電膜上に電着により着色層
を形成する第２工程、該着色層上に透明導電膜を形成す
る第３工程、該透明導電膜上に任意のパターンを有する
金属膜を形成する第４工程から構成することにより、高
遮光率であり且つ任意のパターン形状が可能な遮光膜を
有する多色パターンの製造が図れるようにした。
【０００６】
【作用】上記のように構成された多色パターンの製造方
法においては、遮光膜に金属膜を用いるため、高遮光率
が可能であり、更に、金属膜はリフトオフ法やエッチン
グ法により任意の形状にパターン化することが容易なた
め、各種の表示方式に適合したパターン形状の遮光膜を
得ることができる。
法においては、遮光膜に金属膜を用いるため、高遮光率
が可能であり、更に、金属膜はリフトオフ法やエッチン
グ法により任意の形状にパターン化することが容易なた
め、各種の表示方式に適合したパターン形状の遮光膜を
得ることができる。
【０００７】
【実施例】以下に、この発明の実施例を図に基づいて説
明する。 〔実施例１〕図１に第１の実施例を示す。製造工程は下
記のとおりである。■ 絶縁基板１上にスパッタリン
グ法等でＩＴＯ膜１を製膜し、電着可能な任意のパター
ンにエッチングする（図１（ａ））。電着可能なパター
ンとは、例えば図１（ｈ） のようなストライプパター
ンを言う。
明する。 〔実施例１〕図１に第１の実施例を示す。製造工程は下
記のとおりである。■ 絶縁基板１上にスパッタリン
グ法等でＩＴＯ膜１を製膜し、電着可能な任意のパター
ンにエッチングする（図１（ａ））。電着可能なパター
ンとは、例えば図１（ｈ） のようなストライプパター
ンを言う。
【０００８】■ 電着法によりＩＴＯ膜上に着色層３
を形成する（図１（ｂ））。このとき、複数の色の着色
層を形成する場合は、電着を各色ごとに繰り返し行えば
良い。 ■ スパッタリング法等により、ＩＴＯ膜４を製膜す
る（図１（ｃ））。このとき、基板上には既に着色層が
形成されているため、製膜時の温度は２５０℃以下が好
ましい。なお、このＩＴＯ膜は表示装置の駆動用電極と
して使用される。
を形成する（図１（ｂ））。このとき、複数の色の着色
層を形成する場合は、電着を各色ごとに繰り返し行えば
良い。 ■ スパッタリング法等により、ＩＴＯ膜４を製膜す
る（図１（ｃ））。このとき、基板上には既に着色層が
形成されているため、製膜時の温度は２５０℃以下が好
ましい。なお、このＩＴＯ膜は表示装置の駆動用電極と
して使用される。
【０００９】■ さらに、スパッタリング法等により
Ｃｒ等の金属膜５を製膜する（図１（ｄ））。この金属
膜が遮光膜として使用される。■ レジスト６を所望
の遮光膜パターンになるよう露光、現像する（図１（ｅ
））。パターン形状としては、図１（ｉ）のような格子
状パターン等任意のパタ−ンが可能である。
Ｃｒ等の金属膜５を製膜する（図１（ｄ））。この金属
膜が遮光膜として使用される。■ レジスト６を所望
の遮光膜パターンになるよう露光、現像する（図１（ｅ
））。パターン形状としては、図１（ｉ）のような格子
状パターン等任意のパタ−ンが可能である。
【００１０】■ 金属膜をエッチングする（図１（ｆ
））。 ■ レジストを剥離する（図１（ｇ））。上記工程に
よって、遮光率が１００％で、かつ、格子状のパターン
を有する遮光膜が、非常に簡便に形成でき、電着法と合
わせて、極めて簡便な多色パターンの製造方法を実現で
きた。
））。 ■ レジストを剥離する（図１（ｇ））。上記工程に
よって、遮光率が１００％で、かつ、格子状のパターン
を有する遮光膜が、非常に簡便に形成でき、電着法と合
わせて、極めて簡便な多色パターンの製造方法を実現で
きた。
【００１１】〔実施例２〕図２に第２の実施例を示す。
製造工程は下記のとおりである。■ 第１の実施例と
同様に着色層３およびＩＴＯ膜４を製膜する（図２（ａ
）、（ｂ）、（ｃ））。■ レジスト６を所望の遮光
膜パターンになるよう露光、現像する（図２（ｄ））。
同様に着色層３およびＩＴＯ膜４を製膜する（図２（ａ
）、（ｂ）、（ｃ））。■ レジスト６を所望の遮光
膜パターンになるよう露光、現像する（図２（ｄ））。
【００１２】■ スパッタリング法等により、Ｃｒ等
の金属膜５を製膜する（図２（ｅ））。■ レジスト
を剥離する（図２（ｆ））。本実施例は、リフトオフ法
により金属膜をパターンニングする方法であり、第１の
実施例と比べ、金属膜のエッチング工程が不要になるた
め、更に工程を簡略化することができた。
の金属膜５を製膜する（図２（ｅ））。■ レジスト
を剥離する（図２（ｆ））。本実施例は、リフトオフ法
により金属膜をパターンニングする方法であり、第１の
実施例と比べ、金属膜のエッチング工程が不要になるた
め、更に工程を簡略化することができた。
【００１３】〔実施例３〕図３に第３の実施例を示す。
製造工程は下記のとおりである。■ 第１の実施例と
同様に着色層３を形成する（図３（ａ）、（ｂ））。■
有機膜８をスピンナー等で塗布し硬化させる。有機
膜としては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂等のレベリン
グ性の高い材料が好ましい（図３（ｃ））。
同様に着色層３を形成する（図３（ａ）、（ｂ））。■
有機膜８をスピンナー等で塗布し硬化させる。有機
膜としては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂等のレベリン
グ性の高い材料が好ましい（図３（ｃ））。
【００１４】■ スパッタリング法等により、ＩＴＯ
膜４を製膜する（図３（ｄ））。■ 第１、または第
２の実施例と同様に、Ｃｒ等の金属膜５を格子状に形成
する（図３（ｅ））。本実施例では、着色層間隙の凹部
を有機膜で埋めることにより表面を平坦化できるため、
前記実施例に比べ、表示装置用の多色パターンとしてよ
り有効であった。
膜４を製膜する（図３（ｄ））。■ 第１、または第
２の実施例と同様に、Ｃｒ等の金属膜５を格子状に形成
する（図３（ｅ））。本実施例では、着色層間隙の凹部
を有機膜で埋めることにより表面を平坦化できるため、
前記実施例に比べ、表示装置用の多色パターンとしてよ
り有効であった。
【００１５】〔実施例４〕第４の実施例として、前記実
施例のＩＴＯ製膜前にスパッタリング法によりＳｉＯ２
を製膜した。その結果、ＩＴＯ膜４の密着性が向上し
た。ＳｉＯ２ 以外にも、無機膜であれば同様な効果が
得られた。
施例のＩＴＯ製膜前にスパッタリング法によりＳｉＯ２
を製膜した。その結果、ＩＴＯ膜４の密着性が向上し
た。ＳｉＯ２ 以外にも、無機膜であれば同様な効果が
得られた。
【００１６】
【発明の効果】この発明は、以上説明したように、着色
層上にＩＴＯを製膜した後金属膜を遮光膜として形成し
たので、極めて簡便な工程で、従来困難だった遮光膜の
遮光率の向上と、任意のパターンの遮光膜を形成できる
という効果がある。さらに、ＩＴＯ膜と金属膜が積層さ
れるため、ＩＴＯ自体の抵抗値が高くても、金属膜によ
り結果的にＩＴＯの低抵抗化が図れるという効果も合わ
せ持つ。また、ＩＴＯの膜厚を薄くできるため、ＩＴＯ
の透過率の向上と、ＩＴＯ製膜時間の短縮が図れる。前
者は多色パターン自体の品質向上につながり、後者は低
コスト化に寄与することができる。
層上にＩＴＯを製膜した後金属膜を遮光膜として形成し
たので、極めて簡便な工程で、従来困難だった遮光膜の
遮光率の向上と、任意のパターンの遮光膜を形成できる
という効果がある。さらに、ＩＴＯ膜と金属膜が積層さ
れるため、ＩＴＯ自体の抵抗値が高くても、金属膜によ
り結果的にＩＴＯの低抵抗化が図れるという効果も合わ
せ持つ。また、ＩＴＯの膜厚を薄くできるため、ＩＴＯ
の透過率の向上と、ＩＴＯ製膜時間の短縮が図れる。前
者は多色パターン自体の品質向上につながり、後者は低
コスト化に寄与することができる。
【図１】本発明の第１の実施例を示した説明図である。
【図２】本発明の第２の実施例を示した説明図である。
【図３】本発明の第３の実施例を示した説明図である。
【図４】従来例を示した説明図である。
１ 絶縁基板
２ 導電膜
３ 着色層
４ 透明導電膜
５ 金属膜
６ レジスト
７ 黒色ネガ型感光性樹脂
８ 有機膜
Claims (5)
- 【請求項１】 表面が絶縁性である基板上に任意のパ
ターンを有する導電膜を形成する第１工程、該導電膜上
に電着により着色層を形成する第２工程、該着色層上に
透明導電膜を形成する第３工程、該透明導電膜上に任意
のパターンを有する金属膜を形成する第４工程からなる
ことを特徴とする多色パターンの製造方法。 - 【請求項２】 前記導電膜のパターンがストライプパ
ターンであることを特徴とする請求項１記載の多色パタ
ーンの製造方法。 - 【請求項３】 前記金属膜のパターンが格子状パター
ンであることを特徴とする請求項１記載の多色パターン
の製造方法。 - 【請求項４】 前記着色層を形成する第２工程の後に
、該着色層上に有機膜を形成する工程を設けることを特
徴とする請求項１記載の多色パターンの製造方法。 - 【請求項５】 前記透明導電膜を形成する第３工程の
前に、無機膜を形成する工程を設けることを特徴とする
請求項１記載の多色パターンの製造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3030464A JPH04269713A (ja) | 1991-02-25 | 1991-02-25 | 多色パターンの製造方法 |
| EP92301330A EP0501657B1 (en) | 1991-02-25 | 1992-02-19 | Method of manufacturing a colour filter |
| DE69225987T DE69225987T2 (de) | 1991-02-25 | 1992-02-19 | Verfahren zur Herstellung eines Farbfilters |
| US07/840,345 US6203950B1 (en) | 1991-02-25 | 1992-02-24 | Method for manufacturing a color filter |
| KR1019920002902A KR100276861B1 (ko) | 1991-02-25 | 1992-02-25 | 컬러필터의 제조방법 |
| TW081101481A TW216830B (ja) | 1991-02-25 | 1992-04-17 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3030464A JPH04269713A (ja) | 1991-02-25 | 1991-02-25 | 多色パターンの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04269713A true JPH04269713A (ja) | 1992-09-25 |
Family
ID=12304609
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3030464A Pending JPH04269713A (ja) | 1991-02-25 | 1991-02-25 | 多色パターンの製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6203950B1 (ja) |
| EP (1) | EP0501657B1 (ja) |
| JP (1) | JPH04269713A (ja) |
| KR (1) | KR100276861B1 (ja) |
| DE (1) | DE69225987T2 (ja) |
| TW (1) | TW216830B (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07294725A (ja) * | 1994-03-01 | 1995-11-10 | Seiko Instr Inc | カラーフィルター及び多色液晶表示装置の製造方法 |
| RU2226293C2 (ru) * | 2001-10-02 | 2004-03-27 | ОПТИВА, Инк. | Панель дисплея и многослойная пластина для ее изготовления |
| CN105527747A (zh) | 2016-02-18 | 2016-04-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL8105071A (nl) * | 1981-11-10 | 1983-06-01 | Philips Nv | Kleurenbeeldopneeminrichting. |
| US4522691A (en) | 1982-12-22 | 1985-06-11 | Seiko Instruments & Electronics Ltd. | Method for manufacturing a multicolor filter and a multicolor display device |
| JPS6033506A (ja) | 1983-08-04 | 1985-02-20 | Seiko Instr & Electronics Ltd | カラ−固体撮像素子の製造方法 |
| DE3688700T2 (de) | 1985-12-18 | 1993-11-11 | Canon Kk | Flüssigkristallvorrichtung. |
| JP2640097B2 (ja) | 1986-03-20 | 1997-08-13 | セイコー電子工業株式会社 | 多色表示装置 |
| JPS6432233A (en) * | 1987-07-28 | 1989-02-02 | Sharp Kk | Liquid crystal display device |
| JP2593670B2 (ja) * | 1987-11-26 | 1997-03-26 | セイコー電子工業株式会社 | カラー表示装置の製造方法 |
| JPH01170902A (ja) * | 1987-12-25 | 1989-07-06 | Seiko Instr & Electron Ltd | カラーフィルターの製造方法 |
| EP0326112B1 (en) * | 1988-01-29 | 1994-09-14 | Toppan Printing Co., Ltd. | Electrode plate for display device and method for preparation thereof |
| EP0338412B2 (en) * | 1988-04-21 | 2000-05-10 | Asahi Glass Company Ltd. | Color liquid crystal display device and method for driving same |
| JPH0322221U (ja) * | 1989-07-14 | 1991-03-07 |
-
1991
- 1991-02-25 JP JP3030464A patent/JPH04269713A/ja active Pending
-
1992
- 1992-02-19 EP EP92301330A patent/EP0501657B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-02-19 DE DE69225987T patent/DE69225987T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-02-24 US US07/840,345 patent/US6203950B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-02-25 KR KR1019920002902A patent/KR100276861B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1992-04-17 TW TW081101481A patent/TW216830B/zh active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0501657A1 (en) | 1992-09-02 |
| DE69225987T2 (de) | 1998-10-22 |
| EP0501657B1 (en) | 1998-06-24 |
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