JPH04249026A - 電子放出素子 - Google Patents
電子放出素子Info
- Publication number
- JPH04249026A JPH04249026A JP3034995A JP3499591A JPH04249026A JP H04249026 A JPH04249026 A JP H04249026A JP 3034995 A JP3034995 A JP 3034995A JP 3499591 A JP3499591 A JP 3499591A JP H04249026 A JPH04249026 A JP H04249026A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- emitter
- cathode electrode
- electron
- electron emission
- diode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J1/00—Details of electrodes, of magnetic control means, of screens, or of the mounting or spacing thereof, common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J1/02—Main electrodes
- H01J1/30—Cold cathodes, e.g. field-emissive cathode
- H01J1/304—Field-emissive cathodes
- H01J1/3042—Field-emissive cathodes microengineered, e.g. Spindt-type
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J31/00—Cathode ray tubes; Electron beam tubes
- H01J31/08—Cathode ray tubes; Electron beam tubes having a screen on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted, or stored
- H01J31/10—Image or pattern display tubes, i.e. having electrical input and optical output; Flying-spot tubes for scanning purposes
- H01J31/12—Image or pattern display tubes, i.e. having electrical input and optical output; Flying-spot tubes for scanning purposes with luminescent screen
- H01J31/123—Flat display tubes
- H01J31/125—Flat display tubes provided with control means permitting the electron beam to reach selected parts of the screen, e.g. digital selection
- H01J31/127—Flat display tubes provided with control means permitting the electron beam to reach selected parts of the screen, e.g. digital selection using large area or array sources, i.e. essentially a source for each pixel group
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2201/00—Electrodes common to discharge tubes
- H01J2201/30—Cold cathodes
- H01J2201/319—Circuit elements associated with the emitters by direct integration
Landscapes
- Cold Cathode And The Manufacture (AREA)
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本考案は電子放出素子(Fiel
d Emission Cathodes,以下FEC
とも呼ぶ。)に関するものである。本考案の電子放出素
子は、各種表示装置、マイクロ波真空管、光源、増幅素
子、高速スッチング素子、センサー等における電子源と
して有用である。
d Emission Cathodes,以下FEC
とも呼ぶ。)に関するものである。本考案の電子放出素
子は、各種表示装置、マイクロ波真空管、光源、増幅素
子、高速スッチング素子、センサー等における電子源と
して有用である。
【0002】
【従来の技術】電子放出素子の一構造例であるいわゆる
縦型の構造を図5に示す。図中100はガラス等から成
る絶縁性の基板である。基板100の上面にはカソード
電極101が設けられている。カソード電極101の上
面にはシリコン薄膜等からなる抵抗層102が設けられ
ている。抵抗層102の上面にはSiO2 等の絶縁層
103が設けられている。該絶縁層103にはキャビテ
ィ104が形成され、絶縁層103の上面にはゲート1
05が設けられている。そして、前記キャビティ104
内の抵抗層102の上には円錐形のエミッタ106が設
けられている。即ちエミッタ106は、基板100の上
面において抵抗層102を介してカソード電極101に
接続されている。
縦型の構造を図5に示す。図中100はガラス等から成
る絶縁性の基板である。基板100の上面にはカソード
電極101が設けられている。カソード電極101の上
面にはシリコン薄膜等からなる抵抗層102が設けられ
ている。抵抗層102の上面にはSiO2 等の絶縁層
103が設けられている。該絶縁層103にはキャビテ
ィ104が形成され、絶縁層103の上面にはゲート1
05が設けられている。そして、前記キャビティ104
内の抵抗層102の上には円錐形のエミッタ106が設
けられている。即ちエミッタ106は、基板100の上
面において抵抗層102を介してカソード電極101に
接続されている。
【0003】この電子放出素子によれば、エミッタ10
6に対してゲート105に適当なバイアス電圧を印加す
ることにより、エミッタ106の先端とゲート105の
間に電界を生じさせ、エミッタ106の先端から電子放
出を得ることができる。また、一般的な縦型の電子放出
素子において、駆動を開始するためにスイッチを閉じた
瞬間、絶縁劣化により大きなパルス電流が流れてエミッ
タを破壊してしまう事故が発生することがあった。しか
しながら、前記電子放出素子によれば、エミッタ106
とカソード電極101の間に電流制限用の抵抗層102
が設けられていたので短絡状態にはならず、隣接する他
のエミッタ106からの電子放出を損ねるほどの電圧降
下が起こることはない。
6に対してゲート105に適当なバイアス電圧を印加す
ることにより、エミッタ106の先端とゲート105の
間に電界を生じさせ、エミッタ106の先端から電子放
出を得ることができる。また、一般的な縦型の電子放出
素子において、駆動を開始するためにスイッチを閉じた
瞬間、絶縁劣化により大きなパルス電流が流れてエミッ
タを破壊してしまう事故が発生することがあった。しか
しながら、前記電子放出素子によれば、エミッタ106
とカソード電極101の間に電流制限用の抵抗層102
が設けられていたので短絡状態にはならず、隣接する他
のエミッタ106からの電子放出を損ねるほどの電圧降
下が起こることはない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】電流制限用の抵抗層を
有する従来の電子放出素子には次のような問題点があっ
た。 (1)抵抗層での電圧降下が10%程度もあり、その分
駆動電圧が高くなる。換言すれば、抵抗層での電圧降下
分がむだになるので、駆動電圧を低くすることができな
い。 (2)各エミッタには放出効率のバラツキが生じる。こ
れは抵抗層によってある程度はおさえられるが不充分で
あり、輝度のユニフォーミティに放出効率のバラツキに
よる悪影響が残ってしまう。
有する従来の電子放出素子には次のような問題点があっ
た。 (1)抵抗層での電圧降下が10%程度もあり、その分
駆動電圧が高くなる。換言すれば、抵抗層での電圧降下
分がむだになるので、駆動電圧を低くすることができな
い。 (2)各エミッタには放出効率のバラツキが生じる。こ
れは抵抗層によってある程度はおさえられるが不充分で
あり、輝度のユニフォーミティに放出効率のバラツキに
よる悪影響が残ってしまう。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の電子放出素子は
、絶縁性の基板上において、カソード電極とエミッタの
間に定電流素子を設けたことを特徴としている。
、絶縁性の基板上において、カソード電極とエミッタの
間に定電流素子を設けたことを特徴としている。
【0006】
【作用】エミッタとカソード電極の間に設けられた定電
流素子では従来の抵抗層に比べて電圧降下が小さいので
駆動電圧を低くできる。また、各エミッタの電子放出が
均一化する。
流素子では従来の抵抗層に比べて電圧降下が小さいので
駆動電圧を低くできる。また、各エミッタの電子放出が
均一化する。
【0007】
【実施例】本発明の一実施例を図1及び図2により説明
する。図1に示すように、ガラス等から成る絶縁性の基
板1の上面には、アルミニウム等で形成された帯状のカ
ソード電極2が形成されている。カソード電極2上には
、定電流素子としてのダイオード3が形成されている。 ダイオード3は、金で形成された金属層4とアモルファ
スシリコンで形成された半導体層5とにより形成されて
いる。
する。図1に示すように、ガラス等から成る絶縁性の基
板1の上面には、アルミニウム等で形成された帯状のカ
ソード電極2が形成されている。カソード電極2上には
、定電流素子としてのダイオード3が形成されている。 ダイオード3は、金で形成された金属層4とアモルファ
スシリコンで形成された半導体層5とにより形成されて
いる。
【0008】本実施例では、アモルファスシリコンと密
着性が良く、また抵抗値の低い金属である金を用いてダ
イオード3を形成しているが、半導体層5とカソ−ド電
極2とを直接接合させることによりダイオードを構成す
ることも可能である。
着性が良く、また抵抗値の低い金属である金を用いてダ
イオード3を形成しているが、半導体層5とカソ−ド電
極2とを直接接合させることによりダイオードを構成す
ることも可能である。
【0009】一方、カソード電極2には、SiO2 か
ら成る絶縁層7が形成されている。ダイオード3上でか
つ絶縁層7の孔近傍には円錐形のエミッタ6が形成され
ている。又、絶縁層7上でかつエミッタ6の周辺には帯
状のゲート電極8が形成されている。カソード電極2と
ゲート電極8は直交し、マトリクス構成されている。
ら成る絶縁層7が形成されている。ダイオード3上でか
つ絶縁層7の孔近傍には円錐形のエミッタ6が形成され
ている。又、絶縁層7上でかつエミッタ6の周辺には帯
状のゲート電極8が形成されている。カソード電極2と
ゲート電極8は直交し、マトリクス構成されている。
【0010】以上のように構成された電子放出素子の動
作を説明する。カソード電極2とゲート電極8とに選択
的に電圧を印加すると、エミッタ6の先端から、正電圧
が印加されたアノード電極(図示せず)に向かって電子
が放出される。該アノード電極に蛍光体が被着されてい
る場合には、該蛍光体が発光し、種々の表示を行わせる
ことが可能となる。一般に、ダイオードに流れる電流は
、図2のように表される。ところで、本願の特徴は、図
2に示すダイオードの逆方向電流J0 の特性を利用し
、そのもれ電流を利用するものである
作を説明する。カソード電極2とゲート電極8とに選択
的に電圧を印加すると、エミッタ6の先端から、正電圧
が印加されたアノード電極(図示せず)に向かって電子
が放出される。該アノード電極に蛍光体が被着されてい
る場合には、該蛍光体が発光し、種々の表示を行わせる
ことが可能となる。一般に、ダイオードに流れる電流は
、図2のように表される。ところで、本願の特徴は、図
2に示すダイオードの逆方向電流J0 の特性を利用し
、そのもれ電流を利用するものである
【0011】又、
エミッタ6の活性度が異なる場合、各エミッタ6から放
出される電子の量が異なるという問題が生じるが、各エ
ミッタに対応して設けられた定電流素子たるダイオード
3を流れる電流はほぼ一定となるため、各エミッタ6か
ら放出される電子量も各々略同一となる。従って、本願
の電子放出素子を広い面積にわたって多数構成した場合
でも、各点での電子放出量を均一化でき、特に、表示装
置に応用した場合には発光輝度のバラツキを減少させる
ことができる。
エミッタ6の活性度が異なる場合、各エミッタ6から放
出される電子の量が異なるという問題が生じるが、各エ
ミッタに対応して設けられた定電流素子たるダイオード
3を流れる電流はほぼ一定となるため、各エミッタ6か
ら放出される電子量も各々略同一となる。従って、本願
の電子放出素子を広い面積にわたって多数構成した場合
でも、各点での電子放出量を均一化でき、特に、表示装
置に応用した場合には発光輝度のバラツキを減少させる
ことができる。
【0012】図3は、他の実施例を示す回路図である。
図2では、定電流素子としてダイオードを使用したが、
図3に示すように、FET301及び抵抗302を図1
のカソード電極2とエミッタ6との間に形成する様にし
てもよい。即ち、端子Sをカソード電極2に接合させ、
端子Dをエミッタ6に接合させる。抵抗302を流れる
電流が増加するとゲート電圧が低下し、抵抗302を流
れる電流が減少する。逆に、抵抗302を流れる電流が
減少すると、ゲート電圧が増加し、抵抗器302を流れ
る電流が増加する。以上の動作により、定電流特性が得
られるものである。
図3に示すように、FET301及び抵抗302を図1
のカソード電極2とエミッタ6との間に形成する様にし
てもよい。即ち、端子Sをカソード電極2に接合させ、
端子Dをエミッタ6に接合させる。抵抗302を流れる
電流が増加するとゲート電圧が低下し、抵抗302を流
れる電流が減少する。逆に、抵抗302を流れる電流が
減少すると、ゲート電圧が増加し、抵抗器302を流れ
る電流が増加する。以上の動作により、定電流特性が得
られるものである。
【0013】図4は本発明の他の実施例であるFEC2
0の要部を示すものである。この実施例では、各エミッ
タ21とカソード電極22の間に設ける定電流素子とし
て、トランジスタ23を用いて構成した定電流回路24
を用いている。本実施例によっても前記実施例と略同様
の作用効果を得ることができる
0の要部を示すものである。この実施例では、各エミッ
タ21とカソード電極22の間に設ける定電流素子とし
て、トランジスタ23を用いて構成した定電流回路24
を用いている。本実施例によっても前記実施例と略同様
の作用効果を得ることができる
【0014】上述した実施例では、各定電流素子に1個
のエミッタが形成されているが、複数個のエミッタを形
成することにより他のエミッタの電子放出能力が劣化し
た場合でも、残りのエミッタで補うことが可能である。
のエミッタが形成されているが、複数個のエミッタを形
成することにより他のエミッタの電子放出能力が劣化し
た場合でも、残りのエミッタで補うことが可能である。
【0015】
【発明の効果】本発明の電子放出素子によれば、絶縁性
の基板上においてカソード電極とエミッタの間に定電流
素子を設けたので、電子放出開始電圧を低減化でき、各
エミッタの電子放出を均一化することができる。
の基板上においてカソード電極とエミッタの間に定電流
素子を設けたので、電子放出開始電圧を低減化でき、各
エミッタの電子放出を均一化することができる。
【図1】本発明の一実施例である電子放出素子の断面図
である。
である。
【図2】同実施例の説明図である。
【図3】他の実施例の要部を示す回路図である。
【図4】他の実施例の要部を示す回路図である。
【図5】従来の電子放出素子の一構造例を示す一部切り
欠き斜視図である。
欠き斜視図である。
1…基板2,22…カソード電極、3…定電流素子とし
ての定電流ダイオード、9,21…エミッタ、12…電
子放出素子、20…FEC、24…定電流素子としての
定電流回路。
ての定電流ダイオード、9,21…エミッタ、12…電
子放出素子、20…FEC、24…定電流素子としての
定電流回路。
Claims (1)
- 【請求項1】 絶縁性の基板と、前記基板上に設けら
れたカソード電極と、前記基板上に設けられた定電流素
子と、前記基板上に設けられ、前記定電流素子を介して
前記カソード電極に接続されるエミッタとを具備する電
子放出素子。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3499591A JP2626276B2 (ja) | 1991-02-06 | 1991-02-06 | 電子放出素子 |
US07/831,443 US5162704A (en) | 1991-02-06 | 1992-02-05 | Field emission cathode |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3499591A JP2626276B2 (ja) | 1991-02-06 | 1991-02-06 | 電子放出素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04249026A true JPH04249026A (ja) | 1992-09-04 |
JP2626276B2 JP2626276B2 (ja) | 1997-07-02 |
Family
ID=12429726
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3499591A Expired - Fee Related JP2626276B2 (ja) | 1991-02-06 | 1991-02-06 | 電子放出素子 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5162704A (ja) |
JP (1) | JP2626276B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0589523A1 (en) * | 1992-09-25 | 1994-03-30 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Display device |
JPH07130281A (ja) * | 1993-10-28 | 1995-05-19 | Nec Corp | 電界放出型陰極装置 |
JPH08162005A (ja) * | 1994-12-05 | 1996-06-21 | Nec Corp | 電界放出冷陰極 |
US5537007A (en) * | 1992-09-25 | 1996-07-16 | U.S. Philips Corporation | Field emitter display device with two-pole circuits |
US5557160A (en) * | 1993-12-28 | 1996-09-17 | Nec Corporation | Field emission cathode including cylindrically shaped resistive connector and method of manufacturing |
US6060823A (en) * | 1997-03-27 | 2000-05-09 | Nec Corporation | Field emission cold cathode element |
US6084341A (en) * | 1996-08-23 | 2000-07-04 | Nec Corporation | Electric field emission cold cathode |
CN105679628A (zh) * | 2016-01-20 | 2016-06-15 | 中山大学 | 一种带反偏置纳米结的场致电子发射器件结构 |
Families Citing this family (56)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5536193A (en) | 1991-11-07 | 1996-07-16 | Microelectronics And Computer Technology Corporation | Method of making wide band gap field emitter |
US5449970A (en) | 1992-03-16 | 1995-09-12 | Microelectronics And Computer Technology Corporation | Diode structure flat panel display |
US5763997A (en) | 1992-03-16 | 1998-06-09 | Si Diamond Technology, Inc. | Field emission display device |
US5675216A (en) | 1992-03-16 | 1997-10-07 | Microelectronics And Computer Technololgy Corp. | Amorphic diamond film flat field emission cathode |
US5679043A (en) | 1992-03-16 | 1997-10-21 | Microelectronics And Computer Technology Corporation | Method of making a field emitter |
US6127773A (en) | 1992-03-16 | 2000-10-03 | Si Diamond Technology, Inc. | Amorphic diamond film flat field emission cathode |
US5543684A (en) | 1992-03-16 | 1996-08-06 | Microelectronics And Computer Technology Corporation | Flat panel display based on diamond thin films |
US5659224A (en) | 1992-03-16 | 1997-08-19 | Microelectronics And Computer Technology Corporation | Cold cathode display device |
US5956004A (en) * | 1993-05-11 | 1999-09-21 | Micron Technology, Inc. | Controlling pixel brightness in a field emission display using circuits for sampling and discharging |
US5638086A (en) * | 1993-02-01 | 1997-06-10 | Micron Display Technology, Inc. | Matrix display with peripheral drive signal sources |
US5616991A (en) * | 1992-04-07 | 1997-04-01 | Micron Technology, Inc. | Flat panel display in which low-voltage row and column address signals control a much higher pixel activation voltage |
US5581159A (en) * | 1992-04-07 | 1996-12-03 | Micron Technology, Inc. | Back-to-back diode current regulator for field emission display |
US5357172A (en) * | 1992-04-07 | 1994-10-18 | Micron Technology, Inc. | Current-regulated field emission cathodes for use in a flat panel display in which low-voltage row and column address signals control a much higher pixel activation voltage |
US5410218A (en) * | 1993-06-15 | 1995-04-25 | Micron Display Technology, Inc. | Active matrix field emission display having peripheral regulation of tip current |
US5642017A (en) * | 1993-05-11 | 1997-06-24 | Micron Display Technology, Inc. | Matrix-addressable flat panel field emission display having only one transistor for pixel control at each row and column intersection |
US5387844A (en) * | 1993-06-15 | 1995-02-07 | Micron Display Technology, Inc. | Flat panel display drive circuit with switched drive current |
US5396150A (en) * | 1993-07-01 | 1995-03-07 | Industrial Technology Research Institute | Single tip redundancy method and resulting flat panel display |
US5462467A (en) * | 1993-09-08 | 1995-10-31 | Silicon Video Corporation | Fabrication of filamentary field-emission device, including self-aligned gate |
US5999149A (en) * | 1993-10-15 | 1999-12-07 | Micron Technology, Inc. | Matrix display with peripheral drive signal sources |
CN1134754A (zh) | 1993-11-04 | 1996-10-30 | 微电子及计算机技术公司 | 制作平板显示***和元件的方法 |
US5550426A (en) * | 1994-06-30 | 1996-08-27 | Motorola | Field emission device |
FR2722913B1 (fr) * | 1994-07-21 | 1996-10-11 | Pixel Int Sa | Cathode a micropointes pour ecran plat |
US5920154A (en) | 1994-08-02 | 1999-07-06 | Micron Technology, Inc. | Field emission display with video signal on column lines |
US6204834B1 (en) | 1994-08-17 | 2001-03-20 | Si Diamond Technology, Inc. | System and method for achieving uniform screen brightness within a matrix display |
US5531880A (en) * | 1994-09-13 | 1996-07-02 | Microelectronics And Computer Technology Corporation | Method for producing thin, uniform powder phosphor for display screens |
US6417605B1 (en) * | 1994-09-16 | 2002-07-09 | Micron Technology, Inc. | Method of preventing junction leakage in field emission devices |
TW289864B (ja) * | 1994-09-16 | 1996-11-01 | Micron Display Tech Inc | |
US5975975A (en) * | 1994-09-16 | 1999-11-02 | Micron Technology, Inc. | Apparatus and method for stabilization of threshold voltage in field emission displays |
WO1996014650A1 (en) | 1994-11-04 | 1996-05-17 | Micron Display Technology, Inc. | Method for sharpening emitter sites using low temperature oxidation processes |
US6296740B1 (en) * | 1995-04-24 | 2001-10-02 | Si Diamond Technology, Inc. | Pretreatment process for a surface texturing process |
US5628659A (en) * | 1995-04-24 | 1997-05-13 | Microelectronics And Computer Corporation | Method of making a field emission electron source with random micro-tip structures |
JP2900837B2 (ja) * | 1995-05-31 | 1999-06-02 | 日本電気株式会社 | 電界放射型冷陰極装置及びその製造方法 |
US5585301A (en) * | 1995-07-14 | 1996-12-17 | Micron Display Technology, Inc. | Method for forming high resistance resistors for limiting cathode current in field emission displays |
EP0757341B1 (en) * | 1995-08-01 | 2003-06-04 | STMicroelectronics S.r.l. | Limiting and selfuniforming cathode currents through the microtips of a field emission flat panel display |
US5656892A (en) * | 1995-11-17 | 1997-08-12 | Micron Display Technology, Inc. | Field emission display having emitter control with current sensing feedback |
US5847408A (en) * | 1996-03-25 | 1998-12-08 | Agency Of Industrial Science & Technology, Ministry Of International Trade & Industry | Field emission device |
US5894293A (en) * | 1996-04-24 | 1999-04-13 | Micron Display Technology Inc. | Field emission display having pulsed capacitance current control |
US5757138A (en) * | 1996-05-01 | 1998-05-26 | Industrial Technology Research Institute | Linear response field emission device |
TW350059B (en) * | 1996-07-23 | 1999-01-11 | Futaba Denshi Kogyo Kk | Field emission type image display panel and method of driving the same |
US5844370A (en) * | 1996-09-04 | 1998-12-01 | Micron Technology, Inc. | Matrix addressable display with electrostatic discharge protection |
US6010917A (en) * | 1996-10-15 | 2000-01-04 | Micron Technology, Inc. | Electrically isolated interconnects and conductive layers in semiconductor device manufacturing |
US5847515A (en) * | 1996-11-01 | 1998-12-08 | Micron Technology, Inc. | Field emission display having multiple brightness display modes |
US5770919A (en) * | 1996-12-31 | 1998-06-23 | Micron Technology, Inc. | Field emission device micropoint with current-limiting resistive structure and method for making same |
US6015323A (en) * | 1997-01-03 | 2000-01-18 | Micron Technology, Inc. | Field emission display cathode assembly government rights |
US5986625A (en) * | 1997-01-07 | 1999-11-16 | Micron Technology, Inc. | Application specific field emission display including extended emitters |
US6038171A (en) * | 1997-03-25 | 2000-03-14 | Altera Corporation | Field emission erasable programmable read-only memory |
US6013986A (en) * | 1997-06-30 | 2000-01-11 | Candescent Technologies Corporation | Electron-emitting device having multi-layer resistor |
US6144144A (en) * | 1997-10-31 | 2000-11-07 | Candescent Technologies Corporation | Patterned resistor suitable for electron-emitting device |
US6176752B1 (en) | 1998-09-10 | 2001-01-23 | Micron Technology, Inc. | Baseplate and a method for manufacturing a baseplate for a field emission display |
JP2000260299A (ja) * | 1999-03-09 | 2000-09-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 冷電子放出素子及びその製造方法 |
US7052350B1 (en) * | 1999-08-26 | 2006-05-30 | Micron Technology, Inc. | Field emission device having insulated column lines and method manufacture |
US6469436B1 (en) * | 2000-01-14 | 2002-10-22 | Micron Technology, Inc. | Radiation shielding for field emitters |
WO2003063120A1 (en) | 2002-01-15 | 2003-07-31 | The Government Of The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Navy | Method and apparatus for regulating electron emission in field emitter devices |
GB2389959B (en) * | 2002-06-19 | 2006-06-14 | Univ Dundee | Improved field emission device |
CN103021759B (zh) * | 2013-01-06 | 2016-05-04 | 电子科技大学 | 一种恒流发射的场致发射电子源 |
CN106128907A (zh) * | 2016-08-31 | 2016-11-16 | 电子科技大学 | 带有限流pn结的场发射阴极结构 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62272422A (ja) * | 1986-05-20 | 1987-11-26 | Canon Inc | 電子放出装置 |
JPS63136437A (ja) * | 1986-11-27 | 1988-06-08 | Canon Inc | 電子放出装置 |
JPH01154426A (ja) * | 1987-11-06 | 1989-06-16 | Commiss Energ Atom | 電子源 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3755704A (en) * | 1970-02-06 | 1973-08-28 | Stanford Research Inst | Field emission cathode structures and devices utilizing such structures |
JPS5325632B2 (ja) * | 1973-03-22 | 1978-07-27 | ||
JPS5436828B2 (ja) * | 1974-08-16 | 1979-11-12 | ||
US4163918A (en) * | 1977-12-27 | 1979-08-07 | Joe Shelton | Electron beam forming device |
US4721885A (en) * | 1987-02-11 | 1988-01-26 | Sri International | Very high speed integrated microelectronic tubes |
US4901028A (en) * | 1988-03-22 | 1990-02-13 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Field emitter array integrated distributed amplifiers |
US5075595A (en) * | 1991-01-24 | 1991-12-24 | Motorola, Inc. | Field emission device with vertically integrated active control |
-
1991
- 1991-02-06 JP JP3499591A patent/JP2626276B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-02-05 US US07/831,443 patent/US5162704A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62272422A (ja) * | 1986-05-20 | 1987-11-26 | Canon Inc | 電子放出装置 |
JPS63136437A (ja) * | 1986-11-27 | 1988-06-08 | Canon Inc | 電子放出装置 |
JPH01154426A (ja) * | 1987-11-06 | 1989-06-16 | Commiss Energ Atom | 電子源 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0589523A1 (en) * | 1992-09-25 | 1994-03-30 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Display device |
US5537007A (en) * | 1992-09-25 | 1996-07-16 | U.S. Philips Corporation | Field emitter display device with two-pole circuits |
JPH07130281A (ja) * | 1993-10-28 | 1995-05-19 | Nec Corp | 電界放出型陰極装置 |
US5550435A (en) * | 1993-10-28 | 1996-08-27 | Nec Corporation | Field emission cathode apparatus |
US5557160A (en) * | 1993-12-28 | 1996-09-17 | Nec Corporation | Field emission cathode including cylindrically shaped resistive connector and method of manufacturing |
JPH08162005A (ja) * | 1994-12-05 | 1996-06-21 | Nec Corp | 電界放出冷陰極 |
US6084341A (en) * | 1996-08-23 | 2000-07-04 | Nec Corporation | Electric field emission cold cathode |
US6060823A (en) * | 1997-03-27 | 2000-05-09 | Nec Corporation | Field emission cold cathode element |
CN105679628A (zh) * | 2016-01-20 | 2016-06-15 | 中山大学 | 一种带反偏置纳米结的场致电子发射器件结构 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2626276B2 (ja) | 1997-07-02 |
US5162704A (en) | 1992-11-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2626276B2 (ja) | 電子放出素子 | |
JP2003100199A (ja) | 電子放出素子、電子源及び画像形成装置 | |
US5345141A (en) | Single substrate, vacuum fluorescent display | |
JP2763248B2 (ja) | シリコン電子放出素子の製造方法 | |
JP3066573B2 (ja) | 電界放出型表示素子 | |
JP2000268704A (ja) | 電界放出形表示素子及びその製造方法 | |
JPWO2003085692A1 (ja) | 冷陰極表示装置及び冷陰極表示装置の製造方法 | |
KR100334017B1 (ko) | 평판 디스플레이 | |
KR100312510B1 (ko) | 카본 나노튜브를 이용한 전계방출소자 | |
US5955832A (en) | Vacuum envelope having niobium oxide gate electrode structure | |
JP3026484B2 (ja) | 電界放出型冷陰極 | |
US6015324A (en) | Fabrication process for surface electron display device with electron sink | |
US6583477B1 (en) | Field emission device | |
JP2003016907A (ja) | 電子放出素子、電子源、画像形成装置及び電子放出素子の製造方法 | |
JP3861484B2 (ja) | 電子放出素子及びその駆動方法 | |
JPH11339699A (ja) | 蛍光表示管のフィラメント電圧制御装置 | |
KR100415607B1 (ko) | 전계 방출 표시소자 | |
KR100254677B1 (ko) | 저항층을 갖는 전계방출표시소자 | |
JP2001202059A (ja) | 冷陰極発光素子の駆動方法、冷陰極発光素子の駆動回路およびディスプレイ装置 | |
KR100254674B1 (ko) | 전계방출표시소자용 저항층 | |
JP4947336B2 (ja) | 電界放出素子 | |
JP2002313214A (ja) | 電子放出装置及び陰極線管 | |
JP2002198000A (ja) | 画像表示装置 | |
JP2001350444A (ja) | 電界放出型表示装置 | |
KR100235303B1 (ko) | MIM(Metal Insulator Metal)을 이용한 FED장치 및 그의 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |