JPH04243850A - カルボキシル化合物の製造方法 - Google Patents
カルボキシル化合物の製造方法Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、カルボニル化合物と過
酸化水素からカルボキシル化合物を製造する改良された
方法に関するものであり、更に詳しくはアルシン酸類を
触媒としてカルボニル化合物と過酸化水素からカルボキ
シル化合物を製造する方法に関する。
酸化水素からカルボキシル化合物を製造する改良された
方法に関するものであり、更に詳しくはアルシン酸類を
触媒としてカルボニル化合物と過酸化水素からカルボキ
シル化合物を製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】特公昭44ー10243号公報にはケト
ン類を触媒として有機または無機砒素化合物の存在下に
過酸化水素で酸化する方法が開示されており、好ましい
触媒として砒酸塩、亜砒酸塩、酸化砒素などがあげられ
ている。また特開昭55ー21481号公報にはポリフ
ェニレンを形成するか、ジビニルアリーレンで架橋した
ポリメチレン骨格から砒素基がペンダントしている粒状
またはビーズ状の多孔性重合体を触媒とする過酸化水素
による酸化方法が開示されている。特公平1ー3581
4号公報には少なくとも1種のHF、SbF5 、Sn
Cl4 などのフリーデルクラフツ触媒の存在下に環状
ケトンまたはアルデヒドと過酸化水素を反応させてカル
ボキシル化合物を製造する方法において、その液状反応
混合物から水を蒸発により連続的に除去し反応混合物を
実質的に無水の状態に保持するカルボキシル化合物の製
造法が開示されている。
ン類を触媒として有機または無機砒素化合物の存在下に
過酸化水素で酸化する方法が開示されており、好ましい
触媒として砒酸塩、亜砒酸塩、酸化砒素などがあげられ
ている。また特開昭55ー21481号公報にはポリフ
ェニレンを形成するか、ジビニルアリーレンで架橋した
ポリメチレン骨格から砒素基がペンダントしている粒状
またはビーズ状の多孔性重合体を触媒とする過酸化水素
による酸化方法が開示されている。特公平1ー3581
4号公報には少なくとも1種のHF、SbF5 、Sn
Cl4 などのフリーデルクラフツ触媒の存在下に環状
ケトンまたはアルデヒドと過酸化水素を反応させてカル
ボキシル化合物を製造する方法において、その液状反応
混合物から水を蒸発により連続的に除去し反応混合物を
実質的に無水の状態に保持するカルボキシル化合物の製
造法が開示されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、本発明
者らの検討に依れば特公昭44−10243号公報に開
示された方法は、副生物の生成が多くまた溶媒を用いな
ければ収率が低い。また特開昭55−21481号公報
に開示された方法は高濃度の過酸化水素を用いなければ
副生物が多い。さらに担体として樹脂を用いているため
比較的高温での反応が行えない。また収率と反応速度が
低い。特公平1−35814号公報に開示された方法は
反応速度は速いものの高濃度の過酸化水素を用いなけれ
ば収率が低い。また系内を実質的に無水にしているもの
の、腐食性の弗化水素を使用したり、加水分解により弗
化水素や塩化水素を生成する触媒を用いるため高価な耐
食性の反応容器を用いる必要があり、工業的には大きな
欠点を持つ。
者らの検討に依れば特公昭44−10243号公報に開
示された方法は、副生物の生成が多くまた溶媒を用いな
ければ収率が低い。また特開昭55−21481号公報
に開示された方法は高濃度の過酸化水素を用いなければ
副生物が多い。さらに担体として樹脂を用いているため
比較的高温での反応が行えない。また収率と反応速度が
低い。特公平1−35814号公報に開示された方法は
反応速度は速いものの高濃度の過酸化水素を用いなけれ
ば収率が低い。また系内を実質的に無水にしているもの
の、腐食性の弗化水素を使用したり、加水分解により弗
化水素や塩化水素を生成する触媒を用いるため高価な耐
食性の反応容器を用いる必要があり、工業的には大きな
欠点を持つ。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記問題点
を解決すべく検討した結果、砒素化合物の中でも下記の
一般式(1)で表されるアルシン酸類を触媒として用い
ることにより、カルボニル化合物の過酸化水素酸化が高
収率で、また高い反応速度で行えることを見いだし本発
明を完成した。R2 |R1 −As−OH
(1)‖O(ここでR1 、R2 は炭素数1か
ら20のアルキル基またはアリール基であり、アルキル
基、アリール基の水素が水酸基、カルボキシル基、スル
ホン基、アミノ基、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲ
ン元素で置換されていてもよく、またR1、R2 は同
一でも異なっていてもよい。) すなわち、本発明は、カルボニル化合物と過酸化水素か
らカルボキシル化合物を製造するに当たり一般式(1)
で表されるアルシン酸類を触媒とすることを特徴とする
カルボキシル化合物の製造法である。
を解決すべく検討した結果、砒素化合物の中でも下記の
一般式(1)で表されるアルシン酸類を触媒として用い
ることにより、カルボニル化合物の過酸化水素酸化が高
収率で、また高い反応速度で行えることを見いだし本発
明を完成した。R2 |R1 −As−OH
(1)‖O(ここでR1 、R2 は炭素数1か
ら20のアルキル基またはアリール基であり、アルキル
基、アリール基の水素が水酸基、カルボキシル基、スル
ホン基、アミノ基、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲ
ン元素で置換されていてもよく、またR1、R2 は同
一でも異なっていてもよい。) すなわち、本発明は、カルボニル化合物と過酸化水素か
らカルボキシル化合物を製造するに当たり一般式(1)
で表されるアルシン酸類を触媒とすることを特徴とする
カルボキシル化合物の製造法である。
【0005】本発明で用いられるアルシン酸類は耐酸化
性が強く、反応後蒸留操作により分離し、反応系に循環
使用することもできるし、また、水その他の溶媒により
抽出分離し、反応系に循環し再使用する事もできる非常
に安定な化合物である。次に、本発明の触媒及びこの触
媒を用いたカルボニル化合物と過酸化水素とからのカル
ボキシル化合物の製造法について具体的に説明する。本
発明において触媒となるアルシン酸類は次の一般式(1
)で表されるものである。
性が強く、反応後蒸留操作により分離し、反応系に循環
使用することもできるし、また、水その他の溶媒により
抽出分離し、反応系に循環し再使用する事もできる非常
に安定な化合物である。次に、本発明の触媒及びこの触
媒を用いたカルボニル化合物と過酸化水素とからのカル
ボキシル化合物の製造法について具体的に説明する。本
発明において触媒となるアルシン酸類は次の一般式(1
)で表されるものである。
【0006】
(ここでR1 ,R2 は炭素数1から20のアルキル
基またはアリール基であり、アルキル基、アリール基の
水素が水酸基、カルボキシル基、スルホン基、アミノ基
、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン元素で置換され
ていてもよく、またR1 、R2 は同一でも異なって
いてもよい。)
基またはアリール基であり、アルキル基、アリール基の
水素が水酸基、カルボキシル基、スルホン基、アミノ基
、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン元素で置換され
ていてもよく、またR1 、R2 は同一でも異なって
いてもよい。)
【0007】次に具体的な置換基の例をあげるとアルキ
ル基としてはメチル、エチル、ブチル、ペンチル、ヘキ
シル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デカニル、ウンデ
カニル、ドデカニル、トリデカニル、テトラデカニル、
ペンタデカニル、ヘキサデカニル、ヘプタデカニル、オ
クタデカニル、ノナデカニル、エイコサニル、シクロヘ
キシルなどであり、またアリール基としては無置換のフ
ェニル基、ナフチル基のほかフェニル基、ナフチル基の
一つ以上の水素を次の置換基で置換したアリール基が用
いられる。置換基としてはヒドロキシ、スルフォキシ、
スルフォニウム、カルボキシ、カルボニウム、アミノ、
メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチルアミノ、ジエチ
ルアミノ、及びこれらのアンモニウム塩基、炭素数1か
ら6のアルキル基、炭素数1から6のアルコキシ基、フ
ェノキシ、クロル、フルオロ、ブロムなどが用いられる
。好ましいアルシン酸類としてはジメチルアルシン酸、
ジヘキシルアルシン酸、ジブチルアルシン酸、ジフェニ
ルアルシン酸、フェニル−(4−ソディウムスルフォニ
ルフェニル)アルシン酸などがあげられる。また、使用
する触媒は必要に応じて有機または無機の担体に固定し
てもよい。
ル基としてはメチル、エチル、ブチル、ペンチル、ヘキ
シル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デカニル、ウンデ
カニル、ドデカニル、トリデカニル、テトラデカニル、
ペンタデカニル、ヘキサデカニル、ヘプタデカニル、オ
クタデカニル、ノナデカニル、エイコサニル、シクロヘ
キシルなどであり、またアリール基としては無置換のフ
ェニル基、ナフチル基のほかフェニル基、ナフチル基の
一つ以上の水素を次の置換基で置換したアリール基が用
いられる。置換基としてはヒドロキシ、スルフォキシ、
スルフォニウム、カルボキシ、カルボニウム、アミノ、
メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチルアミノ、ジエチ
ルアミノ、及びこれらのアンモニウム塩基、炭素数1か
ら6のアルキル基、炭素数1から6のアルコキシ基、フ
ェノキシ、クロル、フルオロ、ブロムなどが用いられる
。好ましいアルシン酸類としてはジメチルアルシン酸、
ジヘキシルアルシン酸、ジブチルアルシン酸、ジフェニ
ルアルシン酸、フェニル−(4−ソディウムスルフォニ
ルフェニル)アルシン酸などがあげられる。また、使用
する触媒は必要に応じて有機または無機の担体に固定し
てもよい。
【0008】これらのアルシン酸類は、反応収率は無論
のこと、反応液からの分離、再循環などのプロセス上の
要請より目的とするカルボニル化合物にあわせて選択で
きる。本発明におけるカルボニル化合物と過酸化水素の
反応は次のように実施される。
のこと、反応液からの分離、再循環などのプロセス上の
要請より目的とするカルボニル化合物にあわせて選択で
きる。本発明におけるカルボニル化合物と過酸化水素の
反応は次のように実施される。
【0009】使用する触媒の量は反応液1kg当り10
0g以下、0.1g〜75g、好ましくは0.5〜50
gの割合で使用される。触媒は公知の各種の方法で反応
系に導入できる。例えば、純粋結晶でも、あるいは反応
液中の一成分に溶解して使用しても良い。
0g以下、0.1g〜75g、好ましくは0.5〜50
gの割合で使用される。触媒は公知の各種の方法で反応
系に導入できる。例えば、純粋結晶でも、あるいは反応
液中の一成分に溶解して使用しても良い。
【0010】本発明では触媒として上記アルシン酸類だ
けで高活性であるが、他に過酸化水素の安定性を高める
ために、またアルシン酸類の活性を維持するために、ま
た生成物の重合、分解を防止するために添加物を加える
ことができる。添加物としては過酸化水素の安定剤、重
合禁止剤、過酸化物の分解抑制剤などがあげられる。添
加物の例としては、EDTA、EDTAナトリウム塩、
ステアリン酸、無水フタル酸、フタル酸類、各種燐酸及
び燐酸塩、すず化合物などである。これらの添加物は広
い範囲で使用できるが、通常は触媒1g当り0.01〜
2g好ましくは0.05〜0.5gが用いられる。
けで高活性であるが、他に過酸化水素の安定性を高める
ために、またアルシン酸類の活性を維持するために、ま
た生成物の重合、分解を防止するために添加物を加える
ことができる。添加物としては過酸化水素の安定剤、重
合禁止剤、過酸化物の分解抑制剤などがあげられる。添
加物の例としては、EDTA、EDTAナトリウム塩、
ステアリン酸、無水フタル酸、フタル酸類、各種燐酸及
び燐酸塩、すず化合物などである。これらの添加物は広
い範囲で使用できるが、通常は触媒1g当り0.01〜
2g好ましくは0.05〜0.5gが用いられる。
【0011】本発明で使用するカルボニル化合物は炭素
数4〜20のケトン類とアルデヒド類である。好ましい
ケトン類はメチルエチルケトン、ジエチルケトン、アセ
トフェノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メ
チルシクロヘキサノン、シクロヘキセノン、シクロオク
タノン、イソホロン、樟脳、フルオレノン、ナフトキノ
ンなどである。好ましいアルデヒド類はバニリン、ベン
ズアルデヒド、トルアルデヒド、2,6−ジメチルベン
ズアルデヒドなどである。本発明によればケトン類を原
料とすればエステル類が、アルデヒド類を原料とすれば
エステル類またはカルボン酸類が製造できる。
数4〜20のケトン類とアルデヒド類である。好ましい
ケトン類はメチルエチルケトン、ジエチルケトン、アセ
トフェノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メ
チルシクロヘキサノン、シクロヘキセノン、シクロオク
タノン、イソホロン、樟脳、フルオレノン、ナフトキノ
ンなどである。好ましいアルデヒド類はバニリン、ベン
ズアルデヒド、トルアルデヒド、2,6−ジメチルベン
ズアルデヒドなどである。本発明によればケトン類を原
料とすればエステル類が、アルデヒド類を原料とすれば
エステル類またはカルボン酸類が製造できる。
【0012】本発明では、過酸化水素は水溶液でも、有
機溶剤の溶液としても使用できる。従って、その選択は
プロセス上の要請で決めることができる。通常は、水溶
液が一般的に使用される。使用する過酸化水素溶液の濃
度は広い範囲で選択できる。一般的には水溶液では10
重量%以上のものが使用されるが、90重量%を越える
ものは操作性、安全性などから推賞されない。好ましい
濃度範囲は20〜80重量%である。
機溶剤の溶液としても使用できる。従って、その選択は
プロセス上の要請で決めることができる。通常は、水溶
液が一般的に使用される。使用する過酸化水素溶液の濃
度は広い範囲で選択できる。一般的には水溶液では10
重量%以上のものが使用されるが、90重量%を越える
ものは操作性、安全性などから推賞されない。好ましい
濃度範囲は20〜80重量%である。
【0013】本発明では、反応媒体中の反応物と過酸化
水素の割合は、反応速度や使用溶媒などにより広い範囲
で選択できるが、通常過酸化水素のモル数は反応物のモ
ル数の1.5倍を越えない。
水素の割合は、反応速度や使用溶媒などにより広い範囲
で選択できるが、通常過酸化水素のモル数は反応物のモ
ル数の1.5倍を越えない。
【0014】本発明では反応物、過酸化水素、触媒の他
に溶媒を用いることができる。一般に溶剤は反応条件下
で不活性なものが使用される。好適な溶剤としてはエー
テル、アルコール、ハロゲン化炭化水素、炭化水素、、
カルボン酸エステル、燐酸エステルなどがあげられる。
に溶媒を用いることができる。一般に溶剤は反応条件下
で不活性なものが使用される。好適な溶剤としてはエー
テル、アルコール、ハロゲン化炭化水素、炭化水素、、
カルボン酸エステル、燐酸エステルなどがあげられる。
【0015】エーテルとしては炭素数4〜14のエーテ
ル、例えばジエチルエーテル、ジフェニルエーテル、ジ
グライム、テトラヒドロフランなどがあげられる。アル
コールとしては炭素数1〜12の一価または多価の一級
、二級または三級のアルコール、例えばメタノール、エ
タノール、tert−ブタノール、シクロヘキサノール
、エチレングリコール、1,4−ブタンジオールなどが
あげられる。ハロゲン化炭化水素としては炭素数2〜1
0の脂肪族または芳香族ハロゲン化炭化水素で好ましく
は塩素及び、または弗素で置換されたハロゲン化炭化水
素である。炭化水素としては炭素数6〜20の脂肪族ま
たは芳香族炭化水素、例えばn−ヘキサン、シクロヘキ
サン、デカン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチ
レンなどがあげられる。
ル、例えばジエチルエーテル、ジフェニルエーテル、ジ
グライム、テトラヒドロフランなどがあげられる。アル
コールとしては炭素数1〜12の一価または多価の一級
、二級または三級のアルコール、例えばメタノール、エ
タノール、tert−ブタノール、シクロヘキサノール
、エチレングリコール、1,4−ブタンジオールなどが
あげられる。ハロゲン化炭化水素としては炭素数2〜1
0の脂肪族または芳香族ハロゲン化炭化水素で好ましく
は塩素及び、または弗素で置換されたハロゲン化炭化水
素である。炭化水素としては炭素数6〜20の脂肪族ま
たは芳香族炭化水素、例えばn−ヘキサン、シクロヘキ
サン、デカン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチ
レンなどがあげられる。
【0016】カルボン酸エステルとしては炭素数2〜6
の脂肪族または脂環式エステル、例えば酢酸メチル、酢
酸フェニル、プロピオン酸メチル、カプロン酸メチル、
ε−カプロラクトンなどがあげられる。リン酸エステル
としては炭素数3〜21のリン酸エステルで、例えばト
リメチルフォスフェート、トリエチルフォスフェート、
トリフェニルフォスフェートなどがあげられる。 上
記不活性な溶媒以外にも、カルボン酸類、例えば酢酸、
プロピオン酸、カプロン酸などの有機酸類を溶媒とする
こともできる。この時有機酸の一部が過酸となり、反応
の進行を促進し、副生物の生成を抑えることがある。
の脂肪族または脂環式エステル、例えば酢酸メチル、酢
酸フェニル、プロピオン酸メチル、カプロン酸メチル、
ε−カプロラクトンなどがあげられる。リン酸エステル
としては炭素数3〜21のリン酸エステルで、例えばト
リメチルフォスフェート、トリエチルフォスフェート、
トリフェニルフォスフェートなどがあげられる。 上
記不活性な溶媒以外にも、カルボン酸類、例えば酢酸、
プロピオン酸、カプロン酸などの有機酸類を溶媒とする
こともできる。この時有機酸の一部が過酸となり、反応
の進行を促進し、副生物の生成を抑えることがある。
【0017】溶剤の使用割合は広い範囲で選択できるが
、通常0〜90重量%の範囲で使用する。一般に環状ケ
トンを原料とする場合は、原料が溶媒を兼ねるため、溶
剤を用いない事が多い。反応温度は通常150℃以下、
一般的には50〜130℃の範囲で、特に70〜120
℃の温度で良好な結果が得られている。反応圧力は反応
系内からの水の除去の有無により異なるが、1×103
Pa〜3×105 Paの範囲で選択できる。
、通常0〜90重量%の範囲で使用する。一般に環状ケ
トンを原料とする場合は、原料が溶媒を兼ねるため、溶
剤を用いない事が多い。反応温度は通常150℃以下、
一般的には50〜130℃の範囲で、特に70〜120
℃の温度で良好な結果が得られている。反応圧力は反応
系内からの水の除去の有無により異なるが、1×103
Pa〜3×105 Paの範囲で選択できる。
【0018】反応系内に多量の水が存在すると反応速度
の低下と過酸化物の生成増加の原因となるうえケトン類
の酸化反応においては生成するエステルを加水分解し収
率の低下を引き起こすことになる。一般的に系内の水の
濃度は反応媒体と水が均一の相を形成する範囲以下に抑
えることが好ましい。温度により異なるがシクロヘキサ
ノンを原料とする反応媒体で均一な相を形成するとき、
水の濃度は室温で8重量%以下である。反応系内の水の
除去は、反応溶媒または原料と水との共沸により除去す
るのが好適である。この場合反応温度より共沸温度が高
い場合は減圧下に反応を行なうか、不活性ガスを吹き込
み蒸気を同伴させるか何れかの方法を選択することがで
きる。この他、物理化学的または化学的に水を取り去る
方法も可能である。例えば無機塩の結晶水としてあるい
はモレキュラーシーブの空洞に取り込む事もできるし、
酸無水物と反応させて、系内の水を除くこともできる。 これらの場合、脱水剤として作用した化合物を乾燥、脱
水し再使用することにより継続的な反応が可能である。 なお、本発明の反応は通常実質的に過酸化水素が消費さ
れるまで行われる。本発明は単一の反応器でも連続する
多槽の反応器でも、また連続的にも、非連続的にも実施
できる。更に管式の反応器でも実施することができる。
の低下と過酸化物の生成増加の原因となるうえケトン類
の酸化反応においては生成するエステルを加水分解し収
率の低下を引き起こすことになる。一般的に系内の水の
濃度は反応媒体と水が均一の相を形成する範囲以下に抑
えることが好ましい。温度により異なるがシクロヘキサ
ノンを原料とする反応媒体で均一な相を形成するとき、
水の濃度は室温で8重量%以下である。反応系内の水の
除去は、反応溶媒または原料と水との共沸により除去す
るのが好適である。この場合反応温度より共沸温度が高
い場合は減圧下に反応を行なうか、不活性ガスを吹き込
み蒸気を同伴させるか何れかの方法を選択することがで
きる。この他、物理化学的または化学的に水を取り去る
方法も可能である。例えば無機塩の結晶水としてあるい
はモレキュラーシーブの空洞に取り込む事もできるし、
酸無水物と反応させて、系内の水を除くこともできる。 これらの場合、脱水剤として作用した化合物を乾燥、脱
水し再使用することにより継続的な反応が可能である。 なお、本発明の反応は通常実質的に過酸化水素が消費さ
れるまで行われる。本発明は単一の反応器でも連続する
多槽の反応器でも、また連続的にも、非連続的にも実施
できる。更に管式の反応器でも実施することができる。
【0019】
【発明の効果】カルボニル化合物と過酸化水素からカル
ボキシル化合物を製造する方法において、本発明の触媒
を使用することにより高い反応速度でしかも高収率で、
極めて効率的にカルボキシル化合物を製造することがで
きる。
ボキシル化合物を製造する方法において、本発明の触媒
を使用することにより高い反応速度でしかも高収率で、
極めて効率的にカルボキシル化合物を製造することがで
きる。
【0020】
【実施例】次に実施例によって本発明のカルボキシル化
合物の製造例を記載するが、これは単に本発明を説明す
るためのものであり、本発明の範囲を限定するものでは
ない。
合物の製造例を記載するが、これは単に本発明を説明す
るためのものであり、本発明の範囲を限定するものでは
ない。
【0021】実施例1
攪拌機、冷却器、水分離器を付けた反応フラスコにシク
ロヘキサノン88g、ジメチルアルシン酸1gを入れ撹
拌下に90℃まで昇温した。続いて35%過酸化水素水
18.5gを3時間にわたって導入した。この間系内に
窒素ガスを吹き込み共沸により水を除去した。反応終了
後反応液を高速液体クロマトグラフィで分析したところ
16.1gのε−カプロラクトンが生成していた。過酸
化水素基準の収率は74%であった。
ロヘキサノン88g、ジメチルアルシン酸1gを入れ撹
拌下に90℃まで昇温した。続いて35%過酸化水素水
18.5gを3時間にわたって導入した。この間系内に
窒素ガスを吹き込み共沸により水を除去した。反応終了
後反応液を高速液体クロマトグラフィで分析したところ
16.1gのε−カプロラクトンが生成していた。過酸
化水素基準の収率は74%であった。
【0022】実施例2
実施例1と同じ反応フラスコにシクロヘキサノン88g
,ジメチルアルシン酸1gを入れて撹拌下に120℃ま
で昇温した。続いて60%過酸化水素水10.8gを1
時間にわたって導入した。反応後、反応液を高速液体ク
ロマトグラフィで分析したところ15.0gのε−カプ
ロラクトンが生成していた。過酸化水素基準の収率は6
9%であった。
,ジメチルアルシン酸1gを入れて撹拌下に120℃ま
で昇温した。続いて60%過酸化水素水10.8gを1
時間にわたって導入した。反応後、反応液を高速液体ク
ロマトグラフィで分析したところ15.0gのε−カプ
ロラクトンが生成していた。過酸化水素基準の収率は6
9%であった。
【0023】実施例3
実施例1と同様の反応器を使用し、シクロヘキサノン8
8g、および実施例1のジメチルアルシン酸の代わりに
ジフェニルアルシン酸1gを用い、反応温度90℃で6
0%過酸化水素水10.8gを3時間にわたって導入し
た以外は実施例1と同様にして反応を行った。反応後、
反応液を分析したところ19.8gのε−カプロラクト
ンが生成していた。過酸化水素基準の収率は91%であ
った。
8g、および実施例1のジメチルアルシン酸の代わりに
ジフェニルアルシン酸1gを用い、反応温度90℃で6
0%過酸化水素水10.8gを3時間にわたって導入し
た以外は実施例1と同様にして反応を行った。反応後、
反応液を分析したところ19.8gのε−カプロラクト
ンが生成していた。過酸化水素基準の収率は91%であ
った。
【0024】実施例4
実施例1と同様の反応器を使用し、シクロヘキサノン8
8g、および実施例1のジメチルアルシン酸の代わりに
フェニルー (4−ソディウムスルフォニルフェニル)
アルシン酸1gを用い、反応温度110℃で60%過酸
化水素水5.4gを1.5時間にわたって導入した以外
は実施例1と同様にして反応を行った。反応後、反応液
を分析したところ9.2gのε−カプロラクトンが生成
していた。過酸化水素基準の収率は85%であった。反
応液を水で抽出したところ触媒の99%以上が水相に存
在していた。
8g、および実施例1のジメチルアルシン酸の代わりに
フェニルー (4−ソディウムスルフォニルフェニル)
アルシン酸1gを用い、反応温度110℃で60%過酸
化水素水5.4gを1.5時間にわたって導入した以外
は実施例1と同様にして反応を行った。反応後、反応液
を分析したところ9.2gのε−カプロラクトンが生成
していた。過酸化水素基準の収率は85%であった。反
応液を水で抽出したところ触媒の99%以上が水相に存
在していた。
【0025】実施例5
実施例1と同様の反応器を使用し、シクロヘキサノン8
8g、および実施例1のジメチルアルシン酸の代わりに
ジヘキシルアルシン酸1gを用い、反応温度110℃で
60%過酸化水素水10.8gを1時間にわたって導入
した以外は実施例1と同様にして反応を行った。反応後
、反応液を分析したところ18.6gのε−カプロラク
トンが生成していた。過酸化水素基準の収率は86%で
あった。
8g、および実施例1のジメチルアルシン酸の代わりに
ジヘキシルアルシン酸1gを用い、反応温度110℃で
60%過酸化水素水10.8gを1時間にわたって導入
した以外は実施例1と同様にして反応を行った。反応後
、反応液を分析したところ18.6gのε−カプロラク
トンが生成していた。過酸化水素基準の収率は86%で
あった。
【0026】実施例6
実施例1と同様の反応器を使用し、シクロヘキサノン8
8g、および実施例1のジメチルアルシン酸の代わりに
ジブチルアルシン酸1gを用い、反応温度100℃で6
0%過酸化水素水10.8gを1.5時間にわたって導
入した以外は実施例1と同様にして反応を行った。反応
後、反応液を分析したところ18.0gのε−カプロラ
クトンが生成していた。過酸化水素基準の収率は83%
であった。
8g、および実施例1のジメチルアルシン酸の代わりに
ジブチルアルシン酸1gを用い、反応温度100℃で6
0%過酸化水素水10.8gを1.5時間にわたって導
入した以外は実施例1と同様にして反応を行った。反応
後、反応液を分析したところ18.0gのε−カプロラ
クトンが生成していた。過酸化水素基準の収率は83%
であった。
【0027】実施例7
実施例1と同様の反応フラスコにシクロヘキサノン60
gと酢酸28gを加え、60%過酸化水素3.6gを1
時間で導入した他は実施例1と同様にして反応を行った
。反応後、反応液を分析したところ5.6gのε−カプ
ロラクトンが生成していた。過酸化水素基準の収率は7
7%であった。
gと酢酸28gを加え、60%過酸化水素3.6gを1
時間で導入した他は実施例1と同様にして反応を行った
。反応後、反応液を分析したところ5.6gのε−カプ
ロラクトンが生成していた。過酸化水素基準の収率は7
7%であった。
【0028】実施例8
実施例3のシクロヘキサノンの代わりに2−メチルシク
ロヘキサノンを用いた以外は実施例3と同様にして反応
を行った。反応後、反応液を高速液体クロマトグラフィ
で分析したところ15.6gのラクトンが生成していた
。過酸化水素基準の収率は73%であった。
ロヘキサノンを用いた以外は実施例3と同様にして反応
を行った。反応後、反応液を高速液体クロマトグラフィ
で分析したところ15.6gのラクトンが生成していた
。過酸化水素基準の収率は73%であった。
【0029】実施例9
実施例3のシクロヘキサノンの代わりにベンズアルデヒ
ドを用いた他は実施例3と同様にして反応を行った。反
応後、反応液を高速液体クロマトグラフィで分析したと
ころ過酸化水素基準で71%の安息香酸及びフェノール
が生成していた。
ドを用いた他は実施例3と同様にして反応を行った。反
応後、反応液を高速液体クロマトグラフィで分析したと
ころ過酸化水素基準で71%の安息香酸及びフェノール
が生成していた。
Claims (8)
- 【請求項1】 カルボニル化合物と過酸化水素からカ
ルボキシル化合物を製造する方法において、触媒として
下記の一般式(1)で表されるアルシン酸類を用いるこ
とを特徴とするカルボキシル化合物の製造方法。 (ここでR1 、R2 は炭素数1から20のアルキル
基またはアリール基であり、アルキル基、アリール基の
水素が水酸基、カルボキシル基、スルホン基、アミノ基
、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン元素で置換され
ていてもよく、またR1 、R2 は同一でも異なって
いてもよい。) - 【請求項2】 触媒がジアルキルアルシン酸である請
求項1記載の製造方法。 - 【請求項3】 触媒がジアリールアルシン酸である請
求項1記載の製造方法。 - 【請求項4】 触媒がジフェニルアルシン酸である請
求項3記載の製造方法。 - 【請求項5】 触媒が少なくとも1つのアリール基に
置換基を持つジアリールアルシン酸である請求項3記載
の製造方法。 - 【請求項6】 カルボニル化合物が環状ケトンである
請求項1〜5のいずれかに記載の製造方法。 - 【請求項7】 カルボニル化合物がシクロヘキサノン
であり、カルボキシル化合物がε−カプロラクトンであ
る請求項1〜6のいずれかに記載の製造方法。 - 【請求項8】 反応中に水−シクロヘキサノン共沸混
合物の蒸留により水を反応媒体から除去し、反応媒体が
均一の相を形成するようにする請求項7に記載の製造方
法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3020505A JP3008988B2 (ja) | 1991-01-21 | 1991-01-21 | カルボキシル化合物の製造方法 |
US07/975,444 US5310944A (en) | 1991-01-21 | 1992-01-17 | Process for producing carboxylated compound |
EP92300476A EP0496562B1 (en) | 1991-01-21 | 1992-01-20 | Process for producing carboxylated compound |
CA002059689A CA2059689C (en) | 1991-01-21 | 1992-01-20 | Process for producing carboxylated compound |
DE69201803T DE69201803T2 (de) | 1991-01-21 | 1992-01-20 | Verfahren zur Produktion von carboxylierten Verbindungen. |
KR1019920000805A KR100189789B1 (ko) | 1991-01-21 | 1992-01-21 | 카르복실화 화합물의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3020505A JP3008988B2 (ja) | 1991-01-21 | 1991-01-21 | カルボキシル化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04243850A true JPH04243850A (ja) | 1992-08-31 |
JP3008988B2 JP3008988B2 (ja) | 2000-02-14 |
Family
ID=12029021
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3020505A Expired - Lifetime JP3008988B2 (ja) | 1991-01-21 | 1991-01-21 | カルボキシル化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3008988B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5686638A (en) * | 1994-09-06 | 1997-11-11 | Dsm Chemie Linz Gmbh | Process for the preparation of mono- or dicarboxylic acids from aldehydes, from their full acetals or hemiacetals or from mixtures thereof |
US8366242B2 (en) | 2009-06-29 | 2013-02-05 | Ricoh Company, Ltd. | Liquid-ejection head unit and image forming apparatus |
-
1991
- 1991-01-21 JP JP3020505A patent/JP3008988B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5686638A (en) * | 1994-09-06 | 1997-11-11 | Dsm Chemie Linz Gmbh | Process for the preparation of mono- or dicarboxylic acids from aldehydes, from their full acetals or hemiacetals or from mixtures thereof |
US8366242B2 (en) | 2009-06-29 | 2013-02-05 | Ricoh Company, Ltd. | Liquid-ejection head unit and image forming apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3008988B2 (ja) | 2000-02-14 |
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