JPH04242046A - 電子ビーム集束磁界装置 - Google Patents
電子ビーム集束磁界装置Info
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- JPH04242046A JPH04242046A JP1571891A JP1571891A JPH04242046A JP H04242046 A JPH04242046 A JP H04242046A JP 1571891 A JP1571891 A JP 1571891A JP 1571891 A JP1571891 A JP 1571891A JP H04242046 A JPH04242046 A JP H04242046A
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- JP
- Japan
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- magnetic field
- electron beam
- magnets
- field device
- beam focusing
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- Pending
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- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 4
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 abstract description 2
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- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 2
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- Microwave Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は電子ビームを集束させ
る電子ビーム集束磁界装置に関するものである。
る電子ビーム集束磁界装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図３ａは例えば実公昭４７−１０８９号
公報に示された従来の電子ビーム集束磁界装置の一例を
示す縦断面図であり、図において、１は進行波管で、こ
の進行波管１は以下の構成よりなる。すなわち、２は環
状の永久磁石、３は磁性体よりなる環状のポールピース
、４は電子ビームの径を一定の径に保つための電子ビー
ム集束磁界装置で、この電子ビーム集束磁界装置４は上
記永久磁石２とポールピース３とを交互に複数個配設し
たものである。５は電子ビームを放射する電子銃、６は
電子ビームが通過する導電体よりなる螺旋で、この螺旋
６は上記永久磁石２およびポールピース３を貫通して設
けられている。７は電子ビームを捕集するコレクタであ
る。
公報に示された従来の電子ビーム集束磁界装置の一例を
示す縦断面図であり、図において、１は進行波管で、こ
の進行波管１は以下の構成よりなる。すなわち、２は環
状の永久磁石、３は磁性体よりなる環状のポールピース
、４は電子ビームの径を一定の径に保つための電子ビー
ム集束磁界装置で、この電子ビーム集束磁界装置４は上
記永久磁石２とポールピース３とを交互に複数個配設し
たものである。５は電子ビームを放射する電子銃、６は
電子ビームが通過する導電体よりなる螺旋で、この螺旋
６は上記永久磁石２およびポールピース３を貫通して設
けられている。７は電子ビームを捕集するコレクタであ
る。
【０００３】次に動作について説明する。電子銃５によ
り放射される電子ビームは螺旋６の内側を通ってコレク
タ７に捕集される。電子ビームが細長い螺旋６内を通る
とき電子ビームの中心軸、すなわち電子ビーム集束磁界
装置４の中心軸上に図３ｂに示すような正弦波状の周期
的な軸方向磁界を生じさせる。これは磁気レンズを等間
隔に置いたことに相当し、集束レンズとして電子ビーム
の電子相互の反発による発散を抑えている。
り放射される電子ビームは螺旋６の内側を通ってコレク
タ７に捕集される。電子ビームが細長い螺旋６内を通る
とき電子ビームの中心軸、すなわち電子ビーム集束磁界
装置４の中心軸上に図３ｂに示すような正弦波状の周期
的な軸方向磁界を生じさせる。これは磁気レンズを等間
隔に置いたことに相当し、集束レンズとして電子ビーム
の電子相互の反発による発散を抑えている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の電子ビーム集束
磁界装置は以上のように構成されているので、１つの磁
界スケジュールにおいて、軸上の任意の場所における軸
上磁界の強さを変えるときには永久磁石２の磁化の量を
調整するかあるいは永久磁石２の外径を変えるなどの方
法をとっていた。しかし、前者の方法では永久磁石２が
減磁界により減磁されやすく、後者の方法では電子ビー
ム集束磁界装置４の外径寸法が変わるため、電子ビーム
集束磁界装置４のヒートシンク部材への装着に不都合が
生じるなどの問題点があった。
磁界装置は以上のように構成されているので、１つの磁
界スケジュールにおいて、軸上の任意の場所における軸
上磁界の強さを変えるときには永久磁石２の磁化の量を
調整するかあるいは永久磁石２の外径を変えるなどの方
法をとっていた。しかし、前者の方法では永久磁石２が
減磁界により減磁されやすく、後者の方法では電子ビー
ム集束磁界装置４の外径寸法が変わるため、電子ビーム
集束磁界装置４のヒートシンク部材への装着に不都合が
生じるなどの問題点があった。
【０００５】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、永久磁石材の性能を十分に生か
し、かつ軸上の任意の場所における磁界の強さを変える
ことができるようにした電子ビーム集束磁界装置を得る
ことを目的とする。
ためになされたもので、永久磁石材の性能を十分に生か
し、かつ軸上の任意の場所における磁界の強さを変える
ことができるようにした電子ビーム集束磁界装置を得る
ことを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明に係る電子ビー
ム集束磁界装置は環状の永久磁石とポールピースとを交
互に複数個配置したものであって、任意のいくつかの上
記永久磁石はその内径や厚みの少なくともいずれか一方
が異なるように形成されたものである。
ム集束磁界装置は環状の永久磁石とポールピースとを交
互に複数個配置したものであって、任意のいくつかの上
記永久磁石はその内径や厚みの少なくともいずれか一方
が異なるように形成されたものである。
【０００７】
【作用】この発明における電子ビーム集束磁界装置は永
久磁石の内径または厚さを変えることにより永久磁石の
動作点を変え、この永久磁石の外部発生磁界、すなわち
電子ビーム集束磁界装置によって生じせしめられる軸上
中心磁界を変えるようにしたものである。
久磁石の内径または厚さを変えることにより永久磁石の
動作点を変え、この永久磁石の外部発生磁界、すなわち
電子ビーム集束磁界装置によって生じせしめられる軸上
中心磁界を変えるようにしたものである。
【０００８】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図について説明
する。図１はこの発明の一実施例を示す縦断面図で、図
１において図３と同一または均等な構成部分には同一符
号を付して重複説明を省略する。図において、８，９は
電子銃５側近傍の軸上中心磁界を小さくする場合に電子
銃５側に例えば２個配置された永久磁石で、この永久磁
石８，９の内径はそれぞれ他の永久磁石２の内径と異な
る。すなわち、上記永久磁石２，８，９の内径をｄ２
，ｄ８ ，ｄ９ とすると、これらの内径にはｄ２ ＜
ｄ９ ＜ｄ８ なる関係がある。また、永久磁石２，８
，９はそれぞれが同種の永久磁石材により構成されてい
る。
する。図１はこの発明の一実施例を示す縦断面図で、図
１において図３と同一または均等な構成部分には同一符
号を付して重複説明を省略する。図において、８，９は
電子銃５側近傍の軸上中心磁界を小さくする場合に電子
銃５側に例えば２個配置された永久磁石で、この永久磁
石８，９の内径はそれぞれ他の永久磁石２の内径と異な
る。すなわち、上記永久磁石２，８，９の内径をｄ２
，ｄ８ ，ｄ９ とすると、これらの内径にはｄ２ ＜
ｄ９ ＜ｄ８ なる関係がある。また、永久磁石２，８
，９はそれぞれが同種の永久磁石材により構成されてい
る。
【０００９】１０，１１は進行波管１の中心軸、すなわ
ち電子ビームの軌道の中心軸と永久磁石８，９の中心軸
とを一致させるために設けられた非磁性体のスペーサで
、このスペーサ１０，１１は上記永久磁石８，９の内側
に嵌合される。
ち電子ビームの軌道の中心軸と永久磁石８，９の中心軸
とを一致させるために設けられた非磁性体のスペーサで
、このスペーサ１０，１１は上記永久磁石８，９の内側
に嵌合される。
【００１０】このように構成された内径寸法の異なる同
種の永久磁石材を用いた電子ビーム集束磁界装置４では
永久磁石８，９の内径を大きくすることにより永久磁石
８，９が設置される個所のパーミアンス係数を大きくす
ることができる。これにより永久磁石８，９の動作点に
おける磁界を小さくすることができ、軸上中心磁界を小
さくすることができると共に、永久磁石８，９を常に磁
気的に飽和に近い状態で動作させることができる。また
、軸上中心磁界を強くしたい場合は、永久磁石の内径を
小さくする。
種の永久磁石材を用いた電子ビーム集束磁界装置４では
永久磁石８，９の内径を大きくすることにより永久磁石
８，９が設置される個所のパーミアンス係数を大きくす
ることができる。これにより永久磁石８，９の動作点に
おける磁界を小さくすることができ、軸上中心磁界を小
さくすることができると共に、永久磁石８，９を常に磁
気的に飽和に近い状態で動作させることができる。また
、軸上中心磁界を強くしたい場合は、永久磁石の内径を
小さくする。
【００１１】なお、上記実施例では永久磁石の内径寸法
を変える場合を示したが、図２に示すように永久磁石の
厚さを変えても上記実施例と同様の効果が得られる。す
なわち、上記実施例と同様の電子銃５側に永久磁石２よ
り厚さの薄い永久磁石１２とこの永久磁石１２よりさら
に厚さの薄い永久磁石１３を２個配置することにより、
この近傍の軸上中心磁界を小さくする電子ビーム集束磁
界装置４を構成することができる。
を変える場合を示したが、図２に示すように永久磁石の
厚さを変えても上記実施例と同様の効果が得られる。す
なわち、上記実施例と同様の電子銃５側に永久磁石２よ
り厚さの薄い永久磁石１２とこの永久磁石１２よりさら
に厚さの薄い永久磁石１３を２個配置することにより、
この近傍の軸上中心磁界を小さくする電子ビーム集束磁
界装置４を構成することができる。
【００１２】このように構成された厚さの異なる同種の
永久磁石材を用いた電子ビーム集束磁界装置４では永久
磁石１２，１３の厚さＴを薄くすることにより数１の関
係から軸上中心磁界Ｂｏを小さくすることができる。
永久磁石材を用いた電子ビーム集束磁界装置４では永久
磁石１２，１３の厚さＴを薄くすることにより数１の関
係から軸上中心磁界Ｂｏを小さくすることができる。
【００１３】
【数１】
【００１４】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば電子ビー
ム集束磁界装置は環状の永久磁石とポールピースとを交
互に複数個配置したものであって、任意のいくつかの上
記永久磁石はその内径や厚みの少なくともいずれか一方
が異なるように構成されているので、軸上の任意の場所
における軸上磁界の強さを変えるときに磁化の量を調整
しないために減磁され易いという問題点は生ぜず、永久
磁石材の性能を十分に生かし、かつ軸上の任意の場所に
おける磁界の強さを変えることができ、また外径寸法は
なんら変更がないためにヒートシンク部材への装着に不
都合を生じないなどの効果がある。
ム集束磁界装置は環状の永久磁石とポールピースとを交
互に複数個配置したものであって、任意のいくつかの上
記永久磁石はその内径や厚みの少なくともいずれか一方
が異なるように構成されているので、軸上の任意の場所
における軸上磁界の強さを変えるときに磁化の量を調整
しないために減磁され易いという問題点は生ぜず、永久
磁石材の性能を十分に生かし、かつ軸上の任意の場所に
おける磁界の強さを変えることができ、また外径寸法は
なんら変更がないためにヒートシンク部材への装着に不
都合を生じないなどの効果がある。
【図１】この発明の一実施例による電子ビーム集束磁界
装置を示す縦断面図である。
装置を示す縦断面図である。
【図２】この発明に係る電子ビーム集束磁界装置の他の
実施例を示す縦断面図である。
実施例を示す縦断面図である。
【図３】図３ａは従来の電子ビーム集束磁界装置の一例
を示す縦断面図である。図３ｂは図３ａの中心軸上に生
じる正弦波状の周期的な軸方向磁界を示す波形図である
。
を示す縦断面図である。図３ｂは図３ａの中心軸上に生
じる正弦波状の周期的な軸方向磁界を示す波形図である
。
２ 永久磁石
３ ポールピース
４ 電子ビーム集束磁界装置
８ 永久磁石
９ 永久磁石
１２ 永久磁石
１３ 永久磁石
なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 【請求項１】 環状の永久磁石とポールピースとを交
互に複数個配置した電子ビーム集束磁界装置において、
上記永久磁石の任意のいくつかは内径や厚みの少なくと
もいずれか一方の形状を異ならせて形成したことを特徴
とする電子ビーム集束磁界装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1571891A JPH04242046A (ja) | 1991-01-17 | 1991-01-17 | 電子ビーム集束磁界装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1571891A JPH04242046A (ja) | 1991-01-17 | 1991-01-17 | 電子ビーム集束磁界装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04242046A true JPH04242046A (ja) | 1992-08-28 |
Family
ID=11896545
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1571891A Pending JPH04242046A (ja) | 1991-01-17 | 1991-01-17 | 電子ビーム集束磁界装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04242046A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000001206A1 (de) * | 1998-06-26 | 2000-01-06 | Thomson Tubes Electroniques Gmbh | Plasmabeschleuniger-anordnung |
| CN110137060A (zh) * | 2019-05-14 | 2019-08-16 | 中国人民解放军国防科技大学 | 永磁聚焦径向强流电子束二极管 |
-
1991
- 1991-01-17 JP JP1571891A patent/JPH04242046A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000001206A1 (de) * | 1998-06-26 | 2000-01-06 | Thomson Tubes Electroniques Gmbh | Plasmabeschleuniger-anordnung |
| US6523338B1 (en) | 1998-06-26 | 2003-02-25 | Thales Electron Devices Gmbh | Plasma accelerator arrangement |
| CN110137060A (zh) * | 2019-05-14 | 2019-08-16 | 中国人民解放军国防科技大学 | 永磁聚焦径向强流电子束二极管 |
| CN110137060B (zh) * | 2019-05-14 | 2021-06-04 | 中国人民解放军国防科技大学 | 永磁聚焦径向强流电子束二极管 |
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