JPH04239537A - 耐擦傷性を向上させた透明樹脂基板 - Google Patents
耐擦傷性を向上させた透明樹脂基板Info
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- JPH04239537A JPH04239537A JP3021487A JP2148791A JPH04239537A JP H04239537 A JPH04239537 A JP H04239537A JP 3021487 A JP3021487 A JP 3021487A JP 2148791 A JP2148791 A JP 2148791A JP H04239537 A JPH04239537 A JP H04239537A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 43
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 35
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 35
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 3
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 abstract description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 abstract 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 7
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 6
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 5
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 5
- 150000002894 organic compounds Chemical group 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021543 Nickel dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、表面の耐擦傷性を向上
させた透明樹脂基板に関するものである。
させた透明樹脂基板に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の耐擦傷性を向上させた透明樹脂基
板としては、スプレー法、ディッピング法、スローコー
ティング法等によりシリコン系ハードコート層を透明樹
脂基板上へ形成したものなどがある（特開昭５７−１７
７０２８ 号、特開昭６１−１４３４４５ 号公報）
。
板としては、スプレー法、ディッピング法、スローコー
ティング法等によりシリコン系ハードコート層を透明樹
脂基板上へ形成したものなどがある（特開昭５７−１７
７０２８ 号、特開昭６１−１４３４４５ 号公報）
。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この様
な従来の耐擦傷性を向上させた透明樹脂基板にあっては
、ハードコート層の原料が有機化合物であるため、薄膜
内部に多数のＨ、ＯＨを取り込んでおり、必ずしも透明
樹脂基板表面の耐擦傷性が向上せず、車両のウィンドゥ
の様な摩擦の激しい部分には使用できないという問題点
があった。本発明は上記問題点を解決し、耐擦傷性の優
れた透明樹脂基板を提供することを目的としている。
な従来の耐擦傷性を向上させた透明樹脂基板にあっては
、ハードコート層の原料が有機化合物であるため、薄膜
内部に多数のＨ、ＯＨを取り込んでおり、必ずしも透明
樹脂基板表面の耐擦傷性が向上せず、車両のウィンドゥ
の様な摩擦の激しい部分には使用できないという問題点
があった。本発明は上記問題点を解決し、耐擦傷性の優
れた透明樹脂基板を提供することを目的としている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は透明樹脂基板の
表面にＳｉｙ Ｎｚ （ｙ≦３、ｚ≦４）およびアモル
ファス状炭素のうちの少なくとも一種類から成る無機薄
膜が形成されていることを特徴とする透明樹脂基板に関
するものである。
表面にＳｉｙ Ｎｚ （ｙ≦３、ｚ≦４）およびアモル
ファス状炭素のうちの少なくとも一種類から成る無機薄
膜が形成されていることを特徴とする透明樹脂基板に関
するものである。
【０００５】本発明において使用可能な透明樹脂基板と
しては、ポリカーボネート、アクリルなどから成るもの
がある。透明樹脂基板の表面に形成される無機薄膜は、
真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリングなど
従来から行われている方法で形成可能であるが、特にプ
ラズマＣＶＤ 法が望ましい。プラズマＣＶＤ 法とは
、原料ガスをエネルギー密度の高いプラズマ状態中に導
入して分解させ、基板へ化学反応によって目的の材料を
被覆させる方法であり、用いる装置は通常使用されるい
ずれのものでもよく、例えば平行平板電極型、容量結合
型または誘導結合型などが使用可能である。装置内圧力
は２×１０−１Ｔｏｒｒ程度が望ましいが、１０−２〜
１Ｔｏｒｒ程度ならば差し支えない。また、電源周波数
としてはオーディオ波からマイクロ波領域まで幅広く使
用することができる。膜厚は１〜５μｍ が良く、１μ
ｍ より薄いと十分な耐擦傷性が現れず、また５μｍ
より厚いと密着性が落ちるため好ましくない。上記の無
機薄膜は、透明樹脂基板との密着性を良好にするため、
中間にプライマー層を形成して密着性を向上させること
が望ましい。この様なプライマー層としては、アクリル
系、ウレタン系、ポリエステル系コーティング剤などの
様な有機化合物から、金属、金属化合物などの様な無機
化合物まで幅広く任意のものが使用できる。プライマー
層として有機化合物を用いる場合にはスプレー法、ディ
ッピング法、スピンコーティング法などにより、また無
機化合物を用いる場合には真空蒸着法などによりプライ
マー層が形成可能である。耐擦傷性を向上させた透明樹
脂基板の評価は、ＪＩＳ Ｋ７２０４ に基づく摩耗試
験法によった。この試験方法は、５００ｇの荷重がかか
った２つの摩耗輪を基板へ接触させた後、基板を７０ｒ
ｐｍ のスピードで１０００回まで回転させて、傷が付
いた部分のヘイズ値をヘイズメーターにて測定するもの
である。こうして得られた、耐擦傷性を向上させた透明
樹脂基板は、車両用ウィンドゥガラス、ランプレンズな
どの透明部品として使用できる。
しては、ポリカーボネート、アクリルなどから成るもの
がある。透明樹脂基板の表面に形成される無機薄膜は、
真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリングなど
従来から行われている方法で形成可能であるが、特にプ
ラズマＣＶＤ 法が望ましい。プラズマＣＶＤ 法とは
、原料ガスをエネルギー密度の高いプラズマ状態中に導
入して分解させ、基板へ化学反応によって目的の材料を
被覆させる方法であり、用いる装置は通常使用されるい
ずれのものでもよく、例えば平行平板電極型、容量結合
型または誘導結合型などが使用可能である。装置内圧力
は２×１０−１Ｔｏｒｒ程度が望ましいが、１０−２〜
１Ｔｏｒｒ程度ならば差し支えない。また、電源周波数
としてはオーディオ波からマイクロ波領域まで幅広く使
用することができる。膜厚は１〜５μｍ が良く、１μ
ｍ より薄いと十分な耐擦傷性が現れず、また５μｍ
より厚いと密着性が落ちるため好ましくない。上記の無
機薄膜は、透明樹脂基板との密着性を良好にするため、
中間にプライマー層を形成して密着性を向上させること
が望ましい。この様なプライマー層としては、アクリル
系、ウレタン系、ポリエステル系コーティング剤などの
様な有機化合物から、金属、金属化合物などの様な無機
化合物まで幅広く任意のものが使用できる。プライマー
層として有機化合物を用いる場合にはスプレー法、ディ
ッピング法、スピンコーティング法などにより、また無
機化合物を用いる場合には真空蒸着法などによりプライ
マー層が形成可能である。耐擦傷性を向上させた透明樹
脂基板の評価は、ＪＩＳ Ｋ７２０４ に基づく摩耗試
験法によった。この試験方法は、５００ｇの荷重がかか
った２つの摩耗輪を基板へ接触させた後、基板を７０ｒ
ｐｍ のスピードで１０００回まで回転させて、傷が付
いた部分のヘイズ値をヘイズメーターにて測定するもの
である。こうして得られた、耐擦傷性を向上させた透明
樹脂基板は、車両用ウィンドゥガラス、ランプレンズな
どの透明部品として使用できる。
【０００６】
【実施例】以下、実施例をあげて本発明を具体的に説明
するが、本発明は下記実施例に制限されるものではない
。
するが、本発明は下記実施例に制限されるものではない
。
【０００７】実施例１
図１は実施例１の工程を示す図である。まず、ポリカー
ボネートからなる透明樹脂基板１をイソプロピルアルコ
ール等で脱脂した後に純水でリンスして窒素ブロー乾燥
させた。続いてこの透明樹脂基板１の表面にアクリルポ
リマーからなる有機化合物（ＰＨ９１、東芝シリコン社
製、商標名） をディッピング法により塗布してプライ
マー層２を２μｍ 形成した。この後平行平板型プラズ
マＣＶＤ 装置（電源周波数１３．５６ＭＨｚ） にセ
ットして排気した後、基板温度を１００ ℃まで上げて
脱ガスを行った。真空度が１０−５Ｔｏｒｒに到達した
ら、基板温度を室温にしてから原料ガスＳｉＨ４、Ｎ２
を装置内に導入して圧力を２×１０−１Ｔｏｒｒに設定
したら、プラズマを発生させてＳｉ３Ｎ４ からなる無
機超硬薄膜３を３μｍ 形成した。この様にして得られ
た、耐擦傷性を向上させた透明樹脂基板をＪＩＳ Ｋ７
２０４ に基づく摩耗試験法により評価した結果表１に
示すようにヘイズ値で５．２ ％であった。
ボネートからなる透明樹脂基板１をイソプロピルアルコ
ール等で脱脂した後に純水でリンスして窒素ブロー乾燥
させた。続いてこの透明樹脂基板１の表面にアクリルポ
リマーからなる有機化合物（ＰＨ９１、東芝シリコン社
製、商標名） をディッピング法により塗布してプライ
マー層２を２μｍ 形成した。この後平行平板型プラズ
マＣＶＤ 装置（電源周波数１３．５６ＭＨｚ） にセ
ットして排気した後、基板温度を１００ ℃まで上げて
脱ガスを行った。真空度が１０−５Ｔｏｒｒに到達した
ら、基板温度を室温にしてから原料ガスＳｉＨ４、Ｎ２
を装置内に導入して圧力を２×１０−１Ｔｏｒｒに設定
したら、プラズマを発生させてＳｉ３Ｎ４ からなる無
機超硬薄膜３を３μｍ 形成した。この様にして得られ
た、耐擦傷性を向上させた透明樹脂基板をＪＩＳ Ｋ７
２０４ に基づく摩耗試験法により評価した結果表１に
示すようにヘイズ値で５．２ ％であった。
【０００８】実施例２
無機薄膜として、実施例１のＳｉ３Ｎ４ のかわりに原
料ガスＣＨ４ 、Ｈ２を使用してアモルファス状炭素（
ａ−ｃ） を２μｍ 形成した。他の工程は実施例１と
同様である。この様にして得られた、耐擦傷性を向上さ
せた透明樹脂基板をＪＩＳ Ｋ７２０４ に基づく摩耗
試験法により評価した結果、表１に示すようにヘイズ値
で２．２ ％であった。
料ガスＣＨ４ 、Ｈ２を使用してアモルファス状炭素（
ａ−ｃ） を２μｍ 形成した。他の工程は実施例１と
同様である。この様にして得られた、耐擦傷性を向上さ
せた透明樹脂基板をＪＩＳ Ｋ７２０４ に基づく摩耗
試験法により評価した結果、表１に示すようにヘイズ値
で２．２ ％であった。
【０００９】実施例３
プライマー層として実施例１のアクリルポリマーのかわ
りに金属酸化物であるＮｉＯ を用いた。具体的には洗
浄の終わった透明樹脂基板を真空蒸着装置へセットした
後に１０−２Ｔｏｒｒまで排気した。続いてＮｉ金属を
抵抗加熱により蒸発させると同時にＯ２ガスを装置内に
導入することによってＮｉＯ を形成した。この後、実
施例１と同様にＳｉ３Ｎ４ を３μｍ 形成した。この
様にして得られた、耐擦傷性を向上させた透明樹脂基板
をＪＩＳ Ｋ７２０４ に基づく摩耗試験法により評価
した結果、表１に示すようにヘイズ値で４．３ ％であ
った。
りに金属酸化物であるＮｉＯ を用いた。具体的には洗
浄の終わった透明樹脂基板を真空蒸着装置へセットした
後に１０−２Ｔｏｒｒまで排気した。続いてＮｉ金属を
抵抗加熱により蒸発させると同時にＯ２ガスを装置内に
導入することによってＮｉＯ を形成した。この後、実
施例１と同様にＳｉ３Ｎ４ を３μｍ 形成した。この
様にして得られた、耐擦傷性を向上させた透明樹脂基板
をＪＩＳ Ｋ７２０４ に基づく摩耗試験法により評価
した結果、表１に示すようにヘイズ値で４．３ ％であ
った。
【００１０】実施例４
透明樹脂基板として実施例２のポリカーボネートのかわ
りにアクリルを用いた他は実施例２と同様にして耐擦傷
性を向上させた透明樹脂基板を得た。この様にして得ら
れた、上記透明樹脂基板をＪＩＳ Ｋ７２０４ に基づ
く摩耗試験法により評価した結果、表１に示すようにヘ
イズ値で２．８ ％であった。
りにアクリルを用いた他は実施例２と同様にして耐擦傷
性を向上させた透明樹脂基板を得た。この様にして得ら
れた、上記透明樹脂基板をＪＩＳ Ｋ７２０４ に基づ
く摩耗試験法により評価した結果、表１に示すようにヘ
イズ値で２．８ ％であった。
【００１１】実施例５
透明樹脂基板として実施例１のポリカーボネートのかわ
りにポリエステルを用いた他は実施例１と同様にして耐
擦傷性を向上させた透明樹脂基板を得た。この様にして
得られた、上記透明樹脂基板をＪＩＳ Ｋ７２０４ に
基づく摩耗試験法により評価した結果、表１に示すよう
にヘイズ値で３．８ ％であった。
りにポリエステルを用いた他は実施例１と同様にして耐
擦傷性を向上させた透明樹脂基板を得た。この様にして
得られた、上記透明樹脂基板をＪＩＳ Ｋ７２０４ に
基づく摩耗試験法により評価した結果、表１に示すよう
にヘイズ値で３．８ ％であった。
【００１２】比較例１
ポリカーボネート基板上へプライマー層としてアクリル
ポリマー（ＰＨ９１ 、東芝シリコン社製、商標名）を
スプレー法により１．２５μｍ 形成した上に、表面硬
化層として東芝シリコン社製トスガード５１０ （固形
分コロイダル状シリカ、メチルシリセスキシロキサン、
溶剤エタノール、イソブタノール、セロソルプアセテー
ト）を流し塗り法により９μｍ 形成した。この様にし
て得られた、耐擦傷性を向上させた透明樹脂基板をＪＩ
Ｓ Ｋ７２０４ に基づく摩耗試験法により評価した結
果、表１に示すようにヘイズ値で１３．０％であった。
ポリマー（ＰＨ９１ 、東芝シリコン社製、商標名）を
スプレー法により１．２５μｍ 形成した上に、表面硬
化層として東芝シリコン社製トスガード５１０ （固形
分コロイダル状シリカ、メチルシリセスキシロキサン、
溶剤エタノール、イソブタノール、セロソルプアセテー
ト）を流し塗り法により９μｍ 形成した。この様にし
て得られた、耐擦傷性を向上させた透明樹脂基板をＪＩ
Ｓ Ｋ７２０４ に基づく摩耗試験法により評価した結
果、表１に示すようにヘイズ値で１３．０％であった。
【００１３】
【００１４】
【発明の効果】本発明によれば、透明樹脂基板上へＳｉ
ｙ Ｎｚ （ｙ≦３、ｚ≦４）、アモルファス状炭素等
の無機薄膜を形成することにより、優れた耐擦傷性を有
する透明樹脂基板が得られるという効果がある。
ｙ Ｎｚ （ｙ≦３、ｚ≦４）、アモルファス状炭素等
の無機薄膜を形成することにより、優れた耐擦傷性を有
する透明樹脂基板が得られるという効果がある。
【図１】実施例１の耐擦傷性を向上させた透明樹脂基板
の製造工程を示した系統図である。
の製造工程を示した系統図である。
１ 透明樹脂基板
２ プライマー層
３ 無機超硬薄膜
Claims (1)
- 【請求項１】 表面にＳｉｙ Ｎｚ （ｙ≦３、ｚ≦
４）およびアモルファス状炭素のうち少なくとも一種類
から成る無機薄膜が形成されていることを特徴とする透
明樹脂基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3021487A JPH04239537A (ja) | 1991-01-23 | 1991-01-23 | 耐擦傷性を向上させた透明樹脂基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3021487A JPH04239537A (ja) | 1991-01-23 | 1991-01-23 | 耐擦傷性を向上させた透明樹脂基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04239537A true JPH04239537A (ja) | 1992-08-27 |
Family
ID=12056336
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3021487A Pending JPH04239537A (ja) | 1991-01-23 | 1991-01-23 | 耐擦傷性を向上させた透明樹脂基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04239537A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002100927A3 (de) * | 2001-06-09 | 2003-11-20 | Markus Seibel | Verfahren zur stabilisierung von permeationshemmenden schichten auf kunststoffteilen |
| US6756464B2 (en) * | 2001-01-24 | 2004-06-29 | Bayer Aktiengesellschaft | Two-component polyurethane binders as primers |
-
1991
- 1991-01-23 JP JP3021487A patent/JPH04239537A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6756464B2 (en) * | 2001-01-24 | 2004-06-29 | Bayer Aktiengesellschaft | Two-component polyurethane binders as primers |
| WO2002100927A3 (de) * | 2001-06-09 | 2003-11-20 | Markus Seibel | Verfahren zur stabilisierung von permeationshemmenden schichten auf kunststoffteilen |
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