JPH0423316A - 現像装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は半導体製造プロセスや光メモリーのマスタリン
グに用いられる現像装置に関する。

［従来の技術］ 従来から、半導体の製造プロセスや光メモリーのマスタ
リングにおいては、ウェハやガラス原盤上に塗布したレ
ジストをレーザー光等の光で感光させたのち、第８図に
示すようにターンテーブル上にウェハまたはガラス原盤
を載せ、ターンテーブルを回転させながら、一定温度の
現像液をガラス原盤上に吐出する現像装置が用いられて
きた。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、従来の現像装置は光メモリーのマスタリ
ングにおけるレーザーカッティング工程で、レーザーパ
ワーに面内変動が生じた場合、その面内パワー変動がそ
のまま現像上がりの特性に面内変動として反映され、結
果として面内の均一性を保つことができないという問題
点を有していた。また、現像条件が面内で均一であると
いう前提のもとでは、光メモリーのマスタリングにおけ
るレーザーカッティングで多用される角速度一定（回転
数一定）のレーザーカッティングにおいては、ガラス原
盤の内周側より外周側のほうが線速度が大きいため、カ
ッティング条件を面内で一定に保つには、レーザーパワ
ーが線速度に比例した値になるように制御しなければな
らないという問題点を有していた。

そこで本発明はこのような課題を解決しようとするもの
で、その目的とするところは、ウェハやガラス原盤の感
光面の現像上がりの面性状が均一となるように現像する
ことのできる現像装置を安価に提供するところにある。

［課題を解決するための手段］ 本発明の現像装置は半導体製造プロセスや光メモリーの
マスタリングに用いられる現像装置において、複数の現
像液液温調節機構を有し、現像液吐出口が１つまたは複
数であって、該吐出口の各々から吐出される現像液が温
度勾配を有することを特徴とする。

［作用コ 本発明の現像装置によれば、現像液吐出口の現像液の液
温分布を制御することによって現像能力の面内分布を制
御することができるから、レーザーカッティング時のレ
ーザーパワーの面内変動を打ち消すように現像を行い、
面内で均一な性状の現像上がり品を得ることができる。

［実施例］ 以下に、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。

第１図において、ガラス原盤１はターンテーブル２上に
固定されており、ターンテーブル２の回転に伴って回転
する。現像液吐８０４から現像液９がガラス原盤１上に
滴下され、レジスト層３が現像される。現像液はチャン
バー５から分配バイブロａ〜６ｅを通って液温調節器７
ａ〜７ｅに分配される。チャンバー５は厳密な室温制御
がなされた室温環境中に設置されるか、チャンバー自体
が温度調節機構を有し、現像液の温度を一定に保ってい
る。分配バイブロａ〜６ｅに分配される現像液は全て同
一温度、同一濃度である。分配バイブロａ〜６ｅを通っ
た現像液は、温度調節器７ａ〜７ｅに入って液温の制御
を受ける。液温制御方法は、ヒーターとクーラーの組合
せによるものが一般的であるが、ヒーターのみまたは、
クーラーのみであってもある程度の制御は可能である。

温度調節器７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄ及び７ｅはそれぞれ
独立した温度調節器であって、温度の設定は、独立に行
うことができる。液温の調節を受けた現像液は連絡バイ
ブ８ａ〜８ｅを通って吐出口４に達し、ガラス原盤１上
に吐出現像液９として滴下される。現像液９は吐出口４
で混合し合っているため、現像時のａ−ｅの現像液の温
度分布は連続した緩やかなものとなる。

第２図に、レーザーカッティング時にレーザーパワーが
カッティング対象物の面内で変動した例を示す。この場
合、半径位置が変化するにつれてレーザーパワーが変動
している。内周Ａからカッティングを開始し、外周に行
くに従ってレーザーパワーが小さくなり、Ｂを過ぎて、
Ｃで極小を示し、Ｃを過ぎると増大し始め、外周に行く
にしたがって大きくなる。点Ａ−Ｅがそれぞれ第１図の
レジスト層３における点ａ−ｅに対応するとすれば、第
１図のレジスト層３の中では、点Ｃが受けたレーザーパ
ワーが最も小さいことになる。従来の現像装置で、第２
図のようにカッティングされたレジスト付きガラス原盤
を現像した場合、全面が同一現像条件で現像されるため
、現像後の面性状は、不均一になってしまう。第２図点
Ｃ付近の溝やビットは点Ａや点Ｅ付近の溝やビットに較
べて、細くなってしまう現象が起こるのである。特にカ
ッティング時のレーザーパワーを通常より小さくして、
レジスト層の厚さよりも浅い溝やビットを形成する場合
、レーザーパワーのわずかな変動が溝やビットの形状に
大きな影響を及ぼすため、所望の溝やビットの形状を形
成するためには、レーザーカッティング時のレーザーパ
ワーの管理が大きな課題となっていた。こういったレー
ザーパワーの変動が生じた場合、第３図のように現像液
の現像能力を半径位置に応じて変動させることによって
、均一な面性状のスタンバを得ることができる。一般的
に現像液は、現像最適温度で使用する事が原則であり、
液温か最適温度から外れると現像能力が落ちる。従って
、第３図の様な現像能力の分布を得るためには、第４図
に示したように、点Ｃが現像最適温度アとなり、レーザ
ーパワーが大きい場所はど現像最適温度から外れるよう
に現像液の液温を管理すれば良いのである。このように
現像液の温度分布をカッティング時のレーザーパワーの
分布に応じて制御することによって、厳密にビット及び
グループの幅、形状、深さを制御することが可能となる
。

また、カッティング時の回転数制御方法には、線速度一
定に保つ方法と角速度一定（回転数−定）に保つ方法が
ある。線速度一定でカッティングする方法は、セクター
マーク等の信号をカッティングするには同期をとる技術
が複雑になる反面、カッティングレーザーパワーが一定
でよいという面を有する。音楽用のコンパクトディスク
はこの方式でカッティングしている。これに対して、角
速度一定でカッティングする方法は、セクターマーク等
の信号をカッティングする場合の同期は容易にとること
ができるが、内周側より外周側の方が線速度が大きいた
め、第５図に示すようにカッティングレーザーパワーを
線速度に比例した値に制御する必要がある。このように
カッティングレーザーパワーを漸増させる制御をするに
は、複雑な制御系が必要になる。そこで、角速度一定で
カッティングする場合、レーザーパワーを一定に保ちな
がら面内で均一な面性状を得るために、第６図に示すよ
うな現像方法をとると良い。すなわち、現像液の現像能
力を外周に向かうほど高くするのである。レーザーパワ
ーを一定に保ちながら角速度一定でレーザーカッティン
グされたレジスト付きガラス原盤は、外周へ向かうほど
照射された実質レーザーパワーが小さくなっているから
、第６図に示したような現像方法をとることによって、
面内均一性を有する現像上がりのガラス原盤を得ること
ができる。

第７図に本発明の現像装置の他の実施例を示す。

現像液はチャンバー５からバイブ１０を通って液温調節
器１１ａ〜ｌｌｅに分配される。液温調節器１１ａ〜１
１ｅは吐出口４の直前に設置し、吐出する現像液の経路
を短くする。こうすることによって、液温調節器によっ
て液温調節された現像液の温度が変動しにくくなる。こ
の方式は特に、現像する環境温度が変化し易い場合に適
している。

［発明の効果コ 以上述べた本発明の現像装置によれば、レーザーカッテ
ィング時のレーザーパワー変動に起因する面内不均一を
なくすことができる上、角速度−定でレーザーカッティ
ングする場合に、線速に応じたレーザーパワー制御を行
う必要がなくなるため、レーザーカッティング装置のレ
ーザーパワー制御装置を簡単なものにすることができる
。光メモリーのマスタリングにおけるレーザーカッティ
ング装置のコストは非常に大きく、レーザーパワーの制
御装置を簡単なものにすることができると、レーザーカ
ッティング装置のコストを低く抑えることができるから
、マスタリングにかかるコストを大幅に削減することが
可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の現像装置の構成図。 第２図は、カッティング中のカッティングレーザーパワ
ーの変動を表す模式図。 第３図は、現像液の現像能力の半径位置に対する分布を
表す模式図。 第４図は、現像液の温度の半径位置に対する分布を表す
模式図。 第５図は、角速度一定時のカッティングレーザーパワー
と半径位置の関係を表す模式図。 第６図は、角速度一定時の現像液の現像能力と半径位置
の関係を表す模式図。 第７図は、本発明の現像装置の液温調節器を吐出口近く
に置いた場合の模式図。 第８図は、従来の現像装置を表す模式図。 ガラス原盤 ４　ａ〜４　　ｅ　　−−−−−−−−−６ａ〜６　　
ｅ　　−−−−−−−−−７ａ〜７　ｅ　　−−−−−
−一−− ８ａ〜８　ｅ　　−−−−−−−−− ９ａ〜９　　ｅ　　−−−−−−−−−１１ａ〜　１　
１　　ｅ　　−−− ターンテーブル レジスト層 現像液吐出口 チャンバー 分配バイブ 液温調節器 連絡バイブ 吐出現像液 バイブ 液温調節器 現像液吐出口 呂願人　セイコーエプソン株式会社 代理人　弁理士　鈴木　喜三部（他１名）ｖ４１１！１ 径 位 置 第２図 要＠警Ｃ要縫雪Ｆ ト 要 肇 制 鴨 郵 Ｂ 半 径 位 置 第５図 半 径 位 置 第７図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　半導体製造プロセスや光メモリーのマスタリングに用
   いられる現像装置において、複数の現像液液温調節機構
   を有し、現像液吐出口が１つまたは複数であって、該吐
   出口の各々から吐出される現像液が温度勾配を有するこ
   とを特徴とする現像装置。