JPH0420965A - フォトマスク洗浄装置 - Google Patents
フォトマスク洗浄装置Info
- Publication number
- JPH0420965A JPH0420965A JP2126187A JP12618790A JPH0420965A JP H0420965 A JPH0420965 A JP H0420965A JP 2126187 A JP2126187 A JP 2126187A JP 12618790 A JP12618790 A JP 12618790A JP H0420965 A JPH0420965 A JP H0420965A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask
- cleaning
- cleaning solution
- purified water
- rotating
- Prior art date
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- Pending
Links
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 5
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Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体装置の製造プロセスに於いて使用される
フォトマスク洗浄装置に間する。
フォトマスク洗浄装置に間する。
従来、フォトマスクに付着した塵や汚れを除去するフォ
トマスク洗浄装置は、洗浄槽内に溜めた洗浄液内にフォ
トマスクを浸漬するが、あるいは洗浄液をフォトマスク
上に供給しブラシでフォトマスクの表面をこすり、塵や
汚れを除去し、次で乾燥処理室内にフォトマスクを移動
させ蒸気乾燥を行うように構成されていた。
トマスク洗浄装置は、洗浄槽内に溜めた洗浄液内にフォ
トマスクを浸漬するが、あるいは洗浄液をフォトマスク
上に供給しブラシでフォトマスクの表面をこすり、塵や
汚れを除去し、次で乾燥処理室内にフォトマスクを移動
させ蒸気乾燥を行うように構成されていた。
この従来のフォトマスク洗浄装置では、洗浄後から乾燥
を行うまでに、フォトマスクに付着している残液をすば
やく完全に除去することができないため、付着していた
残液によりしみ状の汚れを発生させ、フォトマスクに光
の透過率を部分的に低下させる欠陥を生じさせていた。
を行うまでに、フォトマスクに付着している残液をすば
やく完全に除去することができないため、付着していた
残液によりしみ状の汚れを発生させ、フォトマスクに光
の透過率を部分的に低下させる欠陥を生じさせていた。
このなめ、このフォトマスクを半導体装置の製造におけ
るパターン形成工程に使用した場合、パターン形成の異
常を発生させ、半導体装置の歩留及び品質低下を招いて
いた。
るパターン形成工程に使用した場合、パターン形成の異
常を発生させ、半導体装置の歩留及び品質低下を招いて
いた。
この発明の目的は、かかる従来技術の欠点を除去し、残
液による汚れの発生のないフォトマスク洗浄装置を提供
することにある。
液による汚れの発生のないフォトマスク洗浄装置を提供
することにある。
本発明のフォトマスク洗浄装置は、フォトマスクを保持
し回転させるための手段と、前記フォトマスク上に洗浄
液を供給するための手段とを含んで構成される。
し回転させるための手段と、前記フォトマスク上に洗浄
液を供給するための手段とを含んで構成される。
この発明のフォトマスク洗浄装置は、フォトマスクを回
転させてその遠心力を利用し塵や汚れの除去、液切り及
び乾燥をすばやく行なうことができるため、フォトマス
クに洗浄液の残液によるしみ状の汚れが残るのをなくす
ことができる。
転させてその遠心力を利用し塵や汚れの除去、液切り及
び乾燥をすばやく行なうことができるため、フォトマス
クに洗浄液の残液によるしみ状の汚れが残るのをなくす
ことができる。
次に本発明について図面を用いて説明する。
第１図はこの発明の第１の実施例の断面図である。
第１図において、フォトマスク洗浄装置は、処理室３内
に純水供給ノズル１．洗浄液供給ノズル２、フォトマス
ク保持台５及びフォトマスク支持台５に回転力を伝達す
る回転軸６を有し、この回転軸６にはモーター７が連結
されている。フォトマスク保持台５に保持されたフォト
マスク４は、モーター７からの回転力を回転軸６より伝
達されて回転し、洗浄液供給ノズル２又は純水供給ノズ
ル１から洗浄液又は純水をフォトマスクに噴射すること
でフォトマスクの洗浄を行ない、洗浄完了後直ちに洗浄
液及び純水の供給を停止しフォトマスクの回転により素
早く液切りと乾燥ができる機能を有している。
に純水供給ノズル１．洗浄液供給ノズル２、フォトマス
ク保持台５及びフォトマスク支持台５に回転力を伝達す
る回転軸６を有し、この回転軸６にはモーター７が連結
されている。フォトマスク保持台５に保持されたフォト
マスク４は、モーター７からの回転力を回転軸６より伝
達されて回転し、洗浄液供給ノズル２又は純水供給ノズ
ル１から洗浄液又は純水をフォトマスクに噴射すること
でフォトマスクの洗浄を行ない、洗浄完了後直ちに洗浄
液及び純水の供給を停止しフォトマスクの回転により素
早く液切りと乾燥ができる機能を有している。
第２図は本発明の第２の実施例の断面図である。
第２の実施例では第１図で説明したフォトマスク洗浄装
置にブラシ８を追加したものであり、洗浄液又は純水液
を使用すると同時に、ブラシ８を用いてフォトマスク４
の表面をブラッシングする機能を有している。従ってフ
ォトマスク４の洗浄はより効果的に行なえるという利点
がある。
置にブラシ８を追加したものであり、洗浄液又は純水液
を使用すると同時に、ブラシ８を用いてフォトマスク４
の表面をブラッシングする機能を有している。従ってフ
ォトマスク４の洗浄はより効果的に行なえるという利点
がある。
以上説明したように本発明によれば、フォトマスクを回
転させその遠心力を利用し塵や汚れの除去、液切り及び
乾燥をすばやく行うことができるため、洗浄液の残液に
よるしみ状の汚れの発生をなくすことができるという効
果を有する。
転させその遠心力を利用し塵や汚れの除去、液切り及び
乾燥をすばやく行うことができるため、洗浄液の残液に
よるしみ状の汚れの発生をなくすことができるという効
果を有する。
第１図及び第２図は本発明の第１及び第２の実施例の断
面図である。
面図である。
Claims (1)
- フォトマスクを保持し回転させるための手段と、前記
フォトマスク上に洗浄液を供給するための手段とを含む
ことを特徴とするフォトマスク洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2126187A JPH0420965A (ja) | 1990-05-16 | 1990-05-16 | フォトマスク洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2126187A JPH0420965A (ja) | 1990-05-16 | 1990-05-16 | フォトマスク洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0420965A true JPH0420965A (ja) | 1992-01-24 |
Family
ID=14928851
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2126187A Pending JPH0420965A (ja) | 1990-05-16 | 1990-05-16 | フォトマスク洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0420965A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008241069A (ja) * | 2007-03-26 | 2008-10-09 | Mitsubishi Electric Corp | 空気調和装置 |
-
1990
- 1990-05-16 JP JP2126187A patent/JPH0420965A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008241069A (ja) * | 2007-03-26 | 2008-10-09 | Mitsubishi Electric Corp | 空気調和装置 |
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