JPH04207128A - 植物栽培装置 - Google Patents

植物栽培装置

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JPH04207128A
JPH04207128A JP33805790A JP33805790A JPH04207128A JP H04207128 A JPH04207128 A JP H04207128A JP 33805790 A JP33805790 A JP 33805790A JP 33805790 A JP33805790 A JP 33805790A JP H04207128 A JPH04207128 A JP H04207128A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light radiation
plant
plants
cultivation
wavelength
Prior art date
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Pending
Application number
JP33805790A
Other languages
English (en)
Inventor
Kimitoshi Horaguchi
洞口 公俊
Masaaki Morita
森田 政明
Katsusuke Murakami
村上 克介
Ichiro Aiga
相賀 一郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP33805790A priority Critical patent/JPH04207128A/ja
Priority to US07/801,689 priority patent/US5269093A/en
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は人工光源の光放射によって野菜などの植物を栽
培装置に関するものであム 従来の技術 光放射強度をはじ敢 温皮 湿度、気流条件、CO2濃
嵐 水分、養分、等の成育環境条件を人工的に有効適切
に制御して、野菜などの植物を高品質、高効取 安定に
栽培・生産すゑ いわゆる植物工場の研究開発が近蝦 
活発化U 一部では実用化されていも 植物工場の光放
射の供給方式として(戴 完全自然利用方丈 自然光と
人工光を併用したハイブリッド光方丈 完全人工光利用
方式があム 高品質、高効風 安定に野菜などの植物を
栽培・生産するという植物工場の目的に適合させるため
にζよ より完全に成育環境制御の下で栽培を図る方式
が望ましく、光放射の供給方式としても、  完全人工
光利用方式の採用が理想的であム 人工光源としては一
般凶 メタルハライドランプ、高圧ナトリウムランプ、
蛍光ランス 等が単洩 あるいは組合わせて使用されて
いる力交 生体監 乾物重といった物質生産効率に重点
が置かれ 茎几葉の大きさ・形次 草丈 葉/茎の重量
比 等の植物の形態形成は考虜されていな(〜 発明が解決しようとする課題 自然環境への依存から脱却して、人工環境の下で植物を
工業製品と同じように高品質・安定に生産することを目
的とした植物工場において、栽培・生産植物の高品質と
安定生産に加えて、光放射環境を人工的に制御すること
によって、茎五 葉の大きさ・形状 草丈 葉/茎の重
量比 等の植物の形態形成を任意にコントロールするこ
とができれば 例えは 葉面積を小さ(抑制し厚みの厚
い葉をもったしおれにくい葉菜類を生産することによっ
て遠距離の長時間輸送に有利となる。また人工光源に近
接させる状態で、光源からの光放射を高効率に利用しな
がら栽培空間を高密度に利用するうえでは 草丈を抑制
した燐化栽培が有効であり、さらに 葉が大きく柔らか
な葉菜類の生産は病人食として有効であム 本発明は従
来の植物の光合成による物質生産に加え 形態形成を付
加した高付加価値の植物を栽培できる装置を提供するこ
とを目的としていも 課題を解決するための手段 前記課題を解決するため本発明は 植物の光合成に関与
するP A R(Photosyntheticall
y Acti−veRadiation、光合成有効光
放射)、即ち400〜700nmの波長域を主波長とす
る光放射に 植物の光形態形成に関与する遠赤色光放射
 即ち700〜800nlIlの波長域を主波長とする
光放射を付加し それぞれの光放射強度を任意に調節す
ることができることを特徴とした植物栽培装置である。
作用 前記構成によれは 植物の物質生産を制御する光合成の
観点からみて有効であるとされるPAR光放射源のみの
光放射環境の下での成育に比ベア00〜800nmの波
長域を有する遠赤色光放射源からの照射に基づく光形態
形成作用によって植物の部間や葉脈の伸長が促進される
。このた&  PAR光放射源および遠赤色光放射源か
らの光放射強度を任意に調整し 遠赤色光放射の付加状
態を制御することによって、植物の茎の伸長・燐化や葉
の大きさ・形状 草丈、葉/茎の重量比 等を人工的に
コントロールすることができ、植物の目的・用途に応じ
た高付加価値の植物の栽培・生産が可能となム 実施例 以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明すも 第1
図は本発明の植物栽培装置の一実施例を示していも 風洞型グロースキャビネットl内には栽培室2と空気を
循環させるための風洞3が設けられ ファン4によって
空気が循環されるとともに風速が調整されも 温度調整
手段5、湿度調整手段6、COa濃度調整手段7が設け
られ グロースキャビネット1内の温工 湿@  Co
tが調整されも前記栽培室2内の上方にはP A R(
Photosynt−hetically Activ
e Radiation、光合成有効光放射)、即ち4
00〜700nmの波長域を主波長とする複数本のPA
R照射用蛍光ランプ8aおよび遠赤色光放射即ち700
〜800nmの波長域を主波長とする複数本の遠赤色光
放射照射用蛍光ランプ8bが水平且つ並列に配設されて
おり、PAR照射用蛍光ランプおよび遠赤色光放射照射
用蛍光ランプは個々個別に点滅および調光できるように
なっている。またこれら蛍光ランプ8aおよび8bの下
方には保水性を備えた栽培ベット9が配設されている。
栽培ベット9には点滴方式で所要量の培養液が供給され
 栽培ベット9に栽培された植物に水分と養分が供給さ
れも 次に 上記装置4基を用いて植物栽培を行った実験例に
つき説明すも 栽培植物Aとして、 7年間継続して隔離栽培され 遺
伝的な均一性が確保されたヒマワリ(Heli−ant
hus Annus L、cV Ru5sian Ma
nmoth)の種子を発芽させ、第2図の点線で示す分
光分布特性をもつPAR照射用3波長域発光形蛍光ラン
プの下で育苗した 子葉が充分に展開し 第3稟 第4
葉が展開しつつある播種8日目の均一な幼植物を用いた
 4基のグロースキャビネット1内には各々、第2図の
点線で示す分光分布特性をもつPAR照射用3波長域発
光形55W蛍光ランプのみ4本配設、同じく前記PAR
照射用3波長域発光形55W蛍光うンプ4本に加え 第
2図の実線で示す遠赤色光放射照射用20W蛍光ランプ
を1末 5木 9本を配設し九 な耘 遠赤色光照射用
20W蛍光ランプを付加しないランプ配設場所に!! 
 20W蛍光ランプを黒色画用紙で覆ったランプを配設
し 各々のグロースキャビネットの温度均一性が確保さ
れるよう配慮し九 各々のキャビネット内の光放射環境
条件を第1表に示す。ランプはいずれも24時間連続点
灯し 気温は25′t−相対湿度は70%に制御し九 
また栽培は培養液(大球ハウス1号 2号標準濃度培養
液)を用いた水耕法とじ九 さらに根圏にはエアーポン
プにより空気を供給した 実験結果を示すと第2表のようになa 葉面積は 遠赤
色光放射処理区C,Dで処理開始6日目以降 有意な増
加がみられた また茎長(よ 遠赤色蛍光ランプの付加
本数の増加に従って、 3日目には処理区C,Dで有意
に増加した 処理日数がすすむにつれて、遠赤色光放射
を付加しない場合との差は拡大し 処理区Cで(よ 8
日目には遠赤色光放射を付加しない処理区Aの2.6倍
へ 処理区つでは3.6倍以上に伸長した 第3図に1
よ 茎の伸長状態を示すために 赤色光放射処理開始8
日目=おける各処理区の胚軸瓜 第1間節玉 第2間1
玉 茎五 植物長を積層してグラフに示し島黒塗りつぶ
しの先端が茎長を示し 棒グラフの売場は植物高を示も
 第1間節玉 第2間節几 茎t 植物高ともに遠赤色
光放射の処理区α Dは人きく伸長し九 発明の効果 前記構成によれC′L  植物の物質生産を制御する光
合成の観点からみて有効であるとされるPAR光放射源
のみの光放射環境の下での成育に比べ00〜800nm
の波長域を有する遠赤色光放射源からつ照射に基づく光
形態形成作用によって植物の節用や葉脈の伸長が促進さ
れも このた、&  PAR光放射源および遠赤色光放
射源からの光放射強度?任意に調整し 遠赤色光放射の
付加状態を制御することによって、植物の茎の伸長・燐
化や葉のスきさ・形机 草丈 葉/茎の重量比 等を人
工勺にコントロールすることができ、植物の目的・用途
に応じた高付加価値の植物の栽培・生産が可能となり、
その効果は犬なるものであム
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の栽培装置の概略側面医 第
2図は同栽培装置を用いた植物の成育実験に用いたPA
R照射用3波長域発光形蛍光ランプおよび遠赤色光照射
用蛍光ランプの分光分布特性医 第3図は光放射環境が
異なるグロースキャビネット(処理区)での茎の伸長具
合を示す図であa 8a・・・・PAR照射用光源8b・・・・遠赤色光放
射照射用先爪 9・・・・栽培ベット、A・・・・植悦
代理人の氏名 弁理士 小鍜治 明 ほか2名(vs 
−ut−u−)7s w )  *H¥Xつ6.921
4(i  5 手続補正書け1 、発明の名称 植物栽培装置 3補正をする者 事件との関係      特   許   出   願
   大佐 所  犬販府門真市大字門真1006番地
名 称 (582)松下電器産業株式会社代表者   
 谷  井  昭  雄 4代理人 〒571 住 所  大阪府門真市太字門真1006番地松下電器
産業株式会社内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)植物の光合成に関与する400〜700nmの波
    長域を主波長とする光放射(PAR)に、植物の光形態
    形成に関与する遠赤色光放射(700〜800nmの波
    長域を主波長とする)を付加し、それぞれの光放射強度
    を任意に調節することを特徴とする植物栽培装置。
  2. (2)PAR光放射源および遠赤色光放射源を配設し、
    その両者の光放射強度の比を光量子束密度比、660±
    5nm/730±5nmの値で15.0〜0.1、66
    0〜700nm/700〜800nmの値で7.0〜0
    .5、400〜700nm/700〜800nmの値で
    22.0〜1.0の間でPAR光放射源および遠赤色光
    放射源を個々に点滅および調光可能とすることを特徴と
    する植物の栽培装置。
JP33805790A 1990-11-30 1990-11-30 植物栽培装置 Pending JPH04207128A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33805790A JPH04207128A (ja) 1990-11-30 1990-11-30 植物栽培装置
US07/801,689 US5269093A (en) 1990-11-30 1991-12-02 Method and apparatus for controlling plant growth with artificial light

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JPH04207128A true JPH04207128A (ja) 1992-07-29

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012191854A (ja) * 2011-03-15 2012-10-11 National Agriculture & Food Research Organization 植物苗の病害虫防除設備
CN110545657A (zh) * 2017-02-07 2019-12-06 普瑞瓦控股有限公司 用于栽培作物的方法和装置
JP2021052671A (ja) * 2019-09-30 2021-04-08 シャープ株式会社 照明装置、植物への光照射設備及び植物への光照射方法

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