JPH04178601A - Grating array and production thereof - Google Patents
Grating array and production thereofInfo
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Landscapes
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
技術分野
この発明は、グレーティング・アレイおよびその製造方
法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to grating arrays and methods of manufacturing the same.
従来技術とその問題点
グレーティングの性質は、グレーティングの形状１周期
、高さ、屈折率、光の波長等によって定まる。たとえば
光の回折角はグレーティングの周期と入射する光の波長
によって定まる。また回折効率は、グレーティングの屈
折率、高さおよび入射する光の波長の関数で表わされる
。Prior art and its problems The properties of a grating are determined by the shape of the grating, its period, height, refractive index, wavelength of light, etc. For example, the diffraction angle of light is determined by the period of the grating and the wavelength of the incident light. Diffraction efficiency is also expressed as a function of the grating's refractive index, height, and wavelength of incident light.
従来のグレーティング作製法の１つとして電子ビーム描
画法を用いたものがある。基板上に塗布された電子ビー
ム・レジストを電子ビーム描画によってバターニングす
るから、電子ビームの制御によりグレーティングの形状
および周期を制御Ａることができる。グレーティングの
屈折率は電子ビーム・レジストの種類によ−）で定まる
。グレーティングの高さ（厚さ、または深さ）は電子ビ
ーム・レジストの厚さによって決まる。最大回折効率ま
たは所望の回折効率を得ようとするためには電子ビーム
・レジストの厚さを制御しなければならない。複数種類
のグレーティングをもつグレーティング・アレイを考え
、これらの複数のグレーティングにおいて回折効率をそ
れぞれ異なる値としたい場合には電子ビーノ、・レジス
トの厚さをそれぞれ異なる値とし、なければならないの
で、従来の電子ビーム描画ではそのようなグレーティン
グ・アｌノイを作製することは非常に困難である。One of the conventional grating manufacturing methods uses an electron beam lithography method. Since the electron beam resist coated on the substrate is patterned by electron beam writing, the shape and period of the grating can be controlled by controlling the electron beam. The refractive index of the grating is determined by the type of electron beam resist. The height (thickness or depth) of the grating is determined by the thickness of the electron beam resist. The thickness of the electron beam resist must be controlled in order to obtain maximum or desired diffraction efficiency. If you are considering a grating array with multiple types of gratings and want to set the diffraction efficiency to different values for these multiple gratings, you will need to set the resist thickness to different values for each of these gratings. It is very difficult to fabricate such a grating alloy using electron beam lithography.
発明の概要
発明の目的
この発明は１周期および高さがそれぞれ異なる複数のグ
レーティングか一基板上に形成されたグレーティング・
アレイおよびそれを比較的容易に作製できる製造方法を
提供することを１−］的２−七−る。Summary of the Invention Purpose of the Invention The present invention provides a method for producing a plurality of gratings with different periods and heights, or a grating formed on one substrate.
The object of the present invention is to provide an array and a manufacturing method that allows the array to be produced relatively easily.
発明の構成１作用および効果
この発明によるグし・−ティ〉グ・アレイは、一基板上
に複数のグレーディング傾城を有Ｌ−１ご第１らのグレ
ーティング領域には周期および高さか異なるグレーティ
ングがそれぞれ形成されていることを特徴とする。Structure of the Invention 1 Functions and Effects The grating array according to the present invention has a plurality of grading slopes on one substrate, and the first and second grating regions have gratings with different periods and heights. They are characterized by the fact that they are formed respectively.
グレーティングの回折角はグ１ノーティングの周期によ
って定まる。グレーティジグ・アレイ十、の複数のグレ
ーティングの周期か異な−）でいるので、グレーティン
グごとに四ゼｉ角を異なら七ることかできる。また、グ
１ノーティングの回折効率はグ１．・−ティングの高さ
（深さまたは厚さというときもある）によって定まる。The diffraction angle of the grating is determined by the period of the grating noting. Since the gratings in the grating jig array have different periods, it is possible to have seven different angles for each grating. In addition, the diffraction efficiency of G1 noting is G1. - Determined by the height (sometimes called depth or thickness) of the ting.
グレーティング・アＩノイ上の複数のグレーティングの
高さか異なっているので、グレーティングごとに回折効
率を異ならせることかできる。このようにして、所望の
回折角と回折効率をもつ複数のグレーティングを一基板
トにもつグレーティング・アレ・イか得られる。Since the heights of the plurality of gratings on the grating are different, the diffraction efficiency can be made different for each grating. In this way, a grating array having a plurality of gratings with desired diffraction angles and diffraction efficiencies on one substrate can be obtained.
この発明によるグレーティング・アレイの製造方法は、
グレ−ティングの周期および高さか異なる複数のグレ−
ティング原盤を用意し、−上記複数のグレーティング原
盤を組合せることによりグレーティング・アレイ原盤を
作製し、」−記グレーティング・アレイ原盤を型として
スタンパを作製し、上記スタンパと基板との間にエネル
ギ照射により硬化する材料を充填し、エネルギを照射し
て上記液状材料を硬化させることにより１周期および高
さの異なる複数のグレーティングを有するグレーティン
グ・アレイを形成し、その後、上記グレーティング・ア
レイを上記スタンパから分離することを特徴とする。The method for manufacturing a grating array according to the present invention includes:
Multiple gratings with different periods and heights
A grating array master is prepared by combining the plurality of grating masters, and a stamper is manufactured using the grating array master as a mold, and energy is irradiated between the stamper and the substrate. A grating array having a plurality of gratings with one period and different heights is formed by filling the liquid material with a material that hardens by applying energy and hardening the liquid material. Characterized by separation.
エネルギ照射により硬化する液状材料には、光硬化性ま
たは熱硬化性の樹脂、たとえば紫外線（ＵＶ）硬化樹脂
がある。液状とはゲル状も含む。エネルギ照射により硬
化する他の液状材料には、たとえば熱硬化性無機材料を
挙げることかできる。熱硬化性無機材料の例としては、
熱硬化性膜形成用塗布液を挙げることができる。多くの
種類の塗布液があるが、焼成後膜形成物としてＺｒ０ｐ
、 Ｔｉｏ２． ＡｚｙＯ，、ＳｉＯ２等を含むも
のが好適である。Liquid materials that are cured by energy irradiation include photocurable or thermosetting resins, such as ultraviolet (UV) cured resins. Liquid state also includes gel state. Other liquid materials that can be cured by energy irradiation include, for example, thermosetting inorganic materials. Examples of thermosetting inorganic materials include:
Examples include coating liquids for forming thermosetting films. There are many types of coating liquids, but Zr0p is used as a film-forming product after firing.
, Tio2. Those containing AzyO, SiO2, etc. are suitable.
この発明によると、所望のグレーティング周期および高
さをもつ複数種類のグレーティング原盤さえあらかしめ
作製してお（ｊば、それらを組合せてグレーティング・
アレイ原盤を容易に作製できる。そして１ グレーティ
ング・アレイ原盤からスタンパの作製も比較的容易に可
能である。グレーティング・アレイのスタンパさえ作製
すれば１ そのスタンパによって形状か定まるグレーテ
ィング・アレイを比較的容易に量産することができるよ
うになる。このようにして、この発明によると、所望の
回折角と回折効率をもつ複数のグレーティングからなる
グレーティング・アレイを容易に得ることかできるよう
になる。According to this invention, a plurality of types of grating masters with desired grating periods and heights are even prepared in advance (if they are combined, the gratings and
Array masters can be easily produced. 1. It is also relatively easy to manufacture a stamper from a grating array master. Once a stamper for a grating array is manufactured, it becomes possible to relatively easily mass-produce a grating array whose shape is determined by the stamper. In this manner, according to the present invention, a grating array consisting of a plurality of gratings having a desired diffraction angle and diffraction efficiency can be easily obtained.
実施例の説明
第１図はこの発明によるグレーティング・ア１ノイの実
施例を示すもので、グレーティング・アレイの斜視図で
ある。DESCRIPTION OF EMBODIMENTS FIG. 1 shows an embodiment of a grating array according to the present invention, and is a perspective view of a grating array.
グレーティング・アレイ６はガラス基板８十に４つのグ
レ−ティング領域］、 Ａ ＝ ４ Ａを有し、ている
６、グレーティング領域１Ａ〜４Ａに１；ｌそれぞれグ
レーティング９か形成さ才１ている。グレーアイ〉グ領
域１Ａへ４Ａごとにグレーティシタ９の高さ１．および
周期ｄが異なっている。The grating array 6 has four grating regions A=4 A on a glass substrate 80, and one grating 9 is formed on each of the grating regions 1A to 4A. The height of the gray center 9 is 1.5 mm every 4 A to the gray eye area 1A. and the period d is different.
グレーティング素子による１次回折角θは入射光の波長
をλとすると次式で表わさ第１る。The first-order diffraction angle θ by the grating element is expressed by the following equation, where λ is the wavelength of the incident light.
Ｓｉｎθ：λ／４ ・ （１）
またグレ−ティング素子の１次回折効率Ｐ１は次式で表
わされる３、
１） ニー （Ｊ、（２Ｋｌｌ） ・・
・（２）■
ここで、Ｊ＋は１次のベッセル関数、には結合係数であ
り１次式で与えられる。Sinθ:λ/4 ・ (1)
In addition, the first-order diffraction efficiency P1 of the grating element is expressed by the following formula.3.1) Knee (J, (2Kll)...
・(2)■ Here, J+ is a linear Bessel function, and is a coupling coefficient given by a linear equation.
）（＝πΔｎ／’λ
但し、Δｎはグレーティング９の屈折率とグレ−ティン
グ・アレイ６が置かれる雰囲気中（たとえば空気）の屈
折率との差である。) (=πΔn/'λ where Δn is the difference between the refractive index of the grating 9 and the refractive index of the atmosphere (for example, air) in which the grating array 6 is placed.
第１図に示１グレーティング・アレイ６はグレーティン
グ領域ＩＡ〜４Ａごとにクレー＝’ｆイ：−グ周期ｄお
よび高さ１、か異なるので、グ１．−ｉイレグ・アレイ
６に光を入射することによりそイ１それのグレーティン
グ領域１Ａ〜４Ａご己に第（１）式を満足する１次回折
角および第（２）式をｌする１次回折効率の１次回折光
か得られる６、第１図に示すグレーディング・アし・イ
６は以下のようにして作製さねる。In the grating array 6 shown in FIG. 1, each grating area IA to 4A has a clay period d and a height 1 different from each other. -i By inputting light into the primary array 6, the first-order diffraction angle that satisfies the equation (1) and the first-order diffraction efficiency that satisfies the equation (2) for the grating regions 1A to 4A of the grating region 1 The grading assembly 6 shown in FIG. 1 is produced as follows.
０製しようとするグしノーティング・アレイ６の各グレ
ーティング領域ＩＡへ４Ａのグｌ／−ｆイ二グ周期ｄお
よびグレーティングの高さ１．に対応したグレーティン
グ原盤１〜４を電子ビーム描画法により作製する。具体
的には、カラス基板７土に電ｒビーム・レジストを塗布
し、このレジスト」−にグレ−ティシタのパターンを電
子ヒームにより描画後、現象することにより、カラス基
板７上にグＬ／−ティンクとなる残膜１ノジストをもつ
原盤１〜４を作製する（第２１ｇｌ （Ａ） ）。電子
ビーム・レジストの厚さによってグレーティシタの高さ
を、電子ビーム描画パターンによってグレーティングの
周期をそれそ才１制御することができる。For each grating area IA of the noting array 6 to be manufactured, apply a grating l/-f of 4A to the grating period d and the grating height 1. Grating masters 1 to 4 corresponding to the above are manufactured by electron beam lithography. Specifically, an electric r-beam resist is applied to the glass substrate 7, and a grating pattern is drawn on this resist using an electronic beam. Master disks 1 to 4 having one residual film that will become a tink are prepared (21st gl (A)). The height of the grating resistor can be controlled by the thickness of the electron beam resist, and the period of the grating can be controlled by the electron beam writing pattern.
グレーティング原盤１〜４を接着等により貼り白わせる
ことによって、１枚のグレーティング・アレイｈｐ盤５
を作製する（第２図（Ｂ））。このとき、接着のために
共通の基板を用いてもよい。By pasting and whitening the grating master discs 1 to 4 using adhesive etc., one grating array HP disc 5 is created.
(Fig. 2(B)). At this time, a common substrate may be used for bonding.
次にこのグレーティング・アレイ原盤５上に電鋳法によ
りニッケル（Ｎ１）を堆積させ、その後グレーティング
・アレイ原盤５を離ずことによりニラゲル製スタンパを
得る。Next, nickel (N1) is deposited on this grating array master 5 by electroforming, and then the grating array master 5 is removed to obtain a Nilagel stamper.
続いてガラス基板か用意される３、このガラス基板士に
グレーティングの材料であるＬＩＶ（紫列線）硬化樹脂
を滴下し、その上にニッケル・スタンバを乗ぜ、ガラス
基板とニッケル・スタンバとの開の間隔が所定値となる
ように、ガラス基板とスタンパとの間に圧力を加え、ま
た必要ならば振動を与える。Next, a glass substrate is prepared. 3. LIV (violet line) hardened resin, which is the grating material, is dropped onto the glass substrate, a nickel stumper is placed on top of it, and the glass substrate and nickel stumper are separated. Pressure is applied between the glass substrate and the stamper so that the distance between them becomes a predetermined value, and vibration is applied if necessary.
ガラス基板の裏面から紫外線を照射し、Ｕ■硬化樹脂を
硬化させる。Ultraviolet rays are irradiated from the back side of the glass substrate to cure the U■curing resin.
Ｕ■硬化樹脂が硬化したのちスタンパを剥離する。これ
により第１図に示すようにガラス基板８」二に複数のグ
レーティンク゛軸域１Ａ〜４Ａか形成さ狛たグレーティ
ング・アレイ６か得られる。U■ After the cured resin is cured, peel off the stamper. As a result, as shown in FIG. 1, a grating array 6 in which a plurality of grating axis regions 1A to 4A are formed on a glass substrate 8 is obtained.
第３図はグレーティング・アレイを複写機に用いられる
原稿サイズ判別装置の原稿サイズ判別用フォトセンサに
応用した例を示すもので、投写機全体の一部切欠き斜視
図である。FIG. 3 shows an example in which the grating array is applied to a photosensor for determining document size in a document size determining device used in a copying machine, and is a partially cutaway perspective view of the entire projector.
第３図において、捨写機１０の内部の適所に原稿サイズ
判別用フォトセン′＋ｊ２０が配置されている。In FIG. 3, a photosen 20 for determining the size of an original is placed at a suitable location inside the copying machine 10. As shown in FIG.
複写機１０はその上面がカラス板１１で覆オ＞ ｉｌ、
、 、 このガラス板１１上の所定位置に１種々のジ
イズの袴写すべき原稿ｊ２か置かれる。フォトセンサ２
０はガラス板１１上の原稿１２か置かれる場所内の異な
る位置Ｐ 、Ｐ 、Ｐ 、Ｐｄに向って複数（こ
の実施ａ ｂ ｃ
例て１４４個）の光ビームを投射し、そのガラス板１１
または原稿１２からの反射光を受光することによって、
原稿サイズを判別する。または判別のための検知信号を
出力する。The top surface of the copying machine 10 is covered with a glass plate 11.
, , At a predetermined position on this glass plate 11, a manuscript j2 to be copied with one of various Japanese costumes is placed. Photo sensor 2
0 projects a plurality of light beams (for example, 144 beams in this embodiment) toward different positions P , P , P , and Pd in the place where the original 12 is placed on the glass plate 11 .
Or by receiving reflected light from the original 12,
Determine the original size. Or output a detection signal for discrimination.
原稿サイズ判別用フォトセンサ２０の構成例か第４図に
示されている。フォトセン→ノー２０はケース２９を有
し、このケース２９内にマルチビーム光源２１゜結像レ
ンズ２２および受光素子アレイ２３が配置、固定されて
いる。An example of the configuration of the photosensor 20 for determining document size is shown in FIG. The photosen→no 20 has a case 29, in which a multi-beam light source 21, an imaging lens 22, and a light receiving element array 23 are arranged and fixed.
マルチビーム光源２１は、投光器２４とその上方に配置
され、投光器２４の出射光から４つの１次回折光生成し
、これらの回折光をそれぞれ異なる位置に向けて投射す
るグレーティング・アレイ２５とから構成される。投光
器２４は第５図に示すように発光ダイオード３０と発光
ダイオード３ｅからの出射光をコリメート光とするコリ
メート・レンズ３１とから構成される。グレーティング
・アレイ２５は第１図に示すものと異なり、グレーティ
ングの高さと周期が互いに異なる４つのグレーティング
領域がほぼ一列上に配列されているものである。The multi-beam light source 21 is composed of a projector 24 and a grating array 25 disposed above the projector 24, which generates four first-order diffracted lights from the light emitted from the projector 24 and projects these diffracted lights to different positions. Ru. As shown in FIG. 5, the projector 24 is composed of a light emitting diode 30 and a collimating lens 31 that collimates the light emitted from the light emitting diode 3e. The grating array 25 differs from the one shown in FIG. 1 in that four grating regions having different grating heights and periods are arranged substantially in a line.
受光素子アレイ２３は多くの受光素子を備えている。こ
の実施例では４個の受光素子のみが用いられる。もちろ
ん受光素子アレイ２３には使用する個数の受光素子のみ
を配列し、でもよいのはいうまでもない。結像レンズ２
２は、後述するように、上記回折光の主に原稿１２から
の拡散反射光（乱反射光）を対応する受光素子上に結像
させるためのものである。ケース２９の上面には、マル
チビーム光源２１および結像レンズ２２の上方の位置に
それぞれ可視光カットフィルタ２６． ２７か設けられ
ている。The light receiving element array 23 includes many light receiving elements. In this embodiment, only four light receiving elements are used. Of course, it goes without saying that only the number of light receiving elements to be used may be arranged in the light receiving element array 23. Imaging lens 2
As will be described later, reference numeral 2 is for focusing the diffracted light, mainly the diffusely reflected light (diffusely reflected light) from the original 12, onto the corresponding light receiving element. On the upper surface of the case 29, visible light cut filters 26 are provided above the multi-beam light source 21 and the imaging lens 22, respectively. There are 27 locations.
グレーティング・アレイ２５を用いて、投光器２４の出
射光ビームを回折してほぼ一列状に配列された光ビーム
・スポットＰ 、Ｐ 、Ｐ 、Ｐｄをａ
ｂ ｃ
カラス板１１上に形成することかできる。これらの光ビ
ーム・スポットの位置は１判別すべき複数の異なるサイ
ズの原稿をその反射光の糾合せに基づいて判別できるよ
うに、複数種類の原稿の一辺の間に決められる。Using the grating array 25, the light beam emitted from the projector 24 is diffracted to form light beam spots P , P , P , and Pd arranged approximately in a line.
b c It can be formed on the glass plate 11. The positions of these light beam spots are determined between one side of a plurality of types of originals so that a plurality of different sizes of originals to be discriminated can be discriminated based on the combination of their reflected lights.
第５図から第７図は上記のフォトセンサ２０を用いて原
稿サイズを判別するための原理を示すものである。FIGS. 5 to 7 show the principle of determining the document size using the photosensor 20 described above.
上述したように、投光器２４から出射されたコリメート
光はグレーティング・アレイ２５によって４つの回折光
に分割されて、適当な面積のビーム・スポットＰ −
Ｐ、をもってガラス板１１または原稿１２に照射される
。As described above, the collimated light emitted from the projector 24 is divided into four diffracted lights by the grating array 25, and a beam spot P- of an appropriate area is formed.
The glass plate 11 or original 12 is irradiated with P.
原稿１２に照射された光は、第６図に示すように、原稿
１２によって拡散的に反射される。すなわぢ、原稿１２
上のスポットの輝度はどの方向からみてもほぼ一定であ
る。これに対して、ガラス板１１の表面および裏面にお
ける反射は鏡面反射に近く、第７図に示すように、入射
角αと等しい反射角αをもつ反射光（正反射光）の成分
が大きくなる。The light irradiated onto the original 12 is diffusely reflected by the original 12, as shown in FIG. Sunawaji, manuscript 12
The brightness of the upper spot is almost constant from any direction. On the other hand, reflection on the front and back surfaces of the glass plate 11 is close to specular reflection, and as shown in FIG. 7, the component of reflected light (regularly reflected light) with a reflection angle α equal to the incident angle α becomes large. .
受光素子アレイ２３は、ガラス面１１からの正反射光を
受光しない位置に配置される。これにより、受光素子ア
レイ２３の４個の受光素子ＰＤ 〜ＰＤｄは原稿１２
からの拡散光を検出てきることになる。The light receiving element array 23 is arranged at a position where it does not receive specularly reflected light from the glass surface 11. As a result, the four light receiving elements PD to PDd of the light receiving element array 23 are connected to the original 12.
This means that the diffused light from the rays can be detected.
結像レンズ２２は、原稿１２からの微弱な拡散光を集光
し、各ビーム・スポットＰ、Ｐｂ、ｐｃ。The imaging lens 22 focuses the weak diffused light from the original 12 into beam spots P, Pb, and pc.
Ｐ、からの拡散反射光を受光素子アレイ２３のそれぞれ
対応する受光素子ＰＤ 、ＰＤ、、ＰＤｃ。The diffusely reflected light from P is transmitted to the corresponding light receiving elements PD, PD, PDc of the light receiving element array 23.
ＰＤ、上に結像させる働きをする。PD, functions to form an image on top.
原稿サイズに応して４つの光ビーム・スポットＰ、〜Ｐ
、からの拡散反射光のうち受光素子によって受光される
ものと受光されないものがあるのでこれにより複数種類
の原稿サイズを判別することができる。すなわち、受光
素子ＰＤ 〜ＰＤｄの受光信号を適当なしきい値でレ
ベル弁別することにより得られる２値信号の組合せに基
づいて原稿サイズの判別ができる。Four light beam spots P, ~P depending on the document size
Since some of the diffusely reflected light from , is received by the light-receiving element and some is not, it is possible to discriminate between multiple types of document sizes. That is, the document size can be determined based on a combination of binary signals obtained by level-discriminating the light reception signals of the light receiving elements PD to PDd using an appropriate threshold value.
ビーム・スポットＰ −Ｐ、の位置の変更またはビー
ム・スポットの数を増加させることにより多くの種類の
大きさの判別が可能となる。By changing the positions of the beam spots P-P or increasing the number of beam spots, it becomes possible to discriminate many types of sizes.
第１図はグレーティング・アレイの斜視図である。
第２図（Ａ）および（Ｂｌ はグレーティング・アレイ
の製造工程の一部を示すものである。
第３図は複写機内に原稿サイズ判別用フォトセンサが内
蔵されている様子を示す一部切欠き斜視図である。
第４図は原稿サイズ判別用フォトセンサの構成を示す一
部切欠き拡大斜視図である。
第５図から第７図は原稿サイズ判別原理を示すもので、
第５図は投光、受光光学系の構成図、第６図は原稿面か
らの拡散反射の様子を示す図、第７図はガラス面からの
正反射の様子を示す図である。
１〜４・・・グレーティング原盤。
ＩＡ〜４Ａ・・・グレーティング領域。
５・・・グレーティング・アレイ原盤。
６・・・グレーティング・アレイ。
９・・・グレーティング。
以 上FIG. 1 is a perspective view of a grating array. Figures 2 (A) and (Bl) show part of the manufacturing process of the grating array. Figure 3 is a partial cutout showing the photo sensor for document size determination built into the copying machine. It is a perspective view. FIG. 4 is an enlarged partially cutaway perspective view showing the configuration of a photosensor for determining document size. FIGS. 5 to 7 show the principle of determining document size.
FIG. 5 is a block diagram of the light projection and light receiving optical system, FIG. 6 is a diagram showing the state of diffuse reflection from the document surface, and FIG. 7 is a diagram showing the state of specular reflection from the glass surface. 1 to 4... Grating master. IA-4A... grating area. 5...Grating array master. 6...Grating array. 9...Grating. that's all
Claims (2)
れらのグレーティング領域には周期および高さが異なる
グレーティングがそれぞれ形成されているグレーティン
グ、アレイ。(1) A grating or array having a plurality of grating regions on one substrate, each of which has gratings with different periods and heights.
グレーティング原盤を用意し、 上記複数のグレーティング原盤を組合せることによりグ
レーティング・アレイ原盤を作製し、上記グレーティン
グ・アレイ原盤を型としてスタンパを作製し、 上記スタンパと基板との間にエネルギ照射により硬化す
る材料を充填し、 エネルギを照射して上記液状材料を硬化させることによ
り、周期および高さの異なる複数のグレーティングを有
するグレーティング・アレイを形成し、 その後、上記グレーティング・アレイを上記スタンパか
ら分離する、 グレーティング・アレイの製造方法。(2) preparing a plurality of grating masters with different grating periods and heights, producing a grating array master by combining the plurality of grating masters, and manufacturing a stamper using the grating array master as a mold; A grating array having a plurality of gratings with different periods and heights is formed by filling a material that is hardened by energy irradiation between the stamper and the substrate, and hardening the liquid material by irradiating energy, A method for manufacturing a grating array, the method comprising: thereafter separating the grating array from the stamper.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30616590A JPH04178601A (en) | 1990-11-14 | 1990-11-14 | Grating array and production thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30616590A JPH04178601A (en) | 1990-11-14 | 1990-11-14 | Grating array and production thereof |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04178601A true JPH04178601A (en) | 1992-06-25 |
Family
ID=17953831
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30616590A Pending JPH04178601A (en) | 1990-11-14 | 1990-11-14 | Grating array and production thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04178601A (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1990
- 1990-11-14 JP JP30616590A patent/JPH04178601A/en active Pending
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