JPH04174510A - 電子ビーム露光装置用静電偏向器の製造方法 - Google Patents

電子ビーム露光装置用静電偏向器の製造方法

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JPH04174510A
JPH04174510A JP30171990A JP30171990A JPH04174510A JP H04174510 A JPH04174510 A JP H04174510A JP 30171990 A JP30171990 A JP 30171990A JP 30171990 A JP30171990 A JP 30171990A JP H04174510 A JPH04174510 A JP H04174510A
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cylinder
electrostatic deflector
deflector
electrodes
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JP30171990A
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Yoshihisa Daikyo
義久 大饗
Hiroshi Yasuda
洋 安田
Juichi Sakamoto
坂本 樹一
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [概要] 電子ビーム露光装置用静電偏向器の製造方法に関し、 位置精度の低下及び強度の低下を招くことなく電極数の
増加を図り、電子ビーム像のぼけのない高精度の露光を
行うことができる電子ビーム露光装置用静電偏向器を得
ることができるようにすることを目的とし、 絶縁体からなる円筒の内面に電極材料からなる円筒を接
着し、この電極材料からなる円筒を軸方向に沿って、か
つ、電子ビームの軌道からは前記絶縁体からなる円筒が
見えないように複数個に切断し、残った切断片を電極と
する。
[産業上の利用分野] 本発明は、LSI製造工程などにおいて使用される電子
ビーム露光装置に使用される静電偏向器の製造方法に関
する。
[従来の技術] 従来、電子ビーム露光装置として第8図にその要部を示
すようなものが提案されている。
図中、1は電子銃であって、この電子銃1は、カソード
電極2、グリッド電極3、アノード電極4を設けて構成
されている。
また、5は電子ビーム、6は電子ビーム5を矩形に成形
する矩形成形アパーチャ、7は光軸、8は矩形成形され
た電子ビーム5を収束する電磁レンズ、9は可変矩形成
形用の偏向器、10は電子ビーム5を平行ビーム化する
電磁レンズである。
また、11はブロックマスク(ステンシルマスク)であ
って、このブロックマスク11は、第9図にその平面図
を示すように、基板12に種々の透過パターン(ブロッ
クパターン)13を形成して構成されている。なお、第
10図は、ブロックマスク11の断面図である。
また、第8図において、14はブロックマスク11に形
成されているブロックパターン13中、所望のブロック
パターンの選択を行うマスク偏向部であって、このマス
ク偏向部14は静電偏向器からなる4個の偏向器15〜
18を設けて構成されている。ζこに、電子ビーム5は
、偏向器15によって、選択されたブロックパターン1
3の方向に偏向された後、偏向器16によって垂直方向
に偏向されて、選択されたブロックパターン13を通過
する。このブロックパターン13を通過した電子ビーム
5は、偏向器17によって光軸7に向かって偏向された
後、偏向器18によって光軸7上に乗せられる。
また、19は平行ビーム化された電子ビーム5を収束す
る電磁レンズ、20は電子ビーム5の遮断、通過を制御
するブランキング電極、21は縮小レンズ、22は絞り
アパーチャ、23.24は投影レンズ、25は電磁偏向
器からなる主偏向器(メインデフレクタ)、26は静電
偏向器からなる副偏向器(サブデフレクタ)、27は試
料、例えば、ウェハ、28は試料ステージである。
ところで、ブロックマスク11に形成すべきブロックパ
ターン13は、製作方法、試料面までのレンズの縮小率
等の関係から1個あたり数百μm角の大きさとなる。し
たがって、ブロックパターン13の選択に必要な電子ビ
ームの偏向量は、ブロックマスク11に形成されるブロ
ックパターン13の数にもよるが、数mm角となる。こ
こに、本発明者は、かつて、この電子ビーム5の偏向を
偏向効率の良い電磁偏向器で行っていた。しかしながら
、かかる電磁偏向器を使用すると、コイルのインダクタ
ンス、渦電流の影響等で、コイルの応答時間は数百μ秒
となってしまい、このため、スルーブツトの向上を図る
ことができないという問題点があった。そこで、本発明
者は、ブロックパターン13の選択につき、電磁偏向器
に代わり、静電偏向器を導入し、ブロックパターン13
の選択に要する時間を数μ秒に高速化した。
第11図及び第12図は、かかる従来の静電偏向器を示
す中央縦断端面図及び平面図である0図中、29は電極
、30はその内面をメツキされた絶縁性の円筒部材、3
1は電極29を固定するための電極固定部材であって、
電極29は、ネジ32によって電極固定部材31に固定
されている。ここに、円筒部材30の内面に施されてい
るメツキはいわゆるチャージアップを防止するためのも
ので、あり、通常は接地電位とされる。そこで、円筒部
材30と電極2つとは接触しない精成とされている。な
お、31Aは位置決め用の溝である。
[発明が解決しようとする課題] ところが、このように、ブロックパターン13の選択に
つき、第11図(第12図)従来例の静電偏向器を採用
すると、即ち、マスク偏向部14において、偏向器15
〜18を第11図(第12図)従来例の静電偏向器で精
成すると、試f427上に形成される電子ビーム像にぼ
けが発生してしまうことが判明した。ここに、電子ビー
ム5は、1段目、4段目の偏向器15.18を通過する
場合は、光軸7の近辺を通過するが、2段目、3段目の
偏向器16.17を通過する場合には、光軸7からかな
り離れた部分、即ち、電界が不均一になっている部分を
通過する場合がある。本発明者による実験の結果、電子
ビーム像のぼけは、このように、電子ビーム5が偏向器
16.17における電界不均一の部分を通過する場合に
発生していることが判明した。また、かかる電子ビーム
像のぼけは、電子ビーム5が副偏向器26中、その光軸
から離れた部分を通過する場合においても発生している
ことが判明した。
かかる電子ビーム像のぼけを回避し、高精度の露光を行
うためには、少なくとも、マスク偏向部14の2段目、
3段目の偏向器16.17及び副偏向器26における電
界の均一化が必要となるが、このための方法としては、
対向する電極の間隔を大きくするか、又は、電極数を増
やして各電極に細かく電位を与える方法が考えられる。
しかしながら、対向する電極の間隔を大きくする方法は
、電子ビーム露光装置の大型化や偏向効率の低下を招い
てしまうため適当でない。そこで、電極数を増やすこと
が適当であり、例えば、マスク偏向部14についていえ
ば、1段目、4段目の偏向器15.18を8極、2段目
、3段目の偏向器16.17を16極又は32極にする
ことが1つの方法として考えられる。
しかしなIら、このようにすると、マスク偏向部だけで
も48本又は80本の電極が必要になり、これを、第1
1図、第12図に示すように、電極29をネジ32によ
って電極固定部材31に固定するという従来の静電偏向
器で行おうとすると、組み立てだけでも相当な時間を要
してしまう、また、特に、反射電子、散乱電子等が電極
に当たることによる電極の汚れをクリーニングしなけれ
ばならないが、この場合の分解、組み立ては大変な作業
になってしまう。
また、第11図(第12図)従来例の静電偏向器におい
て、電極数を増やす場合には、電極29を細くし、かつ
、ネジ32を小型化しなければならないが、このように
すると、位置精度の低下及び強度の低下を招いてしまう
このように、第11図(第12図)従来例の静電偏向器
は、電子ビーム像のぼけを回避し、高精度の露光を行う
ことから要請される電極数の増加に応えることができな
いという問題点があった。
本発明は、かかる点に鑑み、位置精度の低下及び強度の
低下を招くことなく電極数の増加を図り、電子ビーム像
のぼけのない高精度の露光を行うことができる電子ビー
ム露光装置用静電偏向器を得ることができるようにした
電子ビーム露光装置用静電偏向器の製造方法を提供する
ことを目的とする。
[課題を解決するための手段] 1Lへi吸 本発明中、第1の発明による電子ビーム露光装置用静電
偏向器の製造方法は、絶縁体からなる円筒の内面に電極
材料からなる円筒を接着し、この電極材料からなる円筒
を軸方向に沿って、かつ、電子ビームの軌道からは前記
絶縁体からなる円筒が見えないように複数個に切断し、
残った切断片を電極とする工程を含んで電子ビーム露光
装置用静電偏向器を製造するというものである。
11匹匹夫 率発明中、第2の発明による電子ビーム露光装置用静電
偏向器の製造方法は、絶縁体からなる第1の円筒の内面
に、その一端部の内径を他の部分の内径よりも大きく形
成された電極材料からなる第2の円筒を接着し、この第
2の円筒を軸方向に沿って、かつ、電子ビームの軌道か
らは前記第1の円筒が見えないように複数個に切断し、
残った切断片を電極としてなる第1の静電偏向器を製造
する工程と、絶縁体からなる第3の円筒の内面に、その
一端部の外径を他の部分の外径よりも小さく形成された
電極材料からなる第4の円筒を接着し、この第4の円筒
を軸方向に沿って、かつ、電子ビームの軌道からは前記
第3の円筒が見えないように複数個に切断し、残った切
断片を電極としてなる第2の静電偏向器を製造する工程
と、前記第1の静電偏向器と前記第2の静電偏向器の電
極部の一端部同士を間隙をもって咬み合わせるようにし
て前記第1の静電偏向器と前記第2の静電偏向器とを軸
方向に連設する工程とを含んで電子ビーム露光装置用静
電偏向器を製造するというものである。
墓」!すvl 本発明中、第3の発明による電子ビーム露光装置用静電
偏向器の製造方法は、絶縁体からなる第5の円筒の内面
に電極材料からなる第6の円筒を接着し、この第6の円
筒を軸方向に沿って、かつ、電子ビームの軌道からは前
記絶縁体からなる第5の円筒が見えないように複数個に
切断し、残った切断片を電極としてなる第3の静電偏向
器を製造する工程と、前記絶縁体からなる第5の円筒よ
りも内径を大きく形成された絶縁体からなる第7の円筒
の内面に前記第6の円筒の外径よりもその内径を大きく
形成された電極材料からなる第8の円筒を接着し、この
第8の円筒を軸方向に沿って、かつ、電子ビームの軌道
からは前記第5の円筒が見えないように複数個に切断し
、残った切断片を電極としてなる第4の静電偏向器を製
造する工程と、前記第3の静電偏向器の電極部の一端部
を前記第4の静電偏向器の電極部の一端部に間隙をもっ
て挿通させるようにして前記第3の静電偏向器と前記第
4の静電偏向器とを軸方向に連設する工程とを含んで電
子ビーム露光装置用静電偏向器を製造するというもので
ある。
[作用] 本発明中、第1の発明によれば、絶縁材料からなる円筒
に電極材料からなる円筒を接着し、この電極材料からな
る円筒を切断加工するだけで、絶縁体からなる円筒に固
定された電極を作成することができるので、第11図(
第12図)従来例のように、作成時、電極をネジによっ
て電極固定部材に固定するという工程を必要とせず、し
たがって、たとえ、電極数を増加させる場合であっても
、小型化した電極固定用のネジを必要とせず、特に、1
段構成の電子ビーム露光装置用静電偏向器(例えば、副
偏向器に適用される静電偏向器)につき、位置精度の低
下及び強度の低下を招くことなく電極数の増加を図るこ
とができる。
また、この第1の発明によれば、電極数を増加させたと
しても、電子ビーム露光用静電偏向器全体を1個の部品
として扱うことができるので、りリーニングする場合の
作業が容易になる。
なお、この第1の発明においては、電極材料からなる円
筒を切断する場合、電子ビームの軌道からは絶縁体から
なる円筒が見えないように切断しているので、チャーシ
ア・ンプの問題は生じなり)。
また、本発明中、第2の発明によれば、2段構成の電子
ビーム露光装置用静電偏向器(例えば、マスク偏向部に
配置される静電偏向器)につき、位置精度の低下及び強
度の低下を招くことなく電極数の増加を図ることができ
る。
なお、この第2の発明においては、第1の静電偏向器と
第2の静電偏向器の電極部の一端部同士を間隙をもって
咬み合わせるようにして第1の静電偏向器と第2の静電
偏向器とを軸方向に連設するようにしているので、この
連設部分にチャージアップの問題は生じない。
また、本発明中、第3の発明によっても、2段構成の電
子ビーム露光装置用静電偏向器につき、位置精度の低下
及び強度の低下を招くことなく電極数の増加を図ること
ができる。
なお、この第3の発明においては、第3の静電偏向器の
電極部の一端部を第4の静電偏向器の電極部の一端部に
間隙をもって挿通させるようにして第3の静電偏向器と
第4の静電偏向器とを軸方向に連設するようにしている
ので、この連設部分にチャージアップの問題は生じない
口実施例] 以下、第1図〜第7図を参照して、本発明の各種実施例
につき説明する。
第1   (第1゛〜第5゛) 第1図、第2図、第3図は、それぞれ後述する本発明の
第1実施例(第1の発明の一実施例)により製造される
電子ビーム露光装置用靜;偏向器を示す斜視図、中央縦
断面図、平面図であり、この電子ビーム露光装置用静電
偏向器は、例えば、第8図に示すような電子ビーム露光
装置の副偏向器26に適用される。
図中、33は鍔部34を有する絶縁体からなる円筒、3
5はネジ挿通孔、36は電極であって、電極36は、円
筒33の内面に接着されている。
また、電極間には渭(間隙)37が設けられているが、
溝37は、電子ビームの偏向軌道から円筒33が見えな
いように形成され、チャージアップの問題が生じないよ
うにされている。このように溝37は、電子ビームの偏
向軌道から円筒33が見えない形状であれば足り、した
がって、第4図に示すような形状であっても良く、その
他、種々の形状が考えられる。
また、電極36にはネジ六38が設けられており、ネジ
39により信号I!(電圧供給線)40の先端41を電
極36に電気的に接続、固定できるようにされている。
なお、ネジ挿通孔35は、ネジ42によって円筒33の
鍔部34を電子ビーム露光装置本体に固定するためのも
のである。
かかる電子ビーム露光装置用静電偏向器は、第5図Aに
示すように、絶縁体からなる円筒33と、ネジ六38□
登形成した電極材料からなる円筒43とを用意し、第5
図Bに示すように、円筒33の内面に円筒43を接着し
た後、例えば、放電加工により、渭37を形成すること
によって作成することができる。これが本発明の第1実
施例による電子ビーム露光装置用静電偏向器の製造方法
である。
2    6゛) 第6図は、後述する本発明の第2実施例(第2の発明の
一実施例)により製造される電子ビーム露光装置用静電
偏向器を示す中央縦断端面図であり、この電子ビーム露
光装置用静電偏向器は、例えば、第8図に示す電子ビー
ム露光装置のマスク偏向部14の偏向器15と偏向器1
6又は偏向器17と偏向器18等、2段構成の偏向器に
適用するためのものである。なお、第6図において、第
1図に対応する部分には同一符号を付し、その重複説明
は省略する。
図中、44.45は第1実施例とほぼ同様にして構成さ
れた静電偏向器、46は靜1に偏向器固定部材、47は
コンセント、48は○(オー)リングである。
ここに、静電偏向器44は、電極36の、図中、下側の
内側部分に段部49を設け、電極部中、下側の部分の内
径を他の部分の内径よりも大きく形成され、また、静電
偏向器45は、電極36の、図中、上側の外側部分に段
部50を設け、電極部中、上側の部分の外径を他の部分
の径よりも小さく形成されており、静電偏向器44の電
極36と静電偏向器45の電極36とを間隙をもって咬
み合わせることにより、チャージアップの問題が生じる
ことのない2段構成の静電偏向器が構成されている。
かかる第6図例の電子ビーム露光装置用静電偏向器は次
のようにして製造することができる。
まず、静電偏向器44.45を用意する。ここに、静電
偏向器44は、絶縁体からなる円筒33の内面に、その
一端部の内径を他の部分の内径よりも大きく形成された
電極材料からなる円筒を接着し、この電極材料からなる
円筒を軸方向に沿って、かつ、電子ビームの軌道からは
絶縁体からなる円筒33が見えないように、例えば8個
に切断し、残った切断片を電極36として製造すること
ができる。また、静電偏向器45は、絶縁体からなる円
筒33の内面に、その一端部の外径を他の部分の外径よ
りも小さく形成された電極材料からなる円筒を接着し、
この電極材料からなる円筒を軸方向に沿って、かつ、電
子ビームの軌道からは絶縁体からなる円筒33が見えな
いように、例えば8個に切断し、残った切断片を電極3
6として製造することができる。
次に、これら静電偏向器44.45を第6図に示すよう
に組み立てる。ここに、第2実施例による電子ビーム露
光装置用静電偏向器を得ることができる。これが、本発
明の第2実施例による電子ビーム露光装置用静電偏向器
の製造方法である。
第7図は、後述する本発明の第3実施例(第3の発明の
一実施例)により製造される電子ビーム露光装置用静電
偏向器を示す中央縦断端面図であり、この電子ビーム露
光装置用静電偏向器は、第2実施例の場合と同様に、例
えば、第8図に示す電子ビーム露光装置のマスク偏向部
14の偏向器15と偏向器16又は偏向器17と偏向器
18等、2段構成の偏向器に適用するためのものである
なお、第7図において、第1図及び第6図に対応する部
分には同一符号を付し、その重複説明は省略する。
図中、51は第1実施例と同様の構成を有する静電偏向
器、52は静電偏向器51よりも径を大とする静電偏向
器であり、より詳しくは、静電偏向器52は、その電極
部の内径を静電偏向器51の電極部の外径よりも大きく
形成されており、静電偏向器51の電極部の一部を静電
偏向器52の電極部に所要の間隙をもって挿通させるこ
とにより、チャージアップの問題が生じることのない2
段構成の静電偏向器が構成されている。
かかる電子ビーム露光装置用静電偏向器は次のようにし
てl造することができる。
まず、静電偏向器51.52を用意する。これら静電偏
向器51.52は第1実施例の場合と全く同様にして製
造することができる。次に、これら静電偏向器51.5
2を第7図に示すように組み立てる。ここに、第3実施
例による電子ビーム露光装置用静電偏向器を得ることが
できる。これが本発明の第3実施例による電子ビーム露
光装置用静電偏向器の製造方法である。
[発明の効果コ 本発明中、第1の発明(n求項1記載の電子ビーム露光
装夏用靜電偏向器の製造方法)によれば、第11図(第
12図)従来例のように、を極をネジによって電極固定
部材に固定するという工程を必要とせず、したがって、
たとえ、電極数を増加させる場合であっても、小型化し
た電極固定用のネジを必要としないので、位置精度の低
下及び強度の低下を招くことなく電極数の増加を図り、
電子ビーム像のぼけのない高精度の露光を行うことがで
きる1段構成の電子ビーム露光装置用静電偏向器(例え
ば、副偏向器に適用される静電偏向器)を得ることがで
きる。また、電極数を増加させたとしても、この電子ビ
ーム露光装置用静電偏向器全体を1個の部品として扱う
ことができるので、クリーニングする場合の作業を容易
にすることもできる。
また、第2の発明(請求項2記載の電子ビーム露光装置
用静電偏向器)によれば、位置精度の低下及び強度の低
下を招くことなく電極数の増加を図り、電子ビーム像の
ぼけのない高精度の露光を行うことができる2段構成の
電子ビーム露光装置用静電偏向器(例えば、マスク偏向
部に配置される静電偏向器)を得ることができる。
また、第3の発明(請求項3記載の電子ビーム露光装置
用静電偏向器)によっても、位置精度の低下及び強度の
低下を招くことなく電極数の増加を図り、電子ビーム像
のぼけのない高精度の露光を行うことができる2段構成
の電子ビーム露光装置用静電偏向器を得ることができる
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図及び第3図は、それぞれ本発明の第1実
施例(第1の発明の一実施例)により製造される電子ビ
ーム露光装置用静電偏向器を示す斜視図、中央縦断面図
及び平面図、 第4図は電極が取り得る他の形状を示す平面図、第5図
は本発明の第1実施例において実施される工程の一部を
示す区、 第6図は本発明の第2実施例(第2の発明の一実施例)
により製造される電子ビーム露光装置用静電偏向器を示
す中央縦断端面図、 第7ズは本発明の第3実施例(第3の発明の一実施例)
により製造される電子ビーム露光装置用静電偏向器を示
す中央縦断端面図、 第8図は電子ビーム露光装置の一例を示す概念図、 第9図及び第10図はそれぞれブロックマスクを示す平
面図及び断面図、 第11区及び第12図はそれぞれ従来の電子ビーム露光
装置用静電偏向器を示す中央縦断端面図及び平面図であ
る。 33・・・絶縁体からなる円筒 35・・・ネジ挿通孔 36・・・電極 37・・・溝 \・′、−! ゛(二、−・′ される電子ビーム露光装置用静を偏向器を示す斜視図第
1図 される電子ビーム露光装置用静電偏向器を示す中央縦断
面図第2図 第3図 電極が取り得る他の形状を示す平面図 第4図 (A) 第1実施例において実施される工程の一部を示す図第5
図 第6図 第7図 電子ビーム露光装置の一例 第8図 ブロックマスクを示す平面図 第9図 ブロックマスクを示す断面図 第1O図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)絶縁体からなる円筒の内面に電極材料からなる円
    筒を接着し、この電極材料からなる円筒を軸方向に沿っ
    て、かつ、電子ビームの軌道からは前記絶縁体からなる
    円筒が見えないように複数個に切断し、残った切断片を
    電極とする工程を含むことを特徴とする電子ビーム露光
    装置用静電偏向器の製造方法。
  2. (2)絶縁体からなる第1の円筒の内面に、その一端部
    の内径を他の部分の内径よりも大きく形成された電極材
    料からなる第2の円筒を接着し、この第2の円筒を軸方
    向に沿って、かつ、電子ビームの軌道からは前記第1の
    円筒が見えないように複数個に切断し、残つた切断片を
    電極としてなる第1の静電偏向器を製造する工程と、絶
    縁体からなる第3の円筒の内面に、その一端部の外径を
    他の部分の外径よりも小さく形成された電極材料からな
    る第4の円筒を接着し、この第4の円筒を軸方向に沿っ
    て、かつ、電子ビームの軌道からは前記第3の円筒が見
    えないように複数個に切断し、残った切断片を電極とし
    てなる第2の静電偏向器を製造する工程と、前記第1の
    静電偏向器と前記第2の静電偏向器の電極部の一端部同
    士を間隙をもって咬み合わせるようにして前記第1の静
    電偏向器と前記第2の静電偏向器とを軸方向に連設する
    工程とを 含むことを特徴とする電子ビーム露光装置用静電偏向器
    の製造方法。
  3. (3)絶縁体からなる第5の円筒の内面に電極材料から
    なる第6の円筒を接着し、この第6の円筒を軸方向に沿
    って、かつ、電子ビームの軌道からは前記絶縁体からな
    る第5の円筒が見えないように複数個に切断し、残った
    切断片を電極としてなる第3の静電偏向器を製造する工
    程と、前記絶縁体からなる第5の円筒よりも内径を大き
    く形成された絶縁体からなる第7の円筒の内面に前記第
    6の円筒の外径よりもその内径を大きく形成された電極
    材料からなる第8の円筒を接着し、この第8の円筒を軸
    方向に沿って、かつ、電子ビームの軌道からは前記第5
    の円筒が見えないように複数個に切断し、残った切断片
    を電極としてなる第4の静電偏向器を製造する工程と、 前記第3の静電偏向器の電極部の一端部を前記第4の静
    電偏向器の電極部の一端部に間隙をもって挿通させるよ
    うにして前記第3の静電偏向器と前記第4の静電偏向器
    とを軸方向に連設する工程とを 含むことを特徴とする電子ビーム露光装置用静電偏向器
    の製造方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5929452A (en) * 1997-03-18 1999-07-27 Kabushiki Kaisha Toshiba Electrostatic deflecting electrode unit for use in charged beam lithography apparatus and method of manufacture the same
JP2000223054A (ja) * 1999-02-02 2000-08-11 Advantest Corp 電子ビーム照射装置の静電偏向器
FR2817080A1 (fr) * 2000-11-21 2002-05-24 Schlumberger Technologies Inc Procede de fabrication d'un element electrostatique pour diriger un faisceau de particules chargees

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