JPH04164251A - レジストの純度評価法 - Google Patents
レジストの純度評価法Info
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Landscapes
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- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
- Investigating Or Analyzing Non-Biological Materials By The Use Of Chemical Means (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、レジスI〜中の不純物を高感度に分析するた
めのレジストの純度評価法に関する。
めのレジストの純度評価法に関する。
LSIの高集積化に伴い、製造プロセスで使用される材
料の高純度化が重要になってきている。
料の高純度化が重要になってきている。
特に、リソグラフィー工程で使用されるレジストは、現
在使用されている材料の中で純度が悪いものの1つであ
り、数+1)I)b以下の金属不純物が含有されている
。今後、他の薬品材料と同様、金属不純物濃度をI)l
lb以下にしなければならない。その場合、ppb以下
の金属不純物を分析できる感度を有するレジストの純度
評価法が不可欠になる。
在使用されている材料の中で純度が悪いものの1つであ
り、数+1)I)b以下の金属不純物が含有されている
。今後、他の薬品材料と同様、金属不純物濃度をI)l
lb以下にしなければならない。その場合、ppb以下
の金属不純物を分析できる感度を有するレジストの純度
評価法が不可欠になる。
レジストの純度評価法として、レジメ1〜を溶剤で希釈
して直接、原子吸光、ICP−MSなどの高感度分析装
置で分析する方法が行われているか、ppb以下の分析
は行えなかった。111)b以下の濃度レベルのレジス
ト中不純物を分析するためには、レジストを分解してマ
トリックス成分を除去し、分析成分を濃縮する、いわゆ
る前処理操作が必要になる。
して直接、原子吸光、ICP−MSなどの高感度分析装
置で分析する方法が行われているか、ppb以下の分析
は行えなかった。111)b以下の濃度レベルのレジス
ト中不純物を分析するためには、レジストを分解してマ
トリックス成分を除去し、分析成分を濃縮する、いわゆ
る前処理操作が必要になる。
従来性われている前処理操作を用いた分析法の一例を第
3図に示す。酸化分解剤(硝酸士硫酸混合液 等)9を
入れたビーカー10に一定量のレジスト11を添加する
。これを、ホットプレート12で加熱して、レジストを
酸化分解し、分解液を乾固する程度まで濃縮する。この
残渣を一定量の純水で溶解し、溶解液中の不純物成分を
前述の分析装置で分析する。また、酸素プラズマ灰化装
置が市販され、レジストを当該装置で分解して、分解残
渣を分析する方法も行われている。
3図に示す。酸化分解剤(硝酸士硫酸混合液 等)9を
入れたビーカー10に一定量のレジスト11を添加する
。これを、ホットプレート12で加熱して、レジストを
酸化分解し、分解液を乾固する程度まで濃縮する。この
残渣を一定量の純水で溶解し、溶解液中の不純物成分を
前述の分析装置で分析する。また、酸素プラズマ灰化装
置が市販され、レジストを当該装置で分解して、分解残
渣を分析する方法も行われている。
従来技術において、第3図に示した方法では、レジスト
量に対して酸化分解剤の使用量が多いため、これらの薬
品中の不純物量(ブランク値)が分析感度を決定し、1
0ppbレベルの分析感度しが得られなかった。また、
酸素プラズマ灰化装置を用いる方法では、装置チャンバ
ーなどからの汚染により、ブランク値が高く、また再現
性も悪いためppb以下の分析を行うことができなかっ
な。このように、従来技術には、今後必要とされるレジ
スト中のI)l]b以下の不純物成分の分析が行えない
欠点かあった。また、前述の何れの前処理操作も、レジ
ストの分解(灰化)に数時間を要するという問題があっ
た。
量に対して酸化分解剤の使用量が多いため、これらの薬
品中の不純物量(ブランク値)が分析感度を決定し、1
0ppbレベルの分析感度しが得られなかった。また、
酸素プラズマ灰化装置を用いる方法では、装置チャンバ
ーなどからの汚染により、ブランク値が高く、また再現
性も悪いためppb以下の分析を行うことができなかっ
な。このように、従来技術には、今後必要とされるレジ
スト中のI)l]b以下の不純物成分の分析が行えない
欠点かあった。また、前述の何れの前処理操作も、レジ
ストの分解(灰化)に数時間を要するという問題があっ
た。
本発明の目的は、従来技術の問題点を解決し、レジスト
中の1lllb以下の不純物成分の分析が行え、かつ前
処理操作が短時間に行えるレジストの純度評価法を提供
することにある。
中の1lllb以下の不純物成分の分析が行え、かつ前
処理操作が短時間に行えるレジストの純度評価法を提供
することにある。
前記目的を達成するため、本発明に係るレジストの純度
評価法においては、表面を清浄化したシリコンウェーハ
にレジストを塗布し、加熱しながら該レジスI・薄膜に
オゾンを作用させて灰化し、ウェーハ表面の灰化物を分
析するものである。
評価法においては、表面を清浄化したシリコンウェーハ
にレジストを塗布し、加熱しながら該レジスI・薄膜に
オゾンを作用させて灰化し、ウェーハ表面の灰化物を分
析するものである。
また、加熱しながらレジスト薄膜に紫外線を照射し、か
つオゾンを作用させて灰化するものであり、 また、ウェーハ表面の灰化物をフッ酸蒸気で分解し、分
解物を回収液で回収し、当該回収液中の不純物成分を高
感度分析装置で分析するものである。
つオゾンを作用させて灰化するものであり、 また、ウェーハ表面の灰化物をフッ酸蒸気で分解し、分
解物を回収液で回収し、当該回収液中の不純物成分を高
感度分析装置で分析するものである。
加熱し2ながらレジストにオゾンを作用さぜると、レジ
スI〜は酸化分解され、灰化する。レジストの金属不純
物は、灰化残渣中に残るなめ、この残渣を分解して溶液
化すれば、金属不純物を原子吸光、ICP−MS等の高
感度分析装置で分析できる。
スI〜は酸化分解され、灰化する。レジストの金属不純
物は、灰化残渣中に残るなめ、この残渣を分解して溶液
化すれば、金属不純物を原子吸光、ICP−MS等の高
感度分析装置で分析できる。
また、レジスI〜に紫外線を照射しながら、オゾンを作
用させると比較的低温でも迅速にレジストの分解が行え
る。これらの前処理操作では、装置等からの汚染がない
なめ、高感度分析が可能になる。
用させると比較的低温でも迅速にレジストの分解が行え
る。これらの前処理操作では、装置等からの汚染がない
なめ、高感度分析が可能になる。
レジストをシリコンウェーハに塗布して、灰化し、灰化
残渣をフッ酸蒸気で分解すれば、少量の回収液で回収で
き、かつ汚染が少ないなめ高感度分析が行える。また、
レジメ1〜を大面積のウェーハに塗布して、薄膜化、お
よびレジスI−とオゾンの反応面積の増大を図ることに
より、灰化時間が短縮できる。
残渣をフッ酸蒸気で分解すれば、少量の回収液で回収で
き、かつ汚染が少ないなめ高感度分析が行える。また、
レジメ1〜を大面積のウェーハに塗布して、薄膜化、お
よびレジスI−とオゾンの反応面積の増大を図ることに
より、灰化時間が短縮できる。
次に本発明について図面を参照して説明する。
(実施例1)
第1図は、本発明の実施例1を示す断面図である。
図において、レジスト薄膜1を塗布したシリコンウェー
ハ2を、レジスト灰化装置3内のステージ4にセットし
な。レジスト灰化装置3外のオゾン発生器5で発生さぜ
なオゾンをステージ4の上部に設けたオゾン発生部6に
導いて、レジスト薄膜1に作用させた。ステージ4は、
温度コントロールできるようになっており、ステージ5
の温度をあげてシリコンウェーハ2、およびレジスト薄
v、1を加熱しながらオゾンを作用させると、レジスト
は酸化分解し、灰化しな。オゾン濃度;5v011%、
シリコンウェーハ2の温度:280℃の時、レジスト薄
膜の灰化速度は1.2μm/分で、2μmのレジスト薄
膜は2分以内に灰化できた。レジスト灰化装置3内のガ
スは、排出ロアから排出した。
ハ2を、レジスト灰化装置3内のステージ4にセットし
な。レジスト灰化装置3外のオゾン発生器5で発生さぜ
なオゾンをステージ4の上部に設けたオゾン発生部6に
導いて、レジスト薄膜1に作用させた。ステージ4は、
温度コントロールできるようになっており、ステージ5
の温度をあげてシリコンウェーハ2、およびレジスト薄
v、1を加熱しながらオゾンを作用させると、レジスト
は酸化分解し、灰化しな。オゾン濃度;5v011%、
シリコンウェーハ2の温度:280℃の時、レジスト薄
膜の灰化速度は1.2μm/分で、2μmのレジスト薄
膜は2分以内に灰化できた。レジスト灰化装置3内のガ
スは、排出ロアから排出した。
シリコンウェーハ2をレジスト灰化装置3かち取り出し
、表面に残った灰化物を、フッ酸蒸気で分解し、分解物
を200μIの純水で回収し、回収液をフレームレス原
子吸光法で分析した。このフシームレス原子吸光法は特
開平2−28533号に開示されている。
、表面に残った灰化物を、フッ酸蒸気で分解し、分解物
を200μIの純水で回収し、回収液をフレームレス原
子吸光法で分析した。このフシームレス原子吸光法は特
開平2−28533号に開示されている。
Feに関して、濃度のわかったレジスト(試料B、C)
を6インヂウエーハに塗布しく膜厚;2μm)I)、分
析した結果を表1に示した。
を6インヂウエーハに塗布しく膜厚;2μm)I)、分
析した結果を表1に示した。
表1
分析結果は、灰化後のシリコンウェーハ表面のFe濃度
に換算して示した。試料Aの結果は、分析のブランク値
を示す。レジスト中濃度と灰化後のウェーハ表面濃度は
、良い相関を示した。これらの結果から、分析のブラン
ク値をレジスト中濃度に換算すると0.05ppbだっ
た。従って、本発明のレジストの純度評価法によれば、
レジスト中の0.11)llb以下のFeの分析が行え
る。Fe以外の金属不純物についてもFeと同等の分析
感度が得られた。
に換算して示した。試料Aの結果は、分析のブランク値
を示す。レジスト中濃度と灰化後のウェーハ表面濃度は
、良い相関を示した。これらの結果から、分析のブラン
ク値をレジスト中濃度に換算すると0.05ppbだっ
た。従って、本発明のレジストの純度評価法によれば、
レジスト中の0.11)llb以下のFeの分析が行え
る。Fe以外の金属不純物についてもFeと同等の分析
感度が得られた。
(実施例2)
第2図は、本発明の実施例2を示す断面図である。実施
例2のレジスト灰化装置は、ステージ4とオゾン発生部
6の間に紫外線ランプ8を有しており、レジスト薄膜1
に紫外線を照射しながら、オゾンを作用させることかで
きた。表2に示すように、紫外線を照射することにより
、ウエーノス温度か比較的低くてもレジストの灰化を行
うことかできた。
例2のレジスト灰化装置は、ステージ4とオゾン発生部
6の間に紫外線ランプ8を有しており、レジスト薄膜1
に紫外線を照射しながら、オゾンを作用させることかで
きた。表2に示すように、紫外線を照射することにより
、ウエーノス温度か比較的低くてもレジストの灰化を行
うことかできた。
表2
紫外線照度。130 rnlA/c+&オゾン濃度:5
vo1.% 〔発明の効果〕 以上説明したように本発明のレジストの純度評価法によ
れば、従来行えなかったレジスト中のppb以下の濃度
の不純物成分の分析が行えた。また、従来、数時間かか
っていたレジストの分解(灰化)か、数分で行えるよう
になり、分析の迅速化か図れた。
vo1.% 〔発明の効果〕 以上説明したように本発明のレジストの純度評価法によ
れば、従来行えなかったレジスト中のppb以下の濃度
の不純物成分の分析が行えた。また、従来、数時間かか
っていたレジストの分解(灰化)か、数分で行えるよう
になり、分析の迅速化か図れた。
第1図は、本発明の実施例1を示す断面図、第2図は、
本発明の実施例2を示す断面図、第3図は、従来技術を
示す断面図である。 1・・・レジスト薄膜 2・・・シリコンウェーハ
3・・・レジスト灰化装置 4・・・ステージ5・・・
オゾン発生器 6・・・オゾン発生部7・・・ガス
排出口 8・・・紫外線ランプ9・・・酸化分解
剤 10・・・ビーカー11・・・レジスト12
・・・ホットプレート特許出願人 日本電気株式会
社 代 理 人 弁理士 菅 野 中第1図 □ 第3図
本発明の実施例2を示す断面図、第3図は、従来技術を
示す断面図である。 1・・・レジスト薄膜 2・・・シリコンウェーハ
3・・・レジスト灰化装置 4・・・ステージ5・・・
オゾン発生器 6・・・オゾン発生部7・・・ガス
排出口 8・・・紫外線ランプ9・・・酸化分解
剤 10・・・ビーカー11・・・レジスト12
・・・ホットプレート特許出願人 日本電気株式会
社 代 理 人 弁理士 菅 野 中第1図 □ 第3図
Claims (3)
- (1)表面を清浄化したシリコンウェーハにレジストを
塗布し、加熱しながら該レジスト薄膜にオゾンを作用さ
せて灰化し、ウェーハ表面の灰化物を分析することを特
徴とするレジストの純度評価法。 - (2)加熱しながらレジスト薄膜に紫外線を照射し、か
つオゾンを作用させて灰化することを特徴とする請求項
(1)記載のレジストの純度評価法。 - (3)ウェーハ表面の灰化物をフッ酸蒸気で分解し、分
解物を回収液で回収し、当該回収液中の不純物成分を高
感度分析装置で分析することを特徴とする請求項(1)
記載のレジストの純度評価法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29117590A JPH04164251A (ja) | 1990-10-29 | 1990-10-29 | レジストの純度評価法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29117590A JPH04164251A (ja) | 1990-10-29 | 1990-10-29 | レジストの純度評価法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04164251A true JPH04164251A (ja) | 1992-06-09 |
Family
ID=17765428
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29117590A Pending JPH04164251A (ja) | 1990-10-29 | 1990-10-29 | レジストの純度評価法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04164251A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008010385A1 (fr) * | 2006-07-19 | 2008-01-24 | Tokyo Electron Limited | Procédé d'analyse et appareil d'analyse |
JP2016125911A (ja) * | 2015-01-05 | 2016-07-11 | 信越化学工業株式会社 | 元素分析方法 |
JP2017020992A (ja) * | 2015-07-15 | 2017-01-26 | Jsr株式会社 | 分析方法 |
CN109725015A (zh) * | 2017-10-31 | 2019-05-07 | 信越化学工业株式会社 | 抗蚀剂的品质管理方法及得到抗蚀剂的品质预测模型的方法 |
-
1990
- 1990-10-29 JP JP29117590A patent/JPH04164251A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008010385A1 (fr) * | 2006-07-19 | 2008-01-24 | Tokyo Electron Limited | Procédé d'analyse et appareil d'analyse |
JP2008026063A (ja) * | 2006-07-19 | 2008-02-07 | Tokyo Electron Ltd | 分析方法および分析装置 |
US7923680B2 (en) | 2006-07-19 | 2011-04-12 | Tokyo Electron Limited | Analysis method and analysis apparatus |
KR101064842B1 (ko) * | 2006-07-19 | 2011-09-14 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 분석 방법 및 분석 장치 |
TWI404154B (zh) * | 2006-07-19 | 2013-08-01 | Tokyo Electron Ltd | Analysis method and analysis device |
JP2016125911A (ja) * | 2015-01-05 | 2016-07-11 | 信越化学工業株式会社 | 元素分析方法 |
JP2017020992A (ja) * | 2015-07-15 | 2017-01-26 | Jsr株式会社 | 分析方法 |
CN109725015A (zh) * | 2017-10-31 | 2019-05-07 | 信越化学工业株式会社 | 抗蚀剂的品质管理方法及得到抗蚀剂的品质预测模型的方法 |
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