JPH04163551A - ペリクル - Google Patents
ペリクルInfo
- Publication number
- JPH04163551A JPH04163551A JP2288346A JP28834690A JPH04163551A JP H04163551 A JPH04163551 A JP H04163551A JP 2288346 A JP2288346 A JP 2288346A JP 28834690 A JP28834690 A JP 28834690A JP H04163551 A JPH04163551 A JP H04163551A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- frame
- pellicle film
- film
- shaft
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 29
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 101100269850 Caenorhabditis elegans mask-1 gene Proteins 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
半導体装置製造用のマスク又はレチクルのゴミ付着を防
止するために用いられるペリクルに関し、ペリクル膜の
更新を容易とすることを目的とし、矩形状をなすペリク
ル枠の対向する2辺の枠材に、それぞれ長手方向に溝が
形成され、その一方の溝には長いペリクル膜を巻回した
軸が、他方の溝には前記ペリクル膜の一端を固定した軸
がそれぞれ回転可能に設けられ、前記ペリクル枠の一方
の面にペリクル膜が移動可能に張り渡されてなるように
構成する。
止するために用いられるペリクルに関し、ペリクル膜の
更新を容易とすることを目的とし、矩形状をなすペリク
ル枠の対向する2辺の枠材に、それぞれ長手方向に溝が
形成され、その一方の溝には長いペリクル膜を巻回した
軸が、他方の溝には前記ペリクル膜の一端を固定した軸
がそれぞれ回転可能に設けられ、前記ペリクル枠の一方
の面にペリクル膜が移動可能に張り渡されてなるように
構成する。
本発明は半導体装置製造用のマスク又はレチクルのゴミ
付着を防止するために用いられるペリクルに関する。
付着を防止するために用いられるペリクルに関する。
近年、半導体装置の高集積化要求に伴い、ホトリソグラ
フィ工程で使用される転写製蓋の性能が上り、解像力も
向上して来ている。このためレチクル又はマスク上の小
さなゴミでも被転写物に転写されるため、許容されるゴ
ミの大きさは次第に小さくなって来ている。またペリク
ルにあっても同様である。
フィ工程で使用される転写製蓋の性能が上り、解像力も
向上して来ている。このためレチクル又はマスク上の小
さなゴミでも被転写物に転写されるため、許容されるゴ
ミの大きさは次第に小さくなって来ている。またペリク
ルにあっても同様である。
第3図は従来のペリクルを示す図である。これはパター
ン1aを有するレチクル又はマスク1の上に枠2を接着
して設け、さらに抜枠2にペリクル膜(例えばニトロセ
ルロースの薄膜)3を張設したものである。そしてレチ
クル又はマスク1に付着しようとするゴミはべりタル膜
3で遮ぎられ、該ペリクル膜3に付着する。このゴミは
転写時には、レチクル又はマスクのパターン面より枠2
の高さH(スタンドオフ量)だけ離れているため、転写
装置のレンズの焦点から外れた位置となる。
ン1aを有するレチクル又はマスク1の上に枠2を接着
して設け、さらに抜枠2にペリクル膜(例えばニトロセ
ルロースの薄膜)3を張設したものである。そしてレチ
クル又はマスク1に付着しようとするゴミはべりタル膜
3で遮ぎられ、該ペリクル膜3に付着する。このゴミは
転写時には、レチクル又はマスクのパターン面より枠2
の高さH(スタンドオフ量)だけ離れているため、転写
装置のレンズの焦点から外れた位置となる。
これにより許容されるゴミの大きさはべりタルのない場
合より大きくなる。
合より大きくなる。
上記従来のペリクルでは、レチクル又はマスクに取り付
けたままの状態で長時間使用するため、ペリクル膜3に
異物がつき、取り除けなくなった場合、及び光によるペ
リクル膜自身の劣化が顕著となった場合はべりタル膜を
交換する必要がある。
けたままの状態で長時間使用するため、ペリクル膜3に
異物がつき、取り除けなくなった場合、及び光によるペ
リクル膜自身の劣化が顕著となった場合はべりタル膜を
交換する必要がある。
ペリクル膜を交換する場合は、マスク、ペリクルとペリ
クル膜の接着剤の関係から、ペリクル膜の剥離に長時間
を要する。またペリクル枠に接着剤が残り不良の原因と
なる。またペリクル膜が高価であり、交換費用が犬にな
る。等の問題があった。
クル膜の接着剤の関係から、ペリクル膜の剥離に長時間
を要する。またペリクル枠に接着剤が残り不良の原因と
なる。またペリクル膜が高価であり、交換費用が犬にな
る。等の問題があった。
本発明は上記従来の問題点に鑑み、ペリクル膜の更新を
容易としたペリクルを提供することを目的とする。
容易としたペリクルを提供することを目的とする。
上記目的を達成するために本発明のペリクルでは、矩形
状をなすペリクル枠2の対向する2辺の枠材2a、 2
bにそれぞれ長手方向に溝4.4′が形成され、その一
方の溝4には長いペリクル膜3を巻回した軸5が、他方
の溝4′には前記ペリクル膜3の一端を固定した軸6が
それぞれ回転可能に設けられ、前記ペリクル枠2の一方
の面にペリクル膜3が移動可能に張り渡されてなること
を特徴とする。
状をなすペリクル枠2の対向する2辺の枠材2a、 2
bにそれぞれ長手方向に溝4.4′が形成され、その一
方の溝4には長いペリクル膜3を巻回した軸5が、他方
の溝4′には前記ペリクル膜3の一端を固定した軸6が
それぞれ回転可能に設けられ、前記ペリクル枠2の一方
の面にペリクル膜3が移動可能に張り渡されてなること
を特徴とする。
また上記ペリクル枠2に、ペリクル膜3を固定するため
の押え枠(7)が着脱自在に設けられたことを特徴とす
る。
の押え枠(7)が着脱自在に設けられたことを特徴とす
る。
ペリクル枠の対向する2辺の枠材2a、2bに溝4.4
′を設け、その一方の溝4にペリクル膜3を巻回した回
転可能な軸5を設け、他方の溝4′に該ペリクル膜3の
一端を固定して巻取可能な様に回転可能とした軸6を設
けることにより、ペリクル枠2上にペリクル膜3を張り
渡すことができ、且つ該ペリクル膜3が塵埃付着等によ
り交換が必要となったときは、一方の軸6を回転させて
ペリクル膜3を巻取ることにより、他方の軸5からペリ
クル膜3の新しい部分を引き出し、ペリクル枠2上のペ
リクル膜を更新することができる。新らしく引出された
ペリクル膜3はペリクル枠2に圧着するか又は押え枠8
によって固定することができる。
′を設け、その一方の溝4にペリクル膜3を巻回した回
転可能な軸5を設け、他方の溝4′に該ペリクル膜3の
一端を固定して巻取可能な様に回転可能とした軸6を設
けることにより、ペリクル枠2上にペリクル膜3を張り
渡すことができ、且つ該ペリクル膜3が塵埃付着等によ
り交換が必要となったときは、一方の軸6を回転させて
ペリクル膜3を巻取ることにより、他方の軸5からペリ
クル膜3の新しい部分を引き出し、ペリクル枠2上のペ
リクル膜を更新することができる。新らしく引出された
ペリクル膜3はペリクル枠2に圧着するか又は押え枠8
によって固定することができる。
第1図は本発明の第1の実施例を示す図であり、(a)
は平面図、(b)はa図のb−b線における断面図、(
C)はa図のc−c線における断面図である。
は平面図、(b)はa図のb−b線における断面図、(
C)はa図のc−c線における断面図である。
同図において、2は矩形状のペリクル枠であり、抜枠2
の対向する2辺2a、 2bにはその長手方向に溝4.
4′が形成されている。そして抜溝の一方の溝4の中に
は一端につまみ7を有する軸5が回転自在に設けられて
ふり、該軸5にはべりクル枠2を覆うことができる幅を
有し、且長さの長いペリクル膜3が巻回されている。ま
た他方の溝4′の中には一端につまみ7を有する軸6が
回転自在に設けられており、該軸6には軸5に巻回され
ているペリクル膜3を引き出した一端を固定している。
の対向する2辺2a、 2bにはその長手方向に溝4.
4′が形成されている。そして抜溝の一方の溝4の中に
は一端につまみ7を有する軸5が回転自在に設けられて
ふり、該軸5にはべりクル枠2を覆うことができる幅を
有し、且長さの長いペリクル膜3が巻回されている。ま
た他方の溝4′の中には一端につまみ7を有する軸6が
回転自在に設けられており、該軸6には軸5に巻回され
ているペリクル膜3を引き出した一端を固定している。
従ってペリクル膜3はペリクル枠2の上面を完全に覆っ
ている。
ている。
このように構成された本実施例は、パターン1aを有す
るレチクル又はマスク1の上にペリクル枠2の下面を接
着固定して用いられる。そしてペリクル枠2上にあるペ
リクル膜3が塵埃の付着又は光による劣化等により交換
が必要となった場合には、l[l16をつまみ7により
回転させ、ペリクル枠2上に露出しているペリクル膜3
を巻き取ることにより、ペリクル枠2上には軸5に巻回
されたペリクル膜3の新しい部分が引き出され、ペリク
ル膜3の更新が行なわれる。なお更新されたペリクル膜
3は枠2にプレス機等により押圧することにより枠2に
付着固定される。
るレチクル又はマスク1の上にペリクル枠2の下面を接
着固定して用いられる。そしてペリクル枠2上にあるペ
リクル膜3が塵埃の付着又は光による劣化等により交換
が必要となった場合には、l[l16をつまみ7により
回転させ、ペリクル枠2上に露出しているペリクル膜3
を巻き取ることにより、ペリクル枠2上には軸5に巻回
されたペリクル膜3の新しい部分が引き出され、ペリク
ル膜3の更新が行なわれる。なお更新されたペリクル膜
3は枠2にプレス機等により押圧することにより枠2に
付着固定される。
以上のように本実施例によればペリクル膜の更新を従来
に比して極めて簡単容易に行なうことができる。
に比して極めて簡単容易に行なうことができる。
第2図は本発明の第2の実施例を示す図であり、(a)
は平面図、(b)はa図のb−b線における断面図、(
C)はa図のc−c線における断面図である。同図にお
いて第1図と同一部分は同一符号を付して示した。
は平面図、(b)はa図のb−b線における断面図、(
C)はa図のc−c線における断面図である。同図にお
いて第1図と同一部分は同一符号を付して示した。
本実施例は第1の実施例と基本的には同一であり、異な
るところはべりタル膜3をペリクル枠2に押圧固定する
ための押え枠8を設けたことである。抜挿え枠はべりク
ル枠2とほぼ同じ形状に形成されており複数本のねじ9
によりペリクル枠2に着脱自在に取付けられるようにな
っている。
るところはべりタル膜3をペリクル枠2に押圧固定する
ための押え枠8を設けたことである。抜挿え枠はべりク
ル枠2とほぼ同じ形状に形成されており複数本のねじ9
によりペリクル枠2に着脱自在に取付けられるようにな
っている。
このように構成された本実施例は、前実施例と同様な効
果を有する上、更新されたペリクル膜3をプレス機等を
使用せずにペリクル枠2に固定することができる。
果を有する上、更新されたペリクル膜3をプレス機等を
使用せずにペリクル枠2に固定することができる。
以上説明した様に本発明によれば、ペリクル膜上べの異
物付着、膜劣化、破損等があった場合でもペリクル膜の
はりかえを行なわずに済み、工程上のペリクル剥離、マ
スク、レチクル洗浄、ペリクルマウント等の工程削減に
よる時間短縮、ペリクルコストの削減等、また、その場
で直ちに使用可能となる効果を奏し、半導体製造工程及
びペリクル製造方法の向上に寄与するところ大である。
物付着、膜劣化、破損等があった場合でもペリクル膜の
はりかえを行なわずに済み、工程上のペリクル剥離、マ
スク、レチクル洗浄、ペリクルマウント等の工程削減に
よる時間短縮、ペリクルコストの削減等、また、その場
で直ちに使用可能となる効果を奏し、半導体製造工程及
びペリクル製造方法の向上に寄与するところ大である。
第1図は本発明の第1の実施例を示す図、第2図は本発
明の第2の実施例を示す図、第3図は従来のペリクルを
示す図である。 図において、 1はレチクル又はマスク、 2はペリクル枠、 3はペリクル膜、 4.4′は溝、 5.6は軸、 7はつまみ、 8は押え枠、 9はねじ を示す。 従来のペリクルを示す図 第3図
明の第2の実施例を示す図、第3図は従来のペリクルを
示す図である。 図において、 1はレチクル又はマスク、 2はペリクル枠、 3はペリクル膜、 4.4′は溝、 5.6は軸、 7はつまみ、 8は押え枠、 9はねじ を示す。 従来のペリクルを示す図 第3図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、矩形状をなすペリクル枠(2)の対向する2辺の枠
材(2a、2b)にそれぞれ長手方向に溝(4、4′)
が形成され、その一方の溝(4)には長いペリクル膜(
3)を巻回した軸(5)が、他方の溝(4′)には前記
ペリクル膜(3)の一端を固定した軸(6)がそれぞれ
回転可能に設けられ、前記ペリクル枠(2)の一方の面
にペリクル膜(3)が移動可能に張り渡されてなること
を特徴とするペリクル。 2、上記ペリクル枠(2)に、ペリクル膜(3)を固定
するための押え枠(7)が着脱自在に設けられたことを
特徴とする請求項1記載のペリクル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2288346A JPH04163551A (ja) | 1990-10-29 | 1990-10-29 | ペリクル |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2288346A JPH04163551A (ja) | 1990-10-29 | 1990-10-29 | ペリクル |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04163551A true JPH04163551A (ja) | 1992-06-09 |
Family
ID=17729017
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2288346A Pending JPH04163551A (ja) | 1990-10-29 | 1990-10-29 | ペリクル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04163551A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010084145A (ko) * | 2000-02-24 | 2001-09-06 | 황인길 | 포토 마스크 보호를 위한 착탈식 펠리클 |
JP2013033813A (ja) * | 2011-08-01 | 2013-02-14 | V Technology Co Ltd | マイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置 |
US9075321B2 (en) | 2007-10-02 | 2015-07-07 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical membrane element having a longitudinally adjustable connecting element |
US10642151B2 (en) * | 2014-11-04 | 2020-05-05 | Nippon Light Metal Company, Ltd. | Pellicle support frame and production method |
-
1990
- 1990-10-29 JP JP2288346A patent/JPH04163551A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010084145A (ko) * | 2000-02-24 | 2001-09-06 | 황인길 | 포토 마스크 보호를 위한 착탈식 펠리클 |
US9075321B2 (en) | 2007-10-02 | 2015-07-07 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical membrane element having a longitudinally adjustable connecting element |
US10254655B2 (en) | 2007-10-02 | 2019-04-09 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical membrane element having a longitudinally adjustable connecting element |
JP2013033813A (ja) * | 2011-08-01 | 2013-02-14 | V Technology Co Ltd | マイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置 |
US10642151B2 (en) * | 2014-11-04 | 2020-05-05 | Nippon Light Metal Company, Ltd. | Pellicle support frame and production method |
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