JPH04146441A - フィルム露光装置 - Google Patents
フィルム露光装置Info
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- JPH04146441A JPH04146441A JP2419080A JP41908090A JPH04146441A JP H04146441 A JPH04146441 A JP H04146441A JP 2419080 A JP2419080 A JP 2419080A JP 41908090 A JP41908090 A JP 41908090A JP H04146441 A JPH04146441 A JP H04146441A
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Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Projection-Type Copiers In General (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
［０００１］
本発明はフィルム回路基板の製作に好適なフィルム露光
装置に関する。 ［０００２］
装置に関する。 ［０００２］
物体の表面に微細加工を施す技術として、フォトリソグ
ラフィの技術が知られている。この技術は半導体集積回
路のほか、最近では電子部品の実装に使用されるフィル
ム回路基板の製作にも応用されている。 ［０００３］ このような露光装置は、光源を有する照射部と、この照
射部から放射光が照射され露光させるべき回路パターン
が形成されたレチクルと、このレチクルに設定された像
を投影する投影レンズと、その投影位置にフィルムを設
定させ露光位置を形成するステージより構成される。そ
して、投影露光を行う時には、開始する前に投影される
像の焦点合わせの作業が行われる。 ［０００４］ この焦点合わせは、例えば特開平１−１９１４９３号公
報に記載されているような方法によって行われる。すな
わち、露光面に投影されたパターンやアライメントマー
ク等の像をモニタ系でモニタしながら投影レンズ位置調
節機構やレチクル位置調節機構を光軸方向に移動させて
行う。 ［０００５］ ところが（焦点合わせを行うために投影レンズ位置調節
機構やレチクル位置調節機構を操作して、投影レンズや
レチクルを光軸方向に変位させると、これによって投影
像の倍率が変位してしまうことがある。 ［０００６］ このような問題点を解決するために、特願平２−８１３
３７号に示すように、設定された倍率に基づく投影レン
ズ、レチクル、及びフィルムの投影面の位置関係を維持
しながら焦点合わせする方法が提案されている。 ［０００７］
ラフィの技術が知られている。この技術は半導体集積回
路のほか、最近では電子部品の実装に使用されるフィル
ム回路基板の製作にも応用されている。 ［０００３］ このような露光装置は、光源を有する照射部と、この照
射部から放射光が照射され露光させるべき回路パターン
が形成されたレチクルと、このレチクルに設定された像
を投影する投影レンズと、その投影位置にフィルムを設
定させ露光位置を形成するステージより構成される。そ
して、投影露光を行う時には、開始する前に投影される
像の焦点合わせの作業が行われる。 ［０００４］ この焦点合わせは、例えば特開平１−１９１４９３号公
報に記載されているような方法によって行われる。すな
わち、露光面に投影されたパターンやアライメントマー
ク等の像をモニタ系でモニタしながら投影レンズ位置調
節機構やレチクル位置調節機構を光軸方向に移動させて
行う。 ［０００５］ ところが（焦点合わせを行うために投影レンズ位置調節
機構やレチクル位置調節機構を操作して、投影レンズや
レチクルを光軸方向に変位させると、これによって投影
像の倍率が変位してしまうことがある。 ［０００６］ このような問題点を解決するために、特願平２−８１３
３７号に示すように、設定された倍率に基づく投影レン
ズ、レチクル、及びフィルムの投影面の位置関係を維持
しながら焦点合わせする方法が提案されている。 ［０００７］
しかしながら、従来の装置では実際の露光を開始する前
においてのみ、モニタ系でモニタしながら焦点を合わせ
るわけである。すなわち−回置光作業が開始されると、
その投影像の焦点は、開始以前に設定したレチクルの位
置および投影レンズの位置で投影される。すなわち当該
露光装置が何らかの原因で振動したり、温度変化したり
するとレチクル及び投影レンズの位置が狂い、当然なが
らこれらの位置関係は設定値からはずれてしまう。この
結果、焦点のずれた状態で露光されることになり、この
ような状態に気付くことなく装置を稼働させ続けると、
大量のフィルムを無駄にすることになる。 ［０００８］ 一方、開始以前に行った、焦点合わせの作業を露光作業
開始後も定期的に行うことによって、上記問題点を解決
することもできるが、人間がモニタ系でモニタしながら
このような作業を定期的に行うことは大変煩雑である。 ［０００９］ 本発明の目的は、露光作業を開始した後も最適な焦点の
状態で露光することのできるフィルム露光装置を提供す
ることにある。 ［００１０］
においてのみ、モニタ系でモニタしながら焦点を合わせ
るわけである。すなわち−回置光作業が開始されると、
その投影像の焦点は、開始以前に設定したレチクルの位
置および投影レンズの位置で投影される。すなわち当該
露光装置が何らかの原因で振動したり、温度変化したり
するとレチクル及び投影レンズの位置が狂い、当然なが
らこれらの位置関係は設定値からはずれてしまう。この
結果、焦点のずれた状態で露光されることになり、この
ような状態に気付くことなく装置を稼働させ続けると、
大量のフィルムを無駄にすることになる。 ［０００８］ 一方、開始以前に行った、焦点合わせの作業を露光作業
開始後も定期的に行うことによって、上記問題点を解決
することもできるが、人間がモニタ系でモニタしながら
このような作業を定期的に行うことは大変煩雑である。 ［０００９］ 本発明の目的は、露光作業を開始した後も最適な焦点の
状態で露光することのできるフィルム露光装置を提供す
ることにある。 ［００１０］
上記の目的を解決するために、本発明のフィルム露光装
置は、帯状のフィルムの長さ方向に沿って順次に回路パ
ターンを露光していくフィルム露光装置であって、照射
部と、照射部からの光が照射される位置に配置され、投
影するべき回路パターンとは別に焦点合わせ用のマーク
を有するレチクルと、レチクルの像を投影する投影レン
ズと、レチクルを光軸方向に変位させて位置を調節する
レチクル位置調節機構と、投影レンズを光軸方向に変位
させて位置を調節する投影レンズ位置調節機構と、帯状
のフィルムはその１コマ毎に、−焦点合わせ用マークの
空中像が投影される穴もしくは透光部を有していて、こ
の穴もしくは透光部から一定距離だけ離れた位置におい
て合焦するように配置されたイメージセンサと、イメー
ジセンサに入力された、焦点合わせ用マークの投影像の
、光量のバラツキを検出する手段を有して、この検出手
段からの信号によって、レチクル位置調節機構及び／又
は投影レンズ位置調節機構を駆動させて、帯状のフィル
ムの１コマ毎に対して、自動的に合焦することが可能な
システムコントローラとよりなるものである。 ［００１１］
置は、帯状のフィルムの長さ方向に沿って順次に回路パ
ターンを露光していくフィルム露光装置であって、照射
部と、照射部からの光が照射される位置に配置され、投
影するべき回路パターンとは別に焦点合わせ用のマーク
を有するレチクルと、レチクルの像を投影する投影レン
ズと、レチクルを光軸方向に変位させて位置を調節する
レチクル位置調節機構と、投影レンズを光軸方向に変位
させて位置を調節する投影レンズ位置調節機構と、帯状
のフィルムはその１コマ毎に、−焦点合わせ用マークの
空中像が投影される穴もしくは透光部を有していて、こ
の穴もしくは透光部から一定距離だけ離れた位置におい
て合焦するように配置されたイメージセンサと、イメー
ジセンサに入力された、焦点合わせ用マークの投影像の
、光量のバラツキを検出する手段を有して、この検出手
段からの信号によって、レチクル位置調節機構及び／又
は投影レンズ位置調節機構を駆動させて、帯状のフィル
ムの１コマ毎に対して、自動的に合焦することが可能な
システムコントローラとよりなるものである。 ［００１１］
このような構成により、露光されるべきフィルムの１コ
マが搬送されて露光位置に設定されると、レチクルに設
けられた焦点合わせ用マークのフィルムの穴もしくは透
光部上における光量のバラツキを検出することができる
。すなわちこの光量のバラツキが焦点が狂っているか否
かを示すため、この検出信号によってレチクル、投影レ
ンズを光軸方向に変位させて、フィルムの１コマ毎に自
動的に焦点合わせをすることができる。 ［００１２］
マが搬送されて露光位置に設定されると、レチクルに設
けられた焦点合わせ用マークのフィルムの穴もしくは透
光部上における光量のバラツキを検出することができる
。すなわちこの光量のバラツキが焦点が狂っているか否
かを示すため、この検出信号によってレチクル、投影レ
ンズを光軸方向に変位させて、フィルムの１コマ毎に自
動的に焦点合わせをすることができる。 ［００１２］
以下、本発明の詳細な説明する。図１、図２、図３は、
本発明の実施例のフィルム露光装置の説明図である。 ［００１３］ 図１はその内部に光源１１やこの光源１１からの放射光
を反射ミラーやインテグレータレンズから構成される照
射部である。光源１１としては、超高圧水銀灯のように
レジストが感度を有する光を効率的に放射するものが適
用される。 ［００１４］ １０はレチクルであり、照射部１からの光が照射される
位置に配置されている。このレチクル１０は、フィルム
Ｆに投影して転写するべき回路パターンのほか、後述す
るフィルム側焦点合わせマークに対応する焦点合わせ用
マークが構成されている。 ［００１５］ この焦点合わせ用マークは例えば方形状の不透明部分に
十文字の透明部分を設けて構成している。そしてフィル
ム側マークはフィルムＦの１コマ毎に、例えば丸型の穴
もしくは透光部で構成される。 ［００１６］ １２はレチクル位置調節機構であり、例えばサーボモー
タよりなる。２０は投影レンズであり、照射されたレチ
クル１０の像を投影するものである。この投影レンズ２
０は例えば露光線幅１１０Ａｔの解像度を有するもので
ある。２１はこの投影レンズ２０の投影レンズ位置調節
機構である。そして後述のシステムコントローラ５０に
よってレチクル位置調節機構１２や投影レンズ位置調節
機構２１は駆動される。そして、レチクル１０及び投影
レンズ２０を光軸方向Ｙに変位させる。３０はステージ
であり、図２に示すように露光されるべきフィルムＦの
１コマが露光位置にステップ送りして停止される。この
停止については、正確な露光位置に行う必要があり、こ
の方法については例えば特開平２−８１３３６号に示さ
れる。そして露光時のみフィルムＦを真空吸着する真空
吸着孔３１が設けられている。 ［００１７］ ４０は検出部であり、対物レンズ４１、集光レンズ４２
、ホトダイオード等よりなる受光器４３、ハーフミラ−
４４、及びハーフミラ−４４より屈折された光を検知す
るＣＣＤ等よりなるイメージセンサ４５より構成される
。このイメージセンサ４５にはフィルムＦ上のフィルム
側マーク上における空中像が入射される［００１８］ そして、イメージセンサ４５の位置は、フィルム側マー
クと一定距離だけ離れて配置している。すなわちこの距
離を考慮してイメージセンサ４５に入力された投影像を
検出すると、フィルムＦ上での投影像を検出することが
できる。さらにはフィルム側マークから少し離れた位置
とイメージセンサ４５が合焦していてもその離れた距離
を換算すればフィルムＦ上の投影像は検出できる。 ［００１９］ また、このような制御は、回路パターンを焼き付ける前
に行うわけである力板このイメージセンサ４５に入力さ
れる波長を回路パターンに焼き付ける波長と異なるもの
を使う場合は、フィルム側マークから少し離れた位置と
イメージセンサ４５が合焦していることが好ましい。 ［００２０１ ６０はフィルム送り機構であり、投影レンズ２０による
像の投影位置にフィルムＦの１コマをステップさせる。 ６１は送りローラ、６３は押さえローラ、６４はスプロ
ケットローラ、６５は押さえローラ、６６．６７は補助
ローラ、６８は供給ローラ、６９は巻取ローラである。 ［００２１］ 次に本発明のフィルム露光装置における焦点合わせ作業
を具体的に説明する。 フィルムＦ上に投影された投影像はフィルム側マークと
して設けられた穴を通して、ステージ３０の検出部４０
に入射される。そして対物レンズ４１を入射した像はハ
ーフミラ−４４によって屈折される。そして屈折光はイ
メージセンサ４５に入射される。この時、イメージセン
サ４５はモニタ系として働き、フィルムＦ上の投影像を
モニタすることになる。ここでイメージセンサ４５はフ
ィルム側マークとしての穴にできる焦点合わせ用マーク
の空中像と合焦するように配置されている。 ［００２２］ この場合の焦点合わせ用のマークは、前述の如く十文字
であるため、イメージセンサ４５に入力されたこの投影
像はモニター系で第３図（ａ）のように映る。 このイメージセンサ４５は、例えばＣＣＤが配列して構
成されており、例えば所定の検出ライン６０が設定され
る。このため検出ライン６０も当然ながらラインに沿っ
てＣＣＤが配列されている。そして焦点合わせ用マーク
である十文字と当該検出ライン６０が重なった部分６１
においては、当該照射部１からの放射光が通過して、ス
テージ３０上でフィルム側マークに投影された像を示し
ていることになる。 ［００２３］ 図３（ｂ）は６１の部分のイメージセンサ４５における
光量を示した図である。すなわち、この６１の部分にお
いて検出ライン６０上に配置された各々のＣＣＤによっ
て受光量を検出されている。図中において、縦方向は受
光量を示し、横方向は検出ライン６０を示す。例えば、
図中の実線６２は、はぼ方形波状を示しており、６１の
部分におけるＣＣＤの受光量は全てにおいて高くバラツ
キもないことを示している。すなわち、焦点があった状
態（合焦状態）を示している。 ［００２４］ 一方、点線６３は、６１の部分の中で光量の高い点と低
い点がある山形の形状を示しており、焦点がそれほど合
っていない状態を示している。以下、点線６３に基づき
焦点合わせの動作を具体的に説明する。十文字の部分６
１における各々のＣＣＤが受光した光量のうち、６６は
ピーク値を示している。このピーク値６６の光量に対す
る８０％の光量の点を６４で示す。同じく６０％の点を
６５で示す。この８０％の点６４と、−６０％の点６５
は、検出ライン６０上のＣＣＤのいづれかで受光されて
いるわけで、横軸方向において、その位置の距離の差が
零に近いほど光量のバラツキは少なく焦点は合っている
といえる。 ［００２５］ 一方、この差が太きいとフィルム上の投影像は焦点が合
っていない状態と判断される。このように、イメージセ
ンサ４５における検出ライン６０でのポイントにおける
光量を検出することによって焦点状態を検出することが
できる。この状態を検出した信号は、システムコントロ
ーラ５０に送信される。システムコントローラ５０では
、焦点があっていると判断できる所定の基準値を基に信
号をレチクル移動機構１２及び投影レンズ移動機構２１
に送る。そしてレチクル１０及び投影レンズ２０を光軸
方向に移動させて、焦点合わせを行う。このようにして
当該露光装置においては、フィルムＦの１コマ毎に、そ
の投影像をイメージセンサ４５にてモニタして、レチク
ル１０及び投影レンズ２０を光軸方向に移動させて自動
的に焦点合わせ制御をすることができる。また、焦点合
わせの制御は必ずしも１コマ毎に行う必要があるわけで
はなく、例えば１０コマとが３０コマとがいうように、
何コマか毎に検出制御するような構成であっても同様の
効果が得られる。 ［００２６］ また、検出ライン６０上でのポイントは、ピーク光量値
の８０％及び２０％を設定したが、別にこのポイントに
限られるものではない。またイメージセンサ４５として
はこの場合ＣＣＤを採用したが、他にも真空管型イメー
ジセンサを使用することができる。 ［００２７］ また、本発明の実施例では焦点合わせのため投影像を検
出してフィルムＦにフィルム側マーク（穴）を使ってい
るが、フィルム側マークは穴に限るものではなく、例え
ばフィルム上に透光部分を設けてもよい。 ［００２８］
本発明の実施例のフィルム露光装置の説明図である。 ［００１３］ 図１はその内部に光源１１やこの光源１１からの放射光
を反射ミラーやインテグレータレンズから構成される照
射部である。光源１１としては、超高圧水銀灯のように
レジストが感度を有する光を効率的に放射するものが適
用される。 ［００１４］ １０はレチクルであり、照射部１からの光が照射される
位置に配置されている。このレチクル１０は、フィルム
Ｆに投影して転写するべき回路パターンのほか、後述す
るフィルム側焦点合わせマークに対応する焦点合わせ用
マークが構成されている。 ［００１５］ この焦点合わせ用マークは例えば方形状の不透明部分に
十文字の透明部分を設けて構成している。そしてフィル
ム側マークはフィルムＦの１コマ毎に、例えば丸型の穴
もしくは透光部で構成される。 ［００１６］ １２はレチクル位置調節機構であり、例えばサーボモー
タよりなる。２０は投影レンズであり、照射されたレチ
クル１０の像を投影するものである。この投影レンズ２
０は例えば露光線幅１１０Ａｔの解像度を有するもので
ある。２１はこの投影レンズ２０の投影レンズ位置調節
機構である。そして後述のシステムコントローラ５０に
よってレチクル位置調節機構１２や投影レンズ位置調節
機構２１は駆動される。そして、レチクル１０及び投影
レンズ２０を光軸方向Ｙに変位させる。３０はステージ
であり、図２に示すように露光されるべきフィルムＦの
１コマが露光位置にステップ送りして停止される。この
停止については、正確な露光位置に行う必要があり、こ
の方法については例えば特開平２−８１３３６号に示さ
れる。そして露光時のみフィルムＦを真空吸着する真空
吸着孔３１が設けられている。 ［００１７］ ４０は検出部であり、対物レンズ４１、集光レンズ４２
、ホトダイオード等よりなる受光器４３、ハーフミラ−
４４、及びハーフミラ−４４より屈折された光を検知す
るＣＣＤ等よりなるイメージセンサ４５より構成される
。このイメージセンサ４５にはフィルムＦ上のフィルム
側マーク上における空中像が入射される［００１８］ そして、イメージセンサ４５の位置は、フィルム側マー
クと一定距離だけ離れて配置している。すなわちこの距
離を考慮してイメージセンサ４５に入力された投影像を
検出すると、フィルムＦ上での投影像を検出することが
できる。さらにはフィルム側マークから少し離れた位置
とイメージセンサ４５が合焦していてもその離れた距離
を換算すればフィルムＦ上の投影像は検出できる。 ［００１９］ また、このような制御は、回路パターンを焼き付ける前
に行うわけである力板このイメージセンサ４５に入力さ
れる波長を回路パターンに焼き付ける波長と異なるもの
を使う場合は、フィルム側マークから少し離れた位置と
イメージセンサ４５が合焦していることが好ましい。 ［００２０１ ６０はフィルム送り機構であり、投影レンズ２０による
像の投影位置にフィルムＦの１コマをステップさせる。 ６１は送りローラ、６３は押さえローラ、６４はスプロ
ケットローラ、６５は押さえローラ、６６．６７は補助
ローラ、６８は供給ローラ、６９は巻取ローラである。 ［００２１］ 次に本発明のフィルム露光装置における焦点合わせ作業
を具体的に説明する。 フィルムＦ上に投影された投影像はフィルム側マークと
して設けられた穴を通して、ステージ３０の検出部４０
に入射される。そして対物レンズ４１を入射した像はハ
ーフミラ−４４によって屈折される。そして屈折光はイ
メージセンサ４５に入射される。この時、イメージセン
サ４５はモニタ系として働き、フィルムＦ上の投影像を
モニタすることになる。ここでイメージセンサ４５はフ
ィルム側マークとしての穴にできる焦点合わせ用マーク
の空中像と合焦するように配置されている。 ［００２２］ この場合の焦点合わせ用のマークは、前述の如く十文字
であるため、イメージセンサ４５に入力されたこの投影
像はモニター系で第３図（ａ）のように映る。 このイメージセンサ４５は、例えばＣＣＤが配列して構
成されており、例えば所定の検出ライン６０が設定され
る。このため検出ライン６０も当然ながらラインに沿っ
てＣＣＤが配列されている。そして焦点合わせ用マーク
である十文字と当該検出ライン６０が重なった部分６１
においては、当該照射部１からの放射光が通過して、ス
テージ３０上でフィルム側マークに投影された像を示し
ていることになる。 ［００２３］ 図３（ｂ）は６１の部分のイメージセンサ４５における
光量を示した図である。すなわち、この６１の部分にお
いて検出ライン６０上に配置された各々のＣＣＤによっ
て受光量を検出されている。図中において、縦方向は受
光量を示し、横方向は検出ライン６０を示す。例えば、
図中の実線６２は、はぼ方形波状を示しており、６１の
部分におけるＣＣＤの受光量は全てにおいて高くバラツ
キもないことを示している。すなわち、焦点があった状
態（合焦状態）を示している。 ［００２４］ 一方、点線６３は、６１の部分の中で光量の高い点と低
い点がある山形の形状を示しており、焦点がそれほど合
っていない状態を示している。以下、点線６３に基づき
焦点合わせの動作を具体的に説明する。十文字の部分６
１における各々のＣＣＤが受光した光量のうち、６６は
ピーク値を示している。このピーク値６６の光量に対す
る８０％の光量の点を６４で示す。同じく６０％の点を
６５で示す。この８０％の点６４と、−６０％の点６５
は、検出ライン６０上のＣＣＤのいづれかで受光されて
いるわけで、横軸方向において、その位置の距離の差が
零に近いほど光量のバラツキは少なく焦点は合っている
といえる。 ［００２５］ 一方、この差が太きいとフィルム上の投影像は焦点が合
っていない状態と判断される。このように、イメージセ
ンサ４５における検出ライン６０でのポイントにおける
光量を検出することによって焦点状態を検出することが
できる。この状態を検出した信号は、システムコントロ
ーラ５０に送信される。システムコントローラ５０では
、焦点があっていると判断できる所定の基準値を基に信
号をレチクル移動機構１２及び投影レンズ移動機構２１
に送る。そしてレチクル１０及び投影レンズ２０を光軸
方向に移動させて、焦点合わせを行う。このようにして
当該露光装置においては、フィルムＦの１コマ毎に、そ
の投影像をイメージセンサ４５にてモニタして、レチク
ル１０及び投影レンズ２０を光軸方向に移動させて自動
的に焦点合わせ制御をすることができる。また、焦点合
わせの制御は必ずしも１コマ毎に行う必要があるわけで
はなく、例えば１０コマとが３０コマとがいうように、
何コマか毎に検出制御するような構成であっても同様の
効果が得られる。 ［００２６］ また、検出ライン６０上でのポイントは、ピーク光量値
の８０％及び２０％を設定したが、別にこのポイントに
限られるものではない。またイメージセンサ４５として
はこの場合ＣＣＤを採用したが、他にも真空管型イメー
ジセンサを使用することができる。 ［００２７］ また、本発明の実施例では焦点合わせのため投影像を検
出してフィルムＦにフィルム側マーク（穴）を使ってい
るが、フィルム側マークは穴に限るものではなく、例え
ばフィルム上に透光部分を設けてもよい。 ［００２８］
以上説明したように、本発明のフィルム露光装置によれ
ば、投影露光させるべきフィルムの１コマ毎に対して、
その投影像をイメージセンサによってモニタして、し、
チクル及び投影レンズもしくはいずれが一方を移動させ
て自動的にピント合わせ制御をすることができる。この
ため露光作業の開始後においても、当該装置が何らかの
理由で振動した場合等であっても、これら振動に対応し
て投影像に焦点合わせ制御をすることができる。このた
め常に良好状態で露光作業を達成することができる。
ば、投影露光させるべきフィルムの１コマ毎に対して、
その投影像をイメージセンサによってモニタして、し、
チクル及び投影レンズもしくはいずれが一方を移動させ
て自動的にピント合わせ制御をすることができる。この
ため露光作業の開始後においても、当該装置が何らかの
理由で振動した場合等であっても、これら振動に対応し
て投影像に焦点合わせ制御をすることができる。このた
め常に良好状態で露光作業を達成することができる。
【図１】
本発明のフィルム露光装置に係る説明図である。
【図２】
投影面における投影像の検出に関する説明図である。
【図３】
（ａ）、（ｂ）は焦点合わせの動作を説明する図である
。
。
１ 照射部
１０ レチクル
１２ レチクル位置調節機構
２０ 投影レンズ
２１ 投影レンズ位置調節機構
４０ 検出部
Ｆ フイルム
【図１】
図面
【図２】
【図３】
（ａ）
Claims (1)
- 【請求項１】 帯状のフイルムの長さ方向に沿って順次
に回路パターンを露光していくフィルム露光装置であっ
て、照射部と、照射部からの光が照射される位置に配置
され、投影するべき回路パターンとは別に焦点合わせ用
のマークを有するレチクルと、レチクルの像を投影する
投影レンズと、レチクルを光軸方向に変位させて位置を
調節するレチクル位置調節機構と、投影レンズを光軸方
向に変位させて位置を調節する投影レンズ位置調節機構
と、帯状のフィルムはその１コマ毎に、焦点合わせ用マ
ークの空中像が投影される穴もしくは透光部を有してい
て、この穴もしくは透光部から一定距離だけ離れた位置
において合焦するように配置されたイメージセンサと、
イメージセンサに入力された、焦点合わせ用マークの投
影像の、光量のバラツキを検出する手段を有して、この
検出手段からの信号によって、レチクル位置調節機構及
び／又は投影レンズ位置調節機構を駆動させて、帯状の
フイルムの１コマ毎に対して、自動的に合焦することが
可能なシステムコントローラと、よりなることを特徴と
するフィルム露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2419080A JP2786945B2 (ja) | 1990-08-10 | 1990-12-21 | フィルム露光装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2-210477 | 1990-08-10 | ||
| JP21047790 | 1990-08-10 | ||
| JP2419080A JP2786945B2 (ja) | 1990-08-10 | 1990-12-21 | フィルム露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04146441A true JPH04146441A (ja) | 1992-05-20 |
| JP2786945B2 JP2786945B2 (ja) | 1998-08-13 |
Family
ID=26518074
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2419080A Expired - Fee Related JP2786945B2 (ja) | 1990-08-10 | 1990-12-21 | フィルム露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2786945B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009037026A (ja) * | 2007-08-02 | 2009-02-19 | Ushio Inc | 帯状ワークの露光装置及び帯状ワークの露光装置におけるフォーカス調整方法 |
-
1990
- 1990-12-21 JP JP2419080A patent/JP2786945B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009037026A (ja) * | 2007-08-02 | 2009-02-19 | Ushio Inc | 帯状ワークの露光装置及び帯状ワークの露光装置におけるフォーカス調整方法 |
| TWI381252B (zh) * | 2007-08-02 | 2013-01-01 | Ushio Electric Inc | A focal length adjustment method for an exposure apparatus of a belt-like workpiece and an exposure apparatus for a belt-like workpiece |
| KR101217406B1 (ko) * | 2007-08-02 | 2013-01-02 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 띠형상 워크의 노광 장치 및 띠형상 워크의 노광 장치에있어서의 포커스 조정 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2786945B2 (ja) | 1998-08-13 |
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