JPH0413613A - 特に有機アミノ化合物と相容しうる歯磨き組成物用シリカ - Google Patents
特に有機アミノ化合物と相容しうる歯磨き組成物用シリカInfo
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Landscapes
- Cosmetics (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、特に歯磨き用組成物に有用なシリカ、その製
造方法および該シリカを混入した歯磨き用組成物に関す
る。
造方法および該シリカを混入した歯磨き用組成物に関す
る。
シリカが歯磨き用組成物の製造に広く用いられ、而して
該組成物でいくつかの機能を果たしうることは知られて
いる。
該組成物でいくつかの機能を果たしうることは知られて
いる。
それは先ず研磨剤として機能しつる。その機械的作用は
歯石の除去を助成する。それはまた、歯磨きに特定の流
動学的性質を与える増粘剤として且つ所望の着色を与え
る蛍光剤としても役立ちつる。
歯石の除去を助成する。それはまた、歯磨きに特定の流
動学的性質を与える増粘剤として且つ所望の着色を与え
る蛍光剤としても役立ちつる。
更に、歯磨きが一般に、虫歯予防薬として用いられるぶ
つ化物源、通常ふつ化ナトリウム若しくはモノフルオロ
ホスフェート; バインダー例えばカラジーナンの如き
藻コロイド、グアーガム又はキサンタンガム; 保湿剤
(ポリアルコール例えばグリセリン、ソルビット、キシ
リットおよびプロピレングリコールでありうる)を含有
することは知られている。随意成分例えば表面活性剤、
歯石ないし歯石低減剤、味補正剤、着色剤、顔料等も亦
存在する。
つ化物源、通常ふつ化ナトリウム若しくはモノフルオロ
ホスフェート; バインダー例えばカラジーナンの如き
藻コロイド、グアーガム又はキサンタンガム; 保湿剤
(ポリアルコール例えばグリセリン、ソルビット、キシ
リットおよびプロピレングリコールでありうる)を含有
することは知られている。随意成分例えば表面活性剤、
歯石ないし歯石低減剤、味補正剤、着色剤、顔料等も亦
存在する。
歯磨き処方の別異の成分のうち有機アミノ化合物がある
。用語「有機アミノ化合物」は歯磨き処方に用いられる
活性分子にして、窒素原子少なくとも1個を含有する分
子を意味するものと理解される。更に特定するに、下記
化合物に言及することができる: 虫歯予防薬として用いられるふっ素含有アミン特に長鎖
アミノ酸又はふっ化水素とのアミノ付加物例えばセチル
アミンヒドロフルオリド、ビス−(ヒドロキシエチル)
アミノプロピル−N−ヒドロキシエチルオクタデシルア
ミンジヒドロフルオリド、オクタデシイルアミンフルオ
リドおよびNN’、N’−1−リー(ポリオキシエチレ
ン)−N−ヘキサデシルプロピレンジアミンジヒドロフ
ルオリド; 過酸化水素による第三脂肪族アミンの酸化
により得られる非イオン表面活性剤として用いられるア
ミノオキシド、特に、式R(CH,)、N −0(Rは
炭素原子約10〜24個の直鎖ないし枝分れ鎖アルキル
基である)のアルキルアミンオキシドに言及される。
。用語「有機アミノ化合物」は歯磨き処方に用いられる
活性分子にして、窒素原子少なくとも1個を含有する分
子を意味するものと理解される。更に特定するに、下記
化合物に言及することができる: 虫歯予防薬として用いられるふっ素含有アミン特に長鎖
アミノ酸又はふっ化水素とのアミノ付加物例えばセチル
アミンヒドロフルオリド、ビス−(ヒドロキシエチル)
アミノプロピル−N−ヒドロキシエチルオクタデシルア
ミンジヒドロフルオリド、オクタデシイルアミンフルオ
リドおよびNN’、N’−1−リー(ポリオキシエチレ
ン)−N−ヘキサデシルプロピレンジアミンジヒドロフ
ルオリド; 過酸化水素による第三脂肪族アミンの酸化
により得られる非イオン表面活性剤として用いられるア
ミノオキシド、特に、式R(CH,)、N −0(Rは
炭素原子約10〜24個の直鎖ないし枝分れ鎖アルキル
基である)のアルキルアミンオキシドに言及される。
また、式R(CH,(:RtOH) J−〇のアミンオ
キシド; カチオン表面活性剤として用いられる第、第
二、第三ないし第四脂肪族アミンでありうるアルキルア
ミン例えば式R−CH,NH2の化合物又は式R−N(
CHs)*のジメチルアルキルアミンおよびセチルトリ
メチルアンモニウムプロミド; アルキルベタイン(N
−ジメチルグリシンのN−アルキル誘導体)およびアル
キルアミドアルキルベタイン(以下アルキルベタインと
呼称)にも言及することができる。
キシド; カチオン表面活性剤として用いられる第、第
二、第三ないし第四脂肪族アミンでありうるアルキルア
ミン例えば式R−CH,NH2の化合物又は式R−N(
CHs)*のジメチルアルキルアミンおよびセチルトリ
メチルアンモニウムプロミド; アルキルベタイン(N
−ジメチルグリシンのN−アルキル誘導体)およびアル
キルアミドアルキルベタイン(以下アルキルベタインと
呼称)にも言及することができる。
この種の両性表面活性剤の例は式:
%式%
のアルキルベタインおよび式:
CH。
R−CO−NHi −(CHs)s −N” −
CHi −COO−CHi (Rは炭素原子10〜24個の直鎖ないし枝分れ鎖アル
キル基である) のアルキルアミドプロピルジメチルベタインである。
CHi −COO−CHi (Rは炭素原子10〜24個の直鎖ないし枝分れ鎖アル
キル基である) のアルキルアミドプロピルジメチルベタインである。
有機アミノ化合物の存在はシリカとの相容性という問題
を惹起する。斯くして、特にその吸収力の結果、該化合
物と反応する傾向を有し得、そのためシリカはその機能
をもはや果たすことができない。
を惹起する。斯くして、特にその吸収力の結果、該化合
物と反応する傾向を有し得、そのためシリカはその機能
をもはや果たすことができない。
斯くして、本発明の目的は、新規なシリカにして、更に
特定するに前記有機アミノ化合物持にその種のふっ素含
有アミンおよびベタインと相客し得面して歯磨きの処方
に用いることのできるシリカを提供することである。
特定するに前記有機アミノ化合物持にその種のふっ素含
有アミンおよびベタインと相客し得面して歯磨きの処方
に用いることのできるシリカを提供することである。
本発明の別の目的は、歯磨き処方物中に存在する種々の
カチオン例えば亜鉛、ストロンチウム、錫等に関して良
好な相容性を有するシリカを供することである。
カチオン例えば亜鉛、ストロンチウム、錫等に関して良
好な相容性を有するシリカを供することである。
本発明の他の目的は、グアニジンタイプの化合物持にビ
ス−ビグアニド(その最も代表的要素はクロルヘキシジ
ンである)とできるだけ相客しつるシリカを供すること
である。
ス−ビグアニド(その最も代表的要素はクロルヘキシジ
ンである)とできるだけ相客しつるシリカを供すること
である。
本発明の更に他の目的は斯かる相容性シリカの製造方法
である。
である。
本出願人は、求められている相容性が本質上使用シリカ
の表面化学に依存することを見出した0本出願人はまた
、シリカを確実に相容性にするだめにシリカの表面に関
していくつかの条件を確立した。
の表面化学に依存することを見出した0本出願人はまた
、シリカを確実に相容性にするだめにシリカの表面に関
していくつかの条件を確立した。
本発明に従ったシリカの特徴は、pHがシリカ濃度を関
数として下記二つの不等式:%式%() [不等式(Ia)および(Ib)において、(C)は、
5iO−%で表わされる水性シリカ懸濁物の重量濃度を
示す] により定義される領域で変動し、またpHがシリカの導
電率を関数として下記二つの不等式:%式%() [不等式(IIa)および(IIb)において、(D)
は、マイクロシーメンス・cm−’で表わされる水性シ
リカ懸濁物の導電率を示す] により定義される領域で変動する水性懸濁物になること
である。
数として下記二つの不等式:%式%() [不等式(Ia)および(Ib)において、(C)は、
5iO−%で表わされる水性シリカ懸濁物の重量濃度を
示す] により定義される領域で変動し、またpHがシリカの導
電率を関数として下記二つの不等式:%式%() [不等式(IIa)および(IIb)において、(D)
は、マイクロシーメンス・cm−’で表わされる水性シ
リカ懸濁物の導電率を示す] により定義される領域で変動する水性懸濁物になること
である。
本発明に従ったシリカの別の特徴は、それ力5少なくと
も4.0の酸度関数HOを有するとし)うことである。
も4.0の酸度関数HOを有するとし)うことである。
本発明に従ったシリカの他の特徴は、それがHm ”当
り12以下のOH一部位数を有するとし九うことである
。
り12以下のOH一部位数を有するとし九うことである
。
本発明に従ったシリカの他の特徴は、それが少なくとも
4の零チャージポイント(ZCP)を有するということ
である。
4の零チャージポイント(ZCP)を有するということ
である。
本発明に従ったシリカの一つの特徴は、それが有機アミ
ノ化合物との相容性少なくとも30%を有し、更に特定
するに、ふっ素含有アミン、アミンオキシド、アルキル
アミンおよびアルキルベタインよりなる群から選ばれる
有機アミノ化合物との相容性少なくとも50%好ましく
は少なくとも80%を有することである。
ノ化合物との相容性少なくとも30%を有し、更に特定
するに、ふっ素含有アミン、アミンオキシド、アルキル
アミンおよびアルキルベタインよりなる群から選ばれる
有機アミノ化合物との相容性少なくとも50%好ましく
は少なくとも80%を有することである。
本発明に従ったシリカの別の特徴は、それが金属カチオ
ンとの相容性少なくとも50%、更に特定するに少なく
とも70%を有するということである。
ンとの相容性少なくとも50%、更に特定するに少なく
とも70%を有するということである。
本発明に従ったシリカの他の特徴は、それがグアニジン
タイプの化合物持にクロルヘキシジンとの相容性少なく
とも30%特に少なくとも60%を有するということで
ある。
タイプの化合物持にクロルヘキシジンとの相容性少なく
とも30%特に少なくとも60%を有するということで
ある。
また、本発明は、その目的に、本発明に従ったシリカを
製造するに際し、珪酸塩と酸とを反応させて懸濁物ない
しシリカゲルとなし、6以上85以下のpHで最初のエ
ージングを行ない、6以下のpHで第二のエージングを
行なったのち、5以下のpHで第三のエージングを行な
い、シリカを分離し、該シリカを、20%5iO−懸濁
物に関して測定したときのpHが次式 %式%() (式中 eは0.6以上1.0以下の一定値であり、dは70以
上8.5以下の一定値であり、(D)はマイクロシーメ
ンス・co+−’で表わされる水性懸濁物の導電率を示
す) に従う水性懸濁物になるまで水で洗浄し、そして得られ
た懸濁物を乾燥することを特徴とする方法を有する。
製造するに際し、珪酸塩と酸とを反応させて懸濁物ない
しシリカゲルとなし、6以上85以下のpHで最初のエ
ージングを行ない、6以下のpHで第二のエージングを
行なったのち、5以下のpHで第三のエージングを行な
い、シリカを分離し、該シリカを、20%5iO−懸濁
物に関して測定したときのpHが次式 %式%() (式中 eは0.6以上1.0以下の一定値であり、dは70以
上8.5以下の一定値であり、(D)はマイクロシーメ
ンス・co+−’で表わされる水性懸濁物の導電率を示
す) に従う水性懸濁物になるまで水で洗浄し、そして得られ
た懸濁物を乾燥することを特徴とする方法を有する。
更に、本発明は、既述の如きシリカにして上記方法に従
い製造されるシリカを含有することを特徴とする歯磨き
用組成物に関する。
い製造されるシリカを含有することを特徴とする歯磨き
用組成物に関する。
本発明の他の特徴および利益は下記の説明および非制限
的例から明らかである。
的例から明らかである。
本発明に従ったシリカは、その水性懸濁物のpHが先に
示した式に従いその濃度およびその電動率を関数として
変動することを特徴とする。水性シリカ懸濁物の濃度お
よびその導電率を関数とするpHの測定方法を以下に示
す。
示した式に従いその濃度およびその電動率を関数として
変動することを特徴とする。水性シリカ懸濁物の濃度お
よびその導電率を関数とするpHの測定方法を以下に示
す。
既述の如(、本発明に従ったシリカの本質的特徴はその
表面化学である。更に詳述するに、この表面化学で組酌
すべき一つの様相は酸度である。斯くして、本発明に従
ったシリカの一つの特徴はその酸表面部位の力である。
表面化学である。更に詳述するに、この表面化学で組酌
すべき一つの様相は酸度である。斯くして、本発明に従
ったシリカの一つの特徴はその酸表面部位の力である。
ここで、用語酸度はルイスの意味で理解される。すなわ
ち、酸度は、成る部位が次式に従って示す塩基の電子対
受容傾向を表わす: B: 十 A −BA 本発明に従ったシリカを特性化するには、酸(この場合
シリカ)の、塩基からの電子対を受容する傾向を調べる
のにF1amll1ettが開発した「酸度関数JHo
が用いられる。斯くして、該関数HOは次の標準関係に
よって定義される: 本発明に従ったシリカの酸部位の力を Hammett法を用いて測定するために、Walli
ngによって最初に報告された指示薬が用いられる(J
、 Aa+、 CheIl、 Sac、、1950.7
2、p1164)。酸部位の力はカラー指示薬によって
測定され、またその酸形状〜塩基形状間の通過pKaは
使用条件下で知られる。
ち、酸度は、成る部位が次式に従って示す塩基の電子対
受容傾向を表わす: B: 十 A −BA 本発明に従ったシリカを特性化するには、酸(この場合
シリカ)の、塩基からの電子対を受容する傾向を調べる
のにF1amll1ettが開発した「酸度関数JHo
が用いられる。斯くして、該関数HOは次の標準関係に
よって定義される: 本発明に従ったシリカの酸部位の力を Hammett法を用いて測定するために、Walli
ngによって最初に報告された指示薬が用いられる(J
、 Aa+、 CheIl、 Sac、、1950.7
2、p1164)。酸部位の力はカラー指示薬によって
測定され、またその酸形状〜塩基形状間の通過pKaは
使用条件下で知られる。
斯くして、カラー変化を来す指示薬のpKaが低ければ
低いほど、酸部位の酸度は高い。二つの連続指示薬がど
の形状で吸着されるかを調べることによりHoの値を網
羅するのに有用なHamIIlett指示薬の非制限的
例な下記表に例示する: 指示薬 塩基形状 酸形状 pKaニュートラ
ルレッド イエロー レッド +68メチルレツド
イエロー レッド +4.87エニルアゾナフチル
アミン イエロー し ッ ド +
40p−ジメチルアミノアゾベンゼン イエ
ロー レッ ド + 332−アミノ−5−1ゾト
ルエン イエロー し ッ ド + 2
0ベンゼンアゾジフエニルアミン イエロー
し ッ ド + 154−ツメチルアミノ1シー
1−ナフタレン イエロー し ッ ド + 12
クリスタルバイオレツト ブルー
イエロー + 08ジンンナフルアセトン イエ
ロー し・ンド −30ベンザルアルデヒド 無色
イエロー −56アントラキノン 無色 イエロ
ー −82シリカに吸着される指示薬のカラーは酸部位
の力の尺度である。もしもカラーが指示薬の酸形状のカ
ラーであるなら、表面のHO関数値は指示薬のpKa以
下である。低いHo値は高い力酸部位に相当する。斯く
して、例えば、p−ジメチルアミノアゾベンゼンを以て
レッドカラーを示しまた2−アミノ−5−アゾトルエン
を以てイエローカラーを示すシリカは3.3〜2範囲の
酸度関数を宵する。
低いほど、酸部位の酸度は高い。二つの連続指示薬がど
の形状で吸着されるかを調べることによりHoの値を網
羅するのに有用なHamIIlett指示薬の非制限的
例な下記表に例示する: 指示薬 塩基形状 酸形状 pKaニュートラ
ルレッド イエロー レッド +68メチルレツド
イエロー レッド +4.87エニルアゾナフチル
アミン イエロー し ッ ド +
40p−ジメチルアミノアゾベンゼン イエ
ロー レッ ド + 332−アミノ−5−1ゾト
ルエン イエロー し ッ ド + 2
0ベンゼンアゾジフエニルアミン イエロー
し ッ ド + 154−ツメチルアミノ1シー
1−ナフタレン イエロー し ッ ド + 12
クリスタルバイオレツト ブルー
イエロー + 08ジンンナフルアセトン イエ
ロー し・ンド −30ベンザルアルデヒド 無色
イエロー −56アントラキノン 無色 イエロ
ー −82シリカに吸着される指示薬のカラーは酸部位
の力の尺度である。もしもカラーが指示薬の酸形状のカ
ラーであるなら、表面のHO関数値は指示薬のpKa以
下である。低いHo値は高い力酸部位に相当する。斯く
して、例えば、p−ジメチルアミノアゾベンゼンを以て
レッドカラーを示しまた2−アミノ−5−アゾトルエン
を以てイエローカラーを示すシリカは3.3〜2範囲の
酸度関数を宵する。
実験で、試験管にシリカ0.2gを入れ、シクロヘキサ
ン中100mg/lの指示薬溶液の存在で検定を行なう
。
ン中100mg/lの指示薬溶液の存在で検定を行なう
。
シリカはデシケータ−内予め190℃で2時間乾燥し、
湿気のない状態に保持する。撹拌の結果、吸着は、それ
が生じるとすれば、数分で生じ、肉眼で見えるカラー変
化が観察される。場合によっては、吸着されたカラー指
示薬の特徴的な吸収スペクトルを酸ないし塩基の画形状
で調べる。
湿気のない状態に保持する。撹拌の結果、吸着は、それ
が生じるとすれば、数分で生じ、肉眼で見えるカラー変
化が観察される。場合によっては、吸着されたカラー指
示薬の特徴的な吸収スペクトルを酸ないし塩基の画形状
で調べる。
本発明に従ったシリカの第一の特徴は、それが先に調べ
たように少なくとも4.0の酸度関数を有するというこ
とである。
たように少なくとも4.0の酸度関数を有するというこ
とである。
本発明に従ったシリカの表面状態は、酸表面部位の数に
関する条件が満たされる如きものである。数はnm”当
りのOH−ないしシラノール数で調べることができる。
関する条件が満たされる如きものである。数はnm”当
りのOH−ないしシラノール数で調べることができる。
この数は下記の如く測定される。0ト表面部位の数は、
190〜900°でシリカにより解放される水の量に比
べられる。シリカ試料は予め105℃で2時間乾燥する
。質量P0のシリカを熱天秤に入れ、190°で2時間
加熱して得られた質量をP +a。
190〜900°でシリカにより解放される水の量に比
べられる。シリカ試料は予め105℃で2時間乾燥する
。質量P0のシリカを熱天秤に入れ、190°で2時間
加熱して得られた質量をP +a。
とする。次いで、シリカを900’Cで2時間加熱して
新たに得られた質量をP9゜0とする。
新たに得られた質量をP9゜0とする。
OH一部位の数は次式により算定されるPl、。
式中
N0H−は表面nm”当りのOH一部位数でありAは、
BETにより測定され、m2/gで表わされる固体の比
表面積である。
BETにより測定され、m2/gで表わされる固体の比
表面積である。
この場合、本発明に従ったシリカは有利にも12以下更
に特定するに多くともlO或は6〜10の0)(−/n
m”を有する。
に特定するに多くともlO或は6〜10の0)(−/n
m”を有する。
本発明に従ったシリカのOH一部位の性質はその表面化
学の特性化をも構成し得、そしてまた、例え媒体のイオ
ン力が何であれ固体表面の電荷が零であるシリカ懸濁物
のpH番こより定義される零チャージポイントによって
も評価することカSできる。このZCPは、表面がイオ
ン不純物を全(含まない限り該表面の真のpHを測定す
る。
学の特性化をも構成し得、そしてまた、例え媒体のイオ
ン力が何であれ固体表面の電荷が零であるシリカ懸濁物
のpH番こより定義される零チャージポイントによって
も評価することカSできる。このZCPは、表面がイオ
ン不純物を全(含まない限り該表面の真のpHを測定す
る。
電荷は電位差計によって測定される。その方法の原理は
、所定のpHにおけるシリカ表面上での吸着ないし脱着
されるプロトンの総合)くランスを基礎とする。
、所定のpHにおけるシリカ表面上での吸着ないし脱着
されるプロトンの総合)くランスを基礎とする。
操作の総合バランスを説示する等式を基準番こして、零
表面電荷に相当する対照番こ関する表面電荷が次式によ
って示されることを立証するのGt容易である: 式中、 Aは固体の比表面積、m”/gを表わし、Mは懸濁物中
の固体量、gであり、 Fはファラデーであり、 (H4)又は(OH−3は夫々、固体上の過IIのHo
又はOH−イオンの表面単位当りの変化を表わす。
表面電荷に相当する対照番こ関する表面電荷が次式によ
って示されることを立証するのGt容易である: 式中、 Aは固体の比表面積、m”/gを表わし、Mは懸濁物中
の固体量、gであり、 Fはファラデーであり、 (H4)又は(OH−3は夫々、固体上の過IIのHo
又はOH−イオンの表面単位当りの変化を表わす。
ZCPを測定する実験法は次の如くである。
BerubeおよびBruynにより報告された方法を
用しする(J、 Co11oid Interface
Sc、、1968.27、p 305)、シリカを高
い固有抵抗脱イオン水(10メガオーム・cm)で予め
洗浄し、乾燥し次いで予備脱気する。実際には、KOH
若しくはHNO,を加えることによって、1O−5〜1
0−1モル/e範囲で変動しつる濃度で中性電解質(K
NO,)を含有するpHo=8.5の一連の溶液を調製
する。
用しする(J、 Co11oid Interface
Sc、、1968.27、p 305)、シリカを高
い固有抵抗脱イオン水(10メガオーム・cm)で予め
洗浄し、乾燥し次いで予備脱気する。実際には、KOH
若しくはHNO,を加えることによって、1O−5〜1
0−1モル/e範囲で変動しつる濃度で中性電解質(K
NO,)を含有するpHo=8.5の一連の溶液を調製
する。
これらの溶液に所定のシリカ量を加え、得られた懸濁物
のpHを安定化させ、25℃で窒素下24時間撹拌する
ことにより完遂する。すなわち、pH’oがその値とな
る。
のpHを安定化させ、25℃で窒素下24時間撹拌する
ことにより完遂する。すなわち、pH’oがその値とな
る。
標準溶液は、同じ懸濁物の一部を1100Orpで30
分間遠心処理して得られる上澄み液によって構成される
。すなわち、p H’oが該上澄み液のpHである。
分間遠心処理して得られる上澄み液によって構成される
。すなわち、p H’oが該上澄み液のpHである。
次いで、懸濁物および相当する標準溶液の所定容量のp
Hを、所要のKOH量を加えることによってpHoにし
、懸濁物および標準溶液を4時間安定化させる。■。□
−NoH−は、懸濁物又は標準溶液の既知容量(V)を
p H’oからpHoに通すべく加えられる塩基当量の
数である。
Hを、所要のKOH量を加えることによってpHoにし
、懸濁物および標準溶液を4時間安定化させる。■。□
−NoH−は、懸濁物又は標準溶液の既知容量(V)を
p H’oからpHoに通すべく加えられる塩基当量の
数である。
懸濁物および標準溶液の電位差計検定を、p Hf =
2.0に硝酸を加えることによりpHoを基準にして
実施する。好ましくは、その手順に、0、2 p H単
位のpH変化に相当する酸増分を加えることが含まれる
。各加入後、pHを1分間安定化させる。すなわち、V
u+・NH+はpHfに達するための酸当量の数を表わ
す。
2.0に硝酸を加えることによりpHoを基準にして
実施する。好ましくは、その手順に、0、2 p H単
位のpH変化に相当する酸増分を加えることが含まれる
。各加入後、pHを1分間安定化させる。すなわち、V
u+・NH+はpHfに達するための酸当量の数を表わ
す。
pHoから出発して、すべての懸濁物(少なくとも3種
のイオン力)およびすべての相当する標準溶液について
漸増するpH値を関数として、(VM+・NH+−Vo
H−・No+<−)の値をプロットする。
のイオン力)およびすべての相当する標準溶液について
漸増するpH値を関数として、(VM+・NH+−Vo
H−・No+<−)の値をプロットする。
各pH値(0,2単位ステップ)に関して、懸濁物と相
当する標準溶液のHoないしOH−の消費の間で差が生
じる。この操作をすべてのイオン力について反復するこ
とにより、表面のプロトン消費に相当する(H” )−
(OH−)の値が得られる。表面電荷を先に示した等式
により計算する。次いで、考慮されるイオン力すべてに
関して表面電荷曲線を、pHを関数としてプロットする
。ZCPは曲線の交差によって画成される。
当する標準溶液のHoないしOH−の消費の間で差が生
じる。この操作をすべてのイオン力について反復するこ
とにより、表面のプロトン消費に相当する(H” )−
(OH−)の値が得られる。表面電荷を先に示した等式
により計算する。次いで、考慮されるイオン力すべてに
関して表面電荷曲線を、pHを関数としてプロットする
。ZCPは曲線の交差によって画成される。
シリカ濃度はその比表面積を関数として調整される。例
えば、2%懸濁物を、3種のイオン力(0,1,0,0
1および0.001モル/ε)を有する50m2/gシ
リカに用いる。懸濁物100m1に関し0.1M水酸化
カルシウムを用いて検定を実施する。
えば、2%懸濁物を、3種のイオン力(0,1,0,0
1および0.001モル/ε)を有する50m2/gシ
リカに用いる。懸濁物100m1に関し0.1M水酸化
カルシウムを用いて検定を実施する。
実際には、zcp値が少なくとも4特に4〜6範囲であ
ることが好ましい。金属カチオンとのより良好な相容性
の場合、それは多くとも6.5である。ふっ素との相容
性が良好であるためには、ZCPは好ましくは多くとも
7である。
ることが好ましい。金属カチオンとのより良好な相容性
の場合、それは多くとも6.5である。ふっ素との相容
性が良好であるためには、ZCPは好ましくは多くとも
7である。
更に、相容性特にふっ素との相容性を改良するために、
シリカ中の、原子価2以上のカチオン含分が多くとも1
1000ppであることは有利である。本発明に従った
シリカのアルミニウム含分が多くとも500ppmであ
ることが望ましい。本発明に従ったシリカのイオン含量
は有利には多くとも200ppmである。また、好まし
い態様では、カルシウム含分は多くとも500ppm、
より好ましくは多くとも300ppmである。また、本
発明に従ったシリカは好ましくは多くとも50 p p
m更に特定するに多くとも10ppmの炭素含分を有す
る。
シリカ中の、原子価2以上のカチオン含分が多くとも1
1000ppであることは有利である。本発明に従った
シリカのアルミニウム含分が多くとも500ppmであ
ることが望ましい。本発明に従ったシリカのイオン含量
は有利には多くとも200ppmである。また、好まし
い態様では、カルシウム含分は多くとも500ppm、
より好ましくは多くとも300ppmである。また、本
発明に従ったシリカは好ましくは多くとも50 p p
m更に特定するに多くとも10ppmの炭素含分を有す
る。
本発明に従ったシリカは有機アミノ化合物と相客しつる
が、また歯磨き用組成物に用いられる種々の金属カチオ
ンとも相客しつる。斯くして、該組成物はなかんづく、
活性分子により供される原子価が1より高い金属カチオ
ンを含有しつる。
が、また歯磨き用組成物に用いられる種々の金属カチオ
ンとも相客しつる。斯くして、該組成物はなかんづく、
活性分子により供される原子価が1より高い金属カチオ
ンを含有しつる。
例えば、周期律表第2A、3A、4Aおよび8族から選
ばれる原子価が2以上の金属カチオンに言及される。更
に特定するに、第2A族のカチオンすなわちカルシウム
、ストロンチウムおよびバリウム、第3A族のカチオン
すなわちアルミニウムおよびインジウム、第4A族のカ
チオンすなわちゲルマニウム、錫および鉛、並びに第8
族のカチオンすなわちマンガン、鉄、ニッケル、亜鉛、
チタン、ジルコニウム、パラジウム等に言及される。
ばれる原子価が2以上の金属カチオンに言及される。更
に特定するに、第2A族のカチオンすなわちカルシウム
、ストロンチウムおよびバリウム、第3A族のカチオン
すなわちアルミニウムおよびインジウム、第4A族のカ
チオンすなわちゲルマニウム、錫および鉛、並びに第8
族のカチオンすなわちマンガン、鉄、ニッケル、亜鉛、
チタン、ジルコニウム、パラジウム等に言及される。
カチオンは無機塩例えば塩化物、ふつ化物、硝酸塩、燐
酸塩ないし硫酸塩の形であっても、或は有機酸塩例えば
酢酸塩、くえん酸塩等の形であってもよい。その特定例
はくえん酸亜鉛、硫酸亜鉛、塩化ストロンチウム、単塩
形(SnF、)若しくは複塩形(S n F z KF
)のふっ化錫、クロロふっ化第−錫5nC12Fおよ
びぶつ化亜鉛(Zn、Fg)である。
酸塩ないし硫酸塩の形であっても、或は有機酸塩例えば
酢酸塩、くえん酸塩等の形であってもよい。その特定例
はくえん酸亜鉛、硫酸亜鉛、塩化ストロンチウム、単塩
形(SnF、)若しくは複塩形(S n F z KF
)のふっ化錫、クロロふっ化第−錫5nC12Fおよ
びぶつ化亜鉛(Zn、Fg)である。
本発明に従ったシリカは種々の金属カチオン。
と相客しつる。後述のテストに従って定義されるシリカ
とカチオンとの相容性は少なくとも約50%好ましくは
少なくとも70%より好ましくは少なくとも80%であ
る。
とカチオンとの相容性は少なくとも約50%好ましくは
少なくとも70%より好ましくは少なくとも80%であ
る。
その結果、本発明に従ったシリカは、原子価が2以上の
カチオンを含有する歯磨き用組成物持に、くえん酸亜鉛
、硫酸亜鉛、塩化ストロンチウムおよびふり化錫の成分
少なくとも1種を混入した組成物に有利に用いることが
できる。
カチオンを含有する歯磨き用組成物持に、くえん酸亜鉛
、硫酸亜鉛、塩化ストロンチウムおよびふり化錫の成分
少なくとも1種を混入した組成物に有利に用いることが
できる。
本発明の特定の具体化に従えば、本発明のシリカは、グ
アニジン特にクロルヘキシジンとも相客しつる。以下に
記述のテストにより測定される相容性は少なくとも約3
0%である。それは改良され得、少なくとも60%好ま
しくは少なくとも90%である。
アニジン特にクロルヘキシジンとも相客しつる。以下に
記述のテストにより測定される相容性は少なくとも約3
0%である。それは改良され得、少なくとも60%好ま
しくは少なくとも90%である。
この場合、シリカはS04”−、C1−1NO1−1P
04−若しくはC〇−一タイブのアニオン含分が少なく
とも5・10−”モル/100gシリカである。該含分
が少ないほど、この相容性は高い、好ましい別法に従え
ば、それは多くともl−10−”モル更に特定するにO
12・1O−3モル/ 100 gシリカである。
04−若しくはC〇−一タイブのアニオン含分が少なく
とも5・10−”モル/100gシリカである。該含分
が少ないほど、この相容性は高い、好ましい別法に従え
ば、それは多くともl−10−”モル更に特定するにO
12・1O−3モル/ 100 gシリカである。
硫酸から調製されるシリカの場合、アニオン含量はS0
4”の重量含分によって、より適切に表わされる。この
場合、該含分は多くとも0,1%である。本発明の好ま
しい別法に従えば、それは多くとも0.05%更に特定
するに多くとも0.01%である。
4”の重量含分によって、より適切に表わされる。この
場合、該含分は多くとも0,1%である。本発明の好ま
しい別法に従えば、それは多くとも0.05%更に特定
するに多くとも0.01%である。
本発明に従ったシリカはグアニジンおよびビスグアニド
を含有する歯磨き用組成物での使用に特によく適してい
る。米国特許第3.934. OO2号および同第4,
110.083号に記載のものに言及することができる
。
を含有する歯磨き用組成物での使用に特によく適してい
る。米国特許第3.934. OO2号および同第4,
110.083号に記載のものに言及することができる
。
双格NFT45−007に従って測定される本発明に従
ったシリカのpHは概ね高くとも8更に特定するに6.
0〜7.5である。
ったシリカのpHは概ね高くとも8更に特定するに6.
0〜7.5である。
上記特性値は、先に列挙した有機アミン化合物、金属カ
チオンおよび場合によってはふつ化物およびグアニジン
特にクロルヘキシジンと相客しうるシリカを有すること
を可能にする。
チオンおよび場合によってはふつ化物およびグアニジン
特にクロルヘキシジンと相客しうるシリカを有すること
を可能にする。
上記の表面化学特性や相容性条件とは別に、本発明に従
ったシリカはまた、それを歯磨きでの使用に適したもの
とする物理的特性を有する。この構造特性について以下
記述する。
ったシリカはまた、それを歯磨きでの使用に適したもの
とする物理的特性を有する。この構造特性について以下
記述する。
一般に、本発明に従ったBET表面積は40〜600m
2/gであり、更に特定するに40〜350m2/gで
ある。そのCTAB表面積は通常40〜400m”/g
更に特定するに40〜200m2/g範囲で変動する。
2/gであり、更に特定するに40〜350m2/gで
ある。そのCTAB表面積は通常40〜400m”/g
更に特定するに40〜200m2/g範囲で変動する。
BET表面積は、Journal of the Am
erican ChemicalSociety 、
vol、60、p309.1938年2月および規格N
F XO−622+3.31に記載のBRUNAUER
−EMMET置LER法に従って測定される。
erican ChemicalSociety 、
vol、60、p309.1938年2月および規格N
F XO−622+3.31に記載のBRUNAUER
−EMMET置LER法に従って測定される。
CTAB表面積は規格ASTM D 3765に従って
測定される外面積であるが、ヘキサデシルトリメチルア
ンモニウムプロミド(CTAB)の吸着をpH9で実施
し、CTAB分子の投影面積として35A2を採用する
。
測定される外面積であるが、ヘキサデシルトリメチルア
ンモニウムプロミド(CTAB)の吸着をpH9で実施
し、CTAB分子の投影面積として35A2を採用する
。
本発明に従ったシリカは明らかに、歯磨きの分野で通常
識別される三つのタイプに相当しつる。斯くして、本発
明に従ったシリカは先ず研磨タイプのものでありうる。
識別される三つのタイプに相当しつる。斯くして、本発
明に従ったシリカは先ず研磨タイプのものでありうる。
而して、それは40〜300m2/g範囲のBET表面
積を有する。この場合、CTAB表面積は40〜loo
m”/gである。
積を有する。この場合、CTAB表面積は40〜loo
m”/gである。
本発明に従ったシリカは増粘タイプのものでもありうる
。而して、それは120〜450m”/g範囲更に特定
するに120〜200m2/gのBET表面積を存する
。そして、そのCTAB表面積は120〜400m”/
g範囲更に特定するに120〜200m” / gであ
る。
。而して、それは120〜450m”/g範囲更に特定
するに120〜200m2/gのBET表面積を存する
。そして、そのCTAB表面積は120〜400m”/
g範囲更に特定するに120〜200m” / gであ
る。
もう一つのタイプによれば、本発明に従ったシリカは二
機能であり得、而して80〜200m ” / gのB
ET表面積を有し、またCTAB表面積は80〜200
m2/ gである。
機能であり得、而して80〜200m ” / gのB
ET表面積を有し、またCTAB表面積は80〜200
m2/ gである。
また、本発明に従ったシリカは、フタル酸ジブチルを用
い規格NET30−022 (March53)に従っ
て測定するとき80〜500cff13/100g範囲
の吸油量を有しつる。更に特定するに、吸油量は研磨タ
イプのシリカでは100〜140cm”/100g範囲
、増粘タイプでは200〜400、そして二機能タイプ
では100〜300である。
い規格NET30−022 (March53)に従っ
て測定するとき80〜500cff13/100g範囲
の吸油量を有しつる。更に特定するに、吸油量は研磨タ
イプのシリカでは100〜140cm”/100g範囲
、増粘タイプでは200〜400、そして二機能タイプ
では100〜300である。
更にまた、歯磨きに用いるため、シリカは好ましくは1
〜10μmの粒度を有する。この平均粒度(d so)
はCoulterカウンターで測定される。
〜10μmの粒度を有する。この平均粒度(d so)
はCoulterカウンターで測定される。
見掛密度は一般に0.01〜0.3範囲で変動する。本
発明の特定の具体化によれば、シリカは沈降シリカであ
る。最後に1本発明に従ったシリカは、概ね1.440
〜1.465である屈折率を有する。
発明の特定の具体化によれば、シリカは沈降シリカであ
る。最後に1本発明に従ったシリカは、概ね1.440
〜1.465である屈折率を有する。
ここで、本発明に従ったシリカの製造方法を詳述する。
既述の如く、本方法は、珪酸塩と酸とを反応させて懸濁
物若しくはシリカゲルの形成をもたらすことを包含する
タイプのものである。
物若しくはシリカゲルの形成をもたらすことを包含する
タイプのものである。
注目すべきは、該懸濁物若しくはゲルに達するのに任意
の既知操作手順(珪酸塩沈殿への酸の添加、水沈殿若し
くは珪酸塩溶液への酸と珪酸塩との同時的全添加ないし
部分添加等)を用いることができ、またその選択が本質
的に、取得したいシリカの物理的特性に依拠するという
ことである。
の既知操作手順(珪酸塩沈殿への酸の添加、水沈殿若し
くは珪酸塩溶液への酸と珪酸塩との同時的全添加ないし
部分添加等)を用いることができ、またその選択が本質
的に、取得したいシリカの物理的特性に依拠するという
ことである。
本発明の一つの好ましい具体化は、水、S L Oxと
して表わされるシリカ含量0〜150g/lのコロイド
状シリカ分散体、珪酸塩は無機ないし有機塩好ましくは
アルカリ金属塩(例硫酸ナトリウム又は酢酸ナトリウム
)でありうる沈降剤に珪酸塩と酸とを同時に加えて懸濁
物ないしシリカゲルを調製することからなる。2種の試
薬は、pHが4〜lO好ましくは8.5〜95範囲で一
定に保持されるように同時に加えられる。温度は有利に
は60〜95℃である。
して表わされるシリカ含量0〜150g/lのコロイド
状シリカ分散体、珪酸塩は無機ないし有機塩好ましくは
アルカリ金属塩(例硫酸ナトリウム又は酢酸ナトリウム
)でありうる沈降剤に珪酸塩と酸とを同時に加えて懸濁
物ないしシリカゲルを調製することからなる。2種の試
薬は、pHが4〜lO好ましくは8.5〜95範囲で一
定に保持されるように同時に加えられる。温度は有利に
は60〜95℃である。
好ましくは20〜150 g/l範囲の濃度を有するコ
ロイド状シリカを調製するーっの手順は水性珪酸塩溶液
を例えば60〜95℃に加熱し、8〜10範囲のpH好
ましくは約9.5のpHが得られるまで該水性溶液に酸
を加えることからなる。5in2として表わされる水性
珪酸塩溶液の濃度は好ましくは20〜+50g/j2範
囲である。稀酸ないし濃酸を用いることができ、その規
定度は05〜36N好ましくは1〜2N範囲で変動しつ
る。
ロイド状シリカを調製するーっの手順は水性珪酸塩溶液
を例えば60〜95℃に加熱し、8〜10範囲のpH好
ましくは約9.5のpHが得られるまで該水性溶液に酸
を加えることからなる。5in2として表わされる水性
珪酸塩溶液の濃度は好ましくは20〜+50g/j2範
囲である。稀酸ないし濃酸を用いることができ、その規
定度は05〜36N好ましくは1〜2N範囲で変動しつ
る。
先に、用語珪酸塩は、有利なことにアルカリ金属珪酸塩
好ましくは、S i O2/ N a z 0重量比2
〜4より好ましくは3.5の珪酸ナトリウムを意味する
ものと理解された。酸は炭酸の如き気体であっても、或
は液体好ましくは硫酸であってもよい。
好ましくは、S i O2/ N a z 0重量比2
〜4より好ましくは3.5の珪酸ナトリウムを意味する
ものと理解された。酸は炭酸の如き気体であっても、或
は液体好ましくは硫酸であってもよい。
本発明のもう一つの工程で、懸濁物又はゲルをエージン
グ操作に付す。
グ操作に付す。
最初のエージングを、高くても8.5のpH例えば6〜
8.5好ましくは8で実施する。エージングは好ましく
は温時例えば60〜100℃より好ましくは95℃の温
度で10分〜2時間生じる。
8.5好ましくは8で実施する。エージングは好ましく
は温時例えば60〜100℃より好ましくは95℃の温
度で10分〜2時間生じる。
本発明の他の変法は、珪酸塩を含有する沈降剤に酸を、
所望のエージングpHが得られるまで漸次加えることに
よりW!P、漬物又はシリカゲルを調製することからな
る。この操作は好ましくは60〜95℃範囲の温度で遂
行される。懸濁物又はシリカゲルのエージングは既述の
条件下で生じる。
所望のエージングpHが得られるまで漸次加えることに
よりW!P、漬物又はシリカゲルを調製することからな
る。この操作は好ましくは60〜95℃範囲の温度で遂
行される。懸濁物又はシリカゲルのエージングは既述の
条件下で生じる。
次いで、6以下のpH好ましくは5〜6更に特定するに
55のpHで第二のエージングを行なう。温度および時
間条件は最初のエージングと同じである。このために、
酸を加えることによって、pHを所望のエージングpH
にする。例えば、硝酸、塩酸、硫酸若しくは燐酸の如き
無機酸又は、二酸化炭素ガスバブリングにより形成され
る炭酸が用いられる。
55のpHで第二のエージングを行なう。温度および時
間条件は最初のエージングと同じである。このために、
酸を加えることによって、pHを所望のエージングpH
にする。例えば、硝酸、塩酸、硫酸若しくは燐酸の如き
無機酸又は、二酸化炭素ガスバブリングにより形成され
る炭酸が用いられる。
第三のエージングは、5以下のpH好ましくは3〜5よ
り好ましくは約4のpHで実施される。
り好ましくは約4のpHで実施される。
温度および時間条件は二つの他のエージング操作と同じ
である。所望のエージングpHは酸の添加によって得ら
れる。次いで、任意の既知手段例えば減圧濾過器又はフ
ィルタープレスを用いてシリカを反応媒体から分離する
。斯くして、シリカケークを収集する。
である。所望のエージングpHは酸の添加によって得ら
れる。次いで、任意の既知手段例えば減圧濾過器又はフ
ィルタープレスを用いてシリカを反応媒体から分離する
。斯くして、シリカケークを収集する。
本発明に従った方法は次いで二つの主な変法に従い遂行
しつる。
しつる。
最初の変法は、有機アミノ化合物および原子価2以上の
金属カチオンと相容しつるシリカの製造に関する。この
場合、本方法には、乾燥前の懸濁物ないし媒体のpHが
次式: %式%([[) (式中 eは0.6以上10以下の一定値であり、dは7.0以
上8.5以下の一定値であり、(D)はマイクロシーメ
ンス・C「1で表わされる水性シリカ!!!漬物の導電
率を示す)に従うような条件でケークを洗浄することが
包含される。
金属カチオンと相容しつるシリカの製造に関する。この
場合、本方法には、乾燥前の懸濁物ないし媒体のpHが
次式: %式%([[) (式中 eは0.6以上10以下の一定値であり、dは7.0以
上8.5以下の一定値であり、(D)はマイクロシーメ
ンス・C「1で表わされる水性シリカ!!!漬物の導電
率を示す)に従うような条件でケークを洗浄することが
包含される。
このために、水による洗浄一般には脱イオン水および(
又は)pH2〜7の酸溶液による洗浄を観察することが
できる。
又は)pH2〜7の酸溶液による洗浄を観察することが
できる。
この酸溶液は例えば硝酸の如き無機酸の溶液でありうる
。
。
しかしながら、本発明の特定の具体化に従えば、酸溶液
を有機酸特に有機錯形成酸の溶液とすることができる。
を有機酸特に有機錯形成酸の溶液とすることができる。
この酸はカルボン酸、ジカルボン酸、ヒドロキシカルボ
ン酸およびアミノカルボン酸から選ぶことができる。斯
かる酸の例は酢酸であり、錯形成酸の例は酒石酸、マレ
イン酸、グリセリン酸、グルコン酸およびくえん酸であ
る。
ン酸およびアミノカルボン酸から選ぶことができる。斯
かる酸の例は酢酸であり、錯形成酸の例は酒石酸、マレ
イン酸、グリセリン酸、グルコン酸およびくえん酸であ
る。
特に無機酸の溶液を用いるとき、脱イオン水による最終
洗浄を実施することが荷利でありうる。
洗浄を実施することが荷利でありうる。
第二の変法は、グアニジン特にクロルヘキシジンとも相
容しつるシリカの製造に関する。
容しつるシリカの製造に関する。
同様の場合、より明白な洗浄が実施される。
それは、洗液の清液が得られ、しかもその導電率が高(
でも200マイクロシーメンス・cm−’好ましくは1
00マイクロシーメンス・01′以下になるまで続行さ
れねばならない。既述の如く、アニオン濃度が高くとも
5・101モル/ 100 gシリカであることが重要
である。
でも200マイクロシーメンス・cm−’好ましくは1
00マイクロシーメンス・01′以下になるまで続行さ
れねばならない。既述の如く、アニオン濃度が高くとも
5・101モル/ 100 gシリカであることが重要
である。
場合に依うては、洗浄操作を1回以上行なうことができ
、一般には水好ましくは脱イオン水および(又は)有機
酸特に先に言及した酸の水溶液による洗浄を2回実施す
ることができる。
、一般には水好ましくは脱イオン水および(又は)有機
酸特に先に言及した酸の水溶液による洗浄を2回実施す
ることができる。
実際的見地から、ケーク上に洗浄溶液を通し或はケーク
を、得られた懸濁物に導入することによって洗浄操作が
生じ得、続いて?戸塊の崩壊が行なわれる。斯くして、
ン戸塊は、乾燥に先立ち、任意の既知手段例えば高速回
転撹拌機を用いた崩壊操作に付される。
を、得られた懸濁物に導入することによって洗浄操作が
生じ得、続いて?戸塊の崩壊が行なわれる。斯くして、
ン戸塊は、乾燥に先立ち、任意の既知手段例えば高速回
転撹拌機を用いた崩壊操作に付される。
その結果、シリカケークは洗浄前又は洗浄後崩壊され且
つ任意の既知手段の使用により乾燥される。乾燥は、例
えば、トンネルないしマツフル炉内で或は熱風流れでの
微粒化により生じつる。
つ任意の既知手段の使用により乾燥される。乾燥は、例
えば、トンネルないしマツフル炉内で或は熱風流れでの
微粒化により生じつる。
その入り口温度は約200〜500℃範囲であり得、出
口温度は約80〜100℃範囲である。滞留時間はlO
秒〜S分間である。必要なら、所望の粒度を得るために
、乾燥物を粉砕することができる。操作は、羽根車式ミ
ル若しくはエアージェット式粉砕機の如き慣用装置で実
施される。
口温度は約80〜100℃範囲である。滞留時間はlO
秒〜S分間である。必要なら、所望の粒度を得るために
、乾燥物を粉砕することができる。操作は、羽根車式ミ
ル若しくはエアージェット式粉砕機の如き慣用装置で実
施される。
本発明はまた、記述したタイプの或は懸案の方法で得た
シリカを含有する歯磨き用組成物に関する。歯磨き用組
成物に用いられる本発明に従ったシリカの量は広い範囲
で変動し得、通常5〜35%である。
シリカを含有する歯磨き用組成物に関する。歯磨き用組
成物に用いられる本発明に従ったシリカの量は広い範囲
で変動し得、通常5〜35%である。
本発明によるシlツカは、弗化物、燐酸塩、グアニジン
及び特にクロルヘキシジンを包含する群から選択される
少なくとも1種の要素を含有する歯磨組成物に特に好適
に使用することができる。したがって、これらは後記す
る試験により、これら要素のそれぞれにつき少なくとも
90%の相容性を有することができる。
及び特にクロルヘキシジンを包含する群から選択される
少なくとも1種の要素を含有する歯磨組成物に特に好適
に使用することができる。したがって、これらは後記す
る試験により、これら要素のそれぞれにつき少なくとも
90%の相容性を有することができる。
これらは、有機アミノ成分及び二価以上の原子価の金属
陽イオンを供給する成分よりなる群から選択される少な
くとも1種の要素を含有する歯磨組成物にも適している
。この場合、これらは後記する試験により各要素につき
80%までの相容性を有することができる。
陽イオンを供給する成分よりなる群から選択される少な
くとも1種の要素を含有する歯磨組成物にも適している
。この場合、これらは後記する試験により各要素につき
80%までの相容性を有することができる。
本発明によるシリカは、単一の無機弗化物及び有機弗化
物の群から選択される少なくとも1種の要素と、アルキ
ルベンベンの群から選択される少なくとも1種の要素と
、グアニジン及び特にクロルヘキシジンの群から選択さ
れる少なくとも1種の要素とを同時に有する歯磨組成物
に特に適している。
物の群から選択される少なくとも1種の要素と、アルキ
ルベンベンの群から選択される少なくとも1種の要素と
、グアニジン及び特にクロルヘキシジンの群から選択さ
れる少なくとも1種の要素とを同時に有する歯磨組成物
に特に適している。
より詳細には、弗化ナトリウム及び(又は)弗化錫及び
(又は)弗素含有アミン、より詳細にはセチルアミン弗
化水素酸塩と、ビス−(ヒドロキシエチル)−アミノプ
ロピル−N−ヒドロキシエチル−オクタデシルアミン二
弗化水素酸塩と、アルキルベタインと、クロルヘキシジ
ンとを含有する組成物を挙げることができる。
(又は)弗素含有アミン、より詳細にはセチルアミン弗
化水素酸塩と、ビス−(ヒドロキシエチル)−アミノプ
ロピル−N−ヒドロキシエチル−オクタデシルアミン二
弗化水素酸塩と、アルキルベタインと、クロルヘキシジ
ンとを含有する組成物を挙げることができる。
本発明によるシリカはマレイン酸−ビニルエチルエーテ
ル共重合体に対し相容性であり、したがってこれら共重
合体からなる歯磨組成物に混入することができる。
ル共重合体に対し相容性であり、したがってこれら共重
合体からなる歯磨組成物に混入することができる。
弗素含有化合物に関し、その量は好ましくは0.01〜
1重量%、より詳細には0,1〜0.5重量%の範囲に
て組成物中の弗素濃度に対125する。弗素含有化合物
は特にモノフルオロ燐酸塩、より詳細にはナトリウム、
カリウム、リチウム、カルシウム、アルミニウム、アン
モニウムのモノフルオロ燐酸塩及びジフルオロ燐酸塩、
並びに結合イオン型における各種の弗素含有弗化物、特
にアルカリ金属弗化物、たとえばナトリウム、リチウム
、カリウム、アンモニウムの弗化物、弗化第一錫、弗化
マンガン、弗化ジルコン、弗化アルミニウムであり、ざ
ら(これら弗化物の相互間の或いは他の弗化物(たとえ
ば弗化カリウム、ナトリウム若しくはマンガン)との付
加生成物である。
1重量%、より詳細には0,1〜0.5重量%の範囲に
て組成物中の弗素濃度に対125する。弗素含有化合物
は特にモノフルオロ燐酸塩、より詳細にはナトリウム、
カリウム、リチウム、カルシウム、アルミニウム、アン
モニウムのモノフルオロ燐酸塩及びジフルオロ燐酸塩、
並びに結合イオン型における各種の弗素含有弗化物、特
にアルカリ金属弗化物、たとえばナトリウム、リチウム
、カリウム、アンモニウムの弗化物、弗化第一錫、弗化
マンガン、弗化ジルコン、弗化アルミニウムであり、ざ
ら(これら弗化物の相互間の或いは他の弗化物(たとえ
ば弗化カリウム、ナトリウム若しくはマンガン)との付
加生成物である。
たとえば弗化亜鉛、弗化ゲルマニウム、弗化パラジウム
、弗化チタンのような他の弗化物も本発明に使用するこ
とができ、ざらにたとえばナトリウム若しくはカリウム
のアルカリ金属フルオジルコネート、第一錫フルオジル
コネート及びナトリウム若しくはカリウムフルオサルフ
エート若しくはフルオボレートも使用することができる
。
、弗化チタンのような他の弗化物も本発明に使用するこ
とができ、ざらにたとえばナトリウム若しくはカリウム
のアルカリ金属フルオジルコネート、第一錫フルオジル
コネート及びナトリウム若しくはカリウムフルオサルフ
エート若しくはフルオボレートも使用することができる
。
本明細書の冒頭に示した有機弗素化合物も使用すること
ができ、好ましくは弗化せチルアミン及びビス−(ヒド
ロキシエチル)−アミノアロピル−N−ヒドロキシエチ
ル−オクタデシルアミン二弗化水素酸塩が挙げられる。
ができ、好ましくは弗化せチルアミン及びビス−(ヒド
ロキシエチル)−アミノアロピル−N−ヒドロキシエチ
ル−オクタデシルアミン二弗化水素酸塩が挙げられる。
二価以上の原子価の金属陽イオンを供給する成分に関し
、明細書中に挙げたもののうち特にしばしば用いられる
のはクエン酸亜鉛、硫酸亜鉛、塩化ストロンチウム及び
弗化錫である。
、明細書中に挙げたもののうち特にしばしば用いられる
のはクエン酸亜鉛、硫酸亜鉛、塩化ストロンチウム及び
弗化錫である。
ポリ*a塩、ポリホスホン酸塩、グアニジン及びごスー
ビグアニド型の歯垢予防剤として使用しうる要素につい
ては、米国特許第3934002@若しくは第4110
083号記載のものを挙げることができ、その教示を参
考のためここに引用する。
ビグアニド型の歯垢予防剤として使用しうる要素につい
ては、米国特許第3934002@若しくは第4110
083号記載のものを挙げることができ、その教示を参
考のためここに引用する。
ざらに歯磨組成物は結合剤をも含有することができる。
使用する主たる結合剤は特に次のものから選択される:
セルロース誘導体:メチルセルロース、ヒドロキシエチ
ルセルロース及びナトリウムカルボキシメチルセルロー
ス: 粘性物質:カラギネート、アルギネート、寒天−寒天及
びゲロース: ガムv4:アラビャゴム及びトラガカントガム、キサン
タンガム及びカラヤガム: カルホキジビニル及びアクリル重合体:ポリオキシエチ
レンIa4脂。
ルセルロース及びナトリウムカルボキシメチルセルロー
ス: 粘性物質:カラギネート、アルギネート、寒天−寒天及
びゲロース: ガムv4:アラビャゴム及びトラガカントガム、キサン
タンガム及びカラヤガム: カルホキジビニル及びアクリル重合体:ポリオキシエチ
レンIa4脂。
本発明によるシリカの他に、歯磨組成物はざらに沈降炭
酸カルシウム、炭酸マグネシウム、燐酸二カルシウム及
び三カルシウム、不)容性のメタ燐酸ナトリウム、ビa
fIJaカルシウム、二酸化チタン(白色化剤)、シリ
ケート、アルミナ、アルミノシリケート、酸化曲鉛及び
錫、タルク並びにカオリンから選択される1種若しくは
それ以上の研磨剤をも含有することができる。
酸カルシウム、炭酸マグネシウム、燐酸二カルシウム及
び三カルシウム、不)容性のメタ燐酸ナトリウム、ビa
fIJaカルシウム、二酸化チタン(白色化剤)、シリ
ケート、アルミナ、アルミノシリケート、酸化曲鉛及び
錫、タルク並びにカオリンから選択される1種若しくは
それ以上の研磨剤をも含有することができる。
ざら(歯磨組成物は表面活性剤、保湿剤、芳香剤、甘味
料、着色料及び保存料をも含有することができる。
料、着色料及び保存料をも含有することができる。
最も広く使用される表面活性剤はラウリル@酸ナトリウ
ム、ラウリルスルホ酢酸ナトリウム及びラウリルエーテ
ル硫酸ナトリウム、ジオクチルスルホコハク酸ナトリウ
ム、ラウリルサルコシン酸ナトリウム、リシルイン酸ナ
トリウム及び硫酸化モノグリセライドである。
ム、ラウリルスルホ酢酸ナトリウム及びラウリルエーテ
ル硫酸ナトリウム、ジオクチルスルホコハク酸ナトリウ
ム、ラウリルサルコシン酸ナトリウム、リシルイン酸ナ
トリウム及び硫酸化モノグリセライドである。
最も広く使用される保湿剤はポリアルコール類、たとえ
ばグリセリン、ツルじトール(特に水における10%溶
液として〉及びプロピレングリコールなどから選択され
る。
ばグリセリン、ツルじトール(特に水における10%溶
液として〉及びプロピレングリコールなどから選択され
る。
主たる芳香剤(香料)はアニス油、シキミ油、ハツカ油
、社松油、肉桂油、丁子油及びバラ油から選択される。
、社松油、肉桂油、丁子油及びバラ油から選択される。
主たる甘味料は、特にオルトスルホ安息香酸イミド及び
シクラメートから選択される。
シクラメートから選択される。
主たる着色料は、所望の色に応じて選択される。
すなわち:
赤色及び桃色:アラマンス、アシルビン、カテキュ、ニ
ューコクシン(PONeEAU 4R> 、Dチニル及
びエリスロシン; 緑色:クロロフィル及びクロロフィリン:黄色二サンイ
エロー(オレンジS)及びキノリンイエロー。
ューコクシン(PONeEAU 4R> 、Dチニル及
びエリスロシン; 緑色:クロロフィル及びクロロフィリン:黄色二サンイ
エロー(オレンジS)及びキノリンイエロー。
最も広く使用される保存料はバラヒドロキシベンゾエー
ト、ホルモール及びこれを発生する物質、ヘキシチジン
、第四アンモニウム、ヘキサクロロフェン、70モフエ
ン及びヘキサメジンである。
ト、ホルモール及びこれを発生する物質、ヘキシチジン
、第四アンモニウム、ヘキサクロロフェン、70モフエ
ン及びヘキサメジンである。
最後に歯磨組成物は治療剤をも含有し、その最も重要な
ものは防腐剤、抗生物質、酵素、オリゴ要素及び前記の
弗素含有化合物である。
ものは防腐剤、抗生物質、酵素、オリゴ要素及び前記の
弗素含有化合物である。
以下、限定はしないが本発明を実施例によりざらに説明
する。
する。
しかしながら、その前に、1llfi率及び濃度の関数
としてDHに関する測定方法を説明し、さらに種々異な
る要素に対するシリカの相容性を測定する試験について
も説明する。
としてDHに関する測定方法を説明し、さらに種々異な
る要素に対するシリカの相容性を測定する試験について
も説明する。
シリカ濃度及び導電率の関数としてDHを測 す企及広
0〜25重1%の範囲で変化する増大濃度のシリカ懸濁
物を、予め12[)”Cまで2時IJk:わたり乾燥さ
せた質量mのシリカを質1100mの脱イオンされかつ
脱ガスされた水(ミリポア品質)に分散させて作成した
。この懸濁物を25℃にて24時間撹拌した。
物を、予め12[)”Cまで2時IJk:わたり乾燥さ
せた質量mのシリカを質1100mの脱イオンされかつ
脱ガスされた水(ミリポア品質)に分散させて作成した
。この懸濁物を25℃にて24時間撹拌した。
懸濁物の1部をaooor’、 o、 va、にて40
分間にわたり遠心分離しかつ0.22iJsのミリポア
フィルタで濾過した後に得られた懸濁物及び溶液のpH
を、窒素雰囲気下でメト0−ムロ12チトロプロセツサ
測定装置により25℃(で測定した。
分間にわたり遠心分離しかつ0.22iJsのミリポア
フィルタで濾過した後に得られた懸濁物及び溶液のpH
を、窒素雰囲気下でメト0−ムロ12チトロプロセツサ
測定装置により25℃(で測定した。
同様にして、25℃で得られた懸濁物及び溶液の導電率
の測定を行ない、その際1 ca+−1に等しいセル定
数を有するCOC304セルを装着したラジオメータ導
電率計(C0M83)を用いた。導電率をμシーメンス
/’ Cmとて現す。
の測定を行ない、その際1 ca+−1に等しいセル定
数を有するCOC304セルを装着したラジオメータ導
電率計(C0M83)を用いた。導電率をμシーメンス
/’ Cmとて現す。
20%シリカ懸濁物のpHと遠心分離により分離された
上澄溶液のpHとの間のpH差により、懸濁効果(SE
)を規定する。
上澄溶液のpHとの間のpH差により、懸濁効果(SE
)を規定する。
(1)5(+の33%弗素含有アミンを95gの2回蒸
溜水におけるプロパンジオールに添加して、1.65%
の弗素含有アミンを含有する水溶液(1)を作成した。
溜水におけるプロパンジオールに添加して、1.65%
の弗素含有アミンを含有する水溶液(1)を作成した。
(2>4(+のシリカを、16(lの上記(1)で得ら
れた溶液に分散させた。このようにして得られた懸濁物
を37℃にて4週問にわたり撹拌した。
れた溶液に分散させた。このようにして得られた懸濁物
を37℃にて4週問にわたり撹拌した。
(3)次いで懸濁物を8000r、 p、 m、にて3
0分間遠心分離し、かつ(3)で得られた上澄液を0.
22脚のミリポアフィルタで濾過した。
0分間遠心分離し、かつ(3)で得られた上澄液を0.
22脚のミリポアフィルタで濾過した。
(4)i離弗素含有のアミン濃度を、上記(1)で得ら
れた溶液及び上記(3)で得られた上澄液(おいて窒素
の微量分析により決定した。
れた溶液及び上記(3)で得られた上澄液(おいて窒素
の微量分析により決定した。
(5)相容性は次の関係式により決定した:以下、弗素
含有アミン相容性%をAFと称する。
含有アミン相容性%をAFと称する。
セチルアミン弗化水素酸塩に対する相容性の測定(1)
1.72(+のせチルアミン弗素水素酸塩を913.2
8CIの2回蒸溜水に溶解して、172g%の弗素含有
アミンを含有する水溶液(1)を作成した。
1.72(+のせチルアミン弗素水素酸塩を913.2
8CIの2回蒸溜水に溶解して、172g%の弗素含有
アミンを含有する水溶液(1)を作成した。
(2) 4(lのシリカを、16(]の上記(])で得
られた溶液に分散させた。このようにして得られた懸濁
物を37℃にて4週間撹拌した。
られた溶液に分散させた。このようにして得られた懸濁
物を37℃にて4週間撹拌した。
(3)次いで懸濁物を8000r、 p、 mにて30
分間遠心分離し、かつ(3)で得られた上澄液を0.2
2柳のミリポアフィルタで濾過した。
分間遠心分離し、かつ(3)で得られた上澄液を0.2
2柳のミリポアフィルタで濾過した。
(4)遊離弗素含有のアミン濃度を、上記(1)で得ら
れた溶液及び上記(3)で得られた上澄液につき窒素の
微量分析で決定した。
れた溶液及び上記(3)で得られた上澄液につき窒素の
微量分析で決定した。
(5)相容性は次の関係式により決定した:以下、弗素
含有アミン相容性%をAFと称する。
含有アミン相容性%をAFと称する。
アルキルベタインに対する相容性の測−使用したアルキ
ルベタインは、アルモテリツクLB(登録商標)として
AKSO社により市販されている製品である。
ルベタインは、アルモテリツクLB(登録商標)として
AKSO社により市販されている製品である。
(i> 6.67gの30%アルキルベタインを93
.33gの2回蒸溜水(溶解して、2%アルキルベタイ
ンを含有する水溶液(1)を作成した。
.33gの2回蒸溜水(溶解して、2%アルキルベタイ
ンを含有する水溶液(1)を作成した。
(2>4gのシリカを、169の上記(1)で得られた
溶液に分散させた。このようにして得られた懸濁物を3
7℃にて4週問撹拌した。
溶液に分散させた。このようにして得られた懸濁物を3
7℃にて4週問撹拌した。
(3)次いで懸濁物を8000r、 p、+n、にて3
0分間遠心分離し、かつ(3)で得られた上澄液を0.
22−のミリポアフィルタで濾過した。
0分間遠心分離し、かつ(3)で得られた上澄液を0.
22−のミリポアフィルタで濾過した。
(4)遊離アルキルベタインの濃度を、上記(1)で得
られた溶液及び上記(3)で得られた上澄液につき有機
炭素の微量分析で決定した。
られた溶液及び上記(3)で得られた上澄液につき有機
炭素の微量分析で決定した。
(5)相容性は次の関係式により決定した:■下、アル
キルベタイン相容性%をa3etaと称する。
キルベタイン相容性%をa3etaと称する。
アルキルアミドアルキルベタインに対する相容性0■足
(1) 6.67(+の30%アルキルアミドアルキ
ルベタインを93.33Qの2回蒸溜水に溶解させて、
2.0%アルキルアミドアルキルベタインを含有する水
溶液(1)を作成した。
ルベタインを93.33Qの2回蒸溜水に溶解させて、
2.0%アルキルアミドアルキルベタインを含有する水
溶液(1)を作成した。
(2> Agのシワ力を、上記(1)で得られた16Q
の溶液に分散させた。このようにして得られた懸濁物を
37℃にて4週間撹拌した。
の溶液に分散させた。このようにして得られた懸濁物を
37℃にて4週間撹拌した。
(3)次いで懸濁物を800Or、 p、 mにて30
分間遠心分離し、かつ(3)で得られた上澄液を0.2
2柳のミリポアフィルタで濾過した。
分間遠心分離し、かつ(3)で得られた上澄液を0.2
2柳のミリポアフィルタで濾過した。
(4)遊離アルキルアミドフルキルベタインの濃度を、
上記(1)で得られた溶液及び上記(3〉で得られた上
澄液につき有機炭素の微量分析で決定した。
上記(1)で得られた溶液及び上記(3〉で得られた上
澄液につき有機炭素の微量分析で決定した。
(5)相容性は次の関係式により決定した:以下、アル
キルアミドアルキルベタイン相容性%をbetaと称す
る。
キルアミドアルキルベタイン相容性%をbetaと称す
る。
クロルヘキシジンに対する相容性の測−4Qのシリカを
、ジグルコン酸クロルヘキシジンの1%濃度を有する1
6gのクロルヘキシジン水溶液に分散させた。この懸濁
物を37℃にて24時間撹拌した。次いで懸濁物を20
00Or、 p、ra、にて30分間遠心分離し、かつ
得られた上澄液を0.2迦のミリポアフィルタで濾過し
た。このように濾過された0、5dの溶液をサンプリン
グし、かつ目盛り付フラスコにて100dの水で希釈し
た。この溶液が試験溶液を構成する。
、ジグルコン酸クロルヘキシジンの1%濃度を有する1
6gのクロルヘキシジン水溶液に分散させた。この懸濁
物を37℃にて24時間撹拌した。次いで懸濁物を20
00Or、 p、ra、にて30分間遠心分離し、かつ
得られた上澄液を0.2迦のミリポアフィルタで濾過し
た。このように濾過された0、5dの溶液をサンプリン
グし、かつ目盛り付フラスコにて100dの水で希釈し
た。この溶液が試験溶液を構成する。
同じ手順を用いたがシリカを使用せずに、比較溶液を作
成した。1%ジグルコン酸クロルヘキシジン水溶液を3
7℃にて24時間撹拌し、2000Or、 p、 mに
て遠心分離し、かつ上澄液を0.2mのミリポアフィル
タで濾過した。このようにして得られた溶液0.5dを
目盛り付フラスコ内で100−の水により希釈した。
成した。1%ジグルコン酸クロルヘキシジン水溶液を3
7℃にて24時間撹拌し、2000Or、 p、 mに
て遠心分離し、かつ上澄液を0.2mのミリポアフィル
タで濾過した。このようにして得られた溶液0.5dを
目盛り付フラスコ内で100−の水により希釈した。
次いで、これら2種の溶液の吸光度を254rv+にて
分光光度計(Uvikon810 / 820)により
測定した。
分光光度計(Uvikon810 / 820)により
測定した。
相容性%と称する遊離クロルヘキシジン量は、次の関係
式により決定した: 4gのシリカを16(]の00.3%弗化ナトリウム溶
液NaF)に分散させた。この懸濁物を37℃にて24
時間撹拌した。懸濁物を2000Or、 p、 m、に
て30分間遠心分離した後、上澄液を0.2μのミリポ
アフィルタで濾過した。このように得られた溶液が試験
溶液を構成する。同じ手順を用いたがシリカを使用せず
に、比較溶液を作成した。
式により決定した: 4gのシリカを16(]の00.3%弗化ナトリウム溶
液NaF)に分散させた。この懸濁物を37℃にて24
時間撹拌した。懸濁物を2000Or、 p、 m、に
て30分間遠心分離した後、上澄液を0.2μのミリポ
アフィルタで濾過した。このように得られた溶液が試験
溶液を構成する。同じ手順を用いたがシリカを使用せず
に、比較溶液を作成した。
弗化物に対する相容性は、選択弗化物電極(オリオン社
)により測定される遊離弗化物パーセントにより決定し
た。これは次の関係式により決定される: 4g(Dシ’)力ヲ100dの 0.06%ZnSO4
・7日20溶液に分散させた。懸濁物が得られ、そのD
HをNaOH若しくはH2SO4の添加により7に15
分間安定化させた。次いで、この懸濁物を37℃にて2
4時間撹拌し、かつ2000Or、 p、 m、にて3
0分間遠心分離した。上澄液を0.2−のミリポアフィ
ルタで濾過し、これが試験溶液を構成する。
)により測定される遊離弗化物パーセントにより決定し
た。これは次の関係式により決定される: 4g(Dシ’)力ヲ100dの 0.06%ZnSO4
・7日20溶液に分散させた。懸濁物が得られ、そのD
HをNaOH若しくはH2SO4の添加により7に15
分間安定化させた。次いで、この懸濁物を37℃にて2
4時間撹拌し、かつ2000Or、 p、 m、にて3
0分間遠心分離した。上澄液を0.2−のミリポアフィ
ルタで濾過し、これが試験溶液を構成する。
同じ手順を用いたがシリカを使用せずに、比較溶液を作
成した。2種の溶液の遊離亜鉛濃度は原子吸光度(21
4nm )にて決定した。
成した。2種の溶液の遊離亜鉛濃度は原子吸光度(21
4nm )にて決定した。
相容性については次の関係式により決定する:若しくは
カリウム懸濁物に分散させた。この懸濁物を37℃にて
24時間撹拌し、次いで2000Or、p、 m。
カリウム懸濁物に分散させた。この懸濁物を37℃にて
24時間撹拌し、次いで2000Or、p、 m。
にて30分間遠心分離した。上澄液を0.2gmのミリ
ポアフィルタで濾過した。0.2(]の溶液を目盛り付
フラスコにおける100@(の水で希釈し、これが試験
溶液を構成する。同じ手順であるがシリカを用いず比較
溶液を作成した。
ポアフィルタで濾過した。0.2(]の溶液を目盛り付
フラスコにおける100@(の水で希釈し、これが試験
溶液を構成する。同じ手順であるがシリカを用いず比較
溶液を作成した。
これら2種の溶液の遊離ピロ燐酸イオン(P207−
)の濃度を、積分針を装着したイオンクロマトグラフィ
=(DIONEX 2000iシステム)により決定し
た。相容性については、試験と比較との両者に関しクロ
マトグラムで得られかつピロ燐酸塩保持時間に対応する
ピーク面積の比により決定した。
)の濃度を、積分針を装着したイオンクロマトグラフィ
=(DIONEX 2000iシステム)により決定し
た。相容性については、試験と比較との両者に関しクロ
マトグラムで得られかつピロ燐酸塩保持時間に対応する
ピーク面積の比により決定した。
4gのシリカを16jJの1.5%ピロ燐酸ナトリウム
温度及びDHの制御l装置とプロペラ撹拌装置(Hix
el )とを装置した反応器に、1309/i2のシリ
カ濃度と3.5のS i 02 /N820モル比とを
有する8、321の珪酸ナトリウム及び1μs/′Cl
11の導電率を有する8、331の軟水を導入した。撹
拌操作(350r、p、園、 )を開始した後、形成さ
れた沈降物を90℃に加熱した。求める温度に達した後
、80a/jの濃度を有する硫酸を0.4012/Il
+nの一定流速で添加して9.5のpHにした。
温度及びDHの制御l装置とプロペラ撹拌装置(Hix
el )とを装置した反応器に、1309/i2のシリ
カ濃度と3.5のS i 02 /N820モル比とを
有する8、321の珪酸ナトリウム及び1μs/′Cl
11の導電率を有する8、331の軟水を導入した。撹
拌操作(350r、p、園、 )を開始した後、形成さ
れた沈降物を90℃に加熱した。求める温度に達した後
、80a/jの濃度を有する硫酸を0.4012/Il
+nの一定流速で添加して9.5のpHにした。
次いで、同時に130Q/ lのシリカ濃度と3.5の
Si 02 /N820モル比と0.7541 / m
inの流速とを有する45.251の珪酸ナトリウム及
び29.641の80g#硫酸含硫酸した。硫酸の速度
は、反応媒体のpHを9,5の一定値に維持するよう調
整した。
Si 02 /N820モル比と0.7541 / m
inの流速とを有する45.251の珪酸ナトリウム及
び29.641の80g#硫酸含硫酸した。硫酸の速度
は、反応媒体のpHを9,5の一定値に維持するよう調
整した。
60分間添加した後、珪酸ナトリウムの添加を停止する
と共に、硫酸の添加を反応混合物のpHが8に安定化す
るまで0.494Il/ii口の速度で継続した。この
期間中、媒体の温度は95℃まで上昇した。これに続き
、前記1かつ95℃にて30分間にわたり熟成させた。
と共に、硫酸の添加を反応混合物のpHが8に安定化す
るまで0.494Il/ii口の速度で継続した。この
期間中、媒体の温度は95℃まで上昇した。これに続き
、前記1かつ95℃にて30分間にわたり熟成させた。
熟成の間、pHを酸の添加により8に維持した。
熟成の終了後、pHを0.4941 / l1linの
流速における硫酸の添加により5.5となし、これに続
き前記pHかつ95℃にて30分間熟成した。熟成の終
了後、pHを@酸の添加により3.5となし、かつこの
レベルに30分間維持した。
流速における硫酸の添加により5.5となし、これに続
き前記pHかつ95℃にて30分間熟成した。熟成の終
了後、pHを@酸の添加により3.5となし、かつこの
レベルに30分間維持した。
加熱を停止した後、混合物を濾過し、かつ得られたケー
キを脱イオン水により2000 tt S / cmの
導電率を有する濾液が得られるまで洗浄した。洗浄後に
得られたケーキを脱イオン水の存在下に分散させて、1
0%のシリカ濃度を有する懸濁物を形成させた。この懸
濁物のpHを、酢酸の添加により6に調整した。
キを脱イオン水により2000 tt S / cmの
導電率を有する濾液が得られるまで洗浄した。洗浄後に
得られたケーキを脱イオン水の存在下に分散させて、1
0%のシリカ濃度を有する懸濁物を形成させた。この懸
濁物のpHを、酢酸の添加により6に調整した。
これに続き第2回の濾過を行ない、次いで水洗して50
0μS/c+aに導電率を調整し、かつ酢酸により5に
調整されたpHの水で洗浄して、pHを5.5に調節し
た。次いで、次の関係が満たされることを確認すべく検
査を行なった: pH8,20−0,9110(] (D)次いでケー
キを破砕し、かつシリカを噴霧屹燥させた。これに続き
、得られたシリカを買ミルで磨砕してクールタ・カラタ
ーで測定して平均粒径が8脚である粉末を得た。
0μS/c+aに導電率を調整し、かつ酢酸により5に
調整されたpHの水で洗浄して、pHを5.5に調節し
た。次いで、次の関係が満たされることを確認すべく検
査を行なった: pH8,20−0,9110(] (D)次いでケー
キを破砕し、かつシリカを噴霧屹燥させた。これに続き
、得られたシリカを買ミルで磨砕してクールタ・カラタ
ーで測定して平均粒径が8脚である粉末を得た。
このように得られたシリカの物理化学的特性を下表に示
す: SET表面積m2/g CTAB表面積m2/Q DOP油吸収d/100gシリカ 気孔容積Hg Cm3/′0 pI−1(5%水) 屈折率 半透明性% 1.90 6.2 1.450 O Na+l:1m SOa=ppm AI3+ppm Fe3+ppm Ca2+ppm Cj−ppm ppm 第1表は、本発明によるシリカの表面化学特性を示すと
共に、有機アミン化合物に対する相容性の結果をも示し
ている。第■表は、歯磨組成物の慣用の成分、すなわち
クロルヘキシジン、弗化物、亜鉛及びピロ燐酸塩に対す
る相容性の結果を示している。
す: SET表面積m2/g CTAB表面積m2/Q DOP油吸収d/100gシリカ 気孔容積Hg Cm3/′0 pI−1(5%水) 屈折率 半透明性% 1.90 6.2 1.450 O Na+l:1m SOa=ppm AI3+ppm Fe3+ppm Ca2+ppm Cj−ppm ppm 第1表は、本発明によるシリカの表面化学特性を示すと
共に、有機アミン化合物に対する相容性の結果をも示し
ている。第■表は、歯磨組成物の慣用の成分、すなわち
クロルヘキシジン、弗化物、亜鉛及びピロ燐酸塩に対す
る相容性の結果を示している。
■−2
温度及びpHの制御装置とプロペラ撹拌装置(Hixe
l )とを装着した反応器に、135(1/ ffのシ
リカ濃度と3.5のS i 02 /′Na20モル比
とを有する5301の珪酸ナトリウム溶液及び1μS/
’cmの導電率を有する1簀の軟水を導入した。撹拌装
置を始動した後(35Or、p、m、 ) 、形成され
た沈降物を90℃まで加熱した。この温度に達した後、
80(1/ lのIIi[を有する@酸を0.38 (
! /min 17)一定流速で添加して9.5のpH
にした。
l )とを装着した反応器に、135(1/ ffのシ
リカ濃度と3.5のS i 02 /′Na20モル比
とを有する5301の珪酸ナトリウム溶液及び1μS/
’cmの導電率を有する1簀の軟水を導入した。撹拌装
置を始動した後(35Or、p、m、 ) 、形成され
た沈降物を90℃まで加熱した。この温度に達した後、
80(1/ lのIIi[を有する@酸を0.38 (
! /min 17)一定流速で添加して9.5のpH
にした。
次いで、同時に135(It/ lのシリカ濃度と3,
5のS+02/Na2Oモル比と0.754N /wi
nの流速とを有する44.701の珪酸ナトリウム及び
25.301 の130g /’ l硫酸を添加した。
5のS+02/Na2Oモル比と0.754N /wi
nの流速とを有する44.701の珪酸ナトリウム及び
25.301 の130g /’ l硫酸を添加した。
[iの速度は、反応媒体のpHを9,5の一定値に維持
するよう調整した。
するよう調整した。
60分間にわたり添加した後、珪酸ナトリウムの添加を
停止すると共に、硫酸の添加を反応混合物17)pHが
84:安定化するまで0.3501/IQinの速度で
継続した。この期間中、媒体の温度は95℃まで上昇し
た。これに続き、このpHかつ95℃にて30分間にわ
たり熟成させた。熟成の間、pHを酸の添加により8に
維持した。熟成の終了後、pHを0.400j /si
nの流速にあける硫酸の添加により5となし、次いでこ
のpHかつ95℃にて30分間熟成した。熟成の終了後
、pI−1を硫酸の添加により3.5となし、このpH
を3.5に30分間維持した。
停止すると共に、硫酸の添加を反応混合物17)pHが
84:安定化するまで0.3501/IQinの速度で
継続した。この期間中、媒体の温度は95℃まで上昇し
た。これに続き、このpHかつ95℃にて30分間にわ
たり熟成させた。熟成の間、pHを酸の添加により8に
維持した。熟成の終了後、pHを0.400j /si
nの流速にあける硫酸の添加により5となし、次いでこ
のpHかつ95℃にて30分間熟成した。熟成の終了後
、pI−1を硫酸の添加により3.5となし、このpH
を3.5に30分間維持した。
加熱を停止した後、混合物を濾過し、かつ得られたケー
キを脱イオン水により濾液が2000μS/cmの導電
率で得られるまで洗浄した。次いでケーキを水の存在下
に破砕して20%のシリカ懸濁物を形成させ、かつpH
を5.1に調整して次の関係が得られるようにした:。
キを脱イオン水により濾液が2000μS/cmの導電
率で得られるまで洗浄した。次いでケーキを水の存在下
に破砕して20%のシリカ懸濁物を形成させ、かつpH
を5.1に調整して次の関係が得られるようにした:。
pH≦8.20−0.91 log ([))噴霧に
よりシリカを乾燥すると共に翼ミルで磨砕して、平均粒
径が8#である粉末を得た。
よりシリカを乾燥すると共に翼ミルで磨砕して、平均粒
径が8#である粉末を得た。
このように得られたシリカの物理化学的特性を下表に示
す: SET表面積m2/’q CTAB表面積m2/g DOP油吸収Wd!/100CIシリ 気孔容積Hg cma/’g pH(5%水) 屈折率 半透明性% 力 200 3゜35 6.5 1.455 SOa”% Na十% AI!3+ppm F e3”p pm Ca2”ppm C1−Dpm ppm 0、 5 0.25 第1表は、本発明によるシリカの表面化学特性を示すと
共に、有機アミノ化合物に対する相容性の結果をも示し
ている。第■表は、歯磨組成物の慣用の成分、すなわち
クロルヘキシジン、弗化物、亜鉛及びピロ燐酸塩に対す
る相容性の結果を示している。
す: SET表面積m2/’q CTAB表面積m2/g DOP油吸収Wd!/100CIシリ 気孔容積Hg cma/’g pH(5%水) 屈折率 半透明性% 力 200 3゜35 6.5 1.455 SOa”% Na十% AI!3+ppm F e3”p pm Ca2”ppm C1−Dpm ppm 0、 5 0.25 第1表は、本発明によるシリカの表面化学特性を示すと
共に、有機アミノ化合物に対する相容性の結果をも示し
ている。第■表は、歯磨組成物の慣用の成分、すなわち
クロルヘキシジン、弗化物、亜鉛及びピロ燐酸塩に対す
る相容性の結果を示している。
例3
温度及びpHの制御l装置とプロペラ撹拌装置(Hix
el )とを装着した反応器に、135(1/ eのシ
1.17)濃度ト3.5のSiO2/N820モル比と
を有する5、601の珪酸ナトリウムを導入した。撹拌
装置を始動した後(350r、p、t ) 、得られた
沈降物を85℃まで加熱した。この温度に達した後、8
5tJy’lの濃度を有しかつ70℃まで余熱された硫
酸をO,SOε/′1nの一定流速で添加して、9.7
のpHにした。
el )とを装着した反応器に、135(1/ eのシ
1.17)濃度ト3.5のSiO2/N820モル比と
を有する5、601の珪酸ナトリウムを導入した。撹拌
装置を始動した後(350r、p、t ) 、得られた
沈降物を85℃まで加熱した。この温度に達した後、8
5tJy’lの濃度を有しかつ70℃まで余熱された硫
酸をO,SOε/′1nの一定流速で添加して、9.7
のpHにした。
これに続き、同時に135al lのシリカ濃度と3.
5のS i 02 /Na2Oモル比と0.74511
/ll1inの流速とを有する52.671の珪酸ナト
リウム及び30εの85(]/j硫酸を添加した。硫酸
の速度は、反応媒体のpHを9.7の一定値に維持する
よう調整した。同時添加は、70℃まで余熱された試薬
を用いて89℃で行なった。
5のS i 02 /Na2Oモル比と0.74511
/ll1inの流速とを有する52.671の珪酸ナト
リウム及び30εの85(]/j硫酸を添加した。硫酸
の速度は、反応媒体のpHを9.7の一定値に維持する
よう調整した。同時添加は、70℃まで余熱された試薬
を用いて89℃で行なった。
45分間にわたり添加した後、珪酸ナトリウムの添加を
停止すると共に、硫酸の添加を反応混合物のpHが8に
安定化するまで0.4504! /1llinの速度で
継続した。この期間中、媒体の温度は95℃まで上昇し
た。これに続き、前記1)Hかつ95℃にて10分間に
わたり熟成させた。熟成の間、DHを酸の添加により8
に維持した。熟成後、l)Hを0、750 (1/ m
inの流速における硫酸の添加により5となし、これに
続いて前記pI−1かつ95℃にて15分間熟成させた
。熟成の終、pHを硫酸の添加により3.1となし、か
つこのpHレベルを60分間維持した。
停止すると共に、硫酸の添加を反応混合物のpHが8に
安定化するまで0.4504! /1llinの速度で
継続した。この期間中、媒体の温度は95℃まで上昇し
た。これに続き、前記1)Hかつ95℃にて10分間に
わたり熟成させた。熟成の間、DHを酸の添加により8
に維持した。熟成後、l)Hを0、750 (1/ m
inの流速における硫酸の添加により5となし、これに
続いて前記pI−1かつ95℃にて15分間熟成させた
。熟成の終、pHを硫酸の添加により3.1となし、か
つこのpHレベルを60分間維持した。
加熱を停止した後、混合物を濾過し、かつ得られたケー
キを脱イオン水により濾液が2000μS/’Cl1l
の導電率にて得られるまで洗浄した。次いでケーキを水
の存在下に破砕して20%のシリカ懸濁物を形成させ、
かつpHを5.5に調整して次の関係が成立するように
した: pl−1< 7.5−0.701Q(] (D)シリ
カを噴霧乾燥させ、かつ翼ミルで磨砕して平均粒径が8
#である粉末を得た。
キを脱イオン水により濾液が2000μS/’Cl1l
の導電率にて得られるまで洗浄した。次いでケーキを水
の存在下に破砕して20%のシリカ懸濁物を形成させ、
かつpHを5.5に調整して次の関係が成立するように
した: pl−1< 7.5−0.701Q(] (D)シリ
カを噴霧乾燥させ、かつ翼ミルで磨砕して平均粒径が8
#である粉末を得た。
このようにして得られたシリカの物理化学的特SET表
面積m2/g CTAB表面積m2/’cJ DOP油吸収d/100C]シリカ 気孔容積HQ Cm3/g pH(5%水) 屈折率 半透明性% 2.65 7.0 1.460 SO4=% Na+% Aj2”ppm Fe”’ppm ca2”ppm Ce DOm ppm 次の第工表は、例1〜3で説明した本発明によるシリカ
の表面化学特性を示す。ざらに、これは本発明によるシ
リカと有機アモノ化合物との相容性の結果をも示してい
る。
面積m2/g CTAB表面積m2/’cJ DOP油吸収d/100C]シリカ 気孔容積HQ Cm3/g pH(5%水) 屈折率 半透明性% 2.65 7.0 1.460 SO4=% Na+% Aj2”ppm Fe”’ppm ca2”ppm Ce DOm ppm 次の第工表は、例1〜3で説明した本発明によるシリカ
の表面化学特性を示す。ざらに、これは本発明によるシ
リカと有機アモノ化合物との相容性の結果をも示してい
る。
第■表は、歯磨組成物に用いた慣用の成分、すなわちり
Oルヘキシジン、弗化物、亜鉛及びピロfIA酸塩に対
する相容性の結果を示している。
Oルヘキシジン、弗化物、亜鉛及びピロfIA酸塩に対
する相容性の結果を示している。
比較の目的で、第1表及び第■表は市販シリカの特性及
び異゛なる相容性をも示し、下表はその代表的範囲を示
している: S81ニジロブラン81(ブレース社)2113:ゼオ
デント113(ツーバー社)Sid12ニジプント12
(デグツサ社)Syl 15 :シロツクス15(ブレ
ース社)T73:チキソシル73(ロン・ブーラン社)
上記の表に用いた記号は次の意味を有する:[)H/
I OCI (C)は式1)H=b−a、 l0cI
(C)を示し、ここでa及びbは2つの定数でおり、が
つCは懸濁物にあけるシリカの重量%であり: pH/
I OCI (D)は弐pl−1=b’ −a’Og(
D>を示し、ここでb′及びa′は2つの定数でおり、
かつDはμシーメンス/’cmにあけるシリカ懸濁物の
導電率であり; SEは関係5E=DH懸濁物−pH上澄液により測定さ
れた懸濁効果を示し; H○はハメット定数でめり: ZCPはシリカの表面電荷が○となるpHを示し:AF
、AFc、[3eta、a13eta及びCI−IXは
それぞれ弗素含有アミン、アルキルベタイン及びクロル
ヘキシジンの相容性%を示し、これらの量については本
明細書中に規定されている。
び異゛なる相容性をも示し、下表はその代表的範囲を示
している: S81ニジロブラン81(ブレース社)2113:ゼオ
デント113(ツーバー社)Sid12ニジプント12
(デグツサ社)Syl 15 :シロツクス15(ブレ
ース社)T73:チキソシル73(ロン・ブーラン社)
上記の表に用いた記号は次の意味を有する:[)H/
I OCI (C)は式1)H=b−a、 l0cI
(C)を示し、ここでa及びbは2つの定数でおり、が
つCは懸濁物にあけるシリカの重量%であり: pH/
I OCI (D)は弐pl−1=b’ −a’Og(
D>を示し、ここでb′及びa′は2つの定数でおり、
かつDはμシーメンス/’cmにあけるシリカ懸濁物の
導電率であり; SEは関係5E=DH懸濁物−pH上澄液により測定さ
れた懸濁効果を示し; H○はハメット定数でめり: ZCPはシリカの表面電荷が○となるpHを示し:AF
、AFc、[3eta、a13eta及びCI−IXは
それぞれ弗素含有アミン、アルキルベタイン及びクロル
ヘキシジンの相容性%を示し、これらの量については本
明細書中に規定されている。
弗素含有アミンAFc及びアルキルベタインaBeta
にて得られた相容性%はそれぞれAF及び[3etaに
つき得られたものと同様である。
にて得られた相容性%はそれぞれAF及び[3etaに
つき得られたものと同様である。
晟is
活性分子に対するシ1ツカの相容性ニ
ジリカ
相容性%
ln+′+F
eta
71]3
S+d12
y115
例1
例2
A3
この表の結果は、本発明によるシリカ、特に有機アミノ
化合物に対し相容性であるシリカが次の関係式により標
準シリカと対比して顕著に相違することを示している: pH≦8.5−0.40 to(1(D)及びpH≧7
.0−0.6010(](D)p)−1< 7.5−0
.70 foct (C)及びpH≧5.0−0.5
010g(C) 手続補正書 平成3年1月31日
化合物に対し相容性であるシリカが次の関係式により標
準シリカと対比して顕著に相違することを示している: pH≦8.5−0.40 to(1(D)及びpH≧7
.0−0.6010(](D)p)−1< 7.5−0
.70 foct (C)及びpH≧5.0−0.5
010g(C) 手続補正書 平成3年1月31日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、pHがシリカ濃度を関数として下記二つの不等式: pH≦7.5−0.7log(C)( I a)および pH≧5.0−0.5log(C)( I b)[不等式
( I a)および( I b)において、(C)は、SiO
_2%で表わされる水性シリカ懸濁物の重量濃度を示す
] により定義される領域で変動し、またpHがシリカの導
電率を関数として下記二つの不等式:pH≦8.5−0
.4log(D)(IIa)および pH≧7.0−0.6log(D)(IIb)[不等式(
IIa)および(IIb)において、(D)は、マイクロシ
ーメンス・cm^−^1で表わされる水性シリカ懸濁物
の導電率を示す] により定義される領域で変動する水性懸濁物になること
を特徴とするシリカ。 2、酸度関数Hoが少なくとも4である如き表面化学を
有することを特徴とする、特許請求の範囲第1項記載の
シリカ。 3、nm^2当りのOH^−の数が12以下であり、好
ましくは6〜10である如き表面化学を有することを特
徴とする、特許請求の範囲第1項又は2項項記載のシリ
カ。 4、零チャージポイント(ZCP)が少なくとも4であ
り、好ましくは4〜6であることを特徴とする、特許請
求の範囲第1項〜3項のいずれか一項記載のシリカ。 5、有機アミノ化合物との相容性が少なくとも30%で
あることを特徴とするシリカ。 6、有機アミノ化合物との相容性が少なくとも50%、
更に特定するに少なくとも80%であることを特徴とす
る特許請求の範囲第5項記載のシリカ。 7、ふっ素含有アミン、アミンオキシド、アルキルアミ
ンおよびアルキルベタインよりなる群から選ばれる有機
アミノ化合物との相容性を有することを特徴とする特許
請求の範囲第5項又は6項記載のシリカ。 8、有機アミノ化合物がセチルアミンヒドロフルオリド
、ビス−(ヒドロキシエチル)アミノプロピル−N−ヒ
ドロキシエチル−オクタデシルアミンジヒドロフルオリ
ド、式R(CH_3)_2N→0のアミンオキシド、式
R−N^+(CH_3)_2−CH_2−COO^−の
アルキルベタイン又は式R−CO−NH_2−(CH_
2)_2−N^+(CH_3)_2−CH_2−COO
^−のアルキルアミドアルキルベタイン(Rは炭素原子
10〜24個の直鎖ないし枝分れ鎖アルキル基を表わす
)であることを特徴とする、特許請求の範囲第7項記載
のシリカ。 9、周期律表第2A、3A、4Aおよび8族から選ばれ
る原子価2以上の金属カチオンとの相容性が少なくとも
50%、更に特定するに少なくとも70%であることを
特徴とする、特許請求の範囲第1項記載のシリカ。 10、金属カチオンがカルシウム、ストロンチウム、バ
リウム、アルミニウム、インジウム、ゲルマニウム、錫
、鉛、マンガン、鉄、ニッケル、亜鉛、チタン、ジルコ
ニウム又はパラジウムであることを特徴とする、特許請
求の範囲第9項記載のシリカ。 11、金属カチオンが無機塩すなわち塩化物、ふつ化物
、硝酸塩、燐酸塩ないし硫酸塩の形状又は有機酸塩すな
わち酢酸塩ないしくえん酸塩の形状であることを特徴と
する、特許請求の範囲第9項又は10項記載のシリカ。 12、金属カチオンがくえん酸亜鉛、硫酸亜鉛、塩化ス
トロンチウム又はふっ化錫形状であることを特徴とする
、特許請求の範囲第11項記載のシリカ。 13、グアニジンタイプの生成物持にクロルヘキシジン
との相容性が少なくとも30%更に特定するに少なくと
も60%であることを特徴とする、特許請求の範囲第1
項記載のシリカ。 14、SO_4^2^−、Cl^−、NO_3^−、P
O_3^−若しくはCO_3^2^−タイプのアニオン
含量が多くとも5・10^−^3モル/100gシリカ
であることを特徴とする、特許請求の範囲第1項〜13
項のいずれか一項記載のシリカ。 15、アニオン含量が多くとも1・10^−^3モル更
に特定するに0.2・10^−^3モル/100gシリ
カであることを特徴とする、特許請求の範囲第 14項記載のシリカ。 16、SO_4^mとして表わされる硫酸塩含量が多く
とも0.1%好ましくは多くとも0.05%更に特定す
るに多くとも0.01%であることを特徴とする、特許
請求の範囲いずれか一項記載のシリカ。 17、原子価2以上の金属カチオン含量が多くとも10
00ppmであることを特徴とする、特許請求の範囲第
1項〜16項のいずれか一項記載のシリカ。 18、アルミニウム含量が多くとも55ppm、鉄含量
が多くとも200ppm、カルシウム含量が多くとも5
00ppm更に特定するに多くとも300ppmである
ことを特徴とする、特許請求の範囲第17項記載のシリ
カ。 19、炭素含量が多くとも50ppm更に特定するに多
くとも10ppmであることを特徴とする、特許請求の
範囲第1項〜18項のいずれか一項記載のシリカ。 20、pHが高くとも8更に特定するに6.0〜7.5
であることを特徴とする、特許請求の範囲第1項〜19
項のいずれか一項記載のシリカ。 21、BET表面積が40〜600m^2/gであるこ
とを特徴とする、特許請求の範囲第1項〜20項のいず
れか一項記載のシリカ。 22、CTAB表面積が40〜400m^2/gである
ことを特徴とする、特許請求の範囲第1項〜21項のい
ずれか一項記載のシリカ。 23、BET表面積が40〜300m^2/gであるこ
とを特徴とする、研磨タイプの特許請求の範囲第1項〜
22項のいずれか一項記載のシリカ。 24、CTAB表面積が40〜100m^2/gである
ことを特徴とする、特許請求の範囲第23項記載のシリ
カ。 25、BET表面積が120〜450m^2/g更に特
定するに120〜200m^2/gであることを特徴と
する、増粘タイプの特許請求の範囲第1項〜22項のい
ずれか一項記載のシリカ。 26、CTAB表面積が120〜400m^2/gであ
ることを特徴とする、特許請求の範囲第25項記載のシ
リカ。 27、BET表面積が80〜200m^2/gであるこ
とを特徴とする、二機能タイプの特許請求の範囲第1項
〜22項のいずれか一項記載のシリカ。 28、CTAB表面積が80〜200m^2/gである
ことを特徴とする、特許請求の範囲第27項記載のシリ
カ。 29、吸油量が80〜500cm^3/100gである
ことを特徴とする、特許請求の範囲第1項〜28項のい
ずれか一項記載のシリカ。 30、平均粒度が1〜10μmであることを特徴とする
、特許請求の範囲第1項〜29項のいずれか一項記載の
シリカ。 31、見掛密度が0.01〜0.3であることを特徴と
する、特許請求の範囲第1項〜30項のいずれか一項記
載のシリカ。 32、沈降シリカであることを特徴とする、特許請求の
範囲第1項〜31項のいずれか一項記載のシリカ。 33、特許請求の範囲第1項〜32項のいずれか一項記
載のシリカを製造するに際し、珪酸塩と酸とを反応させ
、斯くして懸濁物ないしシリカゲルとなし、6以上8.
5以下のpHで最初のエージングを行ない、6.0以下
のpHで第二のエージングを行なったのち、5.0以下
のpHで第三のエージングを行ない、シリカを分離し、
該シリカを、20%SiO_2懸濁物に関して測定した
とのpHが次式: pH=d−elog(D)(III) (式中 eは0.6以上1.0以下の一定値であり、dは7.0
以上8.5以下の一定値であり、(D)はマイクロシー
メンス・cm^−^1で表わされる水性懸濁物の導電率
を示す) に従う水性懸濁物になるまで水で洗浄し、そして得られ
た懸濁物を乾燥することを包含することを特徴とする方
法。 34、水、SiO_2として表わされるシリカ含量0〜
150g/lのコロイド状シリカ分散体、珪酸塩又は無
機ないし有機塩好ましくはアルカリ金属塩でありうる沈
降剤に珪酸塩と酸とを同時添加することによって懸濁物
ないしシリカゲルを調製することからなることを特徴と
する、特許請求の範囲第33項記載の方法。 35、pHが4〜10好ましくは8.5〜9.5範囲で
一定に保持されるように試薬2種の添加が同時に生じる
ことを特徴とする、特許請求の範囲第34項記載の方法
。 36、温度が60〜95℃であることを特徴とする、特
許請求の範囲第34項又は35項記載の方法。 37、シリカ含量20〜150g/lのコロイド状シリ
カ分散体が、水性珪酸塩溶液を60〜95℃で加熱し、
該水性溶液に酸を、8〜10範囲好ましくは9.5のp
Hが得られるまで加えることにより調製されることを特
徴とする、特許請求の範囲第34項記載の方法。 38、珪酸塩を含有する沈降剤に、60〜95℃で所望
のエージングpHが得られるまで酸を漸次加えることに
より懸濁物又はシリカゲルを調製することからなること
を特徴とする、特許請求の範囲第33項記載の方法。 39、懸濁物若しくはシリカゲルの最初のエージングが
6〜8.5好ましくは8のpH、60〜100℃好まし
くは95℃の温度で生じることを特徴とする、特許請求
の範囲第33項〜36項のいずれか一項記載の方法。 40、懸濁物若しくはシリカゲルの第二のエージングが
5〜6好ましくは5.5のpH、60〜100℃好まし
くは95℃の温度で生じることを特徴とする、特許請求
の範囲第33項〜39項のいずれか一項記載の方法。 41、懸濁物若しくはシリカゲルの第三のエージングが
3〜5好ましくは4のpH、60〜100℃好ましくは
95℃の温度で生じることを特徴とする、特許請求の範
囲第33項〜40項のいずれか一項記載の方法。 42、洗浄が水若しくは酸溶液により生じることを特徴
とする、特許請求の範囲第33項記載の方法。 43、洗浄が、洗液ろ液の導電率が高くても200マイ
クロシーメンス・cm^−^1になるまで実施されるこ
とを特徴とする、特許請求の範囲第33項記載の方法。 44、洗浄が水若しくは酸溶液により生じることを特徴
とする、特許請求の範囲第43項記載の方法。 45、酸溶液が有機酸特に錯生成酸の溶液であることを
特徴とする、特許請求の範囲第42項又は44項記載の
方法。 46、有機酸が、カルボン酸、ジカルボン酸、アミノカ
ルボン酸およびヒドロキシカルボン酸よりなる群から選
ばれることを特徴とする、特許請求の範囲第45項記載
の方法。 47、有機酸が、酢酸、グルコン酸、酒石酸、くえん酸
、マレイン酸およびグリセリン酸を含む群から選ばれる
ことを特徴とする、特許請求の範囲第第45項又は46
項記載の方法。 48、特許請求の範囲第1項〜32項のいずれか一項の
シリカ又は特許請求の範囲第33項〜47項のいずれか
一項記載の方法により調製されたシリカを含有すること
を特徴とする、歯磨き用組成物。 49、ふつ素、燐酸塩およびグアニジンを含む群から選
ばれる要素少なくとも1種を含むことを特徴とする、特
許請求の範囲第48項記載の歯磨き用組成物。 50、有機アミノ化合物および原子価2以上のカチオン
を含む群から選ばれる要素少なくとも1種を含むことを
特徴とする、特許請求の範囲第48項記載の歯磨き用組
成物。 51、ふっ素含有アミン、アミンオキシド、アルキルア
ミンおよびアルキルベタインよりなる群から選ばれる有
機アミノ化合物少なくとも1種を含む特許請求の範囲第
48項記載の歯磨き用組成物。 52、有機アミノ化合物がセチルアミンヒドロフルオリ
ド、ビス−(ヒドロキシエチル)アミノプロピル−N−
ヒドロキシエチル−オクタデシルアミンジヒドロフルオ
リド、式R(CH_3)_2N→0のアミンオキシド、
式R−N^+(CH_3)_2−CH_2−COO^−
のアルキルベタイン又は式R−CO−NH_2−(CH
_2)_3−N^+(CH_3)_2−CH_2−CO
O^−のアルキルアミドアルキルベタイン(Rは炭素原
子10〜24個の直鎖ないし枝分れ鎖アルキル基を表わ
す)であることを特徴とする、特許請求の範囲第51項
記載の歯磨き用組成物。 53、周期律表第2A、3A、4Aおよび8族から選ば
れる原子価2以上の金属カチオン少なくとも1種を含む
、特許請求の範囲第48項記載の歯磨き用組成物。 54、金属カチオンがカルシウム、ストロンチウム、バ
リウム、アルミニウム、インジウム、ゲルマニウム、錫
、鉛、マンガン、鉄、ニッケル、亜鉛、チタン、ジルコ
ニウム又はパラジウムであることを特徴とする、特許請
求の範囲第53項記載の歯磨き用組成物。 55、金属カチオンが無機塩すなわち塩化物、ふつ化物
、硝酸塩、燐酸塩ないし硫酸塩の形状又は有機酸塩すな
わち酢酸塩ないしくえん酸塩の形状であることを特徴と
する、特許請求の範囲第53項又は54項記載の歯磨き
用組成物。 56、金属カチオンがくえん酸亜鉛、硫酸亜鉛、塩化ス
トロンチウム又はふっ化錫形状であることを特徴とする
、特許請求の範囲第53項〜55項記載の歯磨き用組成
物。 57、クロルヘキシジンを含むことを特徴とする、特許
請求の範囲第48項記載の歯磨き用組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11534790A JPH0764549B2 (ja) | 1990-05-02 | 1990-05-02 | 特に有機アミノ化合物と相容しうる歯磨き組成物用シリカ |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
JP11534790A JPH0764549B2 (ja) | 1990-05-02 | 1990-05-02 | 特に有機アミノ化合物と相容しうる歯磨き組成物用シリカ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0413613A true JPH0413613A (ja) | 1992-01-17 |
JPH0764549B2 JPH0764549B2 (ja) | 1995-07-12 |
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ID=14660278
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP11534790A Expired - Lifetime JPH0764549B2 (ja) | 1990-05-02 | 1990-05-02 | 特に有機アミノ化合物と相容しうる歯磨き組成物用シリカ |
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JP (1) | JPH0764549B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006298819A (ja) * | 2005-04-20 | 2006-11-02 | Kiyomi Seida | 練り歯磨き剤及び歯磨き方法 |
-
1990
- 1990-05-02 JP JP11534790A patent/JPH0764549B2/ja not_active Expired - Lifetime
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