JPH04115141A - 顕微方式分光光度計 - Google Patents
顕微方式分光光度計Info
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- JPH04115141A JPH04115141A JP23324690A JP23324690A JPH04115141A JP H04115141 A JPH04115141 A JP H04115141A JP 23324690 A JP23324690 A JP 23324690A JP 23324690 A JP23324690 A JP 23324690A JP H04115141 A JPH04115141 A JP H04115141A
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- infrared
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Landscapes
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は極微小部分の赤外吸収スペクトルを測定する装
置に係り、特に、測定部位の観察も同時に行なう事がで
き、極微部分の物質の赤外発光スペクトルの測定を的確
に行なうに好適な赤外吸収スペクトル測定用顕微鏡装置
に関する。
置に係り、特に、測定部位の観察も同時に行なう事がで
き、極微部分の物質の赤外発光スペクトルの測定を的確
に行なうに好適な赤外吸収スペクトル測定用顕微鏡装置
に関する。
一般に、赤外吸収スペクトル測定装置は既に知られてお
り、赤外線光源、赤外線の各波長成分毎の赤外線強度を
得るためのモノクロメータ、又は干渉計及び赤外線検出
器、試料室等から構成されている。極微小部分の赤外吸
収スペクトルの測定は干渉計を用いたフーリエ赤外分光
光度計が高感度であるため、従来、ロバート ジー メ
ッサーシュミットがニー ニス ティー エム スタン
ダード949 ザ デザイン、サンプル ハンドリング
アンド アプリケイジョン オブ インフラレッド
マイクロスコピース[The Design。
り、赤外線光源、赤外線の各波長成分毎の赤外線強度を
得るためのモノクロメータ、又は干渉計及び赤外線検出
器、試料室等から構成されている。極微小部分の赤外吸
収スペクトルの測定は干渉計を用いたフーリエ赤外分光
光度計が高感度であるため、従来、ロバート ジー メ
ッサーシュミットがニー ニス ティー エム スタン
ダード949 ザ デザイン、サンプル ハンドリング
アンド アプリケイジョン オブ インフラレッド
マイクロスコピース[The Design。
Sample Handling and Aplic
ation of InfraredMicrosco
pes、ASTM STD 949.American
5ocjetyfor Testing and M
aterials、Ph1ladelphia(198
7)、)の27頁〜31頁やマーシャル デツカ−社出
版のインフラレッド マイクロスコピー(Pratic
al 5pectroscopy 5eries Vo
lume 6 Infrared Microspec
troscopy Edited by Robert
G。
ation of InfraredMicrosco
pes、ASTM STD 949.American
5ocjetyfor Testing and M
aterials、Ph1ladelphia(198
7)、)の27頁〜31頁やマーシャル デツカ−社出
版のインフラレッド マイクロスコピー(Pratic
al 5pectroscopy 5eries Vo
lume 6 Infrared Microspec
troscopy Edited by Robert
G。
Messerschmidt MARCEL DEKK
ERINC,(1988))の85〜87頁に論じてい
るような顕vI鏡装置との組合せで行なわれている。
ERINC,(1988))の85〜87頁に論じてい
るような顕vI鏡装置との組合せで行なわれている。
これらには第7図、第8図に示した様な顕微鏡の概略図
面が記載されている。第7図、第8図の31は試料台、
4はカセグレン型反射対物レンズ、33はコンデンサ、
第7図の32.32’は測定視野を制限するためのアパ
チャ(孔)、第8図の1oは集光用のカセグレン型反射
対物レンズ、第7図、第8図の11は赤外線検出器であ
る。フーリエ変換赤外分光器の干渉計からの赤外線は第
7図、第8図の8である。
面が記載されている。第7図、第8図の31は試料台、
4はカセグレン型反射対物レンズ、33はコンデンサ、
第7図の32.32’は測定視野を制限するためのアパ
チャ(孔)、第8図の1oは集光用のカセグレン型反射
対物レンズ、第7図、第8図の11は赤外線検出器であ
る。フーリエ変換赤外分光器の干渉計からの赤外線は第
7図、第8図の8である。
試料の赤外吸収スペクトルの測定は一般に透過測定又は
反射測定のいずれかのモードで行われる。
反射測定のいずれかのモードで行われる。
透過測定モードの場合、第7図、第8図で、フーリエ変
換赤外分光器の干渉計7からの赤外IX8はコンデンサ
33で試料上に集光され、試料透過後の赤外線はカセグ
レン型反射対物レンズ4を経て検出器11へ至る。反射
測定モードの場合、第8図で、フーリエ変換赤外分光器
の干渉計からの赤外線8は凹面鏡6.平面エッヂミラー
5及びカセグレン型反射対物レンズ4で反射されて試料
上に集光され、試料で反射後の赤外線はカセグレン型反
射対物レンズ4を経て検出器11へ至る。これによって
、試料の赤外吸収スペクトルを測定することができる。
換赤外分光器の干渉計7からの赤外IX8はコンデンサ
33で試料上に集光され、試料透過後の赤外線はカセグ
レン型反射対物レンズ4を経て検出器11へ至る。反射
測定モードの場合、第8図で、フーリエ変換赤外分光器
の干渉計からの赤外線8は凹面鏡6.平面エッヂミラー
5及びカセグレン型反射対物レンズ4で反射されて試料
上に集光され、試料で反射後の赤外線はカセグレン型反
射対物レンズ4を経て検出器11へ至る。これによって
、試料の赤外吸収スペクトルを測定することができる。
ところが第7図、第8図の装置はいずれも通常使われて
いる光学顕微鏡の光学システムを利用しており、試料を
透過、又は、試料で反射した赤外線はそのまま顕微鏡の
鏡筒を通って検出器11に入射する。このため、試料を
加熱して発生させた赤外線を一度フーリエ変換赤外分光
光度計の干渉計に送りこみ、ここで変調された赤外線を
、再び、顕微鏡部の検出器11に戻して赤外発光スペク
トルを測定するようには考慮されてない。
いる光学顕微鏡の光学システムを利用しており、試料を
透過、又は、試料で反射した赤外線はそのまま顕微鏡の
鏡筒を通って検出器11に入射する。このため、試料を
加熱して発生させた赤外線を一度フーリエ変換赤外分光
光度計の干渉計に送りこみ、ここで変調された赤外線を
、再び、顕微鏡部の検出器11に戻して赤外発光スペク
トルを測定するようには考慮されてない。
一方、一般に赤外発光スペクトルをフーリエ変換分光光
度計で測定するには、グローバやタングステン線を加熱
して赤外線を発生させる代わりに、試料をヒータなどで
加熱して赤外線を発生させ、これを干渉計で変調した後
、検出器で検出し、赤外発光スペクトルを測定する。し
かし、この方法は試料の微小部分の赤外発光スペクトル
を測定するのに適していない。
度計で測定するには、グローバやタングステン線を加熱
して赤外線を発生させる代わりに、試料をヒータなどで
加熱して赤外線を発生させ、これを干渉計で変調した後
、検出器で検出し、赤外発光スペクトルを測定する。し
かし、この方法は試料の微小部分の赤外発光スペクトル
を測定するのに適していない。
本発明の目的は顕微鏡の試料ステージ上に試料を置き、
ヒータで試料を加熱し、顕微鏡で観察した微小部分の赤
外発光スペクトルを顕微鏡の下で測定することにある。
ヒータで試料を加熱し、顕微鏡で観察した微小部分の赤
外発光スペクトルを顕微鏡の下で測定することにある。
顕微鏡の試料台1上に置いたヒータで加熱された試料の
極微小部分の赤外発光スペクトルを測定するには、試料
で発光した赤外線を顕微鏡に付帯する反射対物レンズで
集光する。集光した赤外線は変調されていないので、こ
のまま検出器で測定しても赤外発光スペクトルは得る事
が出来ない。
極微小部分の赤外発光スペクトルを測定するには、試料
で発光した赤外線を顕微鏡に付帯する反射対物レンズで
集光する。集光した赤外線は変調されていないので、こ
のまま検出器で測定しても赤外発光スペクトルは得る事
が出来ない。
そこで、−度、フーリエ変換赤外分光器の干渉計に戻し
、変調した赤外線を、再び、顕微鏡の検出器に戻すこと
が必要である。
、変調した赤外線を、再び、顕微鏡の検出器に戻すこと
が必要である。
赤外線顕vl鏡ではフーリエ変換赤外分光器の干渉計か
らの赤外線を試料へ照射するためと、試料からの赤外線
を検出器に導くために第8図、第9図に示したようなエ
ツジミラー5からなるビームスプリッタが用いられてい
る。この鏡にフーリエ変換赤外分光器の干渉計からの赤
外線を試料側だけでなく、検出器側にも反射できるよう
な鏡を付加することにより試料から発生した赤外線を、
旦、干渉計に入射し、干渉計で変調された赤外線を顕微
鏡に戻して検出器に入射する。これにより、顕**試料
台上に置いたヒータ上に置いた試料の極微小部分の赤外
発光スペクトルを検出器で測定することが可能となる。
らの赤外線を試料へ照射するためと、試料からの赤外線
を検出器に導くために第8図、第9図に示したようなエ
ツジミラー5からなるビームスプリッタが用いられてい
る。この鏡にフーリエ変換赤外分光器の干渉計からの赤
外線を試料側だけでなく、検出器側にも反射できるよう
な鏡を付加することにより試料から発生した赤外線を、
旦、干渉計に入射し、干渉計で変調された赤外線を顕微
鏡に戻して検出器に入射する。これにより、顕**試料
台上に置いたヒータ上に置いた試料の極微小部分の赤外
発光スペクトルを検出器で測定することが可能となる。
以下、本発明の作用を第1図により説明する。
ヒータ付き試料台1上に置かれた試料2はヒータで加熱
され、赤外、s!3を発生する。この赤外線3はカセグ
レン型反射対物レンズ4で顕微鏡内に取り込まれる。二
枚のエッヂミラー5,9は光路の半分だけを遮り、かつ
、光軸上で両者のナイフエッチが接するように設置され
ている。赤外線3は第一のエッヂミラー5及び凹面鏡6
によってフーリエ変換赤外分光器の干渉計7に入射され
る。赤外線3は干渉計7で干渉したものだけが反射され
。
され、赤外、s!3を発生する。この赤外線3はカセグ
レン型反射対物レンズ4で顕微鏡内に取り込まれる。二
枚のエッヂミラー5,9は光路の半分だけを遮り、かつ
、光軸上で両者のナイフエッチが接するように設置され
ている。赤外線3は第一のエッヂミラー5及び凹面鏡6
によってフーリエ変換赤外分光器の干渉計7に入射され
る。赤外線3は干渉計7で干渉したものだけが反射され
。
赤外線8となる。赤外線8はエッヂミラー9で反射され
、カセグレン型反射対物レンズ10によって検出器11
上に集光される。これにより、試料2から発光した赤外
線のインターフェログラムを検出器11で測定する。
、カセグレン型反射対物レンズ10によって検出器11
上に集光される。これにより、試料2から発光した赤外
線のインターフェログラムを検出器11で測定する。
〈実施例1〉
以下、本発明の一実施例を第1図により説明する。ヒー
タ付き試料台1上に置かれた試料2はヒータで加熱され
、赤外線3を発生する。平面エッヂミラー5、及び、凹
面エッヂミラー9は光路の半分だけを遮り、かつ、光軸
22上で両者のナイフエッチが接するように設置されて
いる。赤外線3はカセグレン型反射対物レンズ4と平面
エッヂミラー5によりスリット13上に到達し、試料2
の像14を作る。ヒータ付き試料台1は上、上移動が可
能となっており、試料2の厚さにかかわらず、試料2の
高さを調整して、像14をスリット13上に結像させる
ことができる。赤外線3は凹面鏡6、及び、マイケルソ
ン干渉計7内の鏡で反射されて赤外g8となり、スリッ
ト13上に戻る。
タ付き試料台1上に置かれた試料2はヒータで加熱され
、赤外線3を発生する。平面エッヂミラー5、及び、凹
面エッヂミラー9は光路の半分だけを遮り、かつ、光軸
22上で両者のナイフエッチが接するように設置されて
いる。赤外線3はカセグレン型反射対物レンズ4と平面
エッヂミラー5によりスリット13上に到達し、試料2
の像14を作る。ヒータ付き試料台1は上、上移動が可
能となっており、試料2の厚さにかかわらず、試料2の
高さを調整して、像14をスリット13上に結像させる
ことができる。赤外線3は凹面鏡6、及び、マイケルソ
ン干渉計7内の鏡で反射されて赤外g8となり、スリッ
ト13上に戻る。
ここで、凹面鏡6は第一焦点がスリット13上にあるよ
うに設置されており、これによって干渉計7への入射赤
外線16及び反射赤外線17は各々平行光線となり、干
渉計7から戻ってきた赤外線8は、再び、スリット13
上に像15を作る。また、像14の高さ方向の位置、赤
外線16の干渉計7への入射角、及び、像15の高さ方
向の位置は、平面エッヂミラー5と光軸22とのなす角
によって決まるが、この角は赤外線8が凹面エッヂミラ
ー9に当るように調整される。
うに設置されており、これによって干渉計7への入射赤
外線16及び反射赤外線17は各々平行光線となり、干
渉計7から戻ってきた赤外線8は、再び、スリット13
上に像15を作る。また、像14の高さ方向の位置、赤
外線16の干渉計7への入射角、及び、像15の高さ方
向の位置は、平面エッヂミラー5と光軸22とのなす角
によって決まるが、この角は赤外線8が凹面エッヂミラ
ー9に当るように調整される。
スリット12は、凹面エッヂミラー9からスリット12
までの距離と平面エッヂミラー5.及び、凹面エッヂミ
ラー9からスリット13までの距離とが等しくなるよう
に設置される。これにより、光学系を従来の赤外吸収ス
ペクトル測定用のものと共用できる。また、凹面エッヂ
ミラー9の曲率は、スリット13上の像がスリット12
上に結像されるように決められる。さらに、凹面エッヂ
ミラー9と光軸22とのなす角は、試料2と光軸22と
の交わる点の像がスリット12と光軸22との交わる点
に結像するように調整される。赤外線8は、さらに、カ
セグレン型反射対物レンズ1゜によって検出器11上に
結像される。
までの距離と平面エッヂミラー5.及び、凹面エッヂミ
ラー9からスリット13までの距離とが等しくなるよう
に設置される。これにより、光学系を従来の赤外吸収ス
ペクトル測定用のものと共用できる。また、凹面エッヂ
ミラー9の曲率は、スリット13上の像がスリット12
上に結像されるように決められる。さらに、凹面エッヂ
ミラー9と光軸22とのなす角は、試料2と光軸22と
の交わる点の像がスリット12と光軸22との交わる点
に結像するように調整される。赤外線8は、さらに、カ
セグレン型反射対物レンズ1゜によって検出器11上に
結像される。
一方、赤外線8は干渉計7で干渉したものだけが含まれ
るため、検出器11では試料2から発光した赤外線のイ
ンターフェログラムを測定することができる。
るため、検出器11では試料2から発光した赤外線のイ
ンターフェログラムを測定することができる。
〈実施例2〉
本発明の第二の実施例を第2図により説明する。
第2図は顕vll鏡対物レンズ部分の拡大図である。
lはヒータ付き試料台、2は試料、4はカセグレン型反
射対物レンズであり、これはレボルバ18に取り付けら
れる。平面エッヂミラー5及び凹面エッヂミラー9は光
路の半分だけを遮り、かつ、光軸22上で両者のナイフ
エッチが接するように設置されている。平面エッヂミラ
ー5及び凹面エッヂミラー9はミラー移動機構23に取
付けられており、光路上に出し入れ可能である。これに
より、赤外発光スペクトルの測定と、通常の赤外吸収ス
ペクトルの測定との切り替えが容易に行なえる。
射対物レンズであり、これはレボルバ18に取り付けら
れる。平面エッヂミラー5及び凹面エッヂミラー9は光
路の半分だけを遮り、かつ、光軸22上で両者のナイフ
エッチが接するように設置されている。平面エッヂミラ
ー5及び凹面エッヂミラー9はミラー移動機構23に取
付けられており、光路上に出し入れ可能である。これに
より、赤外発光スペクトルの測定と、通常の赤外吸収ス
ペクトルの測定との切り替えが容易に行なえる。
〈実施例3〉
本発明の第三の実施例を第3@により説明する。
ヒータ付き試料台1上に置かれた試料2はヒータで加熱
され、赤外線3を発生する。平面エッヂミラー5,19
は光路の半分だけを遮り、かつ、光軸22上で両者のナ
イフエッチが接するように設置されている。赤外線3は
カセグレン型反射対物レンズ4と平面エッヂミラー5に
よりスリット13上に到達し、試料2の像14を作る。
され、赤外線3を発生する。平面エッヂミラー5,19
は光路の半分だけを遮り、かつ、光軸22上で両者のナ
イフエッチが接するように設置されている。赤外線3は
カセグレン型反射対物レンズ4と平面エッヂミラー5に
よりスリット13上に到達し、試料2の像14を作る。
ヒータ付き試料台1は上、上移動が可能となっており、
試料2の厚さにかかわらず、試料2の高さを調整して、
像14をスリット13上に結像させることができる。赤
外4!3は凹面鏡6及びマイケルソン干渉計7内の鏡で
反射されて赤外線8となり、スリット13上に戻る。こ
こで、凹面鏡6は第一焦点がスリット13上にあるよう
に設置されており、これによって干渉計7への入射赤外
線16及び反射赤外線17は各々平行光線となり、干渉
計7から戻ってきた赤外線8は再びスリット13上に像
15を作る。また、像14の高さ方向の位置、赤外線1
6の干渉計7への入射角、及び、像15の高さ方向の位
置は、平面エッヂミラー5と光軸22とのなす角によっ
て決まるが、この角は赤外線8が平面エッヂミラー19
に当るように調整される。
試料2の厚さにかかわらず、試料2の高さを調整して、
像14をスリット13上に結像させることができる。赤
外4!3は凹面鏡6及びマイケルソン干渉計7内の鏡で
反射されて赤外線8となり、スリット13上に戻る。こ
こで、凹面鏡6は第一焦点がスリット13上にあるよう
に設置されており、これによって干渉計7への入射赤外
線16及び反射赤外線17は各々平行光線となり、干渉
計7から戻ってきた赤外線8は再びスリット13上に像
15を作る。また、像14の高さ方向の位置、赤外線1
6の干渉計7への入射角、及び、像15の高さ方向の位
置は、平面エッヂミラー5と光軸22とのなす角によっ
て決まるが、この角は赤外線8が平面エッヂミラー19
に当るように調整される。
スリット12は、平面エッヂミラー19からスリット1
2までの距離と平面エッヂミラー5,19からスリット
13までの距離とが等しくなるように設置される。これ
により、光学系を従来赤外吸収スペクトル測定用のもの
と共用できる。また、凸レンズ20の焦点距離は、スリ
ット13上の像がスリット12上に結像されるように決
められる。
2までの距離と平面エッヂミラー5,19からスリット
13までの距離とが等しくなるように設置される。これ
により、光学系を従来赤外吸収スペクトル測定用のもの
と共用できる。また、凸レンズ20の焦点距離は、スリ
ット13上の像がスリット12上に結像されるように決
められる。
さらに、平面エッヂミラー19と光軸22とのなす角は
、試料2と光軸22との交わる点の像がスリット12と
光軸22との交わる点に結像するように調整される。赤
外線8は、さらに、カセグレン型反射対物レンズ10に
よって検出器11上に結像される。
、試料2と光軸22との交わる点の像がスリット12と
光軸22との交わる点に結像するように調整される。赤
外線8は、さらに、カセグレン型反射対物レンズ10に
よって検出器11上に結像される。
一方、赤外線8は干渉計7で干渉したものだけが含まれ
るため、検出器11では試料2から発光した赤外線のイ
ンターフェログラムを測定できる。
るため、検出器11では試料2から発光した赤外線のイ
ンターフェログラムを測定できる。
〈実施例4〉
第4図は顕微鏡対物レンズ部分の拡大図である。
1はヒータ付き試料台、2は試料、4はカセグレン型反
射対物レンズであり、これはレボルバ18に取り付けら
れる。平面エッヂミラー5.19は光路の半分だけを遮
り、かつ、光軸22上で両者のナイフエッチが接するよ
うにMWされている。
射対物レンズであり、これはレボルバ18に取り付けら
れる。平面エッヂミラー5.19は光路の半分だけを遮
り、かつ、光軸22上で両者のナイフエッチが接するよ
うにMWされている。
平面エッヂミラー5,19及び凸レンズ2oはミラー移
動機構23に取付けられており、光路上に出し入れ可能
である。これにより、赤外発光スペクトルの測定と、通
常の赤外吸収スペクトルの測定との切り替えが容易に行
なえる。
動機構23に取付けられており、光路上に出し入れ可能
である。これにより、赤外発光スペクトルの測定と、通
常の赤外吸収スペクトルの測定との切り替えが容易に行
なえる。
〈実施例5〉
第5図に本発明の第五の実施例を示す。これは第一の実
施例のうち、凹面エッヂミラー9を光軸22に体して平
面エッヂミラー5と反対側に移動したものである。第一
の実施例では光路の半分だけが平面エッヂミラー5で遮
られているため、他の半分の光路を通る赤外線は干渉計
7を通らず、直接、検出器11に入射し、測定のバック
グランドとなる。しかし、本実施例では平面エッヂミラ
ー5に当らなかった赤外線も凹面エッヂミラー9の裏側
で遮られるので、検出器11に入射することがない。こ
のため、第一の実施例と比較して。
施例のうち、凹面エッヂミラー9を光軸22に体して平
面エッヂミラー5と反対側に移動したものである。第一
の実施例では光路の半分だけが平面エッヂミラー5で遮
られているため、他の半分の光路を通る赤外線は干渉計
7を通らず、直接、検出器11に入射し、測定のバック
グランドとなる。しかし、本実施例では平面エッヂミラ
ー5に当らなかった赤外線も凹面エッヂミラー9の裏側
で遮られるので、検出器11に入射することがない。こ
のため、第一の実施例と比較して。
測定のS/N比を改善することができる。
〈実施例6〉
第6図に本発明の第六の実施例を示す。これは第二の実
施例のうち、平面エッヂミラー19を光軸22に対して
平面エッヂミラー5と反対側に移動したものである。第
一の実施例では光路の半分だけが平面エッヂミラー5で
遮られているため、他の半分の光路を通る赤外線は干渉
計7を通らず、直接、検出器11に入射し、測定のバン
クグランドとなる。しかし5本実施例では平面エッヂミ
ラー5に当らなかった赤外線も平面エッヂミラー19の
裏側で遮られるので、検出器11に入射することがない
。このため、第二の実施例と比較して、測定のS/N比
を改善することができる。
施例のうち、平面エッヂミラー19を光軸22に対して
平面エッヂミラー5と反対側に移動したものである。第
一の実施例では光路の半分だけが平面エッヂミラー5で
遮られているため、他の半分の光路を通る赤外線は干渉
計7を通らず、直接、検出器11に入射し、測定のバン
クグランドとなる。しかし5本実施例では平面エッヂミ
ラー5に当らなかった赤外線も平面エッヂミラー19の
裏側で遮られるので、検出器11に入射することがない
。このため、第二の実施例と比較して、測定のS/N比
を改善することができる。
本発明によれば加熱した試料の微小部分から発光した赤
外線の像を顯v1.鏡により拡大し、干渉計で変調して
、検出器でインクフェログラムを測定することができる
。
外線の像を顯v1.鏡により拡大し、干渉計で変調して
、検出器でインクフェログラムを測定することができる
。
第1図は本発明に係る顕微方式赤外発光分光光度計の第
一実施例の説明図、第2図は本発明の第二の実施例のエ
ッヂミラ一部の説明図、第3図は本発明の第三の実施例
を示す説明図、第4図は本発明の第四の実施例のエッヂ
ミラ一部の説明図、第5図は本発明の第五の実施例を示
す説明図、第6図は本発明の第六の実施例を示す説明図
、第7図ないし第9図は本発明に係る従来例の説明図で
ある。 1・・ヒータ付き試料台、2・・・試料、3,8,16
.17・・・赤外線、4,10・・・カセグレン型反射
対物レンズ、5,19・・・平面エッヂミラー、6・・
凹面鏡、7・・・干渉計、9・・・凹面エッヂミラー
11・・・検出器、12.13・・・スリット、14.
15・・像、18・・・レボルバ、20・・・凸レンズ
、21・・・テレスコープ、22・・・光軸、23・・
・ミラー移動機構、28・・・切替平面ミラー、31・
・・試料台、32゜32″・・・アパーチャ、33・・
・コンデンサ。 嶌 仝 図 纂 図 察 図 稟 図 稟 図
一実施例の説明図、第2図は本発明の第二の実施例のエ
ッヂミラ一部の説明図、第3図は本発明の第三の実施例
を示す説明図、第4図は本発明の第四の実施例のエッヂ
ミラ一部の説明図、第5図は本発明の第五の実施例を示
す説明図、第6図は本発明の第六の実施例を示す説明図
、第7図ないし第9図は本発明に係る従来例の説明図で
ある。 1・・ヒータ付き試料台、2・・・試料、3,8,16
.17・・・赤外線、4,10・・・カセグレン型反射
対物レンズ、5,19・・・平面エッヂミラー、6・・
凹面鏡、7・・・干渉計、9・・・凹面エッヂミラー
11・・・検出器、12.13・・・スリット、14.
15・・像、18・・・レボルバ、20・・・凸レンズ
、21・・・テレスコープ、22・・・光軸、23・・
・ミラー移動機構、28・・・切替平面ミラー、31・
・・試料台、32゜32″・・・アパーチャ、33・・
・コンデンサ。 嶌 仝 図 纂 図 察 図 稟 図 稟 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、フーリエ変換分光光度計、反射タイプの顕微鏡及び
検出器からなる顕微赤外分光光度計において、 対物レンズからの光を前記フーリエ変換分光光度計側に
反射させるような平面反射鏡と前記フーリエ変換分光光
度計からの光を検出器側に反射させるような楕円面又は
凹面の反射鏡とを設けたことを特徴とする顕微方式分光
光度計。 2、請求項1において、前記平面反射鏡にミラー移動機
構を取付け、光路上に出し入れ可能とした顕微方式分光
光度計。 3、請求項1において、前記楕円面または前記凹面反射
鏡の代わりに平面鏡を設け、前記平面鏡と検出器の間に
凸レンズまたは楕円面、凹面、放物面鏡又はこれらの組
合せからなる集光器をもちいた光学系を設けた顕微方式
分光光度計。 4、請求項3において、前記平面鏡と前記集光器にミラ
ー移動機構を取付け、光路上に出し入れ可能とした顕微
方式分光光度計。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23324690A JPH04115141A (ja) | 1990-09-05 | 1990-09-05 | 顕微方式分光光度計 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23324690A JPH04115141A (ja) | 1990-09-05 | 1990-09-05 | 顕微方式分光光度計 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04115141A true JPH04115141A (ja) | 1992-04-16 |
Family
ID=16952066
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23324690A Pending JPH04115141A (ja) | 1990-09-05 | 1990-09-05 | 顕微方式分光光度計 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04115141A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5911953A (en) * | 1996-06-14 | 1999-06-15 | Nippon Soken, Inc. | Apparatus for detecting and analyzing adsorbates |
-
1990
- 1990-09-05 JP JP23324690A patent/JPH04115141A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5911953A (en) * | 1996-06-14 | 1999-06-15 | Nippon Soken, Inc. | Apparatus for detecting and analyzing adsorbates |
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