JPH039939A - ポリオレフイン系樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、特定の構造および特定の粒度分布を有するホ
スフェート系化合物を配合した透明性。

剛性および耐ＷＩ撃性の改善されたポリオレフィン系樹
脂既成物に関する。

〔従来技術〕

ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−１および
１，２ポリブタジエン等の結晶性ポリオレフィン系樹脂
は機械的強度が大きく、電気絶縁性が優れているなどの
利点があり、フィルム、シートを始め各種成形品の原料
樹脂として広く使用されている。しかしながら、該結晶
性ポリオレフィン系樹脂は透明性が極めて悪く、このた
めその用途は制限されたものとなっていた。

かかる欠点を解消するために、透明性改良剤として、下
記一般式〔Ｉ〕および（ＩＩ）で示されるホスフェート
系化合物をポリオレフィン系樹脂に用いることは知られ
ている（特開昭５３−１０５５５０号公報、特開昭５８
−１７３６号公報）。

しかし、これらの化合物はポリオレフィン系樹脂の透明
性および剛性の改善という点では有効である反面、該樹
脂に対する分散性が悪く、射出成形品およびシート等の
押出成形品において、耐ｇｉｉ＊（〔１１式中、Ｒ７は
直接結合、硫黄原子または炭素数１〜１４のアルキリデ
ン基またはシクロアルキリデン基を示し、Ｒ２およびＲ
３はそれぞれ水素原子または炭素数１〜１８の同種もし
くは異種のアルキル基またはシクロアルキル基を示す０
Ｍは金属原子を示し、ｎは金属原子の原子価を示す、）
（〔■〕式中、Ｒは水素原子、炭素数１〜１８のアルキ
ル基またはアルコキシ基、シクロアルキル基、フェノキ
シ基または−ＧＯＯＲ’　を示す、Ｒ′は炭素数１〜１
８のアルキル基を示す１Ｍは金属原子を示し、ｎは金属
原子の原子価を示す、）〔発明が解決しようとする課題
〕 本発明者は、上記一般式〔■〕および一般式（ＩＩ）で
示されるホスフェート系化合物を結晶性ポリオレフィン
系樹脂に配合して、組成物の透明性、剛性を改善する際
の耐田撃性の低下を改善するべく鋭意研究した。その結
果、上記一般式〔Ｉ〕または一般式（ｎ）で示され、特
定の粒度分布を有するホスフェート系化合物の特定量を
ポリオレフィン系樹脂に配合することにより、上述の課
題が解決できる事を見い出し、この知見に基づき、本発
明を完成した。

以上の記述から明らかなように、本発明の目的は透明性
、剛性のほかに、耐街撃性の改善されたポリオレフィン
系樹脂組成物を提供することである。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は下記の構成を有する。

（１）、ポリオレフィン茶樹１１００重量部に対して、
粒径６０μ以下が９０容量％以上、２５μ以下が７５容
量％以上の粒度分布を有する一般式〔Ｉ〕で示されるホ
スフェート系化合物を０．００５〜５．０重量部配合し
たことを特徴とするポリオレフィン系樹脂組成物。

（〔１３式中、Ｒ８は直接結合、硫黄原子または炭素数
１〜１４のアルキリデン基またはシクロアルキリデン基
を示し、Ｒ２およびＲ８はそれぞれ水素原子または炭素
数１〜１８の同種もしくは異種のアルキル基またはシク
ロアルキル基を示す０Ｍは金属原子を示し、ｎは金属原
子の原子価を示す、）（２）、ポリオレフィン系樹脂１
００重量部に対して、最大粒径が３０μを超えることが
なく、１５μ以下が９５容量％の粒度分布を有する一般
式（１１）で示されるホスフェート系化合物を０．００
５〜５．（ｉｔ量郡部配合たことを特徴とするポリオレ
フイ（〔■〕式中、Ｒは水素原子、炭素数１〜１８のア
ルキル基またはアルコキシ基、シクロアルキル基、フェ
ノキシ基または−ＧＯＯＲ’　を示す、Ｒ′は炭素数１
〜１８のアルキル基を示す。Ｍは金属原子、ｎは金属原
子の原子価を示す、）本発明で使用するポリオレフィン
系樹脂としては、結晶性プロピレン単独重合体、プロピ
レン成分を７０重量％以上含有するプロピレンとエチレ
ン、ブテン−１，ペンテン−１、ヘキセン−１、ヘプテ
ン−１、オクテン−１、デセン−１などのα−オレフィ
ンの１種以上との結晶性共重合体、ポリエチレン、ポリ
ブテン−１，ポリ３−メチルブテン−１、ポリ４−メチ
ルペンテン−１，１，２−ポリブタジェン、エチレン−
酢酸ビニル共重合体、エチレン−塩化ビニル共重合体、
プロピレン−塩化ビニル共重合体などを例示することが
できる。

本発明で使用する一般式（Ｉ）で示されるホスフェート
系化合物としては、Ｒ２で示されるアルキリデン基がメ
チレン、エチリデン、イソプロピリデン、ブチリデン、
ヘキシリデン、シクロヘキシリデン、シクロペンチリデ
ン、オクチリデン、ノニリデン、シクロオクチリデンで
あり、Ｒ２およびＲ３で示されるアルキル基が、メチル
、エチル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、Ｓ
−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−アミル、ｔ−アミル、ヘキ
シル、ヘプチル、ｎ−オクチル、２−エチルヘキシル、
ｔ−オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ペンタデ
シル、ヘキサデシル、ヘプタデシル。

オクタデシル基、シクロアルキル基が、シクロペンチル
、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、
１−メチルシクロヘキシル基、Ｍで示される金属原子が
、Ｌｉ、　　Ｎａ、　　Ｋ、　　Ｂｅ。

Ｍｇ、Ｃａ、　　Ｓｒ、　　Ｂａ−Ｚｎ、　　Ｃｄ、　
　Ａｌ、Ｇｅ、　Ｓｎ、　　Ｐｂ、　　Ｔｉ、　　Ｚｒ
、　　Ｓｂ、　　Ｃｒ。

Ｂｉ＝　　Ｍｏ−Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、特に好まし
くはＬｉ、Ｎａ、になどのＩａ族金属、Ｍｇ。

Ｃａ、Ｓｒ、ＢａなどのＩｌａ族およびＡＩなどのｍｂ
族金属であるホスフェート系化合物をあげることができ
る。

本発明で使用する一般式（Ｉｆ）で示されるホスフェー
ト系化合物としては、　　Ｒ，Ｒ’　で示されるアルキ
ル基がメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−
ブチル、イソブチル、Ｓ−ブチル、し−ブチル、ｎ−ア
ミル、ｔ−アミル、ヘキシル。

ヘプチル、ｎ−オクチル、２−エチルヘキシル。

ｔ−オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル
、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデ
シル、ヘプタデシルおよびオクタデシル基であり、Ｒで
示されるアルコキシ基が、上述のアルキル基のアルコキ
シ基、シクロアルキル基が、シクロペンチル、シクロヘ
キシル、シクロヘプチル、およびシクロオクチル基、Ｍ
で示される金属原子が、Ｌｉ、　　Ｎａ、　　Ｋ、　　
Ｂｅ、　　Ｍｇ、　　Ｃａ、　　Ｓｒ、　　Ｂａ、　　
Ｚｎ、　　Ｃｄ、　　Ａ１．　　Ｇｅ、　　Ｓｎ。

Ｐｂ、　　Ｔｉ、　　Ｚｒ、　　Ｓｂ、　　Ｃｒ、　　
Ｂｉ、　　Ｍｏ、　Ｍｎ、　Ｆｅ、　Ｇｏ、　Ｎｉ、特
に好ましくはＬｉ、Ｎａ、　ＫなどのＩａ族金属、Ｍｇ
、　　Ｃａ、　　Ｓｒ、　　ＢａなどのＩＩａ族金属お
よびＡＩなどのｍｂ族金属であるホスフェート系化合物
をあげることができる。

これら−数式〔Ｉ〕および（ＩＩ）で示されるホスフェ
ート系化合物の具体例を第１表および第２表に示す。

また、本発明で使用する一般式〔Ｉ〕で示されるホスフ
ェート系化合物は、粒径６０μ以下のものが９０容量％
以上、２５μ以下のものが７５容量％以上の粒度分布を
有するホスフェート系化合物である必要がある。これら
の内、最大粒径が１３０μ以下で上述の粒度分布を有す
るものが好ましい、最大粒径が１３０μより大きいと、
ポリオレフィン系樹脂に対する分散性が低下し、得られ
た組成物の耐賀撃性の低下が顕著になるので好ましくな
い。

さらに、−数式（ｎｌで示されるホスフェート系化合物
は、最大粒径が３０μを超えることがなく、１５μ以下
が９５容量％以上の粒度分布を有するホスフェート系化
合物である必要がある。最大粒径が３０μより大きいと
、ポリオレフィン系樹脂に対する分散性が低下し、得ら
れた組成物の耐街撃性の低下が顕著になるので好ましく
ない。

かかるホスフェート系化合物の粒度分布の測定は、レー
ザー回折法による積算体積分布値から求めるものであり
、１！！定装置としてはたとえばセイシン企業１１８に
レーザーマイクロンサイザーもしくはシーラス製レーザ
ーグラニュロメーター７１５型をあげることができる。

また、−数式（１）または−数式（ＩＩ）で示されるホ
スフェート系化合物の添加量は、ポリオレフィン系樹脂
１００重量部に対して０．００５〜５．０重量部部、好
ましくは、０．０１〜２．０重量部である。該添加量が
０．００５重量部未満では、透明性、剛性の改善効果が
不充分であり、また５、０重量部を超して添加しても上
述の効果が著しく増大するものでないばかりか、高価格
となり不経済である。

本発明の組成物には、フェノール系、硫黄系、リン系の
酸化防止剤や光安定剤を始め各種の添加剤を添加するこ
とができる。

フェノール系酸化防止剤としてはたとえば、２．６−ジ
ーし一ブチルーｐ−クレゾール、ステアリル−（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）チオグリ
コレート、ステアリル−３−（４−ヒドロキシ−３，５
−ジ−ｔ−ブチルフェニル）プロピオネート、ジステア
リル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ルホスホネート、２，４，６−トリス（３’、５’−ジ
−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシベンジルチオ）−１，
３，５−）リアジン、ジステアリル（４−ヒドロキシ−
３−メチル−５−ｔ−ブチルベンジル）マロネート、２
．２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフ
ェノール）、２．２’−メチレンビス〔６−（１−メチ
ルシクロヘキシル）ｐ−クレゾール〕、ビス〔３，３−
ビス（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）ブチ
リックアシッドフグリコールエステル、４，４′−ブチ
リデンビス（６−ｔ−ｍ−クレゾール）、１，１．３−
トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチル
フェニル）ブタン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−
）リメチルベンゼン、テトラキス〔メチレン−３−（３
，５−ジーし一ブチルー４−ヒドロキシフェニル）プロ
ピオネートコメタン、１，３．５−トリス（３゜５−ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレ
ート、１，３．５−）リス（（３，５−ジ−ｔ−ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル
〕イソシアヌレート、２−オクチルチオ−４，６−ジ（
４−ヒドロキシ−３゜５−ジ−ｔ−ブチル）フェノキシ
−１，３，５−）リアジン、４．４’−チオビス（６−
ｔ−ブチル−ｍ−クレゾール）、カルシウム−ビス〔０
−エチル−（３，５−ジーし一ブチルー４−ヒドロキシ
ベンジル）ホスホネート）、２．２−ビス（４−（２−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシン
ナモイロキシ）〕エトキシフェニル）プロパン、３，９
−ビス（１，１−ジメチル−２−〔β−（３−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシ−５＝メチルフエニル）プロピオニ
ルオロキシ〕エチル）−２，４，８，１０−テトラオキ
サスピロ［５，５コウンデカン、２−ｔ−ブチル−６−
（３’−ｔ−ブチル−５′−メチル−２２−ヒドロキシ
ベンジル）４−メチルフェニルアクリレート、トリス（
４−ｔ−ブチル−２，６−シメチルー３−ヒドロキシベ
ンジル）イソシアヌレート、２，２′−エチリデン−ビ
ス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェノール）。

４．４′−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブ
チルフェノール）、２，２′−チオ−ジエチレン−ビス
（３，−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）〕プロピオネート、４，４′チオ−ビス（３−
メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、ビス〔２−し−
ブチル−４−メチル−６−（３−ｔ−ブチル−５−メチ
ル−２−ヒドロキシベンジル）フェニル〕テレフタレー
ト、Ｎ、Ｎ’−ビス（２−（３−（３，５−ジーし−ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキル〕
エチル）オキサミド、Ｎ、Ｎ’−ビス（３−（３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニ
ル〕ヒドラジン、Ｎ、Ｎ’−へキサメチレン−ビス（３
，５−ジーし一ブチルー４−ヒドロキシヒトｄシンナミ
ド）などのフェノール系酸化防止剤および４，４″−ブ
チリデンビス（２−ｔ−ブチル−５−メチルフェノール
）の炭酸オリゴエステル（例えば重合度２．３．４．５
．６．７，８．９．１０など）などの多価フェノールの
オリゴエステル類があげられる。

また硫黄系酸化防止剤としてはたとえばジラウリル、シ
ミリスチル、ジステアリルなどのジアルキルチオジプロ
ピオネートおよびブチル、オクチル、ラウリル、ステア
リルなどのアルキルチオプロピオン酸の多価アルコール
（たとえば、グリセリン、トリメチリロールエタン、ト
リメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリス
ヒドロキシエチルイソシアヌレート）のエステル（たと
えば、ペンタエリスリトールテトラ（ラウリルチオプロ
ピオネート）、３−オクタデシルチオプロピオアミド、
ビス〔２−メチル−４−（３−ｎ−アルキル（Ｃ２２〜
Ｃ７４）チオプロピオニルオキシ）−５−し−ブチルフ
ェニル〕スルフィド）があげられる。

リン系の酸化防止剤としてはたとえば、トリオクチルホ
スファイト、トリラウリルホスファイト、トリデシルホ
スファイト、オクチル−ジフェニルホスファイト、トリ
フェニルホスファイト、トリス（ブトキシエチル）ホス
ファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、ジ
ステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、テト
ラ（トリデシル）−１，１，３−トリス（２−メチル−
５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ブタンジホ
スファイト、テトラ（Ｃ１２〜Ｃ４５混合アルキル）−
４，４’−イソプロピリデンジフェニルホスファイト、
テトラ（トリデシル）−４，４″−ブチリデンビス（３
−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）ジホスファイト
、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニルホスファイト、トリス（モノ・ジ混合ノニルフェ
ニル）ホスファイト、水素化−４，４′−イソプロピリ
デンジフェノールポリホスファイト、ビス（オクチルフ
ェニル）ビス（４，４’−ブチリデンビス（３−メチル
−６−ｔ−ブチルフェノール）〕　・１，６−ヘキサン
ジオールジホスファイト、フェニル・４，４′−イソプ
ロピリデンジフェノール・ペンタエリスリトールジホス
ファイト、トリス（４，４’−イソプロピリデンビス（
２−ｔ−ブチルフェノール）〕ホスファイト、フェニル
・ジイソデシルホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペ
ンタエリスリトールジホスファイト、トリス（１，３−
ジステアロイルオキシイソプロピル）ホスファイト、４
，４′−イソプロピリデンビス（２−ｔ−ブチルフェノ
ール）ジ（ノニルフェニル）ホスファイト、ジ（２，４
−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホ
スファイト、ジ（２，６−ジーｔ−ブチル−４−メチル
フェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、テト
ラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）４．４’−
ビフエニレンジホスホナイト。

トリラウリルトリチオホスファイト、２，２′−エチリ
デンビス（４，６−ジーｔ−ブチルフェニル）フルオロ
ホスファイトなどをあげることができる。

光安定剤としてはたとえば、２−ヒドロキシ−４−メト
キシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクト
キシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メ
トキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフ
ェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−ドデシロキシベンゾ
フエノン、２−ヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロ
キシ−４−ベンジシロキシベンゾフェノン、ビス（５−
ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）
メタン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキ
シベンジフェノン等のヒドロキシベンゾフェノン類、２
−　（２’−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メ
チルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
　（２’−ヒドロキシ−３’、５’−ジーｔ−プチルプ
エニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−　（２
’−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリア
ゾール、２−　（２’−ヒドフキシー３’、５’−ジー
ｔ−アミルフエニル）ベンゾトリアゾール、２−　（２
’−ヒドロキシ−５′ｔ−オクチルフェニル）ベンゾト
リアゾール、２−〔２′−ヒドロキシ−３’、５　’−
ビス（α、α−ジメチルベンジル）フェニル〕ベンゾト
リアゾール等のベンゾトリアゾール類、フェニルサリシ
レート、２，４−ジーし一ブチルフェニルー３，５−ジ
ー１−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等のベンゾ
エート類、２．２’−チオビス（４−ｔ−オクチルフェ
ノール）Ｎｉ塩、　　（２，２’−チオビス（４−ｔ−
オクチルフェニルー）））−ｎ−ブチルアミンＮｉ塩、
　　（３，５−ジーし一ブチルー４−ヒドロキシベンジ
ル）ホスホン酸モノエチルエステルＮｉ塩等のニッケル
化合物類、α−シアノ−β−（ｐ−メトキシフェニル）
アクリル酸メチル等の置換アクリルニトリル類、　（２
，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）セバ
ケート、ビス（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジニル）セバケート、ポリ（（６−（
１゜１．３．３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３
゜５−トリアジン−２，４−ジイル）（（２，２，６゜
６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕へキサメ
チレン（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）イミノ〕）、ポリ（（６−モルホリノ−２，４−
ジイル）（４−（２，２，６，６−チトラメチルピペリ
ジル）イミノヘキサメチレン〕（４−（２，２，６，６
−チトラメチルピペリジル）イミノ〕）、テトラキス（
Ｎ−メチル−２，２，６゜６−テトラメチル−４−ピペ
リジル）１，２，３．４−ブタンテトラカルボキシレー
ト、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキ
シレート、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメ
チル−１−ピペリジンエタノールとコハク酸ジメチルと
の縮合物、Ｎ、Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチ
レンジアミン−２と４−ビス〔Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，
２，６，６−ベンタメチルー４−ピペリジル）アミノコ
−６−クロロ−１，３，５−）リアジンとの縮合物、２
−　（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，６，６−
ベンタメチルー４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブ
タンテトラカルボン酸と１．２．２．６．６−ベンタメ
チルー４−ピペリジツールとβ、β、β′、β′−テト
ラメチル−３，９−（２゜４．８，１０−テトラオキサ
スピロ［５，５］ウンデカン）ジェタノールとの縮合物
、１．２．３．４−ブタンテトラカルボン酸と２．２．
６．６−テトラメチル−４−ピペリジツールとβ、β、
β′、β′−テトラメチル−３，９−（２，４，８，１
０−テトラオキサスヒ［５，５］ウンデカン）ジェタノ
ールとの縮合物などのヒンダードアミン光安定剤をあげ
ることができる。

本発明組成物にその他必要に応じて重金属不活性化剤、
有機錫化合物、可塑剤、エポキシ化合物。

原料、充填剤１発泡剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、加
工助剤等の各種添加剤を配合することができる。

本発明のボレオレフィン系樹脂組成物は、ポリオレフィ
ン系樹脂に、一般式（Ｉ）または一般式（Ｉｆ）で示さ
れる。特定の粒度分布を有するホスフェート系化合物の
所定量および上述の酸化防止剤、光安定剤やその他の各
種添加剤を通常の混合装置、たとえばヘンシェルミキサ
ー（商品名）。

スーパーミキサー、リボンブレンダーもしくはバンバリ
ーミキサ−などを用いて混合し１通常の単軸押出機、２
軸押出機またはロールなどで溶融混練温度１５０〜３０
０℃で溶融混練することにより得ることができる。

〔実施例〕

以下実施例および比較例によって本発明を具体的に説明
する。なお、実施例および比較例で用いた各種嗣定方法
は次の方法によった。

（１）粒度分布 レーザー回折法により、一般式（１）および−般式（ｎ
）で示されるホスフェート系化合物の粒度分布を鱈定し
た。なお１粒度分布の測定装置として、一般式〔Ｉ〕で
示されるホスフェート系化合物ではシーラス製レーザー
グラニュロメーターを、一般式〔■〕で示されるホスフ
ェート系化合物ではセイシン企業１Ｊ１１５にレーザー
マイクロンサイザー７１５型を使用した。

（２）デュポンｆｉｒ！強度 デュポン衝撃試験機（東洋精機製）にて、撃芯１／４イ
ンチＲ，！ｉ！芯受は台３／２インチＲ１荷重０．１ｋ
ｇから３ｋｇ、荷重落下高さ１ｍの条件で、射出成形法
により作製した５０Ｘ５０Ｘ２各Ｉ寸法の試験片を、−
２０℃に状態調節したのち、試験片を撃芯台の上に置き
、撃芯を当てて高さ１ｍから荷重を落下させる。試験片
が破壊したら軽い荷重を、破壊しなければ、重い荷重を
用いて次々に試験を行い、試験片の５０％破壊時の落下
エネルギーをもって、デュポン衝撃強度とした。なお、
破壊形態が穴あきの場合は破壊しなかったものとみなす
。

（３）シート打抜衡撃強度 押出成形により作製した厚さ０．４＋ｌ１１（実施例１
および比較例１）または０．７５ｍｍ　（実施例２およ
び比較例２）のシートを作製し、これより１２０×７５
各Ｉ寸法の試験片を切り出し、該試験片を用い、ＡＳＴ
Ｍ　Ｄ−７８１に準拠してシート打抜街１！強度を測定
した、 （４）ヘイズ 射出成形法により作製した５０Ｘ２５Ｘｌ各Ｉ寸法の試
験片を用い、ＡＳＴＭ　Ｄ−１００３−６１に１ｇ拠し
てヘイズを海定した。

（５）引張強度 ＪＩＳＫ７１１３に準拠 （６）曲げ弾性率 ＪＩＳ　　Ｋ７２０３に準拠 （７）メルトフローレート（ＭＦＲ） ＪＩＳ　　Ｋ６７５８に準拠 実施ｇ４−１ ＭＦＲが２　、３　ｇ／１０＋ｓｉｎのプロピレン単独
重合体１００重量部にテトラキス〔メチレン−３−（３
゜５−ジーし一ブチルー４−ヒドロキシフェニル）プロ
ピオネ−トコメタ２０．０５重量部、ジ（２，４−ジー
し一ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファ
イト０，１重量部、ステアリン酸カルシウム０．１５重
量部、一般式（Ｉ）で示されるホスフェート系化合物と
して１粒径６０μ以下が９２容量％、２５μ以下が８３
容量％の粒度分布を有するラジウム−２，２′−メチレ
ンービス（４，６−ジー１−ブチルフェニル）ホスフェ
ート（以下、（１）−１−Ｆという）０．１重量部を添
加し、ヘンシェルミキサー（商品名）で混合したのち内
径４０ｍの車軸押出機で溶融混練温度２３０℃にて溶融
混練しペレット化した。このようにして得られたペレッ
トを用いて、樹脂温度２５０℃で射出成形法により、ヘ
イズ、引張強度５曲げ弾性率測定用の試験片を作製した
。また得られたペレットを用い、内径６５ａｍの２段押
出機にて、シリンダー内温度２３０℃、キャストスピー
ド２．０　ｍ１ｗ１ｎポリジンゲロ一ル温度８０℃の条
件で厚さ０．４国のシートを作製した。これより１２０
Ｘ７５各−寸法の試験片を切り出し、シート打抜田１！
強度の測定に使用した。

以上の各試験片を用いて、ヘイズ、引張強度、曲げ弾性
率およびシート打抜衡撃強度を測定した。

その結果を！３表に示した。

比較例−１ 一般式〔Ｉ〕で示されるホスフェート系化合物として、
粒径６０μ以下が８９容量％、２５μ以下が７０容量％
の粒度分布を有するソジウム−２゜２′−メチレン−ビ
ス（４，６−ジーｔ−ブチルフェニル）ホスフェート（
以下、　（Ｉ）−１−Ｒという、）を０．１重量部添加
した以外は実施例１に準拠してペレットの製造、各種−
試験片の作製、ヘイズ、引張強度、曲げ弾性率、シート
打抜衡撃強度を測定した。その結果を第３表に示した。

実施例−２ ＭＦＲが５　、０　ｇ／１０ｍ１ｎであり、エチレン含
有量３．９重量％のエチレン−プロピレンランダム共重
合体１００重量部に、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブ
チルフェニル）−４，４’−ビフエニレンジホスホナイ
ト０．１重量部、ステアリン酸カルシウム０．１重量部
、グリセリンモノステアレート０．４５重量部、一般式
〔バ〕で示されるホスフェート系化合物として、ｆ＆大
粒径が１５μであるソジウムビス（４−１−ブチルフェ
ニル）ホスフェート（以下、（ｎ）−１−Ｆという、）
を０．３重量部添加し、ヘンシェルミキサー（商品名）
で混合したのち、内径４０ｍの単軸押出機で２３０℃に
て溶融混練し。

ペレット化した。

以下、作製したシートの厚さが０．７５ｍｍである以外
は、実施例１に準拠して試験を行なった。その結果を１
￥３表に示した。

比較例−２ 一般式ＣＩ＋）で示されるホスフェート系化合物として
、最木粒怪６０μ、１５μ以下が９２容量％の粒度分布
を有するソジウムビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ホス
フェート（以下、　　（Ｉｌ）−１−Ｒという、）を０
．３重量部添加した以外は実施例２に準拠して、ペレッ
トの製造、各種試験片の作製。

ヘイズ、引張強度、曲げ弾性率、シートの打抜衝撃強度
を測定した。その結果を第３表に示した。

実施例−３ ＭＦＲが２５　ｇ／１０ｍ１ｎでエチレンを８．５重量
％含むエチレン−プロピレンブロック共重合体１００重
量部に、テトラキス（２，４−ジーし一ブチルフェニル
）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト０．０５重
量部、テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メ
タンｏ、ｏｓｚｔｔ量部、シミリスチルチオジプロピオ
ネート０．１重量部、ステアリン酸カルシウム０．１ｆ
ｆｉｆｆｉ部、一般式（１）で示されるホスフェート系
化合物として（１）　−１−Ｆｏ、１重量部を添加し、
ヘンシェルミキサー（商品名）で混合したのち、内径４
０ｍ５の単軸押出機で溶融混練温度２００℃にて溶融混
練しペレット化した。

得られたペレットを用いて、樹脂温度２５０℃で射出成
形法により、引張強度１曲げ弾性率、デュポン街撃試験
に用いる試験片を作製し、試験を行った。その結果を第
３表に示した。

比較例−３ 一般式（１）で示されるホスフェート系化合物として（
１）−１−Ｆを用いる代わりに、　（１）−１−Ｒを０
．１重量部用いた以外は実施例３に準拠して、ペレット
の製造、各種試験片の作製、引張強度、曲げ弾性率、デ
ュポンＷＩ撃試験を測定した。その結果を第３表に示し
た。

実施例−４ ＭＦＲが２５　ｇ／１０ｍ１ｎでエチレンを８．５重量
％含む、エチレン−プロピレンブロック共重合体９０ｆ
ｆｉ量部に、タルク（平均粒径２μ）Ｌｏｔ量部、テト
ラキス（２，４−ジーし一ブチルフェニルー４．４′−
ビフェニレンジホスホナイト０．０５重量部。

テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン０
．１重量部、ジミリスチルチオジプロピオネ−）０．１
重量部、ステアリン酸カルシウム０．１重量部、一般式
〔夏〕で示されるホスフェート系化合物として（Ｉ　）
　−１−Ｆｏ、１！！量部を添加し、ヘンシェルミキサ
ー（商品名）で混合したのち、内径３０―の２軸押出機
で溶融混練温度２００℃にて溶融混練しペレット化した
。

このペレットを、乾燥機中で１００℃、１時間乾燥した
のち、射出成形機を用いて樹脂温度２５０℃で、引張強
度１曲げ弾性率、デュポン街撃強度犯定に用いる試験片
を作製し、試験を行った。その結果をｍ３表に示した。

比較例−４ 一般式（１）で示されるホスフェート系化合物として（
Ｉ）−１−Ｆを用いる代わりに（Ｉ）−１−Ｒを０．１
重量部用いた以外は、実施例−４に準拠して、ペレット
の３Ｑ造、各１！試験片の作製、引張強度１曲げ弾性率
、デュポン街撃強度の測定を行った。その結果を第３表
に示した。

〔発明の効果〕

本発明の組成物は一般式（１）もしくは一般式〔■〕で
示されるホスフェート系化合物を配合して、透明性およ
び剛性を改善したポリオレフィン系樹脂組成物の欠点で
ある１ｇｉ撃性の低下を改善した組成物であり、透明性
および剛性に加え耐衝撃性が要求される射出成形分野、
中空成形分野および押出成形分野に好適に使用すること
ができるポリオレフィン系樹ａｍ戊物である。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）ポリオレフィン系樹脂１００重量部に対して、粒
   径６０μ以下が９０容量％以上、２５μ以下が７５容量
   ％以上の粒度分布を有する一般式〔Ｉ〕で示されるホス
   フェート系化合物を０．００５〜５．０重量部配合した
   ことを特徴とするポリオレフィン系樹脂組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼〔Ｉ〕 （〔Ｉ〕式中、Ｒ＿１は直接結合、硫黄原子または炭素
   数１〜１４のアルキリデン基またはシクロアルキリデン
   基を示し、Ｒ＿２およびＲ＿３はそれぞれ水素原子また
   は炭素数１〜１８の同種もしくは異種のアルキル基また
   はシクロアルキル基を示す。Ｍは金属原子を示し、ｎは
   金属原子の原子価を示す。）
2. （２）ポリオレフィン系樹脂１００重量部に対して、最
   大粒径が３０μを超えることがなく、粒径１５μ以下が
   ９５容量％以上の粒度分布を有する一般式〔II〕で示さ
   れるホスフェート系化合物を０．００５〜５．０重量部
   配合したことを特徴とするポリオレフィン系樹脂組成物
   。 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 （〔II〕式中、Ｒは水素原子、炭素数１〜１８のアルキ
   ル基またはアルコキシ基、シクロアルキル基、フェノキ
   シ基または−ＣＯＯＲ’を示す。Ｒ’は炭素数１〜１８
   のアルキル基を示す。 Ｍは金属原子を示し、ｎは金属原子の原子価を示す。）