JPH0390578A - 薄膜形成装置 - Google Patents
薄膜形成装置Info
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- JPH0390578A JPH0390578A JP1224980A JP22498089A JPH0390578A JP H0390578 A JPH0390578 A JP H0390578A JP 1224980 A JP1224980 A JP 1224980A JP 22498089 A JP22498089 A JP 22498089A JP H0390578 A JPH0390578 A JP H0390578A
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- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 29
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 17
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 42
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 2
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 4
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
- C03C17/002—General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B13/00—Machines or plants for applying liquids or other fluent materials to surfaces of objects or other work by spraying, not covered by groups B05B1/00 - B05B11/00
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、霧化した原料溶液を加熱した基板の成膜面に
吹き付け、そこに薄膜を形成する装置に関する。
吹き付け、そこに薄膜を形成する装置に関する。
［従来の技術］
従来、この種の薄膜形成法及びその装置は、例えば特開
昭６１−６９９６２号等に示される様に、予め調合した
原料溶液を霧化器（アトマイザ）により噴霧し、薄膜を
形成する基板の表面に接触させて薄膜を形成する。
昭６１−６９９６２号等に示される様に、予め調合した
原料溶液を霧化器（アトマイザ）により噴霧し、薄膜を
形成する基板の表面に接触させて薄膜を形成する。
これを第５図により説明すると、薄膜を形成させるため
に予め調合した原料溶液を霧化する霧化器１が備えられ
、この霧化Ｗｌの上方には上に向けて上記原料溶液の霧
を放出するノズル３が設けられ、このノズル３は、成膜
室４に向けて開口しており、さらにこの成膜室４には排
気ダクト５が接続されている。霧化器ｌは、霧箱の中に
噴霧器２を設置したもので、ここで発生した原料溶液の
霧のうち、比較的粒子の細かい霧のみを上記成膜用ノズ
ル３から成膜室４に放出する。さらに、成膜室４に放出
された霧は、同室４を通って排気ダクト５から排出され
る。
に予め調合した原料溶液を霧化する霧化器１が備えられ
、この霧化Ｗｌの上方には上に向けて上記原料溶液の霧
を放出するノズル３が設けられ、このノズル３は、成膜
室４に向けて開口しており、さらにこの成膜室４には排
気ダクト５が接続されている。霧化器ｌは、霧箱の中に
噴霧器２を設置したもので、ここで発生した原料溶液の
霧のうち、比較的粒子の細かい霧のみを上記成膜用ノズ
ル３から成膜室４に放出する。さらに、成膜室４に放出
された霧は、同室４を通って排気ダクト５から排出され
る。
上記成膜室４の内部に、表面に薄膜を形成する基板６が
一列に配列され、これが予熱室１２から成膜室４を経て
基板排出口１３へと一定の速度で移動される。またこの
間、基板６は、その背面に設けられたヒータ９によって
加熱される。霧状の原料溶液が上記成膜室４を通過する
過程で、加熱された上記基板６の表面に接触すると、そ
こで溶液中の原料が大気中の酸素或は原料溶液中の水分
と反応し、上記基板６の表面上に酸化物の薄膜が形成さ
れる。
一列に配列され、これが予熱室１２から成膜室４を経て
基板排出口１３へと一定の速度で移動される。またこの
間、基板６は、その背面に設けられたヒータ９によって
加熱される。霧状の原料溶液が上記成膜室４を通過する
過程で、加熱された上記基板６の表面に接触すると、そ
こで溶液中の原料が大気中の酸素或は原料溶液中の水分
と反応し、上記基板６の表面上に酸化物の薄膜が形成さ
れる。
［発明が解決しようとする課題］
上記の従来の薄膜形成装置では、上記基板６の両側が成
膜室４の側壁に保持され、案内されていたが、この側壁
の間隔は成膜しようとする基板６０幅に合わせて設定さ
れている。このため、幅の異なる基板に薄膜を形成しよ
うとするときは、側壁の間隔の異なる成膜室４を有する
成膜装置を別に用意しなければならないという問題があ
った。
膜室４の側壁に保持され、案内されていたが、この側壁
の間隔は成膜しようとする基板６０幅に合わせて設定さ
れている。このため、幅の異なる基板に薄膜を形成しよ
うとするときは、側壁の間隔の異なる成膜室４を有する
成膜装置を別に用意しなければならないという問題があ
った。
そこで、本発明は、上記従来の問題点に鑑み、同じ装置
を用いて幅の異なる基板にも薄膜の形成が可能な薄膜形
成装置を提供することにある。
を用いて幅の異なる基板にも薄膜の形成が可能な薄膜形
成装置を提供することにある。
［課題を解決するための手段］
すなわち、上記の目的を達成するため、本発明において
採用した手段の要旨は、薄膜作製用原料溶液を霧化する
霧化器ｌと、上記霧化器ｌから発生した霧状の原料溶液
が、上記霧化器ｌのノズル３から導入されて排出される
までの間に延長形成された成膜室４と、薄膜を形成する
基板６の成膜面が、上記成膜室４の天面を形成するよつ
、前記基板６を供給する手段と、上記基板６の成膜面を
所定の温度に加熱するヒータ９とを備える薄膜形成装置
において、上記基板６の両側辺を保持するガイド部材１
４．１４’１４” １５を有し、ガイド部材１４．１
４’１４”′ １５の互いに対向する側面に形成された
基板６の側辺を保持する保持部２１．２１’２■” ２
２の少なくとも何れか一方が基板６の幅方向に移設自在
となっている薄膜形成装置である。
採用した手段の要旨は、薄膜作製用原料溶液を霧化する
霧化器ｌと、上記霧化器ｌから発生した霧状の原料溶液
が、上記霧化器ｌのノズル３から導入されて排出される
までの間に延長形成された成膜室４と、薄膜を形成する
基板６の成膜面が、上記成膜室４の天面を形成するよつ
、前記基板６を供給する手段と、上記基板６の成膜面を
所定の温度に加熱するヒータ９とを備える薄膜形成装置
において、上記基板６の両側辺を保持するガイド部材１
４．１４’１４” １５を有し、ガイド部材１４．１
４’１４”′ １５の互いに対向する側面に形成された
基板６の側辺を保持する保持部２１．２１’２■” ２
２の少なくとも何れか一方が基板６の幅方向に移設自在
となっている薄膜形成装置である。
［作 用］
上記本発明による薄膜形成装置では、基板６の両側辺を
保持し、案内するガイド部材１４．１５の対向する側面
の保持部２１が基板６の幅方向に移設自在となっている
ため、成膜室４の幅を変えることができると共に、基板
６を保持する両側辺の間隔、つまり基板６の幅を変える
ことができる。これにより、任意の幅の基板６を保持し
、案内しながら、その表面に薄膜を形成することができ
るようになる。
保持し、案内するガイド部材１４．１５の対向する側面
の保持部２１が基板６の幅方向に移設自在となっている
ため、成膜室４の幅を変えることができると共に、基板
６を保持する両側辺の間隔、つまり基板６の幅を変える
ことができる。これにより、任意の幅の基板６を保持し
、案内しながら、その表面に薄膜を形成することができ
るようになる。
［実 施 例コ
以下、本発明の実施例について、添付の図面を参照しな
がら説明する。
がら説明する。
薄膜形成装置は、第１図に示されたように、原料溶液を
霧化する霧化器１を備え、この霧化器ｌの上方に霧化さ
れた原料溶液を放出するノズル３が上に向けて設けられ
、このノズル３の上に成膜室４が設けられている。さら
に、上記成膜室４の先（図中、右側）に排気ダクト５が
設けられ、これによって、上記霧化器ｌから供給された
霧状の原料溶液が、ノズル３から上記成膜室４に導かれ
、同成膜室４内を通過し、排気ダクト５から排出される
。
霧化する霧化器１を備え、この霧化器ｌの上方に霧化さ
れた原料溶液を放出するノズル３が上に向けて設けられ
、このノズル３の上に成膜室４が設けられている。さら
に、上記成膜室４の先（図中、右側）に排気ダクト５が
設けられ、これによって、上記霧化器ｌから供給された
霧状の原料溶液が、ノズル３から上記成膜室４に導かれ
、同成膜室４内を通過し、排気ダクト５から排出される
。
同図において、ｌＯは、上記成膜室４を予熱室１２と仕
切−るための仕切部材、１１は、成膜室４を基板搬出室
１３と仕切ると共に、成膜室４から排気ダクト５へと霧
の流れを案内するための排気ガイドである。
切−るための仕切部材、１１は、成膜室４を基板搬出室
１３と仕切ると共に、成膜室４から排気ダクト５へと霧
の流れを案内するための排気ガイドである。
第２図の断面図にも示されるように、成膜室４は、炉床
７とその両側に起立・したガイド部材１４．１５により
各々底面と両側面が閉じられた連続するトンネル状の通
路となっている。さらにガイド部材１４．１５の対向す
る側面には、基板６の両側辺を保持する顎状の保持部２
１．２２が設けられ、これに保持された基板６の下面が
上記成膜室４の天面を形成する。そして、この基板６は
、第２図のおいて手前から奥へ（第１図において左から
右へ）−列に配列され、同方向に一定の速度で移動され
る。上記基板６の上には、予熱室１２、成膜室４及び基
板搬出室１３にわたって均熱板８を介してヒータ９が設
けられ、上記基板６を所定の温度に加熱する。
７とその両側に起立・したガイド部材１４．１５により
各々底面と両側面が閉じられた連続するトンネル状の通
路となっている。さらにガイド部材１４．１５の対向す
る側面には、基板６の両側辺を保持する顎状の保持部２
１．２２が設けられ、これに保持された基板６の下面が
上記成膜室４の天面を形成する。そして、この基板６は
、第２図のおいて手前から奥へ（第１図において左から
右へ）−列に配列され、同方向に一定の速度で移動され
る。上記基板６の上には、予熱室１２、成膜室４及び基
板搬出室１３にわたって均熱板８を介してヒータ９が設
けられ、上記基板６を所定の温度に加熱する。
上記ガイド部材１４．１５の具体例が第２図と第３図に
示されでいる。同図に示されたように、炉床７の両側に
基板６が搬送される方向に沿ってガイドレール１８．１
８が形成されている。また、炉床７の底面には、二段に
深（なった？：４１７が設けられている。この炉床板１
６を取り除くと、溝１７の深い部分にガイドレール部材
１９を嵌め込むことができ、このガイドレール部材１９
の上面には、上記ガイド部材１４のガイドレール１８と
同様のガイドレール２０が形成されている。
示されでいる。同図に示されたように、炉床７の両側に
基板６が搬送される方向に沿ってガイドレール１８．１
８が形成されている。また、炉床７の底面には、二段に
深（なった？：４１７が設けられている。この炉床板１
６を取り除くと、溝１７の深い部分にガイドレール部材
１９を嵌め込むことができ、このガイドレール部材１９
の上面には、上記ガイド部材１４のガイドレール１８と
同様のガイドレール２０が形成されている。
いま、第２図（ａ）、第３図（ａ）で示すように、炉床
７の両側に設けられたガイドレール１８．１８にガイド
部材１４．１５を嵌め込んで立設した場合、これらガイ
ド部材１４．１５の間に比較的幅の広い基板６が保持で
きる。このとき、炉床７の上面に形成された溝１７の浅
い部分には、炉床板１６を嵌め込み、炉床７の上面を平
坦とし、かつそれを所定の高さに維持する。
７の両側に設けられたガイドレール１８．１８にガイド
部材１４．１５を嵌め込んで立設した場合、これらガイ
ド部材１４．１５の間に比較的幅の広い基板６が保持で
きる。このとき、炉床７の上面に形成された溝１７の浅
い部分には、炉床板１６を嵌め込み、炉床７の上面を平
坦とし、かつそれを所定の高さに維持する。
他方、第２図（ｂ）、第３図（ｂ）で示すように、上記
炉床板１６を取り除き、溝１７の深い部分にガイドレー
ル部材１９を嵌め込んで、このガイドレール２０にガイ
ド部材１４を移設して嵌め込むことにより、ガイド部材
１４．１５の間隔を上記の場合に比べて狭めることがで
き、これらの間により幅の狭い基板６が保持できる。こ
のとき、ガイドガイドレール部材１９とガイド部材１５
との間の溝１７の浅い部分には、上記炉床板１６と同じ
高さでかつ幅の狭い炉床板１８’を嵌め込んでおく。こ
れにより、炉床７の上面を上記第２図（ａ）と（ｂ）の
場合と同じ高さにすることができる。
炉床板１６を取り除き、溝１７の深い部分にガイドレー
ル部材１９を嵌め込んで、このガイドレール２０にガイ
ド部材１４を移設して嵌め込むことにより、ガイド部材
１４．１５の間隔を上記の場合に比べて狭めることがで
き、これらの間により幅の狭い基板６が保持できる。こ
のとき、ガイドガイドレール部材１９とガイド部材１５
との間の溝１７の浅い部分には、上記炉床板１６と同じ
高さでかつ幅の狭い炉床板１８’を嵌め込んでおく。こ
れにより、炉床７の上面を上記第２図（ａ）と（ｂ）の
場合と同じ高さにすることができる。
第３図は、成膜室４の成膜用ノズル３の吐出口が開口す
る部分の断面図を示すが、同図（ｂ）で示すように、成
膜する基板６の幅を狭くしたとき、その脅威膜用ノズル
３の霧の通路を狭くするため、１１．’！調整部材２３
を成膜用ノズル３の片側に押入している。
る部分の断面図を示すが、同図（ｂ）で示すように、成
膜する基板６の幅を狭くしたとき、その脅威膜用ノズル
３の霧の通路を狭くするため、１１．’！調整部材２３
を成膜用ノズル３の片側に押入している。
次に第４図で示す実施例について説明すると、この実施
例では、ガイド部材１５を移動させるのではなく、これ
を交換するか、或は別のガイド部材Ｉ４パを追加して幅
の狭い基板６を保持し、案内することができるようにし
ている。すなわち、同図（ｂ）では、第４図（ａ）で示
す左側のガイド部材１５に代えて、幅の広いガイド部材
１４’をガイドレール１８に嵌め込み、その分ガイド部
材１４’ １５の対向する保持部２１’ ２２の
間隔を狭くしている。さらに、同図（Ｃ）では、第４図
（ａ）で示す左側のガイド部材１５に加えて、この内側
に別のガイド部材１４”、を嵌め込み、その分対向する
保持部２１” ２２の間隔を狭くしている。
例では、ガイド部材１５を移動させるのではなく、これ
を交換するか、或は別のガイド部材Ｉ４パを追加して幅
の狭い基板６を保持し、案内することができるようにし
ている。すなわち、同図（ｂ）では、第４図（ａ）で示
す左側のガイド部材１５に代えて、幅の広いガイド部材
１４’をガイドレール１８に嵌め込み、その分ガイド部
材１４’ １５の対向する保持部２１’ ２２の
間隔を狭くしている。さらに、同図（Ｃ）では、第４図
（ａ）で示す左側のガイド部材１５に加えて、この内側
に別のガイド部材１４”、を嵌め込み、その分対向する
保持部２１” ２２の間隔を狭くしている。
なお）上記の実施例では、何れも片側のガイド部材１４
．１４’ １４’”の保持部２１．２１’２１”の
みを移設できるようにしであるが、双方のガイド部材１
４．１５をそのように構成してもよいことはもちろんで
ある。
．１４’ １４’”の保持部２１．２１’２１”の
みを移設できるようにしであるが、双方のガイド部材１
４．１５をそのように構成してもよいことはもちろんで
ある。
［発明の効果コ
以上説明した通り、本発明によれば、幅の異なる基板を
保持し、案内できるため、幅の違う基板毎に別の薄膜形
成装置を用意する必要がなくなり、設備の効率的な運転
が可能となる。
保持し、案内できるため、幅の違う基板毎に別の薄膜形
成装置を用意する必要がなくなり、設備の効率的な運転
が可能となる。
第１図は、本発明の実施例の霧化器１摸形成装置の概要
を示す縦断側面図、第２図（ａ）、 （ｂ）は、本発明
の実施例を示す第１図のＡ−Ａ線部分の断面図、第３図
（ａ）、 （ｂ）は、同実施例における第１図のＢ−Ｂ
線部分の断面図、第４図（ａ）〜（ｃ）は、他の実施例
を示す第１図のＡ−Ａ線部分の断面図、第５図は、従来
の霧化ｉ１．＋７膜形成装置の概要を示す縦断側面図で
ある。 １・・・霧化器 ３・・・ノズル ４・・・成膜室 ５
・・・排気ダクト６・・・基板 ９・・・ヒータ １４
．１４１４” １５・・・ガイド部材 ２１．２１
′２ ｌ” ２２・・・ガイ ド部材の保持部
を示す縦断側面図、第２図（ａ）、 （ｂ）は、本発明
の実施例を示す第１図のＡ−Ａ線部分の断面図、第３図
（ａ）、 （ｂ）は、同実施例における第１図のＢ−Ｂ
線部分の断面図、第４図（ａ）〜（ｃ）は、他の実施例
を示す第１図のＡ−Ａ線部分の断面図、第５図は、従来
の霧化ｉ１．＋７膜形成装置の概要を示す縦断側面図で
ある。 １・・・霧化器 ３・・・ノズル ４・・・成膜室 ５
・・・排気ダクト６・・・基板 ９・・・ヒータ １４
．１４１４” １５・・・ガイド部材 ２１．２１
′２ ｌ” ２２・・・ガイ ド部材の保持部
Claims (1)
- 薄膜作製用原料溶液を霧化する霧化器１と、上記霧化
器１から発生した霧状の原料溶液が上記霧化器１のノズ
ル３から導入されて排出されるまでの間に延長形成され
た成膜室４と、薄膜を形成する基板６の成膜面が上記成
膜室４の天面を形成するよう、前記基板６を供給する手
段と、上記基板６を加熱するヒータ９とを備える薄膜形
成装置において、上記基板６の両側辺を保持するガイド
部材１４、１４’、１４”、１５を有し、ガイド部材１
４、１４’、１４”、１５の互いに対向する側面に形成
された基板６の側辺を保持する保持部２１、２１’、２
１”、２２の少なくとも何れか一方が基板６の幅方向に
移設自在となっていることを特徴とする薄膜形成装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1224980A JPH0390578A (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 | 薄膜形成装置 |
| DE69010595T DE69010595T2 (de) | 1989-08-31 | 1990-08-22 | Vorrichtung zur Bildung einer dünnen Schicht. |
| EP90116073A EP0415252B1 (en) | 1989-08-31 | 1990-08-22 | Thin film forming apparatus |
| AU61292/90A AU618684B2 (en) | 1989-08-31 | 1990-08-23 | Thin film forming apparatus |
| US07/573,240 US5086727A (en) | 1989-08-31 | 1990-08-24 | Thin film forming apparatus having adjustable guide |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1224980A JPH0390578A (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 | 薄膜形成装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0390578A true JPH0390578A (ja) | 1991-04-16 |
| JPH0461077B2 JPH0461077B2 (ja) | 1992-09-29 |
Family
ID=16822217
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1224980A Granted JPH0390578A (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 | 薄膜形成装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5086727A (ja) |
| EP (1) | EP0415252B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0390578A (ja) |
| AU (1) | AU618684B2 (ja) |
| DE (1) | DE69010595T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07503888A (ja) * | 1991-12-23 | 1995-04-27 | カミル アクチボラゲット | 泡の生成を妨げるための分離構造および方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19600985A1 (de) * | 1996-01-12 | 1997-07-17 | Steag Micro Tech Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von Substraten |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3881209A (en) * | 1973-08-24 | 1975-05-06 | Frederick Reinitz | Device for cleaning ceiling tile |
| JPS57143227U (ja) * | 1981-02-26 | 1982-09-08 | ||
| GB2143518B (en) * | 1983-05-13 | 1986-10-22 | Glaverbel | Thermal conditioning of hot glass ribbon prior to coating with metal or metal oxide |
| JPS6169962A (ja) * | 1984-09-13 | 1986-04-10 | Agency Of Ind Science & Technol | 霧化薄膜作製装置 |
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