JPH0390172A - Method and device for decomposing organic halogen compound by plasma reaction method - Google Patents
Method and device for decomposing organic halogen compound by plasma reaction methodInfo
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- 150000002896 organic halogen compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 67
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 27
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 title claims description 11
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 75
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims abstract description 45
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 35
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 14
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 claims description 10
- 230000006698 induction Effects 0.000 claims description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 78
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 abstract description 39
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract 1
- CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N potassium oxide Chemical compound [O-2].[K+].[K+] CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910001950 potassium oxide Inorganic materials 0.000 abstract 1
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 235000012255 calcium oxide Nutrition 0.000 description 3
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 3
- 229940125797 compound 12 Drugs 0.000 description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 3
- CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N trichlorofluoromethane Chemical compound FC(Cl)(Cl)Cl CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- NNJPGOLRFBJNIW-HNNXBMFYSA-N (-)-demecolcine Chemical compound C1=C(OC)C(=O)C=C2[C@@H](NC)CCC3=CC(OC)=C(OC)C(OC)=C3C2=C1 NNJPGOLRFBJNIW-HNNXBMFYSA-N 0.000 description 1
- AJDIZQLSFPQPEY-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-Trichlorotrifluoroethane Chemical compound FC(F)(Cl)C(F)(Cl)Cl AJDIZQLSFPQPEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- 239000003183 carcinogenic agent Substances 0.000 description 1
- KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N chloro(fluoro)methane Chemical compound F[C]Cl KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 239000002828 fuel tank Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 231100000219 mutagenic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003505 mutagenic effect Effects 0.000 description 1
- 150000004812 organic fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229940029284 trichlorofluoromethane Drugs 0.000 description 1
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、フロンガス、トリクロロエチレン等の有機化
合物中にフッ素、塩素、臭素を含む有機ハロゲン化合物
を効率良く分解することができるプラズマ反応法による
有機ハロゲン化合物の分解方法に関する。Detailed Description of the Invention (Industrial Application Field) The present invention is an organic compound that uses a plasma reaction method that can efficiently decompose organic halogen compounds containing fluorine, chlorine, and bromine in organic compounds such as fluorocarbon gas and trichlorethylene. This invention relates to a method for decomposing halogen compounds.
（従来の技術）
フロンガス、トリクロロエチレン等の有機化合物中にフ
ッ素、塩素、臭素を含む有機ハロゲン化合物は、溶剤、
冷媒、消火剤等に幅肱くかつ大量に使用されており、産
業における重要性が高い。(Prior art) Organic halogen compounds containing fluorine, chlorine, and bromine in organic compounds such as chlorofluorocarbon gas and trichlorethylene are
It is widely used in large quantities as a refrigerant, fire extinguisher, etc., and has great importance in industry.
しかしながら、これらの化合物は、揮発性が高く、産業
で使用されるものの多くが大気、水、土壌等の環境中へ
放出され、その結果、オゾン層の破壊。However, these compounds are highly volatile, and many of those used in industry are released into the environment such as the air, water, and soil, resulting in the depletion of the ozone layer.
発がん性物質の生ｆ！ｉ、変異原性物質の生成等、環境
に対し、深刻な影響を与えることが指摘されている。Carcinogenic substance f! It has been pointed out that it has serious effects on the environment, such as the production of mutagenic substances.
（発明が解決しようとする課題）
使用済みの有機ハロゲン化合物を廃棄処理する場合には
、その反応性が極端に低いため、適切な分解処理方法が
ないのが現状である。(Problems to be Solved by the Invention) Currently, when disposing of used organic halogen compounds, there is no suitable decomposition treatment method because their reactivity is extremely low.
分解処理方法として従来より報告されているものは、主
に高温での燃焼技術である。しかしながら、この方法で
は、大量の炭化水素等の燃料と共に有機ハロゲン化合物
を燃焼させるため、エネルギー効率が極端に低く、又、
燃料タンクや燃焼炉が大型のため、装置全体を小形化す
ることができない。更に、燃焼に伴って発生する遊離ノ
＼ロゲンが高温の炉壁と接触し、特に、有機フッ素化合
物を燃焼させた場合には、炉の腐蝕が甚だしい。The decomposition treatment methods that have been reported so far are mainly high-temperature combustion techniques. However, this method has extremely low energy efficiency as it burns organic halogen compounds together with a large amount of fuel such as hydrocarbons.
Because the fuel tank and combustion furnace are large, it is not possible to downsize the entire device. Furthermore, free halogens generated during combustion come into contact with the high-temperature furnace walls, resulting in severe corrosion of the furnace, especially when organic fluorine compounds are burned.
本発明者は、有機ハロゲン化合物を容易に分解できる方
法について鋭意研究した結果、高周波。As a result of intensive research into a method that can easily decompose organic halogen compounds, the present inventors discovered a method that can easily decompose organic halogen compounds.
マイクロ波による誘導加熱方式あるいは直流加熱方式等
によって生成されたプラズマを用いた分解方法を見出し
た。これは、プラズマ状態下では、物質が非常に反応性
に富む現象を利用したもので、有機ハロゲン化合物のよ
うな難分解性化学物質を短時間で分解できることに基づ
くものである。すなわち、１００００″Ｃ以上に達する
高温プラズマ中では、はとんど全ての分子は解離して原
子状態に分解が行われるものと思われる。We have discovered a decomposition method using plasma generated by induction heating using microwaves or direct current heating. This method utilizes the phenomenon that substances are highly reactive under plasma conditions, and is based on the fact that difficult-to-decompose chemical substances such as organic halogen compounds can be decomposed in a short period of time. That is, in high-temperature plasma reaching 10,000''C or higher, almost all molecules are considered to be dissociated and decomposed into atomic states.
このようなプラズマを用いた分解方法で考慮すべき点は
、液状の有機ハロゲン化合物をプラズマフレーム中に効
率良く導く点である。すなわち、液状の有機ハロゲン化
合物を直接プラズマフレーム中に導入しても、液状の有
機ハロゲン化合物は、プラズマフレーム中を単に通過し
てしまい、分解されるに至らない。また、液体を直接プ
ラズマフレーム中に導入すると、プラズマの状態が不安
定となり、極端な場合には、プラズマが消滅してしまう
。What should be considered in such a decomposition method using plasma is how to efficiently guide the liquid organic halogen compound into the plasma flame. That is, even if a liquid organic halogen compound is directly introduced into the plasma flame, the liquid organic halogen compound simply passes through the plasma flame and is not decomposed. Furthermore, if a liquid is directly introduced into a plasma flame, the state of the plasma will become unstable, and in extreme cases, the plasma will disappear.
本発明はこのような点に鑑みてなされたもので、その目
的は、フロン、トリクレン等の有機ハロゲン化合物を高
濃度であっても高効率で分解することができるプラズマ
反応法による有機ハロゲン化合物の分解方法および装置
を実現することにあり、特に、プラズマ中に液状の有機
ハロゲン化合物を効率良く供給して分解することができ
る方法および装置を実現するにある。The present invention was made in view of these points, and its purpose is to decompose organic halogen compounds such as chlorofluorocarbons and trichlene using a plasma reaction method that can decompose organic halogen compounds with high efficiency even at high concentrations. The object of the present invention is to realize a decomposition method and apparatus, and in particular, to realize a method and apparatus that can efficiently supply a liquid organic halogen compound into plasma and decompose it.
（課題を解決するための手段）
請求項１の発明に基づくプラズマ反応法による有機ハロ
ゲン化合物の分解方法は、プラズマ中に有機ハロゲン化
合物を導入し、有機ハロゲン化合物の分解を行うように
したプラズマ反応法による有機ハロゲン化合物の分解方
法において、液状の有機ハロゲン化合物の中にキャリア
ガスを導入してバブリングさせ、キャリアガス中に有機
ハロゲン化合物を含ませると共に、水の中にキャリアガ
スを導入してバブリングさせ、キャリアガス中に水を含
ませ、この有機ハロゲン化合物と水とを含んだキャリア
ガスを混合し、混合したキャリアガスをプラズマ中に導
入するようにしたことを特徴としている。(Means for Solving the Problem) A method for decomposing an organic halogen compound by a plasma reaction method based on the invention of claim 1 is a plasma reaction method in which an organic halogen compound is introduced into plasma and the organic halogen compound is decomposed. In a method for decomposing an organic halogen compound by the method, a carrier gas is introduced into a liquid organic halogen compound and bubbled therein, and the organic halogen compound is included in the carrier gas, and at the same time, a carrier gas is introduced into water and bubbled. The present invention is characterized in that the organic halogen compound and the carrier gas containing water are mixed, and the mixed carrier gas is introduced into the plasma.
請求項２の発明に基づくプラズマ反応法による有機ハロ
ゲン化合物の分解装置は、円筒状の管と、ガス供給ノズ
ルと、管の周囲に巻回されたＲＦコイルとより成る誘導
プラズマトーチと、キャリアガス源と、キャリアガス源
からのキャリアガスガスが導入され、内部に液状の有機
ハロゲン化合物が入れられた第１の容器と、キャリアガ
ス源からのキャリアガスガスが導入され、内部に水が入
れられた第２の容器と、第１の容器からの有機ハロゲン
化合物を含んだキャリアガスガスと、第２の容器からの
水を含んだキャリアガスとを混合してガス供給ノズルに
導くキャリアガス流路とを備えたことを特徴としている
。The apparatus for decomposing organic halogen compounds using a plasma reaction method according to the invention of claim 2 includes an induction plasma torch comprising a cylindrical tube, a gas supply nozzle, an RF coil wound around the tube, and a carrier gas. a first container into which a carrier gas gas from the carrier gas source is introduced and a liquid organic halogen compound contained therein; and a first container into which a carrier gas gas from the carrier gas source is introduced and into which water is placed. a carrier gas flow path that mixes a carrier gas containing an organic halogen compound from the first container and a carrier gas containing water from the second container and guides the mixture to a gas supply nozzle. It is characterized by
（作用）
本発明の請求項１および２の発明では、ブラズマ中に有
機ハロゲン化合物と共に水を導入するここを基本として
おり、プラズマ中に有機ハロゲン化合物と水とを効率良
く導入するために、アルゴンガスの如きキャリアガスを
液状の有機ハロゲン化合物内に導入し、バブリングさせ
ることによってキャリアガス中に有機ハロゲン化合物を
含ませると共に、キャリアガスを水の中に導入し、バブ
リングさせることによってキャリアガス中に水を含ませ
、有機ハロゲン化合物と水を含んだ２種のキャリアガス
を混合してプラズマトーチ内に導入する。(Function) The inventions of claims 1 and 2 of the present invention are based on introducing water together with an organic halogen compound into the plasma, and in order to efficiently introduce the organic halogen compound and water into the plasma, argon By introducing a carrier gas such as a gas into a liquid organic halogen compound and bubbling it, the organic halogen compound is included in the carrier gas, and at the same time, by introducing a carrier gas into water and bubbling it, the organic halogen compound is included in the carrier gas. Two types of carrier gas containing water are mixed and introduced into the plasma torch, including an organic halogen compound and water.
（実施例）
以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する
。添附図面は本発明を実施するための高周波誘導プラズ
マ装置を示しており、誘導プラズマトーチ１は、石英等
の絶縁性物質で形成された円筒状の管２．ガス供給ノズ
ル３および管２の周囲に巻回されたＲＦコイル４等によ
って構成されている。ガス供給ノズル３には、リング状
の溝５が穿たれており、その溝５の外側にはリング状の
プレート６が溶接される。リング状のプレート６には、
多数の微小孔７が穿たれており、又、溝５は、ノズル３
内部に穿たれた孔８の一端が接続されている。孔８の他
端は、ノズル３の上部において、管９に接続されている
。(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The accompanying drawings show a high-frequency induction plasma apparatus for carrying out the present invention, and an induction plasma torch 1 includes a cylindrical tube 2 made of an insulating material such as quartz. It is composed of a gas supply nozzle 3, an RF coil 4 wound around a tube 2, and the like. A ring-shaped groove 5 is bored in the gas supply nozzle 3, and a ring-shaped plate 6 is welded to the outside of the groove 5. The ring-shaped plate 6 has
A large number of microholes 7 are bored, and the groove 5 is connected to the nozzle 3.
One end of a hole 8 bored inside is connected. The other end of the hole 8 is connected to a tube 9 at the top of the nozzle 3 .
管９は、途中で分岐しており、一方は第１の容器１０内
部に、他方は、第２の容器１１内部に導入されている。The pipe 9 is branched in the middle, and one end is introduced into the first container 10 and the other end is introduced into the second container 11.
第１の容器１０内には、分解されるべきフロン１１３の
如き液状の有機／％ロゲン化合物１２が入れられている
。第１の容器１０内の有機ハロゲン化合物の中には、キ
ャリアガス供給管１３の一端が挿入されている。キャリ
アガス供給管１３の他端は、フローコントローラ１４を
介して、アルゴンガス源１５に接続されている。第２の
容器１１内には、水１６が入れられており、この水１６
の中には、キャリアガス供給管１７の一端が挿入されて
いる。キャリアガス供給管１７の他端は、フローコン１
−ローラ１８を介してアルゴンガス源１５に接続されて
いる。A first container 10 contains a liquid organic/percent halogen compound 12 such as Freon 113 to be decomposed. One end of the carrier gas supply pipe 13 is inserted into the organic halogen compound in the first container 10 . The other end of the carrier gas supply pipe 13 is connected to an argon gas source 15 via a flow controller 14 . Water 16 is placed in the second container 11, and this water 16
One end of a carrier gas supply pipe 17 is inserted into it. The other end of the carrier gas supply pipe 17 is connected to the flow controller 1
- connected to an argon gas source 15 via a roller 18;
管９の途中には、切換バルブ１９が設けられている。切
換バルブ１つは、第１の容器１０と第２の容器１１から
のガスと、アルゴンガス源２０からのガスとを切換えて
ノズル３に穿たれた孔８に導くようにしている。アルゴ
ンガス源２０からのガス流量は、フローコントローラ２
１によって制御される。A switching valve 19 is provided in the middle of the pipe 9. One switching valve switches the gas from the first container 10 and the second container 11 and the gas from the argon gas source 20 and guides it to the hole 8 formed in the nozzle 3. The gas flow rate from the argon gas source 20 is controlled by the flow controller 2.
1.
プラズマトーチ１を構成する円筒状の管２の下部には開
口２２が設けられており、この間口２２には排気管２３
が接続されている。排気管２３は、排気されるガスの中
に含まれている粉末物質をトラップするサイクロン２４
に接続されている。サイクロン２４を通過した排気ガス
は、管２５に導かれるが、管２５は、内部にアルカリ性
水溶岐、例えば、水酸化カリウム（ＫＯＨ）２６が入れ
られた容器２７内に導入されている。容器２７の上部に
は、内部気体の排出管２８が設けられており、この排出
管２８は、内部にアルカリ性固体、例えば、酸化カルシ
ウム（Ｃａ Ｏ） ２９が入れられた容器３０の下部に
つながれている。容器３０の上部には、内部の酸化カル
シウム２つの間を通過した気体の排出管３１が設けられ
ている。An opening 22 is provided at the bottom of the cylindrical tube 2 constituting the plasma torch 1, and an exhaust pipe 23 is provided in this opening 22.
is connected. The exhaust pipe 23 has a cyclone 24 that traps powdery substances contained in the exhausted gas.
It is connected to the. The exhaust gas that has passed through the cyclone 24 is led to a pipe 25, which is introduced into a container 27 containing an alkaline water solution, for example, potassium hydroxide (KOH) 26. A discharge pipe 28 for internal gas is provided at the upper part of the container 27, and this discharge pipe 28 is connected to the lower part of a container 30 containing an alkaline solid such as calcium oxide (CaO) 29 inside. There is. At the top of the container 30, a discharge pipe 31 is provided for the gas that has passed between the two calcium oxides inside.
このように構成された装置の動作を説明すれば以下の通
りである。装置の初期状態においては、管９の途中に設
けられた切換バルブ１９を操作し、アルゴンガス源２０
からのアルゴンガスがノズル３の孔８を介して溝５内に
供給されるようにする。The operation of the device configured as described above will be explained as follows. In the initial state of the device, the switching valve 19 provided in the middle of the pipe 9 is operated to switch on the argon gas source 20.
argon gas is supplied into the groove 5 through the hole 8 of the nozzle 3.
溝５へのアルゴンガスの供給により、アルゴンガスは、
プレート６に設けられた多数の微小孔７から円筒状の管
２内部に噴出される。この状態で、ＲＦコイル４に高周
波を供給し図示外の点火機構により、プラズマＰを着火
する。By supplying argon gas to the groove 5, the argon gas becomes
It is ejected into the cylindrical tube 2 from a large number of microholes 7 provided in the plate 6. In this state, a high frequency is supplied to the RF coil 4, and the plasma P is ignited by an ignition mechanism not shown.
その後、切換バルブ１９を切換え、アルゴンガス源２０
からのアルゴンガスに代え、第１の容器１０と第２の容
器１１からのガスがノズル３の孔８を介して溝５内に供
給されるようにする。第１の容器１０においては、内部
の有機ハロゲン化合物溶液１２中に、アルゴンガス源１
５に接続されているキャリアガス供給管１３が挿入され
ており、有機ハロゲン化合物１２内に開放された管１３
の端部から、フローコントローラ１４によって適宜な流
量にされたアルゴンガスが噴出される。この結果、有機
ハロゲン化合物は、アルゴンガスのバブリングにより、
蒸気となってガスの中に含まされ、第１の容器１０内か
ら管９の中に排出される。After that, the switching valve 19 is switched, and the argon gas source 20
Gases from the first container 10 and the second container 11 are supplied into the groove 5 through the hole 8 of the nozzle 3 instead of the argon gas from the argon gas. In the first container 10, an argon gas source 1 is added to the organic halogen compound solution 12 inside.
A carrier gas supply pipe 13 connected to 5 is inserted, and the pipe 13 is open into the organic halogen compound 12.
Argon gas is ejected from the end at an appropriate flow rate by the flow controller 14. As a result, the organic halogen compound is dissolved by bubbling argon gas.
The vapor is contained in the gas and discharged from the first container 10 into the pipe 9.
また、第２の容器１１においては、内部の水１６の中に
アルゴンガス源１５に接続されているキャリアガス供給
管１７が挿入されており、水１６の中に開放された管１
７の端部から、フローコントローラ１８によって適宜な
流量にされたアルゴンガスが噴出される。この結果、水
は、アルゴンガスのバブリングにより、蒸気となってガ
スの中に含まされ、第１の容器１１内から管９の中に排
出される。Further, in the second container 11, a carrier gas supply pipe 17 connected to the argon gas source 15 is inserted into the water 16 inside, and the pipe 1 opened into the water 16 is inserted into the second container 11.
From the end of 7, argon gas is ejected at an appropriate flow rate by a flow controller 18. As a result, water becomes steam and is contained in the gas due to the bubbling of the argon gas, and is discharged from the first container 11 into the pipe 9.
管９の途中の分岐部Ｊで有機ハロゲン化合物の蒸気を含
んだアルゴンガスと、水蒸気を含んだアルゴンガスは混
合され、混合ガスは、ノズル３の孔８を介して溝５中に
導入される。混合ガスは、溝５から、プレート６に設け
られた多数の微小孔７を通って管２内に噴き出され、プ
ラズマフレームＦ中に導入される。このとき、プラズマ
の温度は１万度〜１万５千度になっており、プラズマフ
レームＦ中に導入された有機ハロゲン化合物及び水は、
高温により高い効率で分解して下記に示す化学反応をす
る。At a branch J in the middle of the pipe 9, argon gas containing organic halogen compound vapor and argon gas containing water vapor are mixed, and the mixed gas is introduced into the groove 5 through the hole 8 of the nozzle 3. . The mixed gas is ejected from the groove 5 into the tube 2 through a large number of micropores 7 provided in the plate 6, and introduced into the plasma flame F. At this time, the temperature of the plasma is 10,000 to 15,000 degrees, and the organic halogen compound and water introduced into the plasma flame F are
It decomposes with high efficiency at high temperatures and undergoes the chemical reactions shown below.
有機ハロゲン化合物としてトリクロロフルオロメタン（
フロン−１１・・・ＣＣＲ３Ｆ）をプラズマ中で分解さ
せた場合、水との間で、次の反応が生じる。Trichlorofluoromethane (
When Freon-11...CCR3F) is decomposed in plasma, the following reaction occurs with water.
ＣＣｆｆ ３ Ｆ＋２Ｈ２０
−ＣＯ２＋３ＨＣρ＋ＨＦ
分解された分子を含む排出ガスは、管２の底部の開口２
２から排出管２３を通って、サイクロン２４内に導かれ
る。このとき、フロン−１１に比べて水が少ないと過剰
の炭素を生じるが、このサイクロン２４内で、排出ガス
中に含まれている炭素等の微粉末はトラップされる。サ
イクロン２４を通ったガスは、管２５から容器２７の内
部の水酸化カリウム水溶液２６中に導入される。この溶
液２６中に排出ガスを通すことによって、ＨＣＩ。CCff 3 F+2H20 -CO2+3HCρ+HF The exhaust gas containing the decomposed molecules is passed through the opening 2 at the bottom of the tube 2.
2, is led into a cyclone 24 through a discharge pipe 23. At this time, if there is less water than Freon-11, excess carbon will be produced, but fine powder such as carbon contained in the exhaust gas will be trapped within the cyclone 24. The gas that has passed through the cyclone 24 is introduced into the potassium hydroxide aqueous solution 26 inside the container 27 through the pipe 25. HCI by passing exhaust gas into this solution 26.
ＨＦ等の酸を含む排出ガスは中和される。中和されたガ
スは、容器２６の底部から排出管２８を通って、容器３
０内部に導入され、容器３０内部の酸化カルシウム２９
によって脱水される。脱水されたガスは、安定な、環境
に影響をほとんど与えない化合物であり、適宜大気中に
放出される。Exhaust gases containing acids such as HF are neutralized. The neutralized gas passes from the bottom of the container 26 through the exhaust pipe 28 to the container 3.
Calcium oxide 29 inside the container 30
dehydrated by The dehydrated gas is a stable compound with little impact on the environment and is released into the atmosphere as appropriate.
第２図は本発明の他の実施例を示しており、第１図の実
施例と同一部分は同一番号を付しである。FIG. 2 shows another embodiment of the invention, in which the same parts as in the embodiment of FIG. 1 are given the same numbers.
この実施例で、トーチ１のノズル３には、溝５１；つな
がった孔８以外に、中心部に孔５０が穿たれている。中
心部の孔５０には、有機ハロゲン化合物のバブリングを
行う第１の容器１０と水のバブリングを行う第２の容器
からのキャリアガスの通路となる管９が接続されている
。また、孔８には、アルゴンガス源２０にフローコント
ローラ５１を介して接続されている管５２が接続されて
いる。In this embodiment, the nozzle 3 of the torch 1 has a groove 51; in addition to the continuous holes 8, a hole 50 is bored in the center. Connected to the central hole 50 is a pipe 9 that serves as a passage for carrier gas from a first container 10 for bubbling an organic halogen compound and a second container for bubbling water. Further, a pipe 52 connected to the argon gas source 20 via a flow controller 51 is connected to the hole 8 .
この実施例で、装置の初期状態においては、管９の途中
に設けられた切換バルブ１つを操作し、アルゴンガス源
２０からのアルゴンガスがノズル３の孔５０に供給され
るようにする。また、孔８を介して溝５には、アルゴン
ガス源２０からのアルゴンガスが、フローコントローラ
５１によって適宜な流量とされて供給される。従って、
管２の内部には、プレート６の微小孔７からと、孔５０
からの２カ所からアルゴンガスが噴出される。この状態
で、ＲＦコイル４に高周波を供給すると、プラズマＰが
着火する。In this embodiment, in the initial state of the apparatus, one switching valve provided in the middle of the pipe 9 is operated so that argon gas from the argon gas source 20 is supplied to the hole 50 of the nozzle 3. Further, argon gas from an argon gas source 20 is supplied to the groove 5 through the hole 8 at an appropriate flow rate by a flow controller 51 . Therefore,
Inside the tube 2, there are holes 50 and 7 in the plate 6.
Argon gas is ejected from two locations. In this state, when high frequency waves are supplied to the RF coil 4, the plasma P is ignited.
その後、切換バルブ１つを切換え、アルゴンガス源２０
からのアルゴンガスに代え、第１の容器１０と第２の容
器１１からのガスがノズル３の孔５０を介して管２内部
に噴出されるようにする。After that, switch one switching valve and switch the argon gas source 20.
Gases from the first container 10 and the second container 11 are injected into the tube 2 through the hole 50 of the nozzle 3 instead of the argon gas from the argon gas.
この結果、第１図に示した実施例と同様に、１万度〜１
万５千度に加熱されたプラズマフレームＦ中に導入され
た有機ハロゲン化合物は、高温による振動やプラズマ中
の高エネルギーの電子との衝突により分子間結合が切ら
れ、高い効率で分解する。As a result, as in the example shown in FIG.
The organic halogen compound introduced into the plasma flame F heated to 5,000 degrees Celsius is decomposed with high efficiency as intermolecular bonds are broken by vibrations caused by the high temperature and collisions with high-energy electrons in the plasma.
以上本発明の実施例を詳説したが、本発明はこれらの実
施例に限定されない。例えば、第１の実施例では、トー
チのノズルに満を一つ設け、この溝にアルゴンガスとバ
ブリングによって有機ハロゲン化合物の蒸気を含んだキ
ャリアガスとを切換えて供給するようにしたが、ノズル
に溝を二つ設け、一方にはアルゴンガスとバブリングに
よって有機ハロゲン化合物の蒸気を含んだキャリアガス
とを切換えて供給するようにし、他方には、継続的にア
ルゴンガスを供給するように構成しても良い。Although the embodiments of the present invention have been described in detail above, the present invention is not limited to these embodiments. For example, in the first embodiment, one nozzle of the torch was provided, and argon gas and a carrier gas containing organic halogen compound vapor by bubbling were selectively supplied to this groove. Two grooves are provided, one of which is configured to switch between supplying argon gas and a carrier gas containing organic halogen compound vapor by bubbling, and the other is configured to continuously supply argon gas. Also good.
また、上述の実施例では有機ハロゲン化合物１２と反応
する溶液として水を用いた場合を例にとって説明したが
、本発明はこれに限るものではなく、有機ハロゲン化合
物と反応して該有機ハロゲン化合物を分解させるような
ものであればどのようなものであってもよい。Further, in the above-mentioned embodiments, the case where water is used as a solution to react with the organic halogen compound 12 was explained as an example, but the present invention is not limited to this, and the organic halogen compound reacts with the organic halogen compound to remove the organic halogen compound. Any material may be used as long as it can be decomposed.
更に、有機ハロゲン化合物と水が入れられた容器の内部
の夫々に加熱ヒータと温度計とを設け、常に有機ハロゲ
ン化合物と水とを３０’Ｃ〜４０″Ｃ程度の温度に維持
すれば、より蒸発を促進することができる。Furthermore, if a heater and a thermometer are provided inside the containers containing the organic halogen compound and water, and the organic halogen compound and water are constantly maintained at a temperature of about 30'C to 40'C, the temperature will be even higher. Evaporation can be promoted.
（発明の効果）
以上説明したように、本発明によれば、アルゴンガスの
如きキャリアガスを液状の有機ハロゲン化合物内に導入
し、バブリングさせることによってキャリアガス中に有
機ハロゲン化合物の蒸気を含ませると共に、キャリアガ
スを水の中に導入し、バブリングさせることによってキ
ャリアガス中に水蒸気を含ませ、有機ハロゲン化合物と
水の蒸気を含んだ２種のキャリアガスを混合してプラズ
マトーチ内に導入するようにしているので、液状の有機
ハロゲン化合物を効率良く、プラズマ中に拡散させて導
入することができる。また、液状の有機ハロゲン化合物
は蒸気の状態でプラズマ中に導入されることから、プラ
ズマを安定な状態に維持することができる。(Effects of the Invention) As explained above, according to the present invention, a carrier gas such as argon gas is introduced into a liquid organic halogen compound, and the organic halogen compound vapor is contained in the carrier gas by bubbling. At the same time, a carrier gas is introduced into water and bubbled to contain water vapor in the carrier gas, and two types of carrier gas containing an organic halogen compound and water vapor are mixed and introduced into the plasma torch. Therefore, the liquid organic halogen compound can be efficiently diffused and introduced into the plasma. Further, since the liquid organic halogen compound is introduced into the plasma in a vapor state, the plasma can be maintained in a stable state.
第１図は本発明に基づく有機ハロゲン化合物の分解装置
の一実施例を示す図、第２図は他の実施例を示す図であ
る。
１・・・トーチ ２・・・管３・・・ガス供
給ノズル ４・・・ＲＦコイル５・・・溝
６・・・プレート７・・・微小孔 ８
．５０・・・孔９、１３．１７．２５．２８．５２・・
・管１０・・・第１の容器 １１・・・第２の容器
１２・・・有機ハロゲン化合物
１４．１ｇ、２１．５１・・・フローコントローラ１５
・・・アルゴンガス源 １６・・・水１９・・・切換バ
ルブ ２０４・・アルゴンガス源２２・・・開口
２３・・・排気管２４・・・サイクロン
２６・・・水酸化カリウム水溶液
２７．３０・・・容器 ２つ・・・酸化カルシウム
３１・・・排出管FIG. 1 is a diagram showing one embodiment of an organic halogen compound decomposition apparatus based on the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing another embodiment. 1...Torch 2...Pipe 3...Gas supply nozzle 4...RF coil 5...Groove
6... Plate 7... Microhole 8
．． 50...hole 9, 13.17.25.28.52...
- Pipe 10... First container 11... Second container 12... Organic halogen compound 14.1 g, 21.51... Flow controller 15
...Argon gas source 16...Water 19...Switching valve 204...Argon gas source 22...Opening
23... Exhaust pipe 24... Cyclone 26... Potassium hydroxide aqueous solution 27.30... Two containers... Calcium oxide 31... Discharge pipe
Claims (2)
ハロゲン化合物の分解を行うようにしたプラズマ反応法
による有機ハロゲン化合物の分解方法において、液状の
有機ハロゲン化合物の中にキャリアガスを導入してバブ
リングさせ、キャリアガス中に有機ハロゲン化合物を含
ませると共に、水の中にキャリアガスを導入してバブリ
ングさせ、キャリアガス中に水を含ませ、この有機ハロ
ゲン化合物と水とを含んだキャリアガスを混合し、混合
したキャリアガスをプラズマ中に導入するようにしたプ
ラズマ反応法による有機ハロゲン化合物の分解方法。(1) In a method for decomposing an organic halogen compound using a plasma reaction method in which the organic halogen compound is introduced into plasma and the organic halogen compound is decomposed, a carrier gas is introduced into the liquid organic halogen compound and bubbling is performed. The organic halogen compound is contained in the carrier gas, the carrier gas is introduced into water and bubbled, the water is contained in the carrier gas, and the organic halogen compound and the carrier gas containing water are mixed. A method for decomposing organic halogen compounds using a plasma reaction method in which a mixed carrier gas is introduced into the plasma.
回されたＲＦコイルとより成る誘導プラズマトーチと、
キャリアガス源と、キャリアガス源からのキャリアガス
ガスが導入され、内部に液状の有機ハロゲン化合物が入
れられた第１の容器と、キャリアガス源からのキャリア
ガスガスが導入され、内部に水が入れられた第２の容器
と、第１の容器からの有機ハロゲン化合物を含んだキャ
リアガスガスと、第２の容器からの水を含んだキャリア
ガスとを混合してガス供給ノズルに導くキャリアガス流
路とを備えたプラズマ反応法による有機ハロゲン化合物
の分解装置。(2) an induction plasma torch consisting of a cylindrical tube, a gas supply nozzle, and an RF coil wound around the tube;
a carrier gas source; a first container into which the carrier gas gas from the carrier gas source is introduced; a liquid organic halogen compound; a carrier gas flow path that mixes a carrier gas containing an organic halogen compound from the first container and a carrier gas containing water from the second container and guides the mixture to a gas supply nozzle; A device for decomposing organic halogen compounds using a plasma reaction method.
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1227084A JPH0722607B2 (en) | 1989-09-01 | 1989-09-01 | Method and apparatus for decomposing organic halogen compound by plasma reaction method |
| US07/433,361 US5026464A (en) | 1988-08-31 | 1989-11-07 | Method and apparatus for decomposing halogenated organic compound |
| CA002002616A CA2002616C (en) | 1988-11-10 | 1989-11-09 | Method and apparatus for decomposing halogenated organic compound |
| US07/684,006 US5187344A (en) | 1988-11-10 | 1991-04-11 | Apparatus for decomposing halogenated organic compound |
| US08/182,539 US5354962A (en) | 1988-11-10 | 1994-01-14 | Apparatus for decomposing halogenated organic compound |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1227084A JPH0722607B2 (en) | 1989-09-01 | 1989-09-01 | Method and apparatus for decomposing organic halogen compound by plasma reaction method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0390172A true JPH0390172A (en) | 1991-04-16 |
| JPH0722607B2 JPH0722607B2 (en) | 1995-03-15 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
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| JP (1) | JPH0722607B2 (en) |
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| JP2019188397A (en) * | 2011-03-18 | 2019-10-31 | パイロジェネシス・カナダ・インコーポレーテッド | Vapor plasma arc hydrolysis of ozone destruction substance |
| US10551062B2 (en) | 2011-03-18 | 2020-02-04 | Pyrogenesis Canada Inc. | Apparatus for steam plasma arc hydrolysis of ozone depleting substances |
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