JPH0374368B2 - - Google Patents
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- JPH0374368B2 JPH0374368B2 JP58028413A JP2841383A JPH0374368B2 JP H0374368 B2 JPH0374368 B2 JP H0374368B2 JP 58028413 A JP58028413 A JP 58028413A JP 2841383 A JP2841383 A JP 2841383A JP H0374368 B2 JPH0374368 B2 JP H0374368B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06K—GRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
- G06K15/00—Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data, e.g. computer output printers
- G06K15/02—Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data, e.g. computer output printers using printers
- G06K15/12—Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data, e.g. computer output printers using printers by photographic printing, e.g. by laser printers
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- G06K15/1242—Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data, e.g. computer output printers using printers by photographic printing, e.g. by laser printers simultaneously exposing more than one point on one main scanning line
- G06K15/1252—Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data, e.g. computer output printers using printers by photographic printing, e.g. by laser printers simultaneously exposing more than one point on one main scanning line using an array of light modulators, e.g. a linear array
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/29—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the position or the direction of light beams, i.e. deflection
- G02F1/31—Digital deflection, i.e. optical switching
- G02F1/315—Digital deflection, i.e. optical switching based on the use of controlled internal reflection
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- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の技術分野
本発明は、ビツトアドレスが可能な線形の電気
−光学的変調器に関し、特に、変調器からの出力
ビームの上側波帯および下側波帯との間の相殺的
干渉を防止するようにしたこの種の装置の改良に
関する。
−光学的変調器に関し、特に、変調器からの出力
ビームの上側波帯および下側波帯との間の相殺的
干渉を防止するようにしたこの種の装置の改良に
関する。
従来の技術とその問題点
ビツトアドレスが可能な線形変調器は、原画像
を表わす画像信号すなわち画素信号を画像コピー
に変換する装置として、電気−光学的ラインプリ
ンタと共に使用される。この形式の変調器は、
R.A.スプラーグ(Sprague)等に許与された
「個々にアドレスされた電極を用いたTIR電気−
光学変調器」に関する米国特許第4281904号
(1981年8月4日発行)に開示されている。
を表わす画像信号すなわち画素信号を画像コピー
に変換する装置として、電気−光学的ラインプリ
ンタと共に使用される。この形式の変調器は、
R.A.スプラーグ(Sprague)等に許与された
「個々にアドレスされた電極を用いたTIR電気−
光学変調器」に関する米国特許第4281904号
(1981年8月4日発行)に開示されている。
上述の電気−光学的プリンタにおいては、ゼロ
グラフイーの光電リセプタなどの感光性記録媒体
が、走査方向に直角な軸に沿つて前進せしめられ
る時に、画像形成光に露出される。走査の目的の
ために、レーザなどの適宜の光源から得られたシ
ート状の平行光束、すなわち、コリメートされた
光ビームが電気−光学的変調器を経て伝送される
が、その伝送は変調器の光軸に沿つての直進性伝
送であるか、または変調器軸に対して小さい角を
なすことによつて内部的全反射を行なうような伝
送である。その伝送と同時に、デイジタルビツト
またはアナログ信号の形式の画像信号すなわち画
素信号が、順次に変調器の電極に印加される。そ
の結果、電気−光学的素子内の、画像信号が印加
された電極のごく近傍には、局所的なバルク電界
または周縁電界が形成される。そのような電界が
形成されると、変調器基板の屈折率に局所的変動
が生起し、基板の屈折率のその変化によつて、基
板を通過する光ビームの同位相波面(phase
front)または偏光が画像信号の内容に応じて変
調される。同位相波面が変調された光ビームはそ
の後、それに対応して変調された強度分布をもつ
た光ビームに変換され、記録媒体上に入射せしめ
られて、画像信号を表わす画像を形成する。この
ようにして形成された画像は、後にゼログラフ的
に処理されて、原画像の可視的表示すなわちコピ
ーが得られる。
グラフイーの光電リセプタなどの感光性記録媒体
が、走査方向に直角な軸に沿つて前進せしめられ
る時に、画像形成光に露出される。走査の目的の
ために、レーザなどの適宜の光源から得られたシ
ート状の平行光束、すなわち、コリメートされた
光ビームが電気−光学的変調器を経て伝送される
が、その伝送は変調器の光軸に沿つての直進性伝
送であるか、または変調器軸に対して小さい角を
なすことによつて内部的全反射を行なうような伝
送である。その伝送と同時に、デイジタルビツト
またはアナログ信号の形式の画像信号すなわち画
素信号が、順次に変調器の電極に印加される。そ
の結果、電気−光学的素子内の、画像信号が印加
された電極のごく近傍には、局所的なバルク電界
または周縁電界が形成される。そのような電界が
形成されると、変調器基板の屈折率に局所的変動
が生起し、基板の屈折率のその変化によつて、基
板を通過する光ビームの同位相波面(phase
front)または偏光が画像信号の内容に応じて変
調される。同位相波面が変調された光ビームはそ
の後、それに対応して変調された強度分布をもつ
た光ビームに変換され、記録媒体上に入射せしめ
られて、画像信号を表わす画像を形成する。この
ようにして形成された画像は、後にゼログラフ的
に処理されて、原画像の可視的表示すなわちコピ
ーが得られる。
発明の要約
上述の型式の変調器に関する1つの問題点は、
変調器は画素間に暗領域を残すことなしに1走査
線全体の画素をオン状態にする能力がないことで
ある。ビームストツプの周囲を通過する上側波帯
と下側波帯との相殺的干渉によつて生じる、上記
の画像における暗領域は、光学装置の焦点を外し
たり、光学的収差を導入したりする従来の方法に
よつては、除去することができない。
変調器は画素間に暗領域を残すことなしに1走査
線全体の画素をオン状態にする能力がないことで
ある。ビームストツプの周囲を通過する上側波帯
と下側波帯との相殺的干渉によつて生じる、上記
の画像における暗領域は、光学装置の焦点を外し
たり、光学的収差を導入したりする従来の方法に
よつては、除去することができない。
この問題を解決するために、本発明によればシ
ート状のコリメートされた光ビームを原画像を表
わす画素ビツトによつて変調し、該画素ビツトに
応答した0次光ビームと該0次光ビームに対して
上側及び下側の次数をとる少なくとも一対の光ビ
ームとを選択的に発生する電気−光変調器と、0
次光ビームの経路内に介在せしめて該0次光ビー
ムの通過を阻止するビームストツプ手段と、一対
の上側及び下側の次数の光ビームを記憶媒体上に
結像させる光学手段と、変調器に含まれ、伝送さ
れる光の位相を前記画素ビツト毎に選択的に変化
させる手段と、上側及び下側の次数の光ビームの
少なくとも一方の通路に配置され、一方の光ビー
ムの偏光角度を他方のそれに対して所望の角度に
する光ビーム偏光手段を含み、該偏光により上側
及び下側の次数の光ビーム間の相殺的干渉を防止
して、もつて暗領域を残すことなしに該上側及び
下側の次数の光ビームにより形成されるべき画像
信号の全走査線をオン状態にする干渉抑制手段
と、を備えている。
ート状のコリメートされた光ビームを原画像を表
わす画素ビツトによつて変調し、該画素ビツトに
応答した0次光ビームと該0次光ビームに対して
上側及び下側の次数をとる少なくとも一対の光ビ
ームとを選択的に発生する電気−光変調器と、0
次光ビームの経路内に介在せしめて該0次光ビー
ムの通過を阻止するビームストツプ手段と、一対
の上側及び下側の次数の光ビームを記憶媒体上に
結像させる光学手段と、変調器に含まれ、伝送さ
れる光の位相を前記画素ビツト毎に選択的に変化
させる手段と、上側及び下側の次数の光ビームの
少なくとも一方の通路に配置され、一方の光ビー
ムの偏光角度を他方のそれに対して所望の角度に
する光ビーム偏光手段を含み、該偏光により上側
及び下側の次数の光ビーム間の相殺的干渉を防止
して、もつて暗領域を残すことなしに該上側及び
下側の次数の光ビームにより形成されるべき画像
信号の全走査線をオン状態にする干渉抑制手段
と、を備えている。
そして、上述の構成的特徴を有する本発明の電
気−光学的変調器は、原画像を表わす画素ビツト
群から得られる画像露出線に沿つて画像画素間に
暗領域が生じるのを効果的に防止するのである
が、それは下記の諸段階から成る動作によつて具
現される。すなわち、実質的に平坦なシート状の
光ビームを発生させる段階と、この光ビームをそ
の幅全体にわたつて同時に画素ビツト群に応じて
変調して0次ビーム成分と上側波帯ビーム成分お
よび下側波帯ビーム成分とを発生させる段階と、
0次の光ビーム成分を阻止すると共に該上側波帯
および下側波帯の両光ビーム成分を記録媒体上に
集束させて記録媒体上に画像画素を形成する段階
と、上側波帯光ビーム成分および下側波帯光ビー
ム成分の少なくとも一方の偏光状態を変化させて
上側波帯光ビーム成分および下側波帯光ビーム成
分の偏光方向が互いに直交するようにし、それに
よつて相殺的干渉およびその結果である暗領域の
形成を防止する段階と、を含んでいる。
気−光学的変調器は、原画像を表わす画素ビツト
群から得られる画像露出線に沿つて画像画素間に
暗領域が生じるのを効果的に防止するのである
が、それは下記の諸段階から成る動作によつて具
現される。すなわち、実質的に平坦なシート状の
光ビームを発生させる段階と、この光ビームをそ
の幅全体にわたつて同時に画素ビツト群に応じて
変調して0次ビーム成分と上側波帯ビーム成分お
よび下側波帯ビーム成分とを発生させる段階と、
0次の光ビーム成分を阻止すると共に該上側波帯
および下側波帯の両光ビーム成分を記録媒体上に
集束させて記録媒体上に画像画素を形成する段階
と、上側波帯光ビーム成分および下側波帯光ビー
ム成分の少なくとも一方の偏光状態を変化させて
上側波帯光ビーム成分および下側波帯光ビーム成
分の偏光方向が互いに直交するようにし、それに
よつて相殺的干渉およびその結果である暗領域の
形成を防止する段階と、を含んでいる。
本発明の、その他の特徴および利点は、以下の
発明の実施態様によつて明らかにされる。
発明の実施態様によつて明らかにされる。
発明の実施例
以下に図示された実施例を参照して本発明の具
体的な構成とその作用効果を詳細に説明するが、
本発明の技術的範囲がこれらの実施例によつて制
限されるものではないことはいうまでもない。む
しろ、この説明は、特許請求の範囲によつて規定
された本発明の要旨それ自体は勿論のこと、その
要旨に含まれる構成要件または構成要素について
自明な改変および均等物をも含むことを明らかに
するためのものである。
体的な構成とその作用効果を詳細に説明するが、
本発明の技術的範囲がこれらの実施例によつて制
限されるものではないことはいうまでもない。む
しろ、この説明は、特許請求の範囲によつて規定
された本発明の要旨それ自体は勿論のこと、その
要旨に含まれる構成要件または構成要素について
自明な改変および均等物をも含むことを明らかに
するためのものである。
第1図および第2図には、多ゲート式のビツト
アドレス可能な線形変調器12を有する形式の代
表的な電気−光学的ラインプリンタ11を示し、
この変調器12は、プリンタの感光記録媒体13
を画像形成光で露光する。記録媒体13は光導電
材料を被覆したゼログラフドラム14として図示
されており、このドラムは(図示されていない装
置によつて)矢印の方向に回転する。しかし、光
導電材料を被覆したゼログラフベルトおよびゼロ
グラフ板、およびウエブ状部材またはカツトした
シート状部材として供給されうる感光性フイルム
および感光材料被覆紙、を含む、他のゼログラフ
記録媒体および非ゼログラフ記録媒体を使用する
こともできることは明らかである。従つて、記録
媒体13は、一般的な場合においては、変調器1
2に対する横断線、すなわちラインピツチの方向
に前進しつつ、画像形成光に露出される光電感知
性媒体と考えるべきである。
アドレス可能な線形変調器12を有する形式の代
表的な電気−光学的ラインプリンタ11を示し、
この変調器12は、プリンタの感光記録媒体13
を画像形成光で露光する。記録媒体13は光導電
材料を被覆したゼログラフドラム14として図示
されており、このドラムは(図示されていない装
置によつて)矢印の方向に回転する。しかし、光
導電材料を被覆したゼログラフベルトおよびゼロ
グラフ板、およびウエブ状部材またはカツトした
シート状部材として供給されうる感光性フイルム
および感光材料被覆紙、を含む、他のゼログラフ
記録媒体および非ゼログラフ記録媒体を使用する
こともできることは明らかである。従つて、記録
媒体13は、一般的な場合においては、変調器1
2に対する横断線、すなわちラインピツチの方向
に前進しつつ、画像形成光に露出される光電感知
性媒体と考えるべきである。
第3図ないし第5図に最もよく示されているよ
うに、変調器12は、個々にアドレス可能な複数
の電極18a−18nを備えた、電気−光学的基
板17を有する。図示した内部全反射(TIR)動
作モードのため、基板17は、一般的にYカツト
結晶であり、例えば研摩された入力面22と出力
面23との間にこれらと一体をなして存在する研
摩された反射面21を有するLiNbO3であつても
よい。電極18a−18nは、反射面21に隣接
して電気−光学的基板17に密接に結合し、本質
的に基板17の幅全体にわたつて、平行な対をな
す関係となるように配列されている。通常、電極
18a−18nは、約1−30ミクロンの幅を有
し、大体、等間隔をなし離間する多数の中心線上
に配列されて、全体的に均一に、相互電極間間隙
値が1−30ミクロンとなる。さらに、電極18a
−18nは基板17の光軸とほぼ平行に延在し、
各電極は基板の光軸に沿つて実質的な長さを現出
している。
うに、変調器12は、個々にアドレス可能な複数
の電極18a−18nを備えた、電気−光学的基
板17を有する。図示した内部全反射(TIR)動
作モードのため、基板17は、一般的にYカツト
結晶であり、例えば研摩された入力面22と出力
面23との間にこれらと一体をなして存在する研
摩された反射面21を有するLiNbO3であつても
よい。電極18a−18nは、反射面21に隣接
して電気−光学的基板17に密接に結合し、本質
的に基板17の幅全体にわたつて、平行な対をな
す関係となるように配列されている。通常、電極
18a−18nは、約1−30ミクロンの幅を有
し、大体、等間隔をなし離間する多数の中心線上
に配列されて、全体的に均一に、相互電極間間隙
値が1−30ミクロンとなる。さらに、電極18a
−18nは基板17の光軸とほぼ平行に延在し、
各電極は基板の光軸に沿つて実質的な長さを現出
している。
第1図ないし第5図を参照して、ラインプリン
タ11の動作を説明すると、レーザ16などの適
宜の光源からのシート状のコリメートされた光ビ
ーム24が、反射面21に対して小さい角度で入
射するように、電気−光学的基板17の入力面2
2を通して送られる。光ビーム24は、面21の
ほぼ中央線の所に(図示されていない装置によつ
て)くさび状に集束せしめられ、そこで全反射さ
れた後、基板17の出力面23を通つて送り出さ
れる。図示されているように、光ビーム24は実
質的に基板17の幅全体を照明し、それを通過す
る際に、隣接する電極18a−18nに印加され
る画像信号すなわち画素信号に応じて、変調され
た同位相波面が現われる。
タ11の動作を説明すると、レーザ16などの適
宜の光源からのシート状のコリメートされた光ビ
ーム24が、反射面21に対して小さい角度で入
射するように、電気−光学的基板17の入力面2
2を通して送られる。光ビーム24は、面21の
ほぼ中央線の所に(図示されていない装置によつ
て)くさび状に集束せしめられ、そこで全反射さ
れた後、基板17の出力面23を通つて送り出さ
れる。図示されているように、光ビーム24は実
質的に基板17の幅全体を照明し、それを通過す
る際に、隣接する電極18a−18nに印加され
る画像信号すなわち画素信号に応じて、変調され
た同位相波面が現われる。
さらに詳述すると、光ビーム24を変調するた
めに、原画像の連続したラインを表わすデイジタ
ルまたはアナログ画像信号、または画素の連続す
る組が、個々にアドレス可能な電極18a−18
nに、順次印加される。これらの画像信号は、印
加されるとそれぞれの電極間隙によつて画定され
る電気光学的基板17の相互作用領域27内に局
所的な周縁電界26を発生させるようになつてお
り、連続電極間に電圧差がある時は、それらの間
の画素信号はオン状態である。連続電極間に電圧
差がない場合は、その画素信号はオフ状態であ
る。その結果、相互作用領域27の横方向に、電
気−光学的基板17の屈折率の局所的変化が生
じ、この屈折率の変化は、任意の時点において電
極18a−18n上に現われた画像信号を忠実に
表わしている。従つて、光ビーム24の同位相波
面は、光ビーム24が電気−光学的基板17の相
互作用領域27を通過する時、画像信号によつて
ライン毎に空間的に順次変調される。
めに、原画像の連続したラインを表わすデイジタ
ルまたはアナログ画像信号、または画素の連続す
る組が、個々にアドレス可能な電極18a−18
nに、順次印加される。これらの画像信号は、印
加されるとそれぞれの電極間隙によつて画定され
る電気光学的基板17の相互作用領域27内に局
所的な周縁電界26を発生させるようになつてお
り、連続電極間に電圧差がある時は、それらの間
の画素信号はオン状態である。連続電極間に電圧
差がない場合は、その画素信号はオフ状態であ
る。その結果、相互作用領域27の横方向に、電
気−光学的基板17の屈折率の局所的変化が生
じ、この屈折率の変化は、任意の時点において電
極18a−18n上に現われた画像信号を忠実に
表わしている。従つて、光ビーム24の同位相波
面は、光ビーム24が電気−光学的基板17の相
互作用領域27を通過する時、画像信号によつて
ライン毎に空間的に順次変調される。
記録媒体13を画像形成光に露出させるため
に、シユリーレン(Schlieren)の中央暗視野式
画像形成光学装置31が用いられており、この装
置は変調器12と記録媒体13との間に光学的に
整列されており、変調された光ビームを記録媒体
13上に結像させる。画像形成光学装置31は、
光ビーム24の空間的な同位相波面の変調を、そ
れに対応して変調された強度分布に変換すると共
に、所望の幅の画像を得るために必要な倍率をも
与える。図示されている画像形成光学装置31
は、同位相波面を変調された光ビーム24の0次
回折成分32をフーリエ変換面37に配列された
中央ストツプ35上に集束させるための視野レン
ズ34と、散乱された高次の回折成分すなわち側
波帯52,54を記録媒体13上に結像させるた
めの結像レンズ36と、を含んでいる。視野レン
ズ34は、変調器12とストツプ35との間に光
学的に整列せしめられ、光ビーム24の実質的に
全ての0次回折成分32を、ストツプ35によつ
て阻止されるようにする。ここで上側波帯および
下側波帯と呼んでいる、光ビーム24の高次回折
成分52,54は、ストツプ35の周縁部を通つ
た後結像レンズ36によつて集められ、結像レン
ズ36はこれらの成分を、記録媒体13によつて
画定された変調器12の画像形成面上に送る。も
ちろん、他の光学的装置を用いて変調器12の出
力である位相変調された光ビームの同位相波面
を、それに対応して変調された強度分布をもつた
光ビームに変換することもできる。
に、シユリーレン(Schlieren)の中央暗視野式
画像形成光学装置31が用いられており、この装
置は変調器12と記録媒体13との間に光学的に
整列されており、変調された光ビームを記録媒体
13上に結像させる。画像形成光学装置31は、
光ビーム24の空間的な同位相波面の変調を、そ
れに対応して変調された強度分布に変換すると共
に、所望の幅の画像を得るために必要な倍率をも
与える。図示されている画像形成光学装置31
は、同位相波面を変調された光ビーム24の0次
回折成分32をフーリエ変換面37に配列された
中央ストツプ35上に集束させるための視野レン
ズ34と、散乱された高次の回折成分すなわち側
波帯52,54を記録媒体13上に結像させるた
めの結像レンズ36と、を含んでいる。視野レン
ズ34は、変調器12とストツプ35との間に光
学的に整列せしめられ、光ビーム24の実質的に
全ての0次回折成分32を、ストツプ35によつ
て阻止されるようにする。ここで上側波帯および
下側波帯と呼んでいる、光ビーム24の高次回折
成分52,54は、ストツプ35の周縁部を通つ
た後結像レンズ36によつて集められ、結像レン
ズ36はこれらの成分を、記録媒体13によつて
画定された変調器12の画像形成面上に送る。も
ちろん、他の光学的装置を用いて変調器12の出
力である位相変調された光ビームの同位相波面
を、それに対応して変調された強度分布をもつた
光ビームに変換することもできる。
第2図は破線39で示されているように、電極
18a−18nの各対は、変調器12の電気−光
学的基板17および位相感知性の読出し光学装置
31と協動して効果的に局所的な変調器をなし、
画像のそれぞれのラインに沿つての所定の1空間
位置に画素を形成する。この画素の集合によつて
単一の画像ラインが形成される。容易に理解しう
るように、画像ラインを構成する画素の総数は、
電極18a−18nの数によつて決定される。記
録媒体13が変調器12に対して交差線方向に前
進している間に、連続データの流れとして供給さ
れる画像信号の連続する組をこれらの局所的変調
器に順次印加することによつて、複数の画素によ
る連続線がプリントされる。
18a−18nの各対は、変調器12の電気−光
学的基板17および位相感知性の読出し光学装置
31と協動して効果的に局所的な変調器をなし、
画像のそれぞれのラインに沿つての所定の1空間
位置に画素を形成する。この画素の集合によつて
単一の画像ラインが形成される。容易に理解しう
るように、画像ラインを構成する画素の総数は、
電極18a−18nの数によつて決定される。記
録媒体13が変調器12に対して交差線方向に前
進している間に、連続データの流れとして供給さ
れる画像信号の連続する組をこれらの局所的変調
器に順次印加することによつて、複数の画素によ
る連続線がプリントされる。
ところで、前にも述べたように、線形変調器1
2のような変調器は、隣接する画素をオン状態に
する際に必ずその画素間に暗領域を形成するとい
う欠点をもつている。この暗領域は、上側波帯5
2と下側波帯54とのビームストツプ35におけ
る相殺的干渉によつて発生する。この効果は、焦
点を外したり、光学的収差を導入したりすること
によつては、除外し得ない。
2のような変調器は、隣接する画素をオン状態に
する際に必ずその画素間に暗領域を形成するとい
う欠点をもつている。この暗領域は、上側波帯5
2と下側波帯54とのビームストツプ35におけ
る相殺的干渉によつて発生する。この効果は、焦
点を外したり、光学的収差を導入したりすること
によつては、除外し得ない。
本発明はこの問題点を解決するためのもので、
前述の従来技術におけるものと同様な部品には同
一の番号を付した第6図を特に参照して、本発明
の実施例を説明すると、平面偏光子50は、レー
ザ16の出力光ビーム24の面に対して垂直な面
方向を有し、変調器12の上流に配置されてい
る。偏光子50は光ビーム24を垂直偏光する働
きをもつている。
前述の従来技術におけるものと同様な部品には同
一の番号を付した第6図を特に参照して、本発明
の実施例を説明すると、平面偏光子50は、レー
ザ16の出力光ビーム24の面に対して垂直な面
方向を有し、変調器12の上流に配置されてい
る。偏光子50は光ビーム24を垂直偏光する働
きをもつている。
側波帯52,54が互いに干渉しないようにす
るために、半波長板55を、軸が光ビーム24の
面に対して45゜をなすようにして一方の側波帯、
すなわち側波帯52、の径路内の、フーリエ変換
面37の位置に配置する。半波長板55は、側波
帯52の垂直偏光を水平偏向に変化させることに
より、側波帯52,54が互いに干渉することが
できないようにする。その結果、画像ラインに沿
う画素間に暗領域が形成されなくなる。
るために、半波長板55を、軸が光ビーム24の
面に対して45゜をなすようにして一方の側波帯、
すなわち側波帯52、の径路内の、フーリエ変換
面37の位置に配置する。半波長板55は、側波
帯52の垂直偏光を水平偏向に変化させることに
より、側波帯52,54が互いに干渉することが
できないようにする。その結果、画像ラインに沿
う画素間に暗領域が形成されなくなる。
第7図に示されている本発明のもう一つの実施
例においては、やはり前述したものと同様の部品
には同一の番号を付してある。またこの実施例で
は、第6図の平面偏光子は用いないで、2つの半
波長板65,66を用いている。この装置におい
ては、半波長板65はフーリエ変換面37におい
て側波帯52の径路内に配置され、半波長板66
はフーリエ変換面において側波帯54の径路内に
配置される。半波長板65,66は、半波長板6
5の軸が半波長板66の軸に対して45゜をなすよ
うに置かれる。その結果、側波帯52,54は、
入射する光ビームの偏光角に関わりなく、互いに
直角に偏光せしめられる。
例においては、やはり前述したものと同様の部品
には同一の番号を付してある。またこの実施例で
は、第6図の平面偏光子は用いないで、2つの半
波長板65,66を用いている。この装置におい
ては、半波長板65はフーリエ変換面37におい
て側波帯52の径路内に配置され、半波長板66
はフーリエ変換面において側波帯54の径路内に
配置される。半波長板65,66は、半波長板6
5の軸が半波長板66の軸に対して45゜をなすよ
うに置かれる。その結果、側波帯52,54は、
入射する光ビームの偏光角に関わりなく、互いに
直角に偏光せしめられる。
これに関連して、第7図の実施例の動作効率を
確実にするために、側波帯52,54を半波長板
によつて遅延させて、同側波帯52,54に対す
る径路の長さが等しい対称的システムを構成して
いる。市販の安価なレーザは偏光を生じないもの
とされているが、実際には相異なる周波数のいく
つかの線形偏光したビームを放射する。第7図の
実施例は、非偏光性レーザから放射された各側波
帯成分間の相殺的干渉を防止する。種々のビーム
成分は通常約500MHz互いに離間しているので、
20ナノ秒より大きな積分時間を有する装置にとつ
ては、諸成分間のビート作用は無視することがで
きる。このため第7図の実施例においては、偏光
方向が装置に対して整列していない非偏光性レー
ザを使用することができる。
確実にするために、側波帯52,54を半波長板
によつて遅延させて、同側波帯52,54に対す
る径路の長さが等しい対称的システムを構成して
いる。市販の安価なレーザは偏光を生じないもの
とされているが、実際には相異なる周波数のいく
つかの線形偏光したビームを放射する。第7図の
実施例は、非偏光性レーザから放射された各側波
帯成分間の相殺的干渉を防止する。種々のビーム
成分は通常約500MHz互いに離間しているので、
20ナノ秒より大きな積分時間を有する装置にとつ
ては、諸成分間のビート作用は無視することがで
きる。このため第7図の実施例においては、偏光
方向が装置に対して整列していない非偏光性レー
ザを使用することができる。
以上においては、本発明をここに開示された構
成に関して述べてきたが、本発明は以上に行なわ
れた詳細によつて制限されるものではなく、本発
明は、特許請求の範囲内における修正または変更
をも含んでいる。
成に関して述べてきたが、本発明は以上に行なわ
れた詳細によつて制限されるものではなく、本発
明は、特許請求の範囲内における修正または変更
をも含んでいる。
第1図は、ビツトアドレスが可能な直線変調器
を用いた代表的な電気−光学的ラインプリンタの
概略的側面図、第2図は、第1図に示されている
電気−光学的ラインプリンタの概略的底平面図、
第3図は、第1図および第2図の電気−光学的ラ
インプリンタに用いられているビツトアドレス可
能な線形変調器の拡大側面図、第4図は、第3図
に示されている変調器の拡大底平面図、第5図
は、第3図に示されている変調器の周縁電界と光
ビームとの間の相互作用を示す概略的拡大部分端
面図、第6図は、本発明の一実施例を示す図面
で、それに従う干渉抑制手段を有する電気−光学
的変調器を用いることによつて改良された、第1
図ないし第5図のような電気−光学的ラインプリ
ンタの斜視図、および第7図は、本発明の他の実
施例を示す図面で、それに従う別の干渉抑制手段
を有する電気−光学的変調器を用いることによつ
て改良された、第1図ないし第5図のような電気
−光学的ラインプリンタの斜視図である。 12……線形変調器、13……記録媒体、17
……電気−光学的基板、18a−18n……電
極、24……平行光束、31……画像形成光学装
置、32……0次回折成分、35……ビームスト
ツプ、50……平面偏光子、52……上側波帯、
54……下側波帯、55,65,66……半波長
板。
を用いた代表的な電気−光学的ラインプリンタの
概略的側面図、第2図は、第1図に示されている
電気−光学的ラインプリンタの概略的底平面図、
第3図は、第1図および第2図の電気−光学的ラ
インプリンタに用いられているビツトアドレス可
能な線形変調器の拡大側面図、第4図は、第3図
に示されている変調器の拡大底平面図、第5図
は、第3図に示されている変調器の周縁電界と光
ビームとの間の相互作用を示す概略的拡大部分端
面図、第6図は、本発明の一実施例を示す図面
で、それに従う干渉抑制手段を有する電気−光学
的変調器を用いることによつて改良された、第1
図ないし第5図のような電気−光学的ラインプリ
ンタの斜視図、および第7図は、本発明の他の実
施例を示す図面で、それに従う別の干渉抑制手段
を有する電気−光学的変調器を用いることによつ
て改良された、第1図ないし第5図のような電気
−光学的ラインプリンタの斜視図である。 12……線形変調器、13……記録媒体、17
……電気−光学的基板、18a−18n……電
極、24……平行光束、31……画像形成光学装
置、32……0次回折成分、35……ビームスト
ツプ、50……平面偏光子、52……上側波帯、
54……下側波帯、55,65,66……半波長
板。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 シート状のコリメートされた光ビームを原画
像を表わす画素ビツトによつて変調し、該画素ビ
ツトに応答した0次光ビームと該0次光ビームに
対して上側及び下側の次数をとる少なくとも一対
の光ビームとを選択的に発生する電気−光変調器
と、 前記0次光ビームの経路内に介在せしめて該0
次光ビームの通過を阻止するビームストツプ手段
と、 前記一対の上側及び下側の次数の光ビームを記
憶媒体上に結像させる光学手段と、 前記変調器に含まれ、伝送される光の位相を前
記画素ビツト毎に選択的に変化させる手段と、 前記上側及び下側の次数の光ビームの少なくと
も一方の経路に配置され、一方の光ビームの偏光
角度を他方のそれに対して所望の角度にする光ビ
ーム偏光手段を含み、該偏光により前記上側及び
下側の次数の光ビーム間の相殺的干渉を防止し
て、もつて暗領域を残すことなしに該上側及び下
側の次数の光ビームにより形成されるべき画像信
号の全走査線をオン状態にする干渉抑制手段と、 を備えてなる変調装置。 2 前記干渉抑制手段に含まれるビーム偏光手段
は前記上側及び下側の次数の光ビームの各々の経
路に配置され、各々の光ビームを45゜偏光させる 特許請求の範囲第1項に記載の変調装置。 3 前記干渉抑制手段は 前記光ビームの経路における光ビーム源と前記
変調器との間に介挿されていて、該光ビームを垂
直方向に偏光するための第1の光ビーム偏光器、
及び、 前記上側及び下側の次数の光ビームの一方の経
路に介挿されていて、該光ビームの一方を水平方
向に偏光せしめ、それにより前記上側及び下側の
次数の光ビーム間の相殺的干渉を防止するための
第2の光ビーム偏光器 から構成される特許請求の範囲第1項に記載の変
調装置。 4 前記光学手段は視野レンズと結像レンズとを
含み、 前記ビーム偏光手段は前記視野レンズと結像レ
ンズとの間のフーリエ変換面に配置されている 特許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれか
に記載の変調装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US353726 | 1982-03-01 | ||
US06/353,726 US4483596A (en) | 1982-03-01 | 1982-03-01 | Interface suppression apparatus and method for a linear modulator |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58166322A JPS58166322A (ja) | 1983-10-01 |
JPH0374368B2 true JPH0374368B2 (ja) | 1991-11-26 |
Family
ID=23390311
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58028413A Granted JPS58166322A (ja) | 1982-03-01 | 1983-02-22 | 変調装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4483596A (ja) |
EP (1) | EP0087970B1 (ja) |
JP (1) | JPS58166322A (ja) |
DE (1) | DE3378661D1 (ja) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4730331A (en) * | 1985-04-03 | 1988-03-08 | Xerox Corporation | Superluminescent LED source |
US4638334A (en) * | 1985-04-03 | 1987-01-20 | Xerox Corporation | Electro-optic line printer with super luminescent LED source |
US4940314A (en) * | 1985-05-13 | 1990-07-10 | Xerox Corporation | Variable wavelength discrete optical image bars having passively enhanced spatial addressing capacity |
US4786918A (en) * | 1985-12-12 | 1988-11-22 | Xerox Corporation | Incoherent, optically uncoupled laser arrays for electro-optic line modulators and line printers |
US4673953A (en) * | 1985-12-13 | 1987-06-16 | Xerox Corporation | Interpixel null suppression for optical image bars |
US4718752A (en) * | 1985-12-23 | 1988-01-12 | Xerox Corporation | Interpixel null suppression for polarized optical image bars |
US6303986B1 (en) | 1998-07-29 | 2001-10-16 | Silicon Light Machines | Method of and apparatus for sealing an hermetic lid to a semiconductor die |
US6956878B1 (en) | 2000-02-07 | 2005-10-18 | Silicon Light Machines Corporation | Method and apparatus for reducing laser speckle using polarization averaging |
US6707591B2 (en) | 2001-04-10 | 2004-03-16 | Silicon Light Machines | Angled illumination for a single order light modulator based projection system |
US6782205B2 (en) | 2001-06-25 | 2004-08-24 | Silicon Light Machines | Method and apparatus for dynamic equalization in wavelength division multiplexing |
US6747781B2 (en) | 2001-06-25 | 2004-06-08 | Silicon Light Machines, Inc. | Method, apparatus, and diffuser for reducing laser speckle |
US6829092B2 (en) | 2001-08-15 | 2004-12-07 | Silicon Light Machines, Inc. | Blazed grating light valve |
US6800238B1 (en) | 2002-01-15 | 2004-10-05 | Silicon Light Machines, Inc. | Method for domain patterning in low coercive field ferroelectrics |
US6728023B1 (en) | 2002-05-28 | 2004-04-27 | Silicon Light Machines | Optical device arrays with optimized image resolution |
US6767751B2 (en) | 2002-05-28 | 2004-07-27 | Silicon Light Machines, Inc. | Integrated driver process flow |
US6822797B1 (en) | 2002-05-31 | 2004-11-23 | Silicon Light Machines, Inc. | Light modulator structure for producing high-contrast operation using zero-order light |
US6829258B1 (en) | 2002-06-26 | 2004-12-07 | Silicon Light Machines, Inc. | Rapidly tunable external cavity laser |
US6714337B1 (en) | 2002-06-28 | 2004-03-30 | Silicon Light Machines | Method and device for modulating a light beam and having an improved gamma response |
US6813059B2 (en) | 2002-06-28 | 2004-11-02 | Silicon Light Machines, Inc. | Reduced formation of asperities in contact micro-structures |
US6801354B1 (en) | 2002-08-20 | 2004-10-05 | Silicon Light Machines, Inc. | 2-D diffraction grating for substantially eliminating polarization dependent losses |
US6712480B1 (en) | 2002-09-27 | 2004-03-30 | Silicon Light Machines | Controlled curvature of stressed micro-structures |
US6987600B1 (en) | 2002-12-17 | 2006-01-17 | Silicon Light Machines Corporation | Arbitrary phase profile for better equalization in dynamic gain equalizer |
US6829077B1 (en) | 2003-02-28 | 2004-12-07 | Silicon Light Machines, Inc. | Diffractive light modulator with dynamically rotatable diffraction plane |
US6806997B1 (en) | 2003-02-28 | 2004-10-19 | Silicon Light Machines, Inc. | Patterned diffractive light modulator ribbon for PDL reduction |
Citations (1)
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Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3295911A (en) * | 1963-03-15 | 1967-01-03 | Bell Telephone Labor Inc | Semiconductor light modulators |
US3440424A (en) * | 1964-07-16 | 1969-04-22 | Gen Telephone & Elect | Optical system for transmitting and receiving two independent signals over a single electromagnetic carrier wherein the rotational orientation of the receiver is independent of the angular position of the transmitter |
US3510198A (en) * | 1967-05-17 | 1970-05-05 | North American Rockwell | Polarizing beam-splitter having improved contrast ratio |
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US4019151A (en) * | 1974-04-26 | 1977-04-19 | Kms Fusion, Inc. | Multiple pass laser amplifier system |
DE2500380A1 (de) * | 1975-01-07 | 1976-07-08 | Siemens Ag | Verfahren zur hochaufloesenden nichtmechanischen lichtstrahlablenkung |
US4053763A (en) * | 1976-05-25 | 1977-10-11 | The United States Of America As Represented By The United States Energy Research And Development Administration | Method and apparatus for pulse stacking |
-
1982
- 1982-03-01 US US06/353,726 patent/US4483596A/en not_active Expired - Fee Related
-
1983
- 1983-02-22 JP JP58028413A patent/JPS58166322A/ja active Granted
- 1983-02-28 EP EP83301058A patent/EP0087970B1/en not_active Expired
- 1983-02-28 DE DE8383301058T patent/DE3378661D1/de not_active Expired
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS565523A (en) * | 1979-06-21 | 1981-01-21 | Xerox Corp | Acoustoooptical modulator |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3378661D1 (en) | 1989-01-12 |
US4483596A (en) | 1984-11-20 |
JPS58166322A (ja) | 1983-10-01 |
EP0087970A3 (en) | 1985-09-18 |
EP0087970A2 (en) | 1983-09-07 |
EP0087970B1 (en) | 1988-12-07 |
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