JPH0358051A - 感光性材料、感光体および画像形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、像露光により潜像を形成すると同時あるいは
した後に加熱し、該潜像部で酸化還元反応を起こした後
、全面露光により像未露光部に重合画像を形成する感光
性材料、感光体および画像形或方法に関し、また重合画
像を形成した後、受像体上に熱拡散性色素を転写させ色
画像を得る感光性材料、感光体および画像形或方法に関
する。

［従来の技術］ 現在、感光性材料として、光照射により重合画像を形成
する材料があり、種々のものが知られている。例えば、
印刷インク、ＩＣ用材料、製版材料あるいは記録材料な
どに応用されているが、これらの感光性材料の多くは、
感光波長域が短波長であることと、感光感度に劣るとい
う欠点がある。感光波長域が短波長であるということは
、近年著しく進歩したレーザーを利用することが困難で
あり、デジタル処理に適合できないヒいう問題がある。

感光感度に劣るということは、その処理スピードが遅い
という問題であり、実用に適さない。

このような中で、銀塩を利用して重合反応を生起させる
試みがなされており、例えば米国特許３，　０１９，　
１０４号明細書や、Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ　Ｓｃｉ
ｅｎｃｅａｎｄ　Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ　１９６２年
、Ｖｏ１、６，　２２２頁などに報告されている。しか
し、これらは重合反応を溶液中で行なうものであり、処
理が煩雑となる問題があった。

これらの重合反応を乾式処理にて扱おうとする研究がな
されており、例えば、特開昭６１−６９０６２号公報等
により、ハロゲン化銀の感光反応を１・リガーとして乾
式（熱）重合反応を生起させ、重合からなる潜像を形成
する方法が知られている。

この方法は煩雑な湿式処理が不要であるという利点を有
するが、重合の形成速度（重合性化合物の重合速度）が
遅く、重合潜像の形戊に時間がかかるという欠点があっ
た。なお、この欠点は、加熱処理過程においてハロゲン
化銀から画像露光により生じた銀と還元剤との反応から
生成する反応中間体（重合開始剤として機能する）が極
めて安定で重合開始剤としての活性が低く、重合反応が
すみやかに進みにくいためと考えられる。

一方、これに対して重合速度を早めるために、熱重合開
始剤を併用させた方法が特開昭６２−７０８３６号公報
に開示されている。

この方法は、画像露光によりハロゲン化銀から生じた銀
核により潜像を形成させ、この銀核の触媒作用を利用し
て、還元剤を加熱下で該還元剤と異なる重合禁止能を有
する酸化体に変換することにより、還元剤と生或した酸
化体との重合禁止能の差を生じさせるとともに、熱重合
開始剤を利用した熱重合反応を起させ、その結果形成さ
れた重合禁止能の差に応じた重合潜像を形成する方法で
ある。

ところが、この方法においては、重合潜像に良好なコン
トラストが取れにくいという欠点が有った。

この欠点は、潜像部で起こる酸化体の生戊のための酸化
還元反応と重合潜像形成のための重合反応を同一熱処理
工程中で起こさせるために、これらの反応が競争反応と
なり、それぞれの反応が効率よく進まないためと考えら
れる。

また、この方法による画像形或は、例えば、還元剤の量
を少量変えるだけでボリマーが形成される場所が露光部
になったり未露光部になったりするという非常に不安定
なものであった。

そこで本発明者等は、光により画像形成媒体中に重合反
応を生起し、重合画像を形或し、重合度の程度により内
部熱拡散性色素を受像体に熱転写し色画像を形成する記
録方法を提案した。

〔発明が解決しようとする課題１ 本発明の目的は、さらに良好なコントラストを有する重
合画像を形成し、銀像の色に影響されることなく、明度
および彩度が優れ、濃度階調性のよい画像を形成できる
感光性材料、該感光性材料からなる感光体、さらに該感
光体を用いた画像形成方法を提供することにある。

［課題を解決するための手段］ 本発明者等は、上記課題を解決するために鋭意検討した
結果、感光性かつ熱現像性要素および重合性要素を含む
感光性材料であって、下記一般式（Ｉ）または一般式（
ｒＩ） 〔式中、Ｘは硫黄原子、酸素原子または＞　Ｎ−Ｒ’を
表わし、Ｒ４は炭素数１〜５のアルキル基を表わす。Ｒ
１およびＲ２は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、
炭素数１〜３のヒドロキシアルキル基、フェニル基、ニ
トロ基または炭素数１〜３のアルコキシ基で置換された
フェニル基、炭素数１〜８のアルコキシ基を有するアル
コキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アセチ
ル基、カルボキシル基を表わし、Ｒ１とＲ２は縮合して
ハロゲン原子またはフェニル基で置換されていてもよい
ベンゼン環を形成してもよい。Ｒ３は２位に置換基とし
てシアノ基、アシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基を
有するアルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル
基を有するエチル基、アシル基、炭素数１〜８のアルコ
キシ基を有するアルコキシカルボニル基、ペンジルオキ
シカルボニル基、フェノキシカルボニル基、炭素数１〜
８のアルキル基を有するアルキルスルホニル基、メチル
基で置換されたフェニルスルホニルを表わす。］で表わ
される化合物の少なくとも一種を含有することを特徴と
する感光性材料を用いることにより達成できることを見
出した。

以下、本発明を詳細に説明する。

本発明において、感光性かつ熱現像性要素とは、感光性
銀塩、有機銀塩および還元剤を含むものであり、重合性
要素とは、重合性化合物および光重合開始剤を含むもの
である。

一般式（Ｉ）または（ＩＩ）で表わされる化合物につい
て説明する。

一般式（Ｉ）または（ＩＩ）において、アルキル基とし
ては、メチル、エチル、プロビル、ｉ−プロビル、ｎ−
ブチル、ｔ−プチル、ベンチル基などが挙げられる。

ヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、
ヒドロキシブロビル基等、また、アルコキシ基を有する
アルコキシ力ルボニル基としては、メトキシカルボニル
、エトキシカルボニル、プロボキシカルボニル、２−エ
チルへキシルオキシカルボニル、オクチルオキシカルボ
ニル基などが挙げられる。

炭素数１〜８のアルキル基を有する７ルキルスルホニル
基としては、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プ
ロビルスルホニル、プチルスルホニル、オクチルスルホ
ニル、２−エチルへキシルスルホニル基などが挙げられ
る。

メチル基で置換されたフェニルスルホニル基としては、
ジメチルフェニルカルボニル基、トリメチルフェニルカ
ルボニル基などが挙げられる。

一般式（Ｉ）または（ＴＩ）で表わされる化合物として
は、具体的には、以下のようなものが挙げられる。

化合物Ｎｏ． １　　　　　　２−　＜２−アセチルエチルチオ）−４
−メチル−５−アセチルチアゾール ２−（２−ベンゾイルエチルチオ）−４−メチル−５−
アセチルチアゾール ２−（２−アセチルエチルチオ）チ７ ゾール ２−ペンゾイルチオ−４−メチル−５−アセチルチアゾ
ール ４ ３ ２ ２−プロバノイルチオ−４−メチル−５−アセチルチア
ゾール ２−ペンゾイルチ才−４、５−ジメチルチアゾール ２−ペンゾイルチオ−４−ｔ−プチルチアゾール ２−（２−フロイルチオ）−４−ヒドロキシメチルチ７
ゾール ２−（２−アセチルエチルチオ）−４、５ージメチルチ
アゾール ２−（２−アセチルエチルチオ）−４−カルボキシチア
ゾール ２−（２−アセチルエチルチオ）−４．５−ジフェニル
チアゾール ２−（２−アセチルエチルチオ）−４一（４−メトキシ
フェニル）チアゾール ２−（２−アセチルエチルチオ）−４一（４−ニトロフ
ェニル）チアゾール ２−（２−シアノエチルチオ）−４−メチル−５−アセ
チルチアゾール ２−（２−シアノエチルチオ）−４−メトキシ力ルポニ
ルチアゾール ２−（２−フェノキシカルボニルエチ ルチオ）−４−ｔ−プチルチアゾール ２−メトキシカルボニルチオ−４− フェノキシカルボニルー５−メチルチ ７ゾール ２−メチルスルホニルチオ−４−メチ ルチアゾール ２−エチルスルホニルチオ−４−メチ ルチアゾール ２−メチルスルホニルチオ−４−メチ ル−５−アセチルチアゾール ２−　（２．　５−ジメチルフェニルスルホニルチオ）
−４−カルボキシチアゾール２−ペンジルオキシカルボ
ニルチオ −４，５−ジメチルチアゾール ２−（２−　７セチルエチルチオ）ペンゾチアゾール ２−ペンゾイルチオペンゾチアゾー ２−アセチルチオベンゾチアゾール ２−フェノキシカルボニルチオベン ゾチアゾール ２−ペンゾイルチオ−５．６−ジクロロベンゾチアゾー
ル ２−メチルスルホニルチオ−５６−ジ クロロベンゾチアゾール １−メチル−２−ペンゾイルチオイミ ダゾール １−メチル−２−（２−アセチルエチルチオ）イミダゾ
ール ！−メチル−２−（２−アセチルエチルチオ）イミダゾ
ール ｌ−メチル−２−（２−７セチルエチルチオ）ペンゾイ
ミダゾール ｌ一エチル−２−（２−アセチルエチルチオ）−５．６
−ジクロロベンゾイミダゾール ２−ペンゾイルチオ才キサゾール ２−（２−フロイルチオ）−４−メチルオキサゾール ２−（２−フロイルチオ）−４−メチルー５−アセチル
オキサゾール ２−（２−アセチルエチルチオ）ペン ゾオキサゾール ２−フェノキシカルボニルチオベン ゾオキサゾール ２−フェノキシカルボニルチオ−５− フェニルベンゾオキサゾール ３−（２−アセチルエチル）−４−メチル−５−アセチ
ルチアゾールー２−チオン ３−（２−アセチルエチル）チアゾール−２−チオン ３−（２−アセチルエチル）−４−（４−ニトロフェニ
ル）チアゾール−２−チオン ３−（２−シアノエチル）−４−メチル−５一アセチル
チアゾールー２−チオン ３−（２−アセチルエチル）ペンゾチアゾール−２−チ
オン ４５　　　　　　１−メチル−３−（２−アセチルエチ
ル）イミダゾールー２−チオン ４６１−メチル−３−（２−７セチルエチル）ペンゾイ
ミダゾール−２−チオン ４７　　　　　３−　（２−アセチルエチル）オキサゾ
ール−２−チオン ４８　　　　　３−（２−アセチルエチル）−４．５−
ジメチルオキサゾール−２−チオン ４９　　　　　３−　（２−アセチルエチル）−４−メ
チルオキサゾール−２−チオン ５０　　　　　３−（２−アセチルエチル）ペンゾオキ
サゾール−２−チオン ５１　　　　　３−（２−ブタノイルエチル）ペンゾオ
キサゾール−２−チオン これらの化合物は、加熱時に未露光部での意図しない有
機銀塩と還元剤との酸化還元反応を防止するとともに、
重合反応時に、連鎖移動剤として働き、架橋密度の高い
重合画像を得ることができたためと思われる。特に、熱
拡散性色素を重合度に応じて拡散転写させる画像形成方
法においてはハイライト部の色かぶりの少ない良好な画
像を与えることができる。

本発明の感光性材料においては次の２つの形態により画
像形成するものである。

形態１としては、像露光、加熱により還元剤が重合禁止
剤として変化するものであり、元々重合禁止剤のないと
ころに部分的に重合禁止剤を発生できるものであり、重
合禁止剤が少量発生しただけでも充分なコントラストの
重合画像な形戊できる。

形態２としては、光重合開始剤が感度を有する波長域の
光を吸収する化合物（以下光吸収性化合物と呼ぶ）を生
じさせることにより光によるラジカル開裂そのものを妨
げる感光性材料である。

本発明の感光性材料に用いられる感光性ハロゲン化銀と
しては、塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭化銀、塩沃臭
化銀などを挙げることができ、これらは通常の写真乳剤
に対して行われるような化学増感、光学増感処理が施さ
れていても良い。つまり、化学増感としては、硫黄増感
、貴金属増感、還元増感等を用いることが出来、光学増
感としては従来良く知られている増感色素を用いた方法
などを適用できる。

有機銀塩としては、有機酸銀やトリアゾール系銀塩等の
「写真光学の基礎、非銀塩編、ｐ．２４７　Ｊや特開昭
５９−５５４２９号公報等に記載された有機銀塩を用い
ることが出来、感光性の低い銀塩を用いるのが好ましい
。

本発明の感光性材料に用いられる還元剤としては、前述
した２つの形態により還元剤を選択して用いるのが好ま
しい。

形態１に対する還元剤としては、下記一般式（ｍ）、（
ＴＶ）、（Ｖ）で表わされる還元剤が好ましい。

〔但し、上記一般式（ＩＩＩ）〜（Ｖ）中、Ｙ１，　　
Ｙ２，Ｙ３　，　ＹＩＩ，　Ｙ８は各々独立して、水素
原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換または未置
換のアルキル基、置換または未置換のアラルキル基、置
換または未置換のアリール基、アルコキシル基、置換ま
たは未置換のシクロアルキル基を表わし、Ｙ４は水素原
子、ハロゲン原子、置換または未置換のアルキル基、置
換または未置換のアラルキル基、置換または未置換のア
リール基、置換または未置換のシクロアルキル基、カル
ボキシル基、カルボン酸エステル基を表わし、Ａは酸素
原子または硫黄原子を表わし、Ｋは水素原子、未置換ア
ルキル基、置換または未置換のアラルキル基を表わし、
Ｚは２価の連結基であってアルキリデン基または硫黄原
子を表わし、ｎはＯまたはｌを表わす。〕 上記一般式（［）、（ＩＶ）、（Ｖ）で表わされる還元
剤は、酸化されると重合禁止能が生じ、感光体の像未露
光部が重合するという特性を付与するには非常に好適な
化合物である。以下にこれらの還元剤のうち特に好まし
いものの具体例を挙げるが本発明に用いる還元剤はこれ
らに限定されるものではない。

一般式（ＩＩＩ）で表わされる還元剤の具体例としては
、例えば、１．４−ジヒドロキシナフタレン、４一メト
キシ−１−ナフトール、４−エトキシーｌ−ナフトール
、５−メチル−４−メトキシ−１−ナフトール、１，５
−ジヒドロキシナフタレン、４−クロロ−１−ナフトー
ル、５−クロローｌ−ナフトール、４−メチルチオ−１
−ナフトール、４−エチルチ才一ｌ−ナフ１・−ル、６
−フェニルー４−メチル−１−ナフトール、６−フェニ
ルー４−メトキシーｌ−ナフトール、６−ベンジルー１
−ナフトール、６−ベンジルー４−メトキシ−１−ナフ
トール、４−メトキシ−１．７−ジヒドロキシナフタレ
ン、４−メトキシー６−ベンジルー１−ナフ１・−ル、
４−メトキシ−６−シクロヘキシル−１−ナフトール、
３．４−ジメチルーｌ−ナフトール、４−ペンジロキシ
−１−ナフトール等が挙げられる． 一般式（ｒＶ）で表わされる還元剤の具体例としては、
例えば、８−ヒドロキシキノリン、４．８−ジヒドロキ
シキノリンー２−カルボン酸、４−ヒドロキシキノリン
−２−カルボン酸、４−メチル−８−ヒドロキシキノリ
ン、４−ベンジルー８−ヒドロキシキノリン、４．８−
ジヒドロキシ−５−メチルキノリン。

一般式（Ｖ）で表わされる還元剤の具体例としては、例
えば、２．２゜−メチレンビス（６−ｔ−ブチルー１．
４−ジヒドロキシベンゼン）　、２．２’−メチレンビ
ス（４−メトキシフェノール）　、２．２’−メチレン
ビス（４，６−ジーｔ−プチルフェノール），２，２゜
−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−プチルフェノー
ル）　、２，２゜−ブチリデンビス（４−メトキシフェ
ノール）２．２”−ブチリデンビス（６−ｔ−ブチルー
１．４−ジヒドロキシベンゼン）、２，２゜−チオビス
（６−メチル−１．４−ジヒドロキシベンゼン）、２．
２“−チオビス（４．６−ジーｔ−プチルフェノール）
、ビス（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）フェニ
ルメタン、（３−ｔ−ブチルー５−メチル−２−ヒドロ
キシフェニル）メタン等が挙げられる。

なお上記還元剤は、２種以上を併用してもよいし、これ
らと従来公知の還元剤とを本発明の目的を妨げない程度
において併用することも可能である。

形態２に対する還元剤としては、下記一般式（ＶＩ）、
（■）で表わされる還元剤が好ましい。

〔式（ＶＩ）中、Ｙ７およびＹ８は、各々独立に、水素
原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、置換または未置
換のアルキル基、置換または未置換のアルケニル基、置
換または未置換のアルキニル基、置換または未置換のシ
クロアルキル基、置換または未置換のアラルキル基を示
し、ｍは１〜３の整数を示し、Ａ２はｌ価〜３価の連結
基として、置換または未置換のアラルキル、置換または
未置換のアルキル、置換アミノ基、２価のアルキリデン
基、アラルキリデン基、３価のメチン基を示す。１ｎｌ
−１ Ｕｌ′Ｉ ［式（■）中、Ｒ，Ｒ’は各々同じであっても異なって
いても良く、水素原子、７ルキル基、シクロ７ルキル基
を表わし、ｒ，ｒ’は各々同じであっても異なっていて
も良く、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アミノ
基、アリール基、アラルキル基、アルコキシル基を表わ
し、Ｒ”は水素原子、アルキル基、アリール基を表わす
。］ 一Ｍ式（ＶＩ）で表わされる好ましい還元剤としては、
例えば、２．６−ジーｔ−ブチルー４−（２−ヒドロキ
シ−３−ｔ−プチルベンジル）フェノール、２．６−ジ
ー七一ブチルー４−　（３．　５−ジクロロ−４−ヒド
ロキシベンジル）フェノール、２−ｔ−ブチルー４−（
２−ヒドロキシ−３．５−ジメチルベンジル）−５−メ
チルフェノール、４，４゜−メチレンビス（２−ｔ−ブ
チルー５−メチルフェノール）、４，４゜−メチレンビ
ス（２−ｔ−ブチルー６−メチルフェノール）、４，４
゜−メチレンビス（２．６−ジーｔ−プチルフェノール
）　、４．４’−ブチリデンビス（２．６−ジーｔ−プ
チルフェノール），４，４゜−メチレンビス（２−シク
ロヘキシル−６−ｔ−プチルフェノール）、ビス（３．
５−ジーｔ−ブチルー４−ヒドロキシフェニル）フェニ
ルメタン、ビス（３．５−ジーｔ−ブチルー４−ヒドロ
キシフェニル）（４−メトキシフェニル）メタン、ビス
（３．５−ジーｔ−ブチルー４−ヒドロキシフェニル）
（４−ジメチルアミノフェニル）メタン、トリス（３，
５−ジーｔ−ブチルー４−ヒドロキシフェニル）メタン
等である。

一般式（■）で表わされる好ましい還元剤としては、例
えば、４，４゛−メチレンビス（２−メチル−１−ナフ
トール）、４，４゜−メチレンビス（２−エチル−１−
ナフトール）、４，４゜−メチレンビス（２−ｔ−ブチ
ルー１−ナフトール）、４，４゜−メチレンビス（２一
シクロヘキシル−１−ナフトール）、４，４゜−メチレ
ンビス（２−七−ブチルー６−メチル−１−ナフトール
）、４，４゜−メチレンビス（２．６−ジエチル−１−
ナフトール）、４，４゜−メチレンビス（２−ベンジル
ー１−ナフトール）、４，４゜−メチレンビス（２−七
−ブチルー８一メチル−１−ナフトール）、４，４゜−
メチレンビス（２−メチル−８−ジメチルアミンー１−
ナフトール）　，　４−（３゜−ｔ−ブチルー４゜−ヒ
ドロキシナフチル）メチル−２−メチル−１−ナフトー
ル、４−（３゜−シクロへキシル−４゜−ヒドロキシナ
フチル）メチル−２−メチルーｌ−ナフトール、４．４
゜−ベンジリデンビス（２−メチル−１−ナフトール）
，４，４゜−ベンジリデンビス（２−ｔ−ブチルー１−
ナフトール）　、４．４’一エチリデンビス（２−メチ
ル−１−ナフトール）、４，４゛一エチリデンビス（２
−ｔ−ブチルーｌ−ナフトール）ビス（４−ヒドロキシ
−３−メチルナフチル）トリルメタン等である。

本発明の材料が含有する重合性化合物としては、１分子
中に反応性ビニル基を少なくとも１個持つ化合物が利用
できる。

これら化合物の反応性ビニル基としては、スチレン系ビ
ニル基、アクリル酸系ビニル基、メタクリル酸ビニル基
、アリル系ビニル基、ビニルエーテルなどの外に酢酸ビ
ニルなどのエステル系ビニル基など重合反応性を有する
置換もしくは非置換のビニル基が挙げられる。かかる条
件を満たす重合性モノマーの具体例は次の通りである。

例えば、スチレン、メチルスチレン、クロルスチレン、
プロモスチレン、メトキシスチレン、ジメチルアミノス
チレン、シアノスチレン、ニトロスチレン、ヒドロキシ
スチレン、アミノスチレン、カルボキシスチレン、アク
リル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリ
ル酸シクロヘキシル、アクリルアミド、メタクリル酸、
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル
酸プロビル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸フェニ
ル、メタクリル酸シクロヘキシル、ビニルビリジン、Ｎ
−ビニルビロリドン、Ｎ−ビニルイミダゾール、２−ビ
ニルイミダゾール、Ｎ−メチル−２−ビニルイミダゾー
ル、プロビルビニルエーテル、プチルビニルエーテル、
イソブチルビニルエーテル、β一クロロエチルビニルエ
ーテル、フエニルビニルエーテル、ｐ−メチルフエニル
ビニルエーテル、ｐ−クロルフエニルビニルエーテルな
どの一価の単量体：例えばジビニルベンゼン、シュウ酸
ジスチリル、マロン酸ジスチリル、コハク酸ジスチリル
、グルタル酸ジスチリル、アジピン酸ジスチリル、マレ
イン酸ジスチリル、フマル酸ジスチリル、β，β゜−ジ
メチルグルタル酸ジスチリル、２−プロモグルタル酸ジ
スチリル、α，α゛−ジクロログルタル酸ジスチリル、
テレフタル酸ジスチリルルシュウ酸ジ（エチルアクリレ
ート）、シュウ酸ジ（メチルエチルアクリレート）、マ
ロン酸ジ（エチルアクリレート）、マロン酸ジ（メチル
エチルアクリレート）、コハク酸ジ（エチルアクリレー
ト）、グルタル酸ジ（エチルアクリレート）、アジピン
酸ジ（エチルアクリレート）、マレイン酸ジ（ジエチル
アクリレート）、フマル酸ジ（エチルアクリレート）、
β，１３゜−ジメチルグルタル酸ジ（エチルアクリレー
ト）、エチレンジアクリルアミド、ブロビレンジアクリ
ルアミド、１．４−フエニレンジアクリルアミド、ｌ，
４−フエニレンビス（オキシエチルアクリレート）、１
．４−フエニレンビス（オキシメチルエチルアクリレー
ト）　、１．４−ビス（アクリロイルオキシエトキシ）
シクロヘキサン、１．４−ビス（アクリロイル才キシメ
チルエ１・キシ）シクロヘキサン、１．４−ビス（アク
リロイルオキシエトキシ力ルバモイル）ベンゼン、１．
４−ビス（アクリロイルオキシメチルエトキシ力ルバモ
イル）ベンゼン、１．４−ビス（アクリロイルオキシエ
トキシカルバモイル）シクロヘキサン、ビス（アクリロ
イルオキシエトキシカルバモイルシクロヘキシル）メタ
ン、シュウ酸ジ（エチルメタクリレート）、シュウ酸ジ
（メチルエチルメタクリレート）、マロン酸ジ（エチル
メタクリレート）、マロン酸ジ（メチルエチルメタクリ
レート）、コハク酸ジ（エチルメタクリレート）、コハ
ク酸ジ（メチルエチルメタクリレート）、グルタル酸ジ
（エチルメタクリレート）、アジビン酸ジ（エチルメタ
クリレート）、マレイン酸ジ（エチルメタクリレート）
、フマル酸ジ（エチルメタクリレート）、フマル酸ジ（
メチルエチルメタクリレート）、β．β゛−ジメチルグ
ルタル酸ジ（エチルメタクリレート）、ｌ，４−フエニ
レンビス（オキシエチルメタクリレート）、１．４−ビ
ス（メタクリロイルオキシエトキシ）シクロヘキサンア
クリ口イルオキシエトキシエチルビニルエーテルなどの
２価の単量体；例えばベンタエリスリトールトリアクリ
レート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリ　（ヒドロキシスチレン）、シ
アヌル酸トリアクリレート、シアヌル酸トリメタクリレ
ート、１，　１．　１−トリメチロールプロパントリア
クリレート、１，１．１−ト’Ｊ）Ｃチロールブロバン
トリメタクリレート、シアヌル酸トリ　（エチルアクリ
レート）　、１，１．１−トリメチロールブロバントリ
（エチルアクリレート）、シアヌル酸トリ（エチルビニ
ルエーテル）　，　１，１，ｌ−トリメチロールブロバ
ントリ（トルエンジイソシアネート）とヒドロキシエチ
ルアクリレートとの縮合物、！，　１．　１−　トリメ
チロールブロバントリ（ヘキサンジイソシアネート）と
ｐ−ヒドロキシスチレンとの縮合物などの３価の単量体
；例えばエチレンテトラアクリルアミド、ブロビレンテ
トラアクリルアミドなどの４価の単量体などを挙げるこ
とができる。なお、前述のようにこれらの重合性化合物
を二種以上用いてもよい。

光重合開始剤としては、カルボニル化合物、イオウ化合
物、ハロゲン化合物、レドックス系光重合開始剤等を挙
げることができる。

具体的には、カルボニル化合物としては、例えばベンジ
ル、４，４゜−ジメトキシベンジル、ジアセチル、カン
ファーキノンなどのジケトン類；例えば４．４゜−ビス
（ジエチルアミン）ペンゾフェノン、４．４゜−ジメト
キシベンゾフェノンなどのペンゾフェノン類；例えばア
セトフェノン、４−メトキシアセトフェノンなどのアセ
トフェノン類；ベンゾインアルキルエーテル類；例えば
２−シクロロチオキサントン、２．５−ジエチルチオキ
サントン、チオキサントン−３−カルボン酸一〇−メト
キシエチルエステルなどのチオキサントン類；ジアルキ
ルアミノ基を有するカルコン類およびスチリルケＩ・ン
類，３．３’一カルボニルビス（７−メトキシクマリン
）　、３．３’一カルボニルビス（７−ジエチルアミノ
クマリン）などのクマリン類等が挙げられる。

イオウ化合物としては、例えばジベンゾチアゾリルスル
フィド、デシルフエニルスルフイド、ジスルフィド類な
どが挙げられる。

ハロゲン化合物としては、例えば四臭化炭素、キノリン
スルホニルクロライド、トリハロメチル基を有するＳ−
トリアジン類などが挙げられる．レドックス系の光重合
開始剤としては、３価の鉄イオン化合物（例えばクエン
酸第二鉄アンモニウム）と過酸化物などを組み合せて用
いるものや、リボフラビン、メチレンブルーなどの光還
元性色素とトリエタノールアミン、アスコルビン酸など
の還元剤を組み合せて用いるものなどが挙げられる。

また以上に述べた光重合開始剤において、２種以上を組
み合せてより効率の良い光重合を行なうこともできる。

この様な光重台開始剤の組み合せとしては、ジアルキル
アミノ基を有するカルコンおよびスチリルケトン類やク
マリン類と、トリ八口メチル基を有するＳ一トリアジン
類やカンファーキノンとの組み合せなどが挙げられる。

本発明の感光性重合層における上記戊分の好ましい配合
比は次の通りである。

有機銀塩１モルに対して、感光性ハロゲン化銀を好まし
くは０．　００１モル〜２モル、より好ましくは０．０
５モル〜０．４モル含有させるのが望ましい。

また、有機銀塩１モルに対して還元剤を好ましくは０．
２モル〜３モル、より好ましくは０，４モル〜１．３モ
ル含有させるのが望ましい。更に、重合性化合物１００
重量部に対して光重合開始剤を好ましくは０．１重量部
〜５０重量部、より好ましくは０．５重量部〜３０重量
部用いるのが望ましい。また、還元剤１モルに対して光
重合開始剤を好ましくは０．Ｏｌモル〜ｌＯモル、より
好ましくは０．１モル〜３モル含有させるのが望ましい
。

また、一般式（１）または（ＩＩ）で表わされる化合物
の配合比は、有機銀塩ｌモルに対して［］．　０００１
〜０．１モルであり、好ましくは０．　００５〜０．０
４モルである。

また、本発明の感光性材料を、所望の層状に形成し、感
光体を成型する際には、上記必須或分を適宜用いられる
バインダーとともに溶剤に溶解して金属箔、プラスチッ
クフィルム、紙、バライタ紙、合成紙などの支持体上に
塗布乾燥して、形成することができる。

なお、本発明の感光体を所望の形状に成型する際のその
形状としては、平板、円筒状、ロール状など特に限定さ
れるものではない。層状に形威した場合の層厚としては
、０３１μ〜２ｍｍ，好ましくは１ｕ１〜０．１ｍｍ程
度が良い。また、感光層は一層にしても良く、必要に応
じて多層にしてもよい。

本発明に使用可能なバインダーとしては、広範な樹脂か
ら選択することが出来るが、具体的には、例えばニトロ
セルロース、リン酸セルロース、硫酸セルロース、酢酸
セルロース、ブロビオン酸セルロース、酩酸セルロース
、ミリスチン酸セルロース、バルミチン酸セルロース、
酢酸・ブロビオン酸セルロース、酢酸・酪酸セルロース
などのセルロースエステル類；例えばメチルセルロース
、エチルセルロース、プロビルセルロース、ブチルセル
ロースなどのセルロースエーテル類；例えばボリスチレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチ
ラート、ポリビニル７セタール、ポリビニルアルコール
、ポリビニルビロリドンなどのビニル樹脂類；例えばス
チ１ノンーブタジエンーコボリマー、スチレンーアクリ
ロニトリルーコポリマー、スチレンーブタジエンーアク
リロニトリルーコボリマー、塩化ビニルー酢酸ビニルー
コボリマーなどの共重合樹脂類；例えばポリメチルメタ
クリレート、ポリメチルアクリレート、ポリブチルアク
リレート、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリア
クリルアミド、ポリアクリロニトリルなどのアクリル樹
脂類；例えばポリエチレンテレフタレートなどのポリエ
ステル類：例えば、ポリ（４．４−イソブロビリデン、
ジフェニレンーコ−１．４−シクロヘキシＩ／ンジメチ
レンカーボネート）、ポリ（エチレンジオキシー３．３
゜−フ二二レンチ才カーボネート）、ポリ　（４．４゜
−イソブロビリデンジフェニレンカーボネートーコーテ
レフタレート）、ボリ（４，４’−イソブロビリデンジ
フェニレンカーボネート）、ポリ（４，４゜ｌｅｃ−プ
チリデンジフェニレンカーボネート）、ポリ（４．４’
−イソブロビリデンジフェニレンカーボネートーブロッ
クオキシエチレン）などのポリアクリレート樹脂類；ボ
リアミド類；ポリイミド類；エボキシ樹脂類：フェノー
ル樹脂類；例えばポリエチレン、ボリブロビレン、塩素
化ポリエチレンなどのポリオレフィン類；およびゼラチ
ンなどの天然高分子などが挙げられる。

尚、本発明においてバインダーは必須成分ではなく、材
料の皮膜性、感度などが十分に取れる場合には、特に含
有する必要はない。

この他に必要に応じて、光変色防止剤、固体溶媒、界面
活性剤、帯電防止剤などを添加することもできる， 上記感光性材料を用いて、感光体を作製するに際して、
感光体の層構成は単層、多層の何れでも良い。単層の場
合は、感光性かつ熱現像性要素および重合性要素を、あ
るいは感光性かつ熱現像性要素、重合性要素および熱拡
散性色素を同一層に含有させる。多層構成としては、感
光性かつ熱現像性要素からなる感光層と、重合性要素か
らなる重合層を別個に形或させ、重合層中に熱拡散性色
素を含有させてもよく、あるいは、感光層、重合層と別
個に熱拡散性色素を含む色素層を設けた三層構成として
もよい。また感光性かつ熱現像性要素および重合性要素
を含む感光性重合層と、別に色素層を設けた構戊でも良
い。

上記各層を支持体上に設け、該層を保護、あるいは重合
反応を効率よく進めるために、該層の上に保護層を設け
ることが好ましい。

保護層としてはポリエチレンテレフタレートなどのフィ
ルム類でラミネートする、あるいは、ポリビニルアルコ
ール、セルロース類などのバインダーを溶剤にとかして
塗布しても良い。

次に本発明の画像形戊方法について述べる。

本発明の感光体に対し、像露光（ａ）シ、加熱（ｂ）シ
て光吸収性化合物を生成させ、前記光重合開始剤が感度
を有する波長の光により全面露光（ｃ）を行なうことに
より、前記重合性ボリマー前駆体を重合させ、重合画像
を形成する画像形戊方法である， 以下、上記各過程（ａ）〜（Ｃ）について、図面を参照
しつつ詳細に説明する。

まず、単層からなる感光体を用いる場合について説明す
る。

上記の方法における（ａ）の過程は、光による画像の書
込みを行なう過程であり、第１図に示すように支持体２
上の感光性重合層ｌに対し、マスク等によるアナログ露
光、外部電気信号または光信号等の画像信号をレーザー
等により露光するデジタル露光によって所望の部分を露
光する．その結果、像露光部１−ａ内の感光性銀塩から
銀核３が生成し、これが潜像を形戊する。

なお、この潜像の書込みにおける露光の条件には、得ら
れた重合画像に十分なコントラスト等の所望の特性を得
ることのできる条件を感光性重合層に含有させた感光性
銀塩の濃度、種類等に応じて適宜選択して用いれば良い
。

この過程において感光性銀塩な使用するので、高感度な
書込みが可能となる。

次に上記の方法の過程（ｂ）において、潜像が形成され
た感光性重合層１を加熱すると、第２図に示すように像
露光部１−ａにおいて選択的に銀核３が触媒として作用
し、有機銀塩と還元剤とが反応し、有機銀塩は銀原子（
金属銀）に還元されると同時に、還元剤４は酸化されて
酸化体５となる。

この過程（ｂ）における加熱は、酸化還元反応の進行お
よび光吸収性化合物の生或に必要な条件を適宜選択して
行なう。感光体の組戊等に応じて一概には言えないが、
６０℃から２００℃、より好ましくは１００℃から１５
０℃に、１秒から５分、より好ましくは３秒から６０秒
間加熱処理すれば良い。一般的に高温で行なうと短時間
で済み、低温では長時間加熱が必要となる。加熱手段と
しては、ホットプレート、ヒートロール、サーマルヘッ
ドなどを使用する方法の他に、支持体の発熱素子上に、
通電して加熱する方法や、レーザー光照射による加熱方
法もある。

続いて、（Ｃ）の過程において、感光性重合層ｌを全面
露光する。その露光に用いる光は、形態２の還元剤を用
いた場合は先に述べた有効波長光（光重合開始剤が感度
を有しかつ光吸収性化合物が吸収を有する波長の光）で
ある。ただし、所望の重合画像を得られる範囲内におい
て、有効波長光以外の波長光を併用しても良い。また、
波長域を制限する必要がある場合には、例えば、カット
フィルター等を用いて露光を行なえば良い。形態ｌの還
元剤を用いた場合は、光重合開始剤が感度を有する波長
の光を全面露光する． この全面露光を行なうと、像未露光部ｉ−ｂにおいては
、光重合開始剤の作用により重合性化合物が重合する。

一方、像露光部１−ａにおいては、酸化体が存在するの
で、全面露光の有効波長光がそれに吸収され、あるいは
、ラジカルが酸化体によりクエンチされ、重合が進行し
ない。従って、像露光部１−ａと像未露光部１−ｂとで
、ボリマーの形成状態に差が生じ、第３図に示すような
重合部分６が選択的に形成される。つまり、重合画像が
形或されるのである。

次に多層構成の感光体を用いる場合を説明する。第４図
に示すように、この感光体は支持体２上に重合性要素か
らなる重合層８を形成し、さらにその上に感光性かつ熱
現像性要素からなる感光層７を積層したものである。

この感光体についても前記した単層構成の感光体と同様
に画像形或を行なうことができるが、さらに感光層のみ
の感光要素と重合層のみの重合要素を別々に形成し、は
じめに感光要素を露光・熱現像を行ない光吸収性物質を
生成させた後、重合要素と重ねあわせて全面露光するこ
とにより、重合画像を形或することも可能である。この
場合、感光要素は未露光の重合要素と積層することによ
り、複数回使用することができ、経済的にも有利である
。

こうして重合画像を形或させた後に、予め感光体中に含
有させておいた熱拡散性色素を受像体上に熱拡散させる
ことにより、画像を得ることができ、イエロー、マゼン
タ、シアンの３色の熱拡散性色素を用い、各色毎に転写
を行なえば、フルカラー画像を得ることができる。

［実施例１ 次に本発明を実施例を挙げて説明する。

Ｘ凰亘ユ ポリビニルブチラール０．８部をイソブロパノール１０
部中に溶解し、さらにこの溶解液のなかに臭化銀０．１
部およびべヘン酸銀０．６部を分散させた。

つづいて、この分散液中に４−メトキシーｌ−ナフトー
ル０．２９部および化合物Ｎｏ．２０の例示化合物をｏ
．　ｏｏｓ部を溶解させて、Ａ液を得た。

これとは別に、メチルエチルケトンｌ５部に、２−クロ
ロチオキサントン０．１５部、ｐ−ジメチルアミノ安息
香酸エチル０．ｌ８部、ボ１ノメチルメタクリレート０
．６部、ペンタエリスリトールトリアクリレート１．８
部を溶解させ、Ｂ液を得た。次に、Ａ液にＢ液をよく混
合し、ポリエチレンテレフタ１ノート（ＰＥＴ）フィル
ム上に乾燥膜厚が４μとなるように塗布して感光層を設
け、さらにこの上に２ノ１ｍのポリビニルアルコール（
ＰＶＡ）層を設け、感光体を得た。

この感光体上のＰＶＡ＃にマスクフィルムを重ね、像露
光による潜像形戊を行なった。この像露光は、光源とし
て４２０ｎｍに蛍光ピークをもつ発光出力５ｍＷの蛍光
灯を用い、感光体から光源を５ｃｍ離し１０ｍｓｅｃ露
光することにより行なった。　その後、マスクフィルム
を外し、　ｌ０５℃に調節した熱現像機に２０秒間で感
光体を通過させ、さらに感光体を６０℃に加熱したホッ
トプレート上にのせ、これに３９０ｎｒｎ、発光出力１
０ｍＷの蛍光灯の光を５ｃｍ離して１０秒間照射した。

　最後に水洗によりＰＶＡ層を除去し、その後エタノー
ル中で感光体をすすいだところ、像露光部がＰＥＴフィ
ルム上から除去され、ＰＥＴフィルム上に鮮明な重合部
分からなるボジ画像が得られた。

また、全面露光時間が５ｓｅｃでも、エッチング処理に
より重合画像が得られたが、Ｎｏ．２０の化合物を用い
ない場合には、５ｓｅｃの全面露光時間では重合画像が
形成されなかった。

加熱温度を１０５℃から１１０℃に上昇させた場合に、
Ｎｏ、２０の化合物を用いた場合は未露光部は熱カブリ
は生じなかったが、Ｎｏ．　２０の化合物を用いない場
合には熱カブリが発生した。

２〜４、　　　　１ 実施例１と同様にして組成よりなる塗工液を調製した。

ポリビニルブチラール　　　　　　　　１０．０部臭化
銀　　　　　　　　　　　　　　　０・７部へヘン酸銀
　　　　　　　　　　　　　　４．５部４，４゛−メチ
レンビス （２．６−ジーｔ−プチルフェノール）２．８部フタラ
ジノン　　　　　　　　　　　　０．６部ベヘン酸　　
　　　　　　　　　　　　２．５部２．４−ジエチルチ
オキサントン　　　　　　１．０部ｐ−ジメチルアミノ
安息香酸エチル　　　１．０部ＭＳマゼンタｖＰ（三井
東圧化学製）２．５部ジベンタエリスリトール ヘキサアクリレート１０．０部 キシレン　　　　　　　　　　　　　６０　　部ｎ−ブ
タノール　　　　　　　　　　　　　６０　　部さらに
上記組成の塗工液に第１表に示す化合物を溶解させＰＥ
Ｔフィルムに乾燥膜厚５μｍになるように塗布し、さら
に２μｍ厚のＰＶＡ層を設け感光体Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄを得
た。

この感光体に実施例ｌと同様に像露光を行なった後、　
１２５℃に調節した熱現像機で２０秒間加熱した。続い
て６０℃のホットプレート上にのせ、３８０ｎｍ、発光
出力ＬｍＷの蛍光灯を３本用いて３ｃｍ離して４０秒間
全面露光した。

次に水洗によりＰＶＡ層を除去した後、受像体と重ねあ
わせて　１３５℃のヒートローラーに３ｍｍ／ｓｅｃの
速度で通した。

第 １ 表 感光体と受像体を剥離したところ、像露光部に対応した
部分に色画像が形成された。第１表に各感光体による画
像のマゼンタの最大光学濃度および最小光学濃度を示す
。

哀息盟亙 ｐ−ジメチルアミノベンゾニトリル　　　　０．４部４
，４゜−ビス（ジエチルアミノ） ペンゾフェノン　　　　１．２部 ＭＳ？ゼンタＶＰ　　　　　　　　　　　　２．０部ジ
ベンタエリスリトール ヘキサアクリレート　　　　　　　８．０部ボリブチル
メタクリレート　　　　　　１０　　部メチルエチルケ
トン　　　　　　　　　６０　　部上記溶液をＰＥＴフ
ィルム上に乾燥膜厚３μｍになるように塗布した。さら
にその上に下記分散液にＮｏ．　３４の化合物０．０５
部を加え、乾燥膜厚５μｍとなるように塗布した。これ
にＰＥＴフィルムをラミネートして感光体を得た。

ポリビニルブチラール　　　　　　　　１０　　部べヘ
ン酸　　　　　　　　　　　　　　２．２部ベヘン酸銀
　　　　　　　　　　　　　４．５部臭化銀　　　　　
　　　　　　　　　　０．７部フタラジノン　　　　　
　　　　　　　０．６部４，４゛−メチレンビス （２−七−ブチルー６−メチルフェノール）２．６部下
記構造式の増感色素の１部％ ジメチルホルムアミド溶液　　　０．１部ＣＨ２ＣＯＯ
｝Ｉ ｎ−ブタノール　　　　　　　　　　　　　８０　　部
トルエン　　　　　　　　　　　　　　２０　　部この
感光体にＨｅ−Ｎｅレーザーを用いて像露光した後、　
１２０℃に調節した熱現像機で１６秒間加熱した。続い
て３８Ｄｎｍの蛍光灯を用い、４０秒間全面露光した。

ラミネート用ＰＥＴフィルムを剥離した後、受像体と重
ねあわせ１３０℃に加熱されたヒートローラーに３ｍｍ
／ｓｅｃの速度で通したところ、受像体側に像露光部に
対応した画像が転写された。

Ｎｏ．　３４の化合物を用いない場合と、用いた場合の
受像体の画像でのカブリの差は、マゼンタで平均０．ｌ
１であり、用いない場合が劣っていた，（発明の効果］ 以上説明したように、本発明では一般式（１）または（
ＩＩ）からなる化合物を用いることにより、全面露光に
おける感度に優れ、かつ、熱安定性のある感光性材料お
よび感光体を得ることができるようになった。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第３図は本発明の画像形成方法の一例を示す概
略断面図であり、第４図は本発明の感光体の一例を示す
概略断面図である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、感光性かつ熱現像性要素、および重合性要素を含む
   感光性材料であって、下記一般式（ I ）または一般式
   （II）で表わされる化合物の少なくとも一種を含有する
   ことを特徴とする感光性材料。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 〔式中、Ｘは硫黄原子、酸素原子または＞Ｎ−Ｒ＾４を
   表わし、Ｒ＾４は炭素数１〜５のアルキル基を表わす。 Ｒ＾１およびＲ＾２は水素原子、炭素数１〜５のアルキ
   ル基、炭素数１〜３のヒドロキシアルキル基、フェニル
   基、ニトロ基または炭素数１〜３のアルコキシ基で置換
   されたフェニル基、炭素数１〜８のアルコキシ基を有す
   るアルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、
   アセチル基、カルボキシル基を表わし、Ｒ＾１とＲ＾２
   は縮合してハロゲン原子またはフェニル基で置換されて
   いてもよいベンゼン環を形成してもよい。Ｒ＾３は２位
   に置換基としてシアノ基、アシル基、炭素数１〜４のア
   ルコキシ基を有するアルコキシカルボニル基、フェノキ
   シカルボニル基を有するエチル基、アシル基、炭素数１
   〜８のアルコキシ基を有するアルコキシカルボニル基、
   ベンジルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基
   、炭素数１〜８のアルキル基を有するアルキルスルホニ
   ル基、メチル基で置換されたフェニルスルホニルを表わ
   す。〕２、請求項１記載の感光性材料を支持体上に層状
   に形成してなる感光体。 ３、感光性かつ熱現像性要素からなる感光層と、重合性
   要素を含む重合層とを支持体上に層状に形成してなる感
   光体であって、一般式（ I ）または一般式（II）で表
   わされる化合物の少なくとも一種を含有することを特徴
   とする感光体。 ４、請求項２または３記載の感光体に像露光を行なう過
   程、加熱過程、全面露光を行なう過程により像未露光部
   を重合させることを特徴とする画像形成方法。 ５、感光性かつ熱現像性要素、重合性要素および熱拡散
   性色素を含む感光性材料であって、一般式（ I ）また
   は一般式（II）で表わされる化合物の少なくとも一種を
   含有することを特徴とする感光性材料。 ６、請求項５記載の感光性材料を支持体上に層状に形成
   してなる感光体。 ７、感光性かつ熱現像性要素および重合性要素を含む感
   光性重合層と、熱拡散性色素を含む層とを支持体上に形
   成してなる感光体であって、一般式（ I ）または一般
   式（II）で表わされる化合物の少なくとも一種を含有す
   ることを特徴とする感光体。 ８、感光性かつ熱現像性要素および重合性要素を含む感
   光性重合層と、熱拡散性色素を含む層とを支持体上に形
   成してなる感光体であって、感光性重合層に一般式（
   I ）または一般式（II）で表わされる化合物の少なくと
   も一種を含有することを特徴とする感光体。 ９、請求項６、７または８記載の感光体に像露光を行な
   う過程、加熱過程、全面露光を行なう過程を経た後、受
   像体と重ねあわせ、受像体上に像露光に応じて熱拡散性
   色素を転写させ、受像体上に画像を得ることを特徴とす
   る画像形成方法。