JPH0357905A - 非接触型の表面形状測定装置 - Google Patents
非接触型の表面形状測定装置Info
- Publication number
- JPH0357905A JPH0357905A JP19344089A JP19344089A JPH0357905A JP H0357905 A JPH0357905 A JP H0357905A JP 19344089 A JP19344089 A JP 19344089A JP 19344089 A JP19344089 A JP 19344089A JP H0357905 A JPH0357905 A JP H0357905A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- beam splitter
- reference mirror
- interference fringes
- measured
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000012887 quadratic function Methods 0.000 claims abstract description 8
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 5
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 3
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は光の干渉を用いて球面又は非球面状の被測定物
の表面を超高精度に測定するための非接触型の表面形状
測定装置に関するものである．［従来の技術］ 従来、トワイマン・グリーン干渉計のような光の干渉測
定法を用いた高精度の非接触式の表面形状測定装置が開
発されている．この種の干渉測定法の中でも、光路長を
少しずつ変えることにより得られた複数枚の干渉縞を用
いる縞走査法は特に精度が高く、高精度の金型、光学レ
ンズ、半導体ウェハー等の表面形状を測定するために使
用されている．ところで、干渉測定法は被測定物の表面
に可干渉光を照射し、その反射光と参照光との干渉を利
用するものであるから、被測定物の表面に光が垂直に入
射する必要がある．そこで、被測定物の前に光路補正レ
ンズを配して、被測定物の表面が球面又は非球面状であ
っても被測定物の表面にほぼ垂直に光を照射し、光の干
渉による測定を可能とすることが提案されている（特願
昭６３２５８９０４号参照〉．このとき発生する干渉縞
は、光路補正レンズの表面形状からのズレとして被測定
物の球面又は非球面形状を測定したものとなる。
の表面を超高精度に測定するための非接触型の表面形状
測定装置に関するものである．［従来の技術］ 従来、トワイマン・グリーン干渉計のような光の干渉測
定法を用いた高精度の非接触式の表面形状測定装置が開
発されている．この種の干渉測定法の中でも、光路長を
少しずつ変えることにより得られた複数枚の干渉縞を用
いる縞走査法は特に精度が高く、高精度の金型、光学レ
ンズ、半導体ウェハー等の表面形状を測定するために使
用されている．ところで、干渉測定法は被測定物の表面
に可干渉光を照射し、その反射光と参照光との干渉を利
用するものであるから、被測定物の表面に光が垂直に入
射する必要がある．そこで、被測定物の前に光路補正レ
ンズを配して、被測定物の表面が球面又は非球面状であ
っても被測定物の表面にほぼ垂直に光を照射し、光の干
渉による測定を可能とすることが提案されている（特願
昭６３２５８９０４号参照〉．このとき発生する干渉縞
は、光路補正レンズの表面形状からのズレとして被測定
物の球面又は非球面形状を測定したものとなる。
［発明が解決しようとする課題］
上述の従来例にあっては、光路補正レンズのセッティン
グが不良であると、干渉縞の本数が過多又は過少となっ
て、表面形状の測定が困難になることがあった．そこで
、従来は光路補正レンズを測定者の勘と経験で最適位置
にセッティングしていた．しかしなから、その場合、光
路補正レンズのセッティングがプラス側にずれているの
か、マイナス開にずれているのか判定しにくいという問
題があり、また、セッティングの精度が測定者によって
異なり、誤差も大きいという問題がある．本発明はこの
ような点に鑑みてなされたものであり、その目的とする
ところは、光の干渉による縞走査法を用いた非接触型の
表面形状測定装置において、球面又は非球面の被測定物
を測定するための光路補正レンズの位置決めを容易にす
ることにある． ［課題を解決するための手段コ 本発明にあっては、上記の課題を解決するために、第１
図に示すように、可干渉光を放射する光源ｌと、光源１
からの可干渉光を平行光線に変換する光学系２〜４と、
前記光学系１からの平行光線を第１の光線と第２の光線
に２分するビームスプリッタ７と、第１の光線をビーム
スブリッタ７に向けて反射する１Ｉｌ．ｉ定物６と、第
２の光線をビームスプリッタ７に向けて反射する参照鏡
９と、被測定ｅＪ６とビームスプリッタフの間に介在す
る光路補正レンズ５と、参照鏡９からの反射光と被測定
物６からの反射光の干渉縞を観察する光学系（観測面８
及びＣＣＤカメラ１１）と、参照ｊｍ ９の位置を光路
方向に沿って微小量移動させる参照鏡駆動手段（圧電素
子１０）と、参照鏡９の位置を微小量移動させて形成さ
れた複数枚の干渉縞から被測定物６の表面形状に関する
情報を演算出力する演算手段（マイクロプロセッサ１４
）とを備える非接触型の表面形状測定装置において、前
記複数枚の干渉縞から被測定物６の一断面形状を最小２
乗法により２次関数近似して２次係数を符号と共に表示
する手段２０を設けたことを特徴とするものである． ［作用］ 本発明にあっては、このように、光の干渉による縞走査
法を用いた非接触型の表面形状測定装置において、複数
枚の干渉縞から被測定物６の一断面形状を最小２乗法に
より２次関数近似して２次係数を符号と共に表示する手
段２０を設けたので、光路補正レンズ５の位置ずれの方
向と量を正確に知ることができるものである． ［実施例］ 以下、本発明の実施例について説明する．第１図は本発
明の一実施例の概略構成を示している．レーザー光源１
から放射された可干渉光は、ビンホール２と対物レンズ
３及びコリメータレンズ４により平行光線に変換され、
ビームスブリッタ７により第１及び第２の光線に分割さ
れる．第１の光線は光路補正レンズ５を介して被測定物
６に照射され、被測定物６の表面にて反射されて光路補
正レンズ５を介してビームスプリッタ７に戻る．光路補
正レンズ５は第１の光線が被測定物６の表面に垂直に入
射し垂直に反射されるように、第ｌの光線を屈折させて
いる．被測定物６の表面が凸面であるときには光路補正
レンズ５は凸レンズとし、被測定物６の表面が凹面であ
るときには光路補正レンズ５は凹レンズとする．第２の
光線は参照鏡９の表面にて反射されてビームスブリッタ
７に戻る．参照鏡９からビームスブリッタ７に戻った光
と、被測定物６からビームスブリッタ７に戻った光は干
渉し、干渉縞を生じる．被測定物６からの反射光の光路
長は、被測定物６の表面形状に応じて異なるので、干渉
縞は被測定物６の表面形状を示す等高線として現れる．
光の波長をλとすると、隣接する等高線はλ／２の高さ
変化を表す．この干渉縞を観測面８にてＣＣＤカメラ１
１によりＦａｔ ５＆し、マイクロコンピュータ■４に
入力する．マイクロコンピュータ１４は、撮像された干
渉縞画像の一走査線に含まれる等高線が適度な密度とな
るように、参照鏡９の位置制御量を決定し、Ｄ／Ａ変換
器１２、高圧アンプ１３を介して圧電素子■０に駆動信
号を与えて、参照鏡９の位置制御を行う．また、マイク
ロコンピュータ１４は、参照鏡９の位置を微小量移動さ
せて形戒された複数枚の干渉縞から被測定物６の測定面
の高さ情報を演算出力する． ここで、干渉縞画像の点（ｘ，ｙ）における強度は、次
式のようになる． ｆ （ｘ，ｙ）＝Ａｘｙ＋ＫｘｙＸｓｉｎ（ｔ＋α）上
式において、αは参照鏡９の位置で決まる位相戒分てあ
る．縞走査法において、λ／８ずつ参照ｊＵ ９を移動
させたときに得られる４枚の干渉縞画像の点（ｘ，ｙ）
における強度は、 Ｉ １（ｘ，Ｆ）＝Ａｘｙ＋ＫｘｙＸｓｉｎｔ１ ２（
Ｘ，ｙ）＝ Ａｘｙ＋ＫｘｙＸｓｉｎ（ｔ＋ ｙｒ／
２ ）Ｉ ，（ｘ，ｙ）＝Ａｘｙ＋ＫｘｙＸｓｉｎ（ｔ
＋ ２π／２）Ｉ ４（ｘ＋ｙ）＝ Ａｘｙ＋ Ｋｘｙ
Ｘｓｉｎ（ｔ＋ ３π／２）となる．そして、干捗縞画
像の各点（ｘ．ｙ）における高さＨ（ｘ．ｙ）は、次式
により求めることができる． Ｈ （ｘ，ｙ）−＝ （＾／４π〉 ｘＬａｎ−’ｆ（１ ２ Ｉ ４）／ （Ｉ ３
Ｉ ＋）１上記の４枚の干渉縞画像の点（ｘ，ｙ）にお
ける強度■１〜■，は、第１〜第４のメモリ１５に記憶
される．このメモリｌ５の情報は一断面演算部１６に入
力されて、中心を通る一断面の形状を示すｙ＝ｆ（ｘ）
の曲線が得られる．次に、２次近似係数演算部１７によ
り上記ｙ４（ｘ）の曲線を最小２乗法により２次閏数ｙ
＝ａｘ２＋ｂκ＋Ｃで近似する．この２次関数における
係数ａの大きさと符号を、表示ドライバ１８を介して表
示器１９により表示する．以上の一断面演算部１６、２
次近似係数演算部ｌ７、表示ドライバ１８及び表示器１
９を含む位置ずれ検出表示千段２０はハードウエアで構
成され、実時間処理を行う． 上記の測定装置において、光路補正レンズ５の位置決め
が正確であれば、球面波は被測定物６の表面で反射され
、同じ光路を戻って光路補正レンズ５に入り、ビームス
ブリッタ７に帰る．これにより、参照光との干渉が起こ
り、理論的には同一の明るさを持った干渉画像が観測面
８に形成される．もし、光路補正レンズ５の位置がずれ
ていれば、参照光との干渉で形戒される干渉縞は、同心
円状の縞画像どなる。つまり、光路補正レンズ５の位置
がずれていると、縞走査により中心を通る一断面は凹形
又は凸形となる。この弧形の曲線をｆ＝ａｘ２＋ｂｘ＋
ｅの２次関数を用いて最小２乗近似すれば、２次係数ａ
の符号と大きさが光路補正レンズ５の位置ずれの方向と
大きさを示すことになる。また、光路補正レンズ５の位
置ずれが無い状態では、２次係数ａの値は理論的にはＯ
となり、このことにより精度の良い位置決めが可能とな
るものである． ［発明の効果］ 本発明にあっては、上述のように、光の干渉による縞走
査法を用いた非接触型の表面形状測定装置において、前
記複数枚の干渉縞から被測定物の一断面形状を最小２乗
法により２次関数近似して２次係数を符号と共に表示す
る手段を設けたから、球面又は非球面の被測定物を測定
するための光路補正レンズの位置ずれの方向と量を正確
に知ることができ、光路補正レンズの位置決めを容易に
行うことができるという効果がある．
グが不良であると、干渉縞の本数が過多又は過少となっ
て、表面形状の測定が困難になることがあった．そこで
、従来は光路補正レンズを測定者の勘と経験で最適位置
にセッティングしていた．しかしなから、その場合、光
路補正レンズのセッティングがプラス側にずれているの
か、マイナス開にずれているのか判定しにくいという問
題があり、また、セッティングの精度が測定者によって
異なり、誤差も大きいという問題がある．本発明はこの
ような点に鑑みてなされたものであり、その目的とする
ところは、光の干渉による縞走査法を用いた非接触型の
表面形状測定装置において、球面又は非球面の被測定物
を測定するための光路補正レンズの位置決めを容易にす
ることにある． ［課題を解決するための手段コ 本発明にあっては、上記の課題を解決するために、第１
図に示すように、可干渉光を放射する光源ｌと、光源１
からの可干渉光を平行光線に変換する光学系２〜４と、
前記光学系１からの平行光線を第１の光線と第２の光線
に２分するビームスプリッタ７と、第１の光線をビーム
スブリッタ７に向けて反射する１Ｉｌ．ｉ定物６と、第
２の光線をビームスプリッタ７に向けて反射する参照鏡
９と、被測定ｅＪ６とビームスプリッタフの間に介在す
る光路補正レンズ５と、参照鏡９からの反射光と被測定
物６からの反射光の干渉縞を観察する光学系（観測面８
及びＣＣＤカメラ１１）と、参照ｊｍ ９の位置を光路
方向に沿って微小量移動させる参照鏡駆動手段（圧電素
子１０）と、参照鏡９の位置を微小量移動させて形成さ
れた複数枚の干渉縞から被測定物６の表面形状に関する
情報を演算出力する演算手段（マイクロプロセッサ１４
）とを備える非接触型の表面形状測定装置において、前
記複数枚の干渉縞から被測定物６の一断面形状を最小２
乗法により２次関数近似して２次係数を符号と共に表示
する手段２０を設けたことを特徴とするものである． ［作用］ 本発明にあっては、このように、光の干渉による縞走査
法を用いた非接触型の表面形状測定装置において、複数
枚の干渉縞から被測定物６の一断面形状を最小２乗法に
より２次関数近似して２次係数を符号と共に表示する手
段２０を設けたので、光路補正レンズ５の位置ずれの方
向と量を正確に知ることができるものである． ［実施例］ 以下、本発明の実施例について説明する．第１図は本発
明の一実施例の概略構成を示している．レーザー光源１
から放射された可干渉光は、ビンホール２と対物レンズ
３及びコリメータレンズ４により平行光線に変換され、
ビームスブリッタ７により第１及び第２の光線に分割さ
れる．第１の光線は光路補正レンズ５を介して被測定物
６に照射され、被測定物６の表面にて反射されて光路補
正レンズ５を介してビームスプリッタ７に戻る．光路補
正レンズ５は第１の光線が被測定物６の表面に垂直に入
射し垂直に反射されるように、第ｌの光線を屈折させて
いる．被測定物６の表面が凸面であるときには光路補正
レンズ５は凸レンズとし、被測定物６の表面が凹面であ
るときには光路補正レンズ５は凹レンズとする．第２の
光線は参照鏡９の表面にて反射されてビームスブリッタ
７に戻る．参照鏡９からビームスブリッタ７に戻った光
と、被測定物６からビームスブリッタ７に戻った光は干
渉し、干渉縞を生じる．被測定物６からの反射光の光路
長は、被測定物６の表面形状に応じて異なるので、干渉
縞は被測定物６の表面形状を示す等高線として現れる．
光の波長をλとすると、隣接する等高線はλ／２の高さ
変化を表す．この干渉縞を観測面８にてＣＣＤカメラ１
１によりＦａｔ ５＆し、マイクロコンピュータ■４に
入力する．マイクロコンピュータ１４は、撮像された干
渉縞画像の一走査線に含まれる等高線が適度な密度とな
るように、参照鏡９の位置制御量を決定し、Ｄ／Ａ変換
器１２、高圧アンプ１３を介して圧電素子■０に駆動信
号を与えて、参照鏡９の位置制御を行う．また、マイク
ロコンピュータ１４は、参照鏡９の位置を微小量移動さ
せて形戒された複数枚の干渉縞から被測定物６の測定面
の高さ情報を演算出力する． ここで、干渉縞画像の点（ｘ，ｙ）における強度は、次
式のようになる． ｆ （ｘ，ｙ）＝Ａｘｙ＋ＫｘｙＸｓｉｎ（ｔ＋α）上
式において、αは参照鏡９の位置で決まる位相戒分てあ
る．縞走査法において、λ／８ずつ参照ｊＵ ９を移動
させたときに得られる４枚の干渉縞画像の点（ｘ，ｙ）
における強度は、 Ｉ １（ｘ，Ｆ）＝Ａｘｙ＋ＫｘｙＸｓｉｎｔ１ ２（
Ｘ，ｙ）＝ Ａｘｙ＋ＫｘｙＸｓｉｎ（ｔ＋ ｙｒ／
２ ）Ｉ ，（ｘ，ｙ）＝Ａｘｙ＋ＫｘｙＸｓｉｎ（ｔ
＋ ２π／２）Ｉ ４（ｘ＋ｙ）＝ Ａｘｙ＋ Ｋｘｙ
Ｘｓｉｎ（ｔ＋ ３π／２）となる．そして、干捗縞画
像の各点（ｘ．ｙ）における高さＨ（ｘ．ｙ）は、次式
により求めることができる． Ｈ （ｘ，ｙ）−＝ （＾／４π〉 ｘＬａｎ−’ｆ（１ ２ Ｉ ４）／ （Ｉ ３
Ｉ ＋）１上記の４枚の干渉縞画像の点（ｘ，ｙ）にお
ける強度■１〜■，は、第１〜第４のメモリ１５に記憶
される．このメモリｌ５の情報は一断面演算部１６に入
力されて、中心を通る一断面の形状を示すｙ＝ｆ（ｘ）
の曲線が得られる．次に、２次近似係数演算部１７によ
り上記ｙ４（ｘ）の曲線を最小２乗法により２次閏数ｙ
＝ａｘ２＋ｂκ＋Ｃで近似する．この２次関数における
係数ａの大きさと符号を、表示ドライバ１８を介して表
示器１９により表示する．以上の一断面演算部１６、２
次近似係数演算部ｌ７、表示ドライバ１８及び表示器１
９を含む位置ずれ検出表示千段２０はハードウエアで構
成され、実時間処理を行う． 上記の測定装置において、光路補正レンズ５の位置決め
が正確であれば、球面波は被測定物６の表面で反射され
、同じ光路を戻って光路補正レンズ５に入り、ビームス
ブリッタ７に帰る．これにより、参照光との干渉が起こ
り、理論的には同一の明るさを持った干渉画像が観測面
８に形成される．もし、光路補正レンズ５の位置がずれ
ていれば、参照光との干渉で形戒される干渉縞は、同心
円状の縞画像どなる。つまり、光路補正レンズ５の位置
がずれていると、縞走査により中心を通る一断面は凹形
又は凸形となる。この弧形の曲線をｆ＝ａｘ２＋ｂｘ＋
ｅの２次関数を用いて最小２乗近似すれば、２次係数ａ
の符号と大きさが光路補正レンズ５の位置ずれの方向と
大きさを示すことになる。また、光路補正レンズ５の位
置ずれが無い状態では、２次係数ａの値は理論的にはＯ
となり、このことにより精度の良い位置決めが可能とな
るものである． ［発明の効果］ 本発明にあっては、上述のように、光の干渉による縞走
査法を用いた非接触型の表面形状測定装置において、前
記複数枚の干渉縞から被測定物の一断面形状を最小２乗
法により２次関数近似して２次係数を符号と共に表示す
る手段を設けたから、球面又は非球面の被測定物を測定
するための光路補正レンズの位置ずれの方向と量を正確
に知ることができ、光路補正レンズの位置決めを容易に
行うことができるという効果がある．
第１図は本発明の一実施例の概略楕或を示す図である．
１は光源、２はビンホール、３は対物レンズ、４はコリ
メータレンズ、５は光路補正レンズ、６は被測定物、７
はビームスプリッタ、８は観測面、９は参照鏡、１０は
圧電素子、１１はＣＣＤカメラ、１２はＤ／Ａ変換器、
１３は高圧アンプ、ｌ５はメモリ、１６は一断而演算部
、１７は２次近似係数演算部、１８は表示ドライバ、１
つは表示器である．
メータレンズ、５は光路補正レンズ、６は被測定物、７
はビームスプリッタ、８は観測面、９は参照鏡、１０は
圧電素子、１１はＣＣＤカメラ、１２はＤ／Ａ変換器、
１３は高圧アンプ、ｌ５はメモリ、１６は一断而演算部
、１７は２次近似係数演算部、１８は表示ドライバ、１
つは表示器である．
Claims (1)
- （１）可干渉光を放射する光源と、光源からの可干渉光
を平行光線に変換する光学系と、前記光学系からの平行
光線を第１の光線と第２の光線に２分するビームスプリ
ッタと、第１の光線をビームスプリッタに向けて反射す
る被測定物と、第２の光線をビームスプリッタに向けて
反射する参照鏡と、被測定物とビームスプリッタの間に
介在する光路補正レンズと、参照鏡からの反射光と被測
定物からの反射光の干渉縞を観察する光学系と、参照鏡
の位置を光路方向に沿って微小量移動させる参照鏡駆動
手段と、参照鏡の位置を微小量移動させて形成された複
数枚の干渉縞から被測定物の表面形状に関する情報を演
算出力する演算手段とを備える非接触型の表面形状測定
装置において、前記複数枚の干渉縞から被測定物の一断
面形状を最小２乗法により２次関数近似して２次係数を
符号と共に表示する手段を設けたことを特徴とする非接
触型の表面形状測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19344089A JPH0711413B2 (ja) | 1989-07-26 | 1989-07-26 | 非接触型の表面形状測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19344089A JPH0711413B2 (ja) | 1989-07-26 | 1989-07-26 | 非接触型の表面形状測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0357905A true JPH0357905A (ja) | 1991-03-13 |
| JPH0711413B2 JPH0711413B2 (ja) | 1995-02-08 |
Family
ID=16308025
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19344089A Expired - Lifetime JPH0711413B2 (ja) | 1989-07-26 | 1989-07-26 | 非接触型の表面形状測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0711413B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05118831A (ja) * | 1991-10-25 | 1993-05-14 | Sankyo Seiki Mfg Co Ltd | 光コネクタの端面検査装置 |
| JP2008076336A (ja) * | 2006-09-25 | 2008-04-03 | Institute Of National Colleges Of Technology Japan | 干渉・三角測量同一光軸複合距離計測装置 |
| KR100849193B1 (ko) * | 2006-12-06 | 2008-07-30 | 부산대학교 산학협력단 | 오씨티 시스템 |
| WO2009028494A1 (ja) * | 2007-08-28 | 2009-03-05 | Nikon Corporation | 位置検出装置、位置検出方法、露光装置、およびデバイス製造方法 |
-
1989
- 1989-07-26 JP JP19344089A patent/JPH0711413B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05118831A (ja) * | 1991-10-25 | 1993-05-14 | Sankyo Seiki Mfg Co Ltd | 光コネクタの端面検査装置 |
| JP2008076336A (ja) * | 2006-09-25 | 2008-04-03 | Institute Of National Colleges Of Technology Japan | 干渉・三角測量同一光軸複合距離計測装置 |
| KR100849193B1 (ko) * | 2006-12-06 | 2008-07-30 | 부산대학교 산학협력단 | 오씨티 시스템 |
| WO2009028494A1 (ja) * | 2007-08-28 | 2009-03-05 | Nikon Corporation | 位置検出装置、位置検出方法、露光装置、およびデバイス製造方法 |
| JP2009075094A (ja) * | 2007-08-28 | 2009-04-09 | Nikon Corp | 位置検出装置、位置検出方法、露光装置、およびデバイス製造方法 |
| US8416423B2 (en) | 2007-08-28 | 2013-04-09 | Nikon Corporation | Interferometric apparatus for detecting 3D position of a diffracting object |
| US9885558B2 (en) | 2007-08-28 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Interferometric apparatus for detecting 3D position of a diffracting object |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0711413B2 (ja) | 1995-02-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4340306A (en) | Optical system for surface topography measurement | |
| US6208416B1 (en) | Method and apparatus for measuring shape of objects | |
| US7595891B2 (en) | Measurement of the top surface of an object with/without transparent thin films in white light interferometry | |
| US5193120A (en) | Machine vision three dimensional profiling system | |
| Saldner et al. | Profilometry using temporal phase unwrapping and a spatial light modulator based fringe projector | |
| US6268923B1 (en) | Optical method and system for measuring three-dimensional surface topography of an object having a surface contour | |
| US4387994A (en) | Optical system for surface topography measurement | |
| JPS62129711A (ja) | 物体の形状誤差を測定する方法およびその装置 | |
| JP4188515B2 (ja) | 光学式形状測定装置 | |
| US20220170735A1 (en) | Diffractive optical element for a test interferometer | |
| US20120044503A1 (en) | Shape measuring method and shape measuring apparatus | |
| CN107063122A (zh) | 光学非球面面形的检测方法及其装置 | |
| US20210239452A1 (en) | Method and Apparatus for Detecting Changes in Direction of a Light Beam | |
| JP4183220B2 (ja) | 光学球面曲率半径測定装置 | |
| JPH0357905A (ja) | 非接触型の表面形状測定装置 | |
| JP2003139515A (ja) | スペックルを利用した変形量の絶対値計測方法 | |
| JP3714853B2 (ja) | 位相シフト干渉縞同時撮像装置における平面形状計測方法 | |
| JP6395582B2 (ja) | 位相特異点評価方法および位相特異点評価装置 | |
| JP2009145068A (ja) | 表面形状の測定方法および干渉計 | |
| JP2595050B2 (ja) | 微小角度測定装置 | |
| JPH10141927A (ja) | 実時間表面形状計測方法及び装置 | |
| Weingaertner et al. | Simultaneous distance, slope, curvature, and shape measurement with a multipurpose interferometer | |
| JPH07311117A (ja) | 多眼レンズ位置測定装置 | |
| JPH03269309A (ja) | 非球面形状測定機 | |
| JP4390957B2 (ja) | 縞解析における縞位相決定方法 |