JPH0356678A - Control system for vapor growth device - Google Patents
Control system for vapor growth deviceInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は気相戒長装置の制御方式、特に、一つの気相成
長を完或させるプロセスの実行シーケンスの実行方式を
制御する気相成長装置の制御方式に関する。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a control method for a vapor phase control device, and particularly to a vapor phase growth control method for controlling the execution method of an execution sequence of a process to complete one vapor phase growth. Regarding the control method of the device.
従来の技術としては、例えば、特公昭６３−２８４９５
号公報記載の気相成長装置の制御方式がある。As a conventional technique, for example, Japanese Patent Publication No. 63-28495
There is a control method for a vapor phase growth apparatus described in the publication.
従来の気相成長装置の制御方式は、各シーケンスプロセ
スに対応して、プロセス制御情報（例えばシーセンス時
間，バルブの開閉状態．ガスの流量，炉内温度や圧力等
）を各シーケンスのプロセス制御情報として、実行順に
並べて１つのプロセスプログラム群（レシピソースプロ
グラムという）を作成し、実行時には前記プロセスプロ
グラム群を読み出して、実行形戒のシーケンス命令にデ
コードして気相戒長プロセスを実行してきた。Conventional control systems for vapor phase growth equipment provide process control information (e.g. sequence time, valve opening/closing status, gas flow rate, furnace temperature and pressure, etc.) for each sequence process. A process program group (referred to as a recipe source program) is created by arranging the process programs in the order of execution, and at the time of execution, the process program group is read out and decoded into an executable sequence command to execute the vapor command process.
上述した従来の気相戒長装置の制御方式は、戒長プロセ
スに係わるレシビプログラムの作戒と、レシピプログラ
ムの実行を同一のコンピュータ内で処理していたため、
レシビプログラムの実行中にレシビプログラムの作威が
できない上、レシビプログラム（レシピソースプログラ
ム〉を実行形式に変換しながらレシビプログラムを実行
しなければならないという欠点があった。The conventional control system for the gas-phase kaicho device described above processes the command of the recipe program related to the kaicho process and the execution of the recipe program within the same computer.
This method has disadvantages in that it is not possible to create a recipe program while the recipe program is being executed, and the recipe source program must be converted into an executable format while executing the recipe program.
本発明の気相成長装置の制御方式は、
（Ａ）気相成長に係わるプロセスを構或する各ステップ
の実行時間と、前記各ステップにおける複数のガスの流
れを制御し反応炉に導く管路網上に設けたバルブ群の開
閉状態および流量設定器群の流量値と、前記反応炉内に
流出入する複数のガスの圧力を制御する圧力設定器群の
圧力設定値と、前記反応炉内の温度を制御するヒータの
温度値とを各プテップのプロセス制御情報として第１の
コンピュータ部に登録する手段、（Ｂ）前記各ステップ
のプロセス制御情報と前記圧力設定器群のオン・オフ状
態と、前記ヒータのオン・オフ状態と、各プテップの流
れを制御すルシーケンス制御情報とをレシピソースプロ
グラムとして実行順に並べる手段、
（Ｃ）前記レシピソースプログラムを実行形式に変換し
、レシピオブジェクトプログラムを生戊する手段、
（Ｄ）前記レシピオブジェクトプログラムを第１のコン
ピュータ部および第２のコンピュータ部に接続された双
方向メモリに格納する手段、（Ｅ）前記第２のコンピュ
ータ部が前記双方向メモリに格納されたレシピオブジェ
クトプログラムを読み出して気相成長に係わるプロセス
を実行する手段、
とを含んで楕或される。The control method of the vapor phase growth apparatus of the present invention includes: (A) the execution time of each step that constitutes the process related to vapor phase growth, and the pipe line that controls the flow of a plurality of gases in each step and leads them to the reactor; The opening/closing state of a group of valves provided on the network, the flow rate value of a group of flow rate setting devices, the pressure setting value of a group of pressure setting devices that control the pressure of a plurality of gases flowing in and out of the reactor, and (B) means for registering in the first computer section the temperature value of a heater that controls the temperature of each step as process control information of each step; (B) the process control information of each step and the on/off state of the pressure setting device group; , a means for arranging the on/off state of the heater and sequence control information for controlling the flow of each step in the order of execution as a recipe source program; (C) converting the recipe source program into an executable format and converting it into a recipe object program; (D) means for storing the recipe object program in a bidirectional memory connected to a first computer section and a second computer section; (E) means for storing the recipe object program in a bidirectional memory connected to a first computer section and a second computer section; means for reading out a recipe object program stored in the computer and executing a process related to vapor phase growth.
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
．
第１図は本発明の一実施例を示すブロック図である。Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing one embodiment of the present invention.
第１図に示す気相成長装置の制御方式は、マスクＣＰＵ
部１０には、コマンドやデータを入力するキーボード２
１，データの表示やプログラム編集等を行なうＣＲＴ２
２，レシビプログラムやシステムを制御するプログラム
を格納する外部メモリ２３．スレーブＣＰＵ４０とデー
タの交換を行なう双方向メモリ３０とが接続されている
。The control system of the vapor phase growth apparatus shown in FIG.
Part 10 includes a keyboard 2 for inputting commands and data.
1. CRT2 for displaying data, editing programs, etc.
2. External memory 23 for storing rechibi programs and programs that control the system. A slave CPU 40 and a bidirectional memory 30 for exchanging data are connected.
スレーブＣＰＵ４０には、シーケンスの実行制御やプロ
セスの状態表示を行なうコンソール５１．サセプタの供
給・取出しを行なうロード・ロック部５２，反応炉８０
に導く複数のガスの流れを制御するガスミキサ部６０，
反応炉８０内の温度を制御するヒータ７０が接続されて
いる。The slave CPU 40 includes a console 51 that controls sequence execution and displays process status. Load lock section 52 for supplying and removing susceptors, reactor 80
a gas mixer section 60 that controls the flow of a plurality of gases,
A heater 70 that controls the temperature inside the reactor 80 is connected.
マスタｃｐｕｉｏは、システム全体を制御するメインプ
ログラム１１．レシピソースプログラムの作成や編集を
行なうレシビプログラム作成部１２．レシピソースプロ
グラムを実行形式に変換して、レシピオブジェクトプロ
グラムを作戒するコンパイル部１４．レシピオブジェク
トプログラムの実行を制御するオンライン実行部１３で
構成される．
スレーブＣＰＵ４０は、スレーブＣＰＵ４０全体の動作
モードを制御するモードプログラム４１，レシピオブジ
ェクトプログラムを双方向メモリ３０より読み出して実
行するレシビ実行処理部４２．パルブの状態やガスの流
量表示を行なうプロセス状態表示部４３で構成される。The master cpuio is a main program 11. which controls the entire system. Recipe program creation section 12 that creates and edits recipe source programs. A compiling unit 14 that converts the recipe source program into an executable format and creates a recipe object program. It consists of an online execution section 13 that controls the execution of the recipe object program. The slave CPU 40 includes a mode program 41 that controls the overall operation mode of the slave CPU 40, and a recipe execution processing section 42 that reads and executes a recipe object program from the bidirectional memory 30. It is comprised of a process status display section 43 that displays the status of the valve and the flow rate of gas.
第２図（ａ）〜（ｃ）は第１図に示す双方向メモリの内
容を示す模式図である。FIGS. 2(a) to 2(c) are schematic diagrams showing the contents of the bidirectional memory shown in FIG. 1.
第２図（ａ）は全体の横或を示し、相互通信エリア２プ
ロセス状態デーブル，シーケンステーブル．およびスデ
ップ内容テーブルで楕或される。FIG. 2(a) shows the overall layout, with mutual communication areas 2, process status table, sequence table, etc. and the step contents table.
第２図（ｂ）はシーケンステーブルの構戒を示し、各ス
テップの実行内容が、シーケンスの順に並べられている
。FIG. 2(b) shows the structure of the sequence table, in which the execution contents of each step are arranged in the order of the sequence.
第２図（ｃ）は各ステップの楕成を示し、各ステップは
コマンド内容，ステップ内容テーブル，およびステップ
時間で構成される．
第３図（ａ）．（ｂ）は第２図（ｃ）に示すコマンド内
容とステップ内容の詳細を示す模式図である．
第３図（ａ＞はコマンド内容の一覧であり、第３図（ｂ
）は１つのステップ内容テーブル番号の示すステップ内
容を示し、各ステップの内容は第２図（ａ）のステップ
内容テーブルに格納されてる。Figure 2(c) shows the ellipse of each step, and each step is composed of command content, step content table, and step time. Figure 3(a). (b) is a schematic diagram showing details of the command contents and step contents shown in FIG. 2(c). Figure 3 (a> is a list of command contents, Figure 3 (b)
) indicates the step content indicated by one step content table number, and the content of each step is stored in the step content table shown in FIG. 2(a).
第４図（ａ）．（ｂ）はレシビプログラム作或部１２で
作ったステップ内容の一例および．作或したステップ内
容とシーケンス制御命令を用いて作成したレシピオブジ
ェクトプログラムを示す模式図である。Figure 4(a). (b) is an example of the step contents created in Rechibi program creation section 12. FIG. 2 is a schematic diagram showing a recipe object program created using created step contents and sequence control commands.
次に、動作を説明する。Next, the operation will be explained.
まず、マスタＣＰＵ１０においてメインプログラム１１
を起動し、キーボード２１によりレシピプログラム作或
部１２に制御を移す。First, in the master CPU 10, the main program 11
is activated, and control is transferred to the recipe program creation section 12 using the keyboard 21.
レシビプログラム作戒部１２で、第４図（ａ）に示すよ
うに、各ステップ毎にステップ番号〔ＳＴＥＰ＝ｘｘ）
，ステップ時間（Ｔ Ｉ ＭＥ＝時：分：秒〕．バルブ
開番号（ＶＡＬＶＥ ： ｘｘ，ｘ×，・・・・・・〕
，流量設定（ＭＦＣ ： ），圧力設定量（ＡＰＣ＝ｘ
ｘｘ）およびヒータ温度（ＲＦ一ｘ××〕を各ステップ
毎に作戒し、外部メモリ２３に格納する。As shown in FIG. 4(a), the recipe program editing section 12 sets the step number [STEP=xx] for each step.
, step time (TI ME = hours: minutes: seconds).Valve opening number (VALVE: xx, x×,...)
, flow rate setting (MFC: ), pressure setting amount (APC=x
xx) and heater temperature (RF-xxx) are adjusted for each step and stored in the external memory 23.
次に、ある戊長プロセスを実行するために、各ステップ
内容，圧力設定器群のオン・オフ状態（ＡＰＣ ＯＮ
／ＯＦＦ）．ヒータオン・オフ状態（ＲＦ ＯＮ／Ｏ
ＦＦ）およびシーケンス制御命令（ＲＥＰＥＴ／ＵＮＴ
ＩＬ，ＥＮＤ）とを実行順に並べ第４図（ｂ）に示すよ
うなソースプログラムを作成する。Next, in order to execute a certain long process, the content of each step and the on/off status of the pressure setting device group (APC ON
/OFF). Heater on/off status (RF ON/O
FF) and sequence control commands (REPET/UNT
IL, END) are arranged in the order of execution to create a source program as shown in FIG. 4(b).
さらに、作成したレシピソースプログラムを外部メモリ
２３に保存し、メインプログラム１１はコンパイル部１
４を起動する。Furthermore, the created recipe source program is stored in the external memory 23, and the main program 11 is
Start 4.
コンパイル部１４は、レシビプログラムを実行形式のレ
シピオブジェクトプログラムにし、外部メモリ２３に格
納する。The compiler 14 converts the recipe program into an executable recipe object program and stores it in the external memory 23.
次に、メインプログラム１ｌは、オンライン実行部１３
に制御を移す。Next, the main program 1l is executed by the online execution unit 13.
transfer control to
実際のレシピオブジェクトプログラムの実行動作につい
て説明する。The actual execution operation of the recipe object program will be explained.
オンライン実行部１３は、サセブタの導入，取出しと、
レシビの実行を行なう。The online execution unit 13 introduces and takes out the susceptor,
Execute the recipe.
まず、サセブタの導入指令を与えると、第２図（ａ）に
示す双方向メモリ３０の相互通信エリアにサセプタ導入
コマンドを設定し、スレーブＣＰＵ４０のモードプログ
ラム４１を起動し、レシビ実行処理部４２に制御を渡す
。First, when a susceptor installation command is given, the susceptor installation command is set in the mutual communication area of the bidirectional memory 30 shown in FIG. Pass control.
レビシ実行処理部４２は、ロード・ロック部５２を制御
して、反応炉８０ヘサセブタの導入を行なう．
次に、サセプタ導入が完了すると、モードプログラム４
１に制御を移し、双方向メモリ３０の相互通信エリアに
完了フラグをセットし、サセプタ導入動作を完了する。The rebishi execution processing unit 42 controls the load/lock unit 52 to introduce the reactor 80 into the reactor 80. Next, when the susceptor installation is completed, mode program 4
1, sets a completion flag in the mutual communication area of the bidirectional memory 30, and completes the susceptor introduction operation.
さらに、オンライン実行部１３は、レシピを実行するた
めに、外部メモリ２３より指定されたレビシオブジェク
トプログラムを読み出し、双方向メモリ３０のシーケン
ステーブルエリアに、各ステップ内容をステップ内容テ
ーブルに書き込む。Furthermore, in order to execute the recipe, the online execution unit 13 reads the specified recipe object program from the external memory 23 and writes the contents of each step in a step contents table in the sequence table area of the bidirectional memory 30.
次に、レシビ実行コマンドを相互通信エリアにセットし
て、スレーブＣＰＵ４０のモードプログラム４１を起動
し、レシビ実行処理部４２，およびプロセス状態表示部
４３に制御を渡す。Next, a rechibi execution command is set in the mutual communication area, the mode program 41 of the slave CPU 40 is activated, and control is passed to the recibi execution processing section 42 and process status display section 43.
レシビ実行処理部４２は、双方向メモリ３０のシーケン
ステーブルより第２図（ｂ）に示すように、シーケンス
順に、第２図（Ｃ）に示すコマンド内容，ステップ内容
番号，ステップ時間を読み出し、第３図（ａ）に示すコ
マンド内容および第３図（ｂ）に示すようにステップ内
容番号によって決るステップ内容に従って、バルブの開
閉，流量設定器の流量設定．圧力設定器のオン・オフと
圧力設定，ヒータのオン・オフと温度設定を実行する。The rechibi execution processing unit 42 reads out the command content, step content number, and step time shown in FIG. 2(C) in sequence order as shown in FIG. 2(b) from the sequence table in the bidirectional memory 30, and Opening/closing the valve, setting the flow rate of the flow rate setting device according to the command content shown in Figure 3 (a) and the step content determined by the step content number as shown in Figure 3 (b). Turns the pressure setting device on/off and sets the pressure, turns the heater on/off and sets the temperature.
この動作をシーケンステーブルに従って、各ステップ毎
に実行し、一連の成長プロセスを完遂させる。This operation is executed step by step according to the sequence table to complete a series of growth processes.
レシビの実行が終了すると、モードプログラム４１に移
り、レシピ完了のフラグを相互通信エリアにセットし、
完了をオンライン実行部１３に報せる。When the execution of the recipe is completed, the mode program 41 is entered and a recipe completion flag is set in the mutual communication area.
The completion is reported to the online execution unit 13.
さらに、このレシビ実行中に、プロセス状態制御部４３
は、バルブの開閉状態．ガスの流量を計測し、コンソー
ル５１にプロセス状態を表示するとともに、双方向メモ
リ３０のプロセス状態テーブルにもプロセス状態を書き
込み、メインＣＰＵＩＯでプロセスの状態が監視できる
ようにする。Furthermore, during the execution of this reshu, the process state control unit 43
is the open/closed state of the valve. The gas flow rate is measured, the process status is displayed on the console 51, and the process status is also written in the process status table of the bidirectional memory 30, so that the process status can be monitored by the main CPUIO.
次に、オンライン実行部１３は、サセプタの取出し動作
に移る。Next, the online execution unit 13 moves on to the susceptor extraction operation.
サセプタの導入の動作と同じように、取出しコマンドを
双方向メモリ３０の相互通信エリアにセットし、スレー
ブＣＰＵ４０のモードプログラム４１を呼び出し、レシ
ビ実行処理部４２に制御を渡す。In the same way as the susceptor introduction operation, a fetch command is set in the mutual communication area of the bidirectional memory 30, the mode program 41 of the slave CPU 40 is called, and control is passed to the recipe execution processing section 42.
レシビ実行処理部４２は、ロード・ロック部５２を制御
して、反応炉８０からサセブタを取出す。The recipe execution processing section 42 controls the load/lock section 52 to take out the susceptor from the reactor 80 .
これにより、スレーブＣＰＵ４０がレシビ実行中でも、
メインＣＰＵＩＯはオンライン実行部１３でプロセスの
状態を監視するだけでよく、実際のレシビ実行動作には
直接的に関係しないので、レシピプログラム作成部１２
を起動し、レシビプログラムの作戒を並行して実行する
ことが容易にでき、レシピソースプログラムを実行形式
のレシピオブジェクトプログラムに変換しているので、
レシビ実行処理部４２の処理速度が増大する。As a result, even when the slave CPU 40 is executing the rechibition,
The main CPUIO only needs to monitor the process status in the online execution unit 13, and is not directly related to the actual recipe execution operation, so the main CPUIO is not directly related to the recipe program creation unit 12.
It is easy to start the Recipe program and run the recipes in parallel, and the recipe source program is converted to an executable recipe object program.
The processing speed of the recipe execution processing unit 42 increases.
本発明の気相成長装置の制御方式は、マスクＣＰＵでレ
シビプログラムを作成後、レシピソースプログラムを実
行形式に変換して、実行用レシピオブジェクトプログラ
ムを作威し、双方向メモリを介してスレーブＣＰＵに送
り、スレーブＣＰＵ側で実行用オブジェクトプログラム
を読み出し、マスタＣＰＵと独立してレシピを実行でき
るため、レシピソースプログラムの作戒と実行が同時に
できる上、プログラムの作戒および実行が効率よく行な
えるという効果がある．The control method for the vapor phase growth apparatus of the present invention is to create a recipe program in a mask CPU, convert the recipe source program into an executable format, create a recipe object program for execution, and send it to the slave CPU via a bidirectional memory. The slave CPU can read the object program for execution and execute the recipe independently of the master CPU, so the recipe source program can be edited and executed at the same time, and the program can be edited and executed efficiently. There is an effect.
第１図は本発明の一実施例を示すブロック図、第２図（
ａ）〜（ｃ）は第１図に示す双方向メモリの内容を示す
模式図、第３図（ａ）．（ｂ）は第２図（ｃ）に示すコ
マンド内容とステップ内容の詳細を示す模式図、第４図
（ａ），（ｂ）はレシピプログラム作或部１２で作った
ステップ内容の一例および，作或したステップ内容とシ
ーケンス制御命令を用いて作戒したレシピオブジェクト
プログラムを示す模式図である。
１０・・・・・・マスタＣＰＵＪ１１・・・・・・メイ
ンプログラム、１２・・・・・・レシピプログラム作成
部、１３・・・・・・オンライン実行部、１４・・・・
・・コンパイル部、２１・・・・・・キーボード、２２
・・・・・・ＣＲＴ、２３・・・・・・外部メモリ、３
０・・・・・・双方向メモリ、４０・・・・・・スレー
ブＣＰＵ、４１・・・・・・モードプログラム、４２・
・・・・・レシビ実行処理部、５１・・・・・・コンソ
ール、５２・・・・・・ロード・ロック、６０・・・・
・・ガスミキサ、７０・・・・・・ヒータ、８０・・・
・・・反応炉。FIG. 1 is a block diagram showing one embodiment of the present invention, and FIG. 2 (
a) to (c) are schematic diagrams showing the contents of the bidirectional memory shown in FIG. 1, and FIG. 3(a). (b) is a schematic diagram showing the details of the command contents and step contents shown in FIG. FIG. 2 is a schematic diagram showing a recipe object program created using created step contents and sequence control commands. 10...Master CPUJ11...Main program, 12...Recipe program creation section, 13...Online execution section, 14...
... Compile section, 21 ... Keyboard, 22
...CRT, 23...External memory, 3
0...Two-way memory, 40...Slave CPU, 41...Mode program, 42...
... Rechibi execution processing unit, 51 ... Console, 52 ... Load lock, 60 ...
...Gas mixer, 70... Heater, 80...
...Reactor.
Claims (1)
の実行時間と、前記各ステップにおける複数のガスの流
れを制御し反応炉に導く管路網上に設けたバルブ群の開
閉状態および流量設定器群の流量値と、前記反応炉内に
流出入する複数のガスの圧力を制御する圧力設定器群の
圧力設定値と、前記反応炉内の温度を制御するヒータの
温度値とを各プテップのプロセス制御情報として第１の
コンピュータ部に登録する手段、（Ｂ）前記各ステップ
のプロセス制御情報と前記圧力設定器群のオン・オフ状
態と、前記ヒータのオン・オフ状態と、各プテップの流
れを制御するシーケンス制御情報とをレシピソースプロ
グラムとして実行順に並べる手段、 （Ｃ）前記レシピソースプログラムを実行形式に変換し
、レシピオブジェクトプログラムを生成する手段、 （Ｄ）前記レシピオブジェクトプログラムを第１のコン
ピュータ部および第２のコンピュータ部に接続された双
方向メモリに格納する手段、 （Ｅ）前記第２のコンピュータ部が前記双方向メモリに
格納されたレシピオブジェクトプログラムを読み出して
気相成長に係わるプロセスを実行する手段、 とを含むことを特徴とする気相成長装置の制御方式。[Claims] (A) Execution time of each step constituting a process related to vapor phase growth, and a group of valves provided on a pipe network that controls the flow of a plurality of gases in each step and leads them to a reactor. the opening/closing state of the reactor and the flow rate value of the flow rate setter group, the pressure set value of the pressure setter group that controls the pressure of a plurality of gases flowing in and out of the reactor, and the heater that controls the temperature in the reactor. (B) means for registering the temperature value in the first computer section as process control information of each step; (B) process control information of each step, the on/off state of the pressure setting device group, and the on/off state of the heater; means for arranging the state and sequence control information for controlling the flow of each step in the order of execution as a recipe source program; (C) means for converting the recipe source program into an execution format and generating a recipe object program; means for storing a recipe object program in a bidirectional memory connected to a first computer section and a second computer section; (E) said second computer section reading the recipe object program stored in said bidirectional memory; A control method for a vapor phase growth apparatus, comprising: means for executing a process related to vapor phase growth.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18945689A JPH0356678A (en) | 1989-07-21 | 1989-07-21 | Control system for vapor growth device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18945689A JPH0356678A (en) | 1989-07-21 | 1989-07-21 | Control system for vapor growth device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0356678A true JPH0356678A (en) | 1991-03-12 |
Family
ID=16241565
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18945689A Pending JPH0356678A (en) | 1989-07-21 | 1989-07-21 | Control system for vapor growth device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0356678A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6855368B1 (en) * | 2000-06-28 | 2005-02-15 | Applied Materials, Inc. | Method and system for controlling the presence of fluorine in refractory metal layers |
| JP2007243119A (en) * | 2006-03-13 | 2007-09-20 | Hitachi Kokusai Electric Inc | Substrate processing apparatus |
-
1989
- 1989-07-21 JP JP18945689A patent/JPH0356678A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6855368B1 (en) * | 2000-06-28 | 2005-02-15 | Applied Materials, Inc. | Method and system for controlling the presence of fluorine in refractory metal layers |
| JP2007243119A (en) * | 2006-03-13 | 2007-09-20 | Hitachi Kokusai Electric Inc | Substrate processing apparatus |
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