JPH0346250A - ウエハ搬送装置 - Google Patents
ウエハ搬送装置Info
- Publication number
- JPH0346250A JPH0346250A JP1180541A JP18054189A JPH0346250A JP H0346250 A JPH0346250 A JP H0346250A JP 1180541 A JP1180541 A JP 1180541A JP 18054189 A JP18054189 A JP 18054189A JP H0346250 A JPH0346250 A JP H0346250A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- nitrogen gas
- transfer device
- dusts
- static electricity
- Prior art date
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- Pending
Links
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 23
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
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- 230000005611 electricity Effects 0.000 abstract description 8
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- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 30
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Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体製造におけるウェハ搬送装置に関するも
のである。
のである。
〔従来の技術j
ベルヌーイ効果を用いたウェハ非接触式搬送装置は、第
2図に示すように、配管2を通って窒素ガスを搬送装置
に吹込み、細孔吹き出し口3よりウェハ4との間に吹き
出すことにより、搬送装置とウェハとの間に生じるベル
ヌーイ効果によって、ウェハ4を搬送装置lから0.2
m m程度の一宝の套5 tilt +、′7北培真
中で(♀ち、ウェハ4z欄横オろ装置である。
2図に示すように、配管2を通って窒素ガスを搬送装置
に吹込み、細孔吹き出し口3よりウェハ4との間に吹き
出すことにより、搬送装置とウェハとの間に生じるベル
ヌーイ効果によって、ウェハ4を搬送装置lから0.2
m m程度の一宝の套5 tilt +、′7北培真
中で(♀ち、ウェハ4z欄横オろ装置である。
この搬送装置工ではベルヌーイ効果により発生する圧力
降下現象のため、窒素ガス中に含まれる水分がウェハ4
面上に結露し易い。従来これを防ぐため、窒素ガス中に
含まれる水分が0.5ppm以下である高純度乾燥窒素
ガスを用いていた。
降下現象のため、窒素ガス中に含まれる水分がウェハ4
面上に結露し易い。従来これを防ぐため、窒素ガス中に
含まれる水分が0.5ppm以下である高純度乾燥窒素
ガスを用いていた。
また、窒素ガスをウェハに直接吹きつけるので、窒素ガ
ス中に含まれる微小な塵がウェハに付着し易く、これを
防ぐため、第3図に示すように、従来高純度窒素ガス源
からウェハ搬送装置へ接続される窒素ガス配管2の途中
にフィルタ12を設けていた。
ス中に含まれる微小な塵がウェハに付着し易く、これを
防ぐため、第3図に示すように、従来高純度窒素ガス源
からウェハ搬送装置へ接続される窒素ガス配管2の途中
にフィルタ12を設けていた。
このような搬送装置では、高純度窒素ガスは乾燥してい
るため、ウェハ4が搬送中に静電気を帯びてしまい、窒
素ガス中に含まれた塵や、雰囲気中のほこりを吸着し、
ウェハ4を汚染してしまうといった問題があった。
るため、ウェハ4が搬送中に静電気を帯びてしまい、窒
素ガス中に含まれた塵や、雰囲気中のほこりを吸着し、
ウェハ4を汚染してしまうといった問題があった。
〔発明が解決しようとする課題]
本発明は以上の従来の問題を解決し、ウェハが庫やL子
、’rl*l1lB葺1かシ\上う171、 ウェハノ
ア1;: tthを防止しようとするものである。この
ようなウェハの汚染は、静電気によるものであるから、
静電気を除去放電させることが肝要となる。
、’rl*l1lB葺1かシ\上う171、 ウェハノ
ア1;: tthを防止しようとするものである。この
ようなウェハの汚染は、静電気によるものであるから、
静電気を除去放電させることが肝要となる。
本発明は上記課題を解決するために創案されたものであ
って、搬送装置に送る窒素ガスの配管の途中に、窒素ガ
スをイオン化する装置を介装したことを特徴とする。イ
オン化装置としては放射性アイソトープを用いた装置、
コロナ放電装置、X線を用いた装置などを用いることが
できる。
って、搬送装置に送る窒素ガスの配管の途中に、窒素ガ
スをイオン化する装置を介装したことを特徴とする。イ
オン化装置としては放射性アイソトープを用いた装置、
コロナ放電装置、X線を用いた装置などを用いることが
できる。
〔作用1
高純度ガス源からウェハ搬送装置へ結合された窒素ガス
配管の途中に、ガスイオン化装置を介装することにより
、搬送装置からウェハヘイオン化された窒素ガスが吹き
つけられ、ウェハに蓄えられた静電気を除去することが
できる。
配管の途中に、ガスイオン化装置を介装することにより
、搬送装置からウェハヘイオン化された窒素ガスが吹き
つけられ、ウェハに蓄えられた静電気を除去することが
できる。
これによりウェハに静電気力で付着していた塵やほこり
がイオン化された窒素ガスにて吹き飛ばされる。また、
ウェハが静電気を帯びなくなるので、新たに塵が付着す
ることもなくなる。
がイオン化された窒素ガスにて吹き飛ばされる。また、
ウェハが静電気を帯びなくなるので、新たに塵が付着す
ることもなくなる。
[実施例]
第1図にウェハ搬送装置1の窒素ガス導入配管2にイオ
ン化装置11を設置した実施例を示す。
ン化装置11を設置した実施例を示す。
このウェハ搬送装置およびイオン化装置の仕様は次の通
りである。
りである。
ウェハ搬送装置の大きさ:150mmφ中ウェハ用
窒素つス導入量:500cc/min
イオン化装置:
型式:コロナ放電装置
イオン化率=30%
上記実施例のウェハ搬送装置を用いて150mmφのウ
ェハ4を搬送し、そのウェハ4上に付着した塵の数をレ
ーザーパーティクルカウンタで計測した。実施例の計測
結果を、イオン化装置を作動させない時の比較例と共に
、第1表に示した。第1表に示す通り塵の数は大きく減
少していた。
ェハ4を搬送し、そのウェハ4上に付着した塵の数をレ
ーザーパーティクルカウンタで計測した。実施例の計測
結果を、イオン化装置を作動させない時の比較例と共に
、第1表に示した。第1表に示す通り塵の数は大きく減
少していた。
〔発明の効果1
本発明によりベルヌーイ効果を用いたウェハ搬送装置に
てウェハに付着する塵の数を著しく減少させることが可
能となった。
てウェハに付着する塵の数を著しく減少させることが可
能となった。
第1図は本発明の実施例のフローシート、第2図はベル
ヌーイ効果を用いたウェハ搬送装置の一部断面側面図、
第3図は従来のフローシートである。 l・・・ウェハ搬送装置 2・・・ガス導入配管3・
・・吹き出し口 4・・・ウェハ11・・・イオ
ン化装置 12・・・フィルタ出 願 人 代 理 人 川崎製鉄株式会社 男
ヌーイ効果を用いたウェハ搬送装置の一部断面側面図、
第3図は従来のフローシートである。 l・・・ウェハ搬送装置 2・・・ガス導入配管3・
・・吹き出し口 4・・・ウェハ11・・・イオ
ン化装置 12・・・フィルタ出 願 人 代 理 人 川崎製鉄株式会社 男
Claims (1)
- 1流動窒素ガスによるベルヌーイ効果を用いたウェハ非
接触式搬送装置において、窒素ガス導入配管途中に窒素
ガスイオン化装置を介装したことを特徴とするウェハ搬
送装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1180541A JPH0346250A (ja) | 1989-07-14 | 1989-07-14 | ウエハ搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1180541A JPH0346250A (ja) | 1989-07-14 | 1989-07-14 | ウエハ搬送装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0346250A true JPH0346250A (ja) | 1991-02-27 |
Family
ID=16085077
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1180541A Pending JPH0346250A (ja) | 1989-07-14 | 1989-07-14 | ウエハ搬送装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0346250A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005051260A (ja) * | 2000-06-09 | 2005-02-24 | Harmotec Corp | 非接触搬送装置 |
KR100630360B1 (ko) * | 2001-02-20 | 2006-09-29 | 가부시키가이샤 하모테크 | 비접촉 반송장치 |
US7360322B2 (en) | 2001-02-20 | 2008-04-22 | Harmotec Co., Ltd. | Non-contacting conveyance equipment |
JP2010098178A (ja) * | 2008-10-17 | 2010-04-30 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 配線基板の非接触搬送装置及び方法、樹脂製配線基板の製造方法 |
JP2012131003A (ja) * | 2010-12-23 | 2012-07-12 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 配線基板の非接触搬送装置、配線基板の製造方法 |
-
1989
- 1989-07-14 JP JP1180541A patent/JPH0346250A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005051260A (ja) * | 2000-06-09 | 2005-02-24 | Harmotec Corp | 非接触搬送装置 |
JP4669252B2 (ja) * | 2000-06-09 | 2011-04-13 | 株式会社ハーモテック | 旋回流形成体および非接触搬送装置 |
KR100630360B1 (ko) * | 2001-02-20 | 2006-09-29 | 가부시키가이샤 하모테크 | 비접촉 반송장치 |
US7360322B2 (en) | 2001-02-20 | 2008-04-22 | Harmotec Co., Ltd. | Non-contacting conveyance equipment |
JP2010098178A (ja) * | 2008-10-17 | 2010-04-30 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 配線基板の非接触搬送装置及び方法、樹脂製配線基板の製造方法 |
JP4629763B2 (ja) * | 2008-10-17 | 2011-02-09 | 日本特殊陶業株式会社 | 配線基板の非接触搬送装置及び方法、樹脂製配線基板の製造方法 |
JP2012131003A (ja) * | 2010-12-23 | 2012-07-12 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 配線基板の非接触搬送装置、配線基板の製造方法 |
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