JPH0343473A - Polyurethane-based insulating coating compound - Google Patents
Polyurethane-based insulating coating compoundInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、半田付は性等に優れたポリウレタン系絶縁
塗料に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a polyurethane-based insulating paint that has excellent soldering properties.
〔従来の技術］
従来から、ポリウレタン系絶縁塗料は、これを用いて形
成される皮膜が電気的特性に優れ、しかも皮膜を剥離さ
せることなく半田付けすることが可能であるという優れ
た特性を有している。したがって、例えば電子関連機器
の周辺用コイル等の塗装に広く使用されている。このよ
うなポリウレタン系絶縁塗料は、通常、ブロック化イソ
シアネート樹脂とポリオール樹脂を主成分とする二成分
系液状塗料である。上記ブロック化イソシアネート樹脂
は、ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）にグ
リセリン、ヘキサントリオール、トリメチロールプロパ
ン等のトリオールを付加させ遊離イソシアネート基をフ
ェノール類でブロックして得られるものであり、低分子
量物質が多く含有されている。[Prior Art] Polyurethane-based insulating paints have traditionally had excellent properties in that the films formed using them have excellent electrical properties and can be soldered without peeling the film. are doing. Therefore, it is widely used, for example, for coating peripheral coils of electronic equipment. Such polyurethane-based insulating paints are usually two-component liquid paints containing blocked isocyanate resins and polyol resins as main components. The above-mentioned blocked isocyanate resin is obtained by adding a triol such as glycerin, hexanetriol, or trimethylolpropane to diphenylmethane diisocyanate (MDI) and blocking free isocyanate groups with phenols, and contains a large amount of low molecular weight substances. ing.
［発明が解決しようとする問題点］
ところで、近年、ポリウレタン系絶縁塗料を用いたワイ
ヤーエナメル製線の需要が伸びている。[Problems to be Solved by the Invention] In recent years, demand for wire enamel wires using polyurethane-based insulating paints has been increasing.
そこで、その生産性を高めるために、ワイヤーエナメル
線材表面に上記ポリウレタン系絶縁塗料を塗布し、熱風
により硬化乾燥を行う製法が普及している。しかしなが
ら、上記ポリウレタン系絶縁塗料は、先に述べたように
低分子量物質を多量に含有しており、この低分子量物質
に起因するスタックロスと考えられる全面耐電特性の劣
化という問題を有している。Therefore, in order to increase the productivity, a manufacturing method in which the above-mentioned polyurethane-based insulating paint is applied to the surface of the enameled wire material and cured and dried with hot air has become popular. However, as mentioned above, the polyurethane-based insulating paint contains a large amount of low-molecular-weight substances, and has the problem of deterioration of the overall electrical resistance property, which is thought to be due to stack loss caused by this low-molecular-weight substance. .
この発明は、このような事情に鑑みなされたもので、全
面耐電特性が劣化せず、しかも半田付は性に優れたポリ
ウレタン系絶縁塗料の提供をその目的とする。The present invention was made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a polyurethane-based insulating paint that does not deteriorate its electrical resistance over the entire surface and has excellent solderability.
上記の目的を達成するため、この発明のポリウレタン系
絶縁塗料は、ブロック化イソシアネート樹脂（Ａ）とポ
リオール樹脂（Ｂ）を主成分とするポリウレタン系絶縁
塗料であって、上記成分のブロック化イソシアネート樹
脂がオキシアルキレンビスフェノールＡエーテルとジイ
ソシアネートとの反応によって得られるウレタンポリマ
ーから構成され、上記Ｂ成分のポリオール樹脂がオキシ
アルキレンビスフェノールＡエーテルまたはポリオール
から槽底されているという構成をとる。In order to achieve the above object, the polyurethane-based insulating paint of the present invention is a polyurethane-based insulating paint whose main components are a blocked isocyanate resin (A) and a polyol resin (B). is composed of a urethane polymer obtained by the reaction of oxyalkylene bisphenol A ether and diisocyanate, and the polyol resin of component B is made of oxyalkylene bisphenol A ether or polyol.
すなわち、本発明者らは、半田付は性に優れるポリウレ
タン系絶縁塗料であって、しかもスタックロスによる全
面耐電特性の影響の少ないものを得るために一連の研究
を行った。その結果、ポリウレタン系絶＆！塗料の主成
分である従来のブロック化イソシアネート樹脂の代わり
にオキシアルキレンビスフェノールＡエーテルとジイソ
シアネートとの反応によって得られるウレタンポリマー
から槽底される特定のブロック化イソシアネート樹脂を
用い、これとオキシアルキレンビスフェノールＡエーテ
ルまたはポリオールからなるポリオール樹脂とを混合す
ると、所期の目的が達成されることを見いだしこの発明
に到達した。That is, the present inventors conducted a series of studies in order to obtain a polyurethane-based insulating paint that has excellent solderability and is less affected by stack loss on the overall dielectric properties. As a result, polyurethane-based &! Instead of the conventional blocked isocyanate resin, which is the main component of the paint, a specific blocked isocyanate resin made from a urethane polymer obtained by the reaction of oxyalkylene bisphenol A ether and diisocyanate is used, and this and oxyalkylene bisphenol A are used. The inventors have discovered that the desired objective can be achieved by mixing with a polyol resin consisting of an ether or a polyol, and have thus arrived at the present invention.
この発明のポリウレタン系絶縁塗料は、特定のブロック
化イソシアネート樹脂（Ａｔｃ分）とポリオール樹脂（
Ｂ成分）とを用いて得られる。The polyurethane-based insulating paint of this invention consists of a specific blocked isocyanate resin (Atc content) and a polyol resin (
component B).
上記Ａ成分の特定のブロック化イソシアネート樹脂は、
ジイソシアネートとオキシアルキレンビスフェノールＡ
エーテルとを反応させることにより得られるウレタンポ
リマーから槽底されている。The specific blocked isocyanate resin of component A is:
Diisocyanate and oxyalkylene bisphenol A
The tank bottom is made of urethane polymer obtained by reacting with ether.
上記ジイソシアネートとしては、トルイレンジイソシア
ネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメ
チレンジイソシアネー十、キシリレンジイソシアネート
、ジフェニルスルホンジイソシアネート、ナフタレンジ
イソシアネート、ジフェニルエーテルジイソシアネート
、エチレンジイソシアネート、１．４−テトラメチレン
ジイソシアネート、１．６−へキサメチレンジイソシア
ネート、シクロブテン−１，３−ジイソシアネート、シ
クロヘキサン−１，３−ジイソシアネート、イソフオロ
ンジイソシアネート等、１分子中に少なくとも２個以上
のイソシアネート基を有するイソシアネートモノマーが
あげられる。The above diisocyanates include toluylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, diphenylsulfone diisocyanate, naphthalene diisocyanate, diphenyl ether diisocyanate, ethylene diisocyanate, 1,4-tetramethylene diisocyanate, 1,6-hexane diisocyanate, Examples include isocyanate monomers having at least two or more isocyanate groups in one molecule, such as methylene diisocyanate, cyclobutene-1,3-diisocyanate, cyclohexane-1,3-diisocyanate, and isophorone diisocyanate.
上記オキシアルキレンビスフェノールＡエーテルとして
は、例えば下記の式で表される二価アルコールのアルキ
レンビスフェノールＡエーテルジオール（以下ｒＡＢＥ
ＤＪと略す）等があげられる。The above-mentioned oxyalkylene bisphenol A ether is, for example, an alkylene bisphenol A ether diol (hereinafter referred to as rABE) of a dihydric alcohol represented by the following formula.
(abbreviated as DJ), etc.
Ｈ３
Ｈ−（ＯＲ＋−０＋ Ｃ＋ ０づＲい”７ｒＨ藝
Ｌ
上記ＡＢＥＤは、例えばビスフェノールＡにプロピオン
オキサイドもしくはエチレンオキサイドをアルカリ触媒
下で開環反応させることにより合成することができ、市
販品としては、東邦化学社製のビゾール、四日市合或社
製のニーノックスＢＥ等があげられる。そして、上記Ａ
ＢＥＤのなかでも、特に好適なものとして、ＯＨ価１５
０〜４００、分子！３５０〜２０００のものが用いられ
る。H3 H-(OR+-0+ C+ 0zuR'7rH藝L) The above ABED can be synthesized, for example, by subjecting bisphenol A to a ring-opening reaction with propion oxide or ethylene oxide under an alkali catalyst, and is available as a commercially available product. , Bisol manufactured by Toho Chemical Co., Ltd., and Nynox BE manufactured by Yokkaichi Gosei Co., Ltd.
Among BEDs, one with an OH value of 15 is particularly suitable.
0-400, molecules! 350 to 2000 is used.
上記Ａ成分の特定のブロック化イソシアネート樹脂は、
例えばつぎのようにして作製することができる。すなわ
ち、温度６０〜８０°Ｃでオキシアルキレンビスフェノ
ールＡエーテルをジイソシアネートに滴下しながら付加
反応せしめ、つぎにフェノール類とのブロック化反応を
８０〜１５０ ’Ｃ下で行うことにより作製することが
できる。また、上記反応過程において、必要に応じて、
ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）等
の溶剤を使用することもできる。上記ＤＭＤＧ等の溶剤
は、絶縁塗料の希釈溶剤としての役割も兼ね備えている
。The specific blocked isocyanate resin of component A is:
For example, it can be produced as follows. That is, it can be produced by adding oxyalkylene bisphenol A ether to diisocyanate while dropping it at a temperature of 60 to 80°C, and then performing a blocking reaction with a phenol at a temperature of 80 to 150°C. In addition, in the above reaction process, if necessary,
Solvents such as diethylene glycol dimethyl ether (DMDG) can also be used. The above-mentioned solvent such as DMDG also serves as a diluting solvent for the insulating paint.
上記製法において、オキシアルキレンビスフェノールＡ
エーテルとジイソシアネートの配合割合としては、オキ
シアルキレンビスフェノールＡエーテルの水酸基１当量
当たりジイソシアネート１モルを基準として０．５〜１
．４の割合で配合するのが好適で、−ＮＧＯ基が多いほ
どイソシアネートモノマーブロック体が多く生成される
ことから、特に好適なのは０．９〜１．１である。In the above manufacturing method, oxyalkylene bisphenol A
The blending ratio of ether and diisocyanate is 0.5 to 1 mole of diisocyanate per equivalent of hydroxyl group of oxyalkylene bisphenol A ether.
．． A ratio of 0.4 to 4 is suitable, and a ratio of 0.9 to 1.1 is particularly preferred since the more -NGO groups there are, the more isocyanate monomer blocks are produced.
また、上記特定のブロック化イソシアネート樹脂の合成
において、イソシアネートモノマーブロック体成分が生
成されるが、このイソシアネートモノマーブロック体は
上記特定のブロック化イソシアネート樹脂の溶剤を除い
た樹脂成分に対して５〜５０重量％（以下ｒ％」と略す
）の範囲に設定するのが好適である。すなわち、イソシ
アネートモノマーブロック体が５０％を超えるとスタッ
クロスが著しく上昇し、例えば皮膜形成の際に熱風循環
方式焼付炉を用いると、形成皮膜の全面耐圧Ｂ Ｄ Ｖ
（Ｂｒｅａｋ Ｄｏｗｎ Ｖｏｌｔａｇｅ）が低下す
るからである。In addition, in the synthesis of the above-mentioned specific blocked isocyanate resin, an isocyanate monomer block component is produced, and this isocyanate monomer block component has a content of 5 to 50% relative to the resin component of the above-mentioned specific blocked isocyanate resin excluding the solvent. It is preferable to set it within a range of % by weight (hereinafter abbreviated as "r%"). In other words, if the isocyanate monomer block exceeds 50%, the stack loss will significantly increase.For example, if a hot air circulation baking furnace is used to form the film, the entire surface pressure resistance of the formed film will decrease.
This is because (Break Down Voltage) decreases.
なお、上記イソシアネートモノマーブロック体の生成量
はＡ成分のブロック化イソシアネート樹脂を戒時の反応
条件、温度１反応順序により若干の変動が生じると考え
られる。It is considered that the amount of the isocyanate monomer block produced varies slightly depending on the reaction conditions, temperature, and reaction order in which the blocked isocyanate resin of component A is prepared.
このように、上記Ａ成分の特定のブロック化イソシアネ
ート樹脂中には、−ＮＧＯ基が遊離しているため二次反
応としてフェノール類で−ＮＣ○基をブロック化する。As described above, since the -NGO group is free in the specific blocked isocyanate resin of the above-mentioned component A, the -NC○ group is blocked with a phenol as a secondary reaction.
上記Ａ成分とともに用いられるＢ成分のポリオール樹脂
は、オキシアルキレンビスフェノールＡエーテルまたは
ポリオールから構成されているものであり、水酸基２０
０〜４５０のものを用いるのが好ましい。The polyol resin of component B used together with component A is composed of oxyalkylene bisphenol A ether or polyol, and has 20 hydroxyl groups.
It is preferable to use one having a value of 0 to 450.
上記オキシアルキレンビスフェノールＡエーテルとして
は、前記Ａ成分の特定のブロック化イソシアネート樹脂
の合成に用いられるものと同様のものが用いられる。As the above-mentioned oxyalkylene bisphenol A ether, those similar to those used in the synthesis of the specific blocked isocyanate resin of the above-mentioned A component are used.
上記ポリオールとしては、特に限定するものではな〈従
来公知のものがあげられ、例えば、グリセリン、トリメ
チロールプロパン等の多価アルコールと多塩基酸との縮
合反応により得られる。そして、市販品として、日本ポ
リウレタン社製のニラポラン２００６．デスモフエン６
００および８００、Ｆｅ１２等があげられる。The above-mentioned polyol is not particularly limited, and includes conventionally known polyols, such as those obtained by a condensation reaction of a polyhydric alcohol such as glycerin or trimethylolpropane with a polybasic acid. As a commercially available product, Niraporan 2006 manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd. Desmofen 6
Examples include 00 and 800, Fe12, etc.
上記多価アルコールとしては、上記グリセリントリメチ
ロールプロパン以外に、エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグ
リコール、１６−ヘキサンジオール、１．４−ブタンジ
オール、１． ３＝ブタンジオール等があげられる。In addition to the glycerin trimethylolpropane, examples of the polyhydric alcohol include ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, 16-hexanediol, 1,4-butanediol, 1. 3=butanediol, etc. are mentioned.
なお、上記Ａ成分のブロック化イソシアネート樹脂に含
まれる低分子量物であるイソシアネートモノマーブロッ
ク体を少なくするには、上記多価アルコールのなかでも
上記ＡＢＥＤのような二価アルコールを用いることが好
適である。三価以上のアルコールを用いると、１分子中
の官能基が多くなって高分子物質が形成されやすく、そ
の結果、上記イソシアネートモノマーブロック体が生成
され好ましくない。したがうて、上記ＡＢＥＤの代わり
に、例えば他のグリコール、１．３−ブタンジオール、
１，４−ブタンジオール、１，５ベンタンジオール、プ
ロピレングリコール、エチレングリコール、１．４−シ
クロヘキサンジメタツール等のジオール類を用いても目
的とする効果は得られる。しかし、二価アルコールのな
かでも、エチレングリコール、１．４−シクロヘキサン
ジメタツールは溶解性が悪く塗料化することができない
。また、上記以外の他のジオールを用いると熱軟化温度
が低くなり緒特性のバランスがとれないことから上記Ａ
ＢＥＤおよび上記ジオール頚を用いるのが好ましい。In addition, in order to reduce the isocyanate monomer block which is a low molecular weight substance contained in the blocked isocyanate resin of the above-mentioned A component, it is suitable to use a dihydric alcohol such as the above-mentioned ABED among the above-mentioned polyhydric alcohols. . If a trihydric or higher alcohol is used, the number of functional groups in one molecule increases and a polymeric substance is likely to be formed.As a result, the isocyanate monomer block is produced, which is not preferable. Therefore, instead of the above ABED, other glycols, 1,3-butanediol,
The desired effect can also be obtained by using diols such as 1,4-butanediol, 1,5bentanediol, propylene glycol, ethylene glycol, and 1,4-cyclohexanedimetatool. However, among dihydric alcohols, ethylene glycol and 1,4-cyclohexane dimetatool have poor solubility and cannot be made into a paint. In addition, if other diols than those mentioned above are used, the heat softening temperature will be low and the properties will not be balanced.
Preferably, BED and the diol neck described above are used.
上記多塩基酸としては、無水フタル酸、イソフタル酸、
テレフタル酸、アジピン酸、無水トリメリット部、無水
ピロメリット酸、イミド酸およびこれらのエステル類等
があげられる。Examples of the polybasic acids include phthalic anhydride, isophthalic acid,
Examples include terephthalic acid, adipic acid, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, imide acid, and esters thereof.
上記多価アルコール（Ｃ）と多塩基酸（Ｄ）の配合割合
は、重量基準でＣ：Ｄ＝１．６：１〜３：１の範囲に設
定するのが好ましい。The blending ratio of the polyhydric alcohol (C) and the polybasic acid (D) is preferably set in the range of C:D=1.6:1 to 3:1 on a weight basis.
また、この発明のポリウレタン系絶縁塗料には、上記化
合物以外に硬化促進剤を配合する。上記硬化促進剤とし
ては、フェノール類、グリコールエーテル類、ナフサ類
等があげられ、これらを配合することにより得られる塗
料中の固形分含有量を３５〜５０％の範囲にすることが
できる。上記硬化促進剤の配合量としては、前記特定の
ブロック化イソシアネート樹脂およびポリオール樹脂の
合計量に対して０．０１〜１０％の範囲に設定すること
が好ましい。In addition to the above compounds, a curing accelerator is added to the polyurethane insulating coating of the present invention. Examples of the curing accelerator include phenols, glycol ethers, naphthas, and the like, and by blending these, the solid content in the resulting paint can be adjusted to a range of 35 to 50%. The blending amount of the curing accelerator is preferably set in the range of 0.01 to 10% based on the total amount of the specific blocked isocyanate resin and polyol resin.
さらに、この発明のポリウレタン系絶縁塗料には、必要
に応じて各種の添加剤を配合することができる。例えば
、ポリビニルホルマール類、ポリアミド類、エポキシ樹
脂類等を樹脂分の０．０５〜１０％の割合で配合するこ
とができる。また、塗膜の乾燥性を向上させるために、
ナフテン酸およびオクテン酸の金属塩（Ｐｂ、Ｚｎ、Ｍ
ｇ、ＭｎＣｏ、Ｓｎ等）を金属量換算で０．００１〜５
％の範囲で配合することできる。さらに、各種の染料や
顔料を添加することにより任意の色に着色することがで
きる。Furthermore, various additives can be added to the polyurethane-based insulating paint of the present invention, if necessary. For example, polyvinyl formals, polyamides, epoxy resins, etc. can be blended at a ratio of 0.05 to 10% of the resin content. In addition, to improve the drying properties of the paint film,
Metal salts of naphthenic and octenoic acids (Pb, Zn, M
g, MnCo, Sn, etc.) in terms of metal amount from 0.001 to 5.
It can be blended within a range of %. Furthermore, it can be colored in any desired color by adding various dyes and pigments.
この発明のポリウレタン系絶縁塗料は、上記原料を用い
て例えばつぎのようにして得られる。すわなち、前記製
法にしたがって作製されたＡｒＩｊ、分の特定のブロッ
ク化イソシアネート樹脂とＢ成分のポリオール樹脂およ
び硬化促進剤、さらに必要に応じて上記各種の添加剤を
配合し混合して所定の温度で有機溶媒に溶解することに
より得られる。The polyurethane-based insulating paint of the present invention can be obtained using the above-mentioned raw materials, for example, in the following manner. That is, the specific blocked isocyanate resin produced according to the above-mentioned method, the polyol resin and curing accelerator as component B, and the various additives mentioned above are mixed as necessary to form a predetermined product. Obtained by dissolving in organic solvent at temperature.
上記有機溶剤としては、キシレン、ナフサ、クレゾール
、フェノール等が用いられる。As the organic solvent, xylene, naphtha, cresol, phenol, etc. are used.
上記特定のブロック化イソシアネート樹脂とポリオール
樹脂との配合割合は、ポリオール樹脂の水酸基ｌ当量に
対して特定のブロック化イソシアネート樹脂の−ＮＧＯ
基が０．９〜１．１当量になるように配合するのが好適
である。特に好適なのは０．８〜１．３当量である。す
なわち、ブロック化イソシアネート樹脂の−ＮＧＯ基が
００ｇ当量未満であれば得られる絶縁塗料の半田付は性
が劣化し、逆に１．１当量を超えると塗膜の耐摩耗性が
低下するからである。The blending ratio of the above specific blocked isocyanate resin and polyol resin is -NGO of the specific blocked isocyanate resin with respect to 1 equivalent of hydroxyl group of the polyol resin.
It is preferable to mix the groups in an amount of 0.9 to 1.1 equivalents. Particularly preferred is 0.8 to 1.3 equivalents. In other words, if the amount of -NGO groups in the blocked isocyanate resin is less than 00 g equivalent, the solderability of the resulting insulating paint will deteriorate, and if it exceeds 1.1 equivalent, the abrasion resistance of the coating will decrease. be.
このようなポリウレタン系絶縁塗料は、特定のブロック
化イソシアネート樹脂（Ａ取分）とポリオール樹脂（Ｂ
成分）からなり、上記Ａ成分の特定のブロック化イソシ
アネート樹脂がオキシアルキレンビスフェノールＡエー
テルとジイソシアネートとの反応により得られるウレタ
ンポリマーにより構成され、上記Ｂ成分のポリオール樹
脂がオキシアルキレンビスフェノールＡエーテルまたは
ポリオールから構成されたものであるため、低分子量モ
ノマーブロック体が低減されている。したがって、得ら
れる皮膜は優れた半田付は性を維持しつつスタックロス
が抑制され、全面耐圧のグリセリンＢＤＶが向上して均
一な皮膜となる。Such polyurethane-based insulating paints are made of a specific blocked isocyanate resin (A fraction) and a polyol resin (B
component), the specific blocked isocyanate resin of the A component is composed of a urethane polymer obtained by the reaction of an oxyalkylene bisphenol A ether and a diisocyanate, and the polyol resin of the B component is composed of an oxyalkylene bisphenol A ether or a polyol. Because of this structure, the amount of low molecular weight monomer blocks is reduced. Therefore, the resulting film maintains excellent solderability, suppresses stack loss, and improves the glycerin BDV of the entire surface withstand voltage, resulting in a uniform film.
以上のように、この発明のポリウレタン系絶縁塗料は、
上記特殊な構成成分を用いて得られるため、低分子量物
の含有量が低減されており、半田付は性に優れ、かつ熱
風乾燥時にスタックロスによる全面耐電特性の低下が抑
制され、均一な皮膜となる。また、塗料自体が低粘度で
高濃度化した状態で使用することができ、塗工上有利で
ある。As described above, the polyurethane insulating paint of the present invention is
Because it is obtained using the above-mentioned special components, the content of low molecular weight substances is reduced, and it has excellent solderability, suppresses deterioration of electrical resistance properties due to stack loss during hot air drying, and forms a uniform film. becomes. Furthermore, the paint itself can be used in a state of low viscosity and high concentration, which is advantageous for coating.
つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。Next, examples will be described together with comparative examples.
まず、実施例に先立ってブロック化イソシアネート樹脂
Ａ−Ｄを作製した。First, prior to Examples, blocked isocyanate resins A to D were prepared.
（ブロック化イソシアネート樹脂Ａ）
撹拌機、窒素導入管、コンデンサー、滴下ロートおよび
温度計付き５００ｃｃフラスコに、ＭＤ１１２５ｇ、Ｄ
ＭＤＧ７３ｇを溶解させ３０″Ｃまで加温した。つぎに
、窒素ガスを吹き込みながらビスオール２Ｐ（東邦化学
社製）８８ｇをＤＭＤ０４４ｇに溶解させ１０秒／ｇで
滴下させた。滴下を１５分で終了させて温度を１００″
Ｃまで昇温させ３０分間反応させた。そして、これにキ
シレノール酸６１ｇを５０″Ｃに加温したものを１０秒
／ｇで滴下し、反応温度１４０°Ｃまで昇温した。得ら
れたものをＩＲ（赤外線吸収スペクトル分析機）により
ＮＣＯ吸収がなくなるまで反応させることによりブロッ
ク化イソシアネート樹脂Ａを製造した。(Blocked isocyanate resin A) MD1125g, D
73 g of MDG was dissolved and heated to 30''C. Next, 88 g of Bisol 2P (manufactured by Toho Chemical Co., Ltd.) was dissolved in 044 g of DMD and added dropwise at a rate of 10 seconds/g while blowing nitrogen gas. The dropping was completed in 15 minutes. and set the temperature to 100"
The temperature was raised to C and allowed to react for 30 minutes. Then, 61 g of xylenolic acid heated to 50"C was added dropwise to this at a rate of 10 seconds/g, and the temperature was raised to a reaction temperature of 140°C. The obtained product was analyzed by IR (infrared absorption spectrum analyzer) to Blocked isocyanate resin A was produced by reacting until absorption disappeared.
（ブロック化イソシアネート樹脂Ｂ）
ビスオール２Ｐをビスオール４ＰＨに代え、配合割合を
後記の第１表に示す割合に変えた。それ以外は上記ブロ
ック化イソシアネート樹脂Ａの場合と同様にしてブロッ
ク化イソシアネート樹脂Ｂを製造した。(Blocked Isocyanate Resin B) Bisol 2P was replaced with Bisol 4PH, and the blending ratio was changed to the ratio shown in Table 1 below. Blocked isocyanate resin B was produced in the same manner as in the case of blocked isocyanate resin A except for the above.
（ブロック化イソシアネート樹脂Ｃ〉
ビスオール２ＰをビスオールＢＥ２に代え、配合割合を
後記の第１表に示す割合に変えた。それ以外は上記ブロ
ック化イソシアネート樹脂Ａの場合と同様にしてブロッ
ク化イソシアネート樹脂Ｃを製造した。(Blocked Isocyanate Resin C) Bisol 2P was replaced with Bisol BE2, and the blending ratio was changed to the ratio shown in Table 1 below.Other than that, Blocked Isocyanate Resin C was prepared in the same manner as in the case of Blocked Isocyanate Resin A. was manufactured.
（ブロック化イソシアネート樹脂Ｄ）
ビスオール２ＰをビスオールＢＥ６に化工、配合割合を
後記の第１表に示す割合に変えた。それ以外は上記ブロ
ック化イソシアネート樹脂Ａの場合と同様にしてブロッ
ク化イソシアネート樹脂りを製造した。(Blocked Isocyanate Resin D) Bisol 2P was modified to Bisol BE6, and the blending ratio was changed to the ratio shown in Table 1 below. A blocked isocyanate resin was produced in the same manner as in the case of the blocked isocyanate resin A except for the above.
このようにして得られたブロック化イソシアネート樹脂
の樹脂分の含有割合、ＭＤＩモノマーブロック体を下記
の第１表に示した。なお、上記ＭＤＩモノマーブロック
体は、ゲルパーミェーションクロマトグラフィー（Ｃ，
ＰＣ）（東洋ソーダ社製、検出機Ｒカラム１０００〜４
０００：４本）を用い検量線により算出した。The resin content and MDI monomer blocks of the blocked isocyanate resin thus obtained are shown in Table 1 below. The above MDI monomer block was subjected to gel permeation chromatography (C,
PC) (manufactured by Toyo Soda Co., Ltd., detector R column 1000-4
000: 4) using a calibration curve.
（以下余白）
〔実施例１〜４、比較例〕
上記のようにして得られたブロック化イソシアネート樹
脂（７０％溶液）に、ポリオール、キシレン、２−メル
カプトメチルベンズイミダゾール（ＭＭＢ）、オクテン
酸亜鉛を下記の第２表に示す割合で６０°Ｃ，２時間溶
解混合することにより目的とするポリウレタン系絶縁塗
料を得た。(Left below) [Examples 1 to 4, Comparative Example] Polyol, xylene, 2-mercaptomethylbenzimidazole (MMB), and zinc octenoate were added to the blocked isocyanate resin (70% solution) obtained as described above. The desired polyurethane-based insulating paint was obtained by melting and mixing at 60° C. for 2 hours at the ratio shown in Table 2 below.
（以下余白）
＊１：ニラポラン２００６． 日本ポリウレタン社製を
用いた。(Left below) *1: Niraporan 2006. A product manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd. was used.
＄２：１７０°Ｃ，２時間の条件下の理論値に対する実
測値の％。$2: % of actual value to theoretical value under conditions of 170°C and 2 hours.
侍りれるＪ。Samurai Rireru J.
上記表の結果から、実施例語はいずれもスタックロスの
値が高く、また低分子量物質であるＭＤ■モノマーブロ
ック体の含有量が比較測高に比べて約半分以下である。From the results in the above table, all of the examples have a high stack loss value, and the content of the MD monomer block, which is a low molecular weight substance, is about half or less than that of the comparative measurements.
このことから、実施例語はスタックロスによる全面耐電
特性に優れていることがわかる。From this, it can be seen that the examples have excellent overall electric strength characteristics due to stack loss.
Claims (1)
樹脂（Ｂ）を主成分とするポリウレタン系絶縁塗料であ
つて、上記（Ａ）成分のブロツク化イソシアネート樹脂
がオキシアルキレンビスフエノールＡエーテルとジイソ
シアネートとの反応によつて得られるウレタンポリマー
から構成され、上記（Ｂ）成分のポリオール樹脂がオキ
シアルキレンビスフエノールＡエーテルまたはポリオー
ルから構成されていることを特徴とするポリウレタン系
絶縁塗料。 （２）ポリウレタン系絶縁塗料に含まれるイソシアネー
トモノマーブロツク体の含有量が５〜５０重量％である
請求項（１）記載のポリウレタン系絶縁塗料。[Scope of Claims] 1) A polyurethane insulating paint containing a blocked isocyanate resin (A) and a polyol resin (B) as main components, wherein the blocked isocyanate resin as the component (A) is oxyalkylene bisphenol A. A polyurethane-based insulating paint comprising a urethane polymer obtained by the reaction of an ether and a diisocyanate, wherein the polyol resin as the component (B) is comprised of an oxyalkylene bisphenol A ether or a polyol. (2) The polyurethane insulating paint according to claim 1, wherein the content of isocyanate monomer blocks contained in the polyurethane insulating paint is 5 to 50% by weight.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17938089A JPH0343473A (en) | 1989-07-12 | 1989-07-12 | Polyurethane-based insulating coating compound |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17938089A JPH0343473A (en) | 1989-07-12 | 1989-07-12 | Polyurethane-based insulating coating compound |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0343473A true JPH0343473A (en) | 1991-02-25 |
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ID=16064847
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|---|---|---|---|
| JP17938089A Pending JPH0343473A (en) | 1989-07-12 | 1989-07-12 | Polyurethane-based insulating coating compound |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0343473A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6664345B2 (en) | 1998-10-27 | 2003-12-16 | Nippon Paint Co., Ltd. | Oxazolidone ring-containing epoxy resin |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS58179276A (en) * | 1982-04-15 | 1983-10-20 | Dainippon Ink & Chem Inc | Insulating paint composition |
| JPS6389520A (en) * | 1986-10-01 | 1988-04-20 | Hitachi Chem Co Ltd | Polyurethane resin composition |
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1989
- 1989-07-12 JP JP17938089A patent/JPH0343473A/en active Pending
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