JPH0335790B2 - - Google Patents

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JPH0335790B2
JPH0335790B2 JP60238703A JP23870385A JPH0335790B2 JP H0335790 B2 JPH0335790 B2 JP H0335790B2 JP 60238703 A JP60238703 A JP 60238703A JP 23870385 A JP23870385 A JP 23870385A JP H0335790 B2 JPH0335790 B2 JP H0335790B2
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JP
Japan
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magnetic flux
plate
heat
treated
induction heating
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Watayasu Hagisawa
Hiroshi Ikeda
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Nippon Light Metal Co Ltd
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Nippon Light Metal Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B6/00Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
    • H05B6/02Induction heating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C21METALLURGY OF IRON
    • C21DMODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D9/00Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
    • C21D9/52Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for wires; for strips ; for rods of unlimited length
    • C21D9/54Furnaces for treating strips or wire
    • C21D9/56Continuous furnaces for strip or wire
    • C21D9/60Continuous furnaces for strip or wire with induction heating
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B6/00Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
    • H05B6/02Induction heating
    • H05B6/10Induction heating apparatus, other than furnaces, for specific applications
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P10/00Technologies related to metal processing
    • Y02P10/25Process efficiency

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  • Heat Treatment Of Strip Materials And Filament Materials (AREA)
  • Coating With Molten Metal (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、横磁束型電磁誘導加熱装置に係り、
とくに金属板材の電磁誘導加熱に好適な横磁束型
電磁誘導加熱装置に関する。
〔従来の技術〕
金属板材等のストリツプ材料に対する熱処理方
法には種々のものがある。この内、加熱効率及び
加熱雰囲気制御性が優れていること等から電磁誘
導加熱が近年試みられている。
この一例を第6図ないし第9図に示す。これら
の図に示した電磁誘導加熱装置に係る具体例とし
ては、例えば特公昭58−40840号公報記載のもの
が知られている。
これを更に詳述すると、第6図ないし第8図に
おいて、符号2は被熱処理板を示す。この被熱処
理板2は所定幅を有する細長い板状のものであつ
て、ローラー機構4,4及び該ローラー機構4,
4に作用する図示しない回転駆動部によつて矢印
Aの方向に送り出されるようになつている。金属
板材2の第6図における上下には、電磁極部6及
び8が各々所定距離隔て配設され、これによつて
被熱処理板用の通路を形成するよう図示しない支
持機構によつて支持され対向装備されている。
これらの電磁極部6及び8は、例えば各々4基
の電磁極6A,……,6A、及び8A,……,8
Aによつて構成されている。そして、これらの各
電磁極6A,8Aは、第6図に示すように、側面
からみるとほぼ「くし形」で且つ金属板材2の進
行方向に長手方向を有する平面長方形状の鉄心と
してのコア部10及び12に誘導加熱コイル14
及び16が各々図示の如く各別に巻装されて構成
されている。
このため、誘導加熱コイル14及び16に交番
電流を流すと、ある瞬時値における磁束Φは第6
図ないし第7図中の点線の如く被熱処理板2に直
交するように発生し、これによつて被熱処理板2
に渦電流Jが例えば第8図の如く発生する。この
ため被熱処理板2はジユール熱によつて発熱し加
熱される。
ここで、符号18,18は、昇温した被熱処理
板2からの輻射熱を遮断するためのヒートシール
ド材を示す。また、各電磁極6A,8Aの内部に
は、昇温防止のための冷却管(図示せず)が装備
されている。
このように構成することによつて、具体的に
は、例えば、0.25〜2.0[mm]厚さのアルミニウム
コイル材を5〜200[m/分]の板スピードで60〜
400[Hz]の交番磁界を作用させることによつて連
続加熱処理を行い得るようになつている。
ところで、前述した被熱処理板2に発生する渦
電流Jの密度の分布及びこれによつて加熱された
被熱処理板2の温度の分布は、交番磁界の周波
数、被熱処理板2の幅と電磁極の幅との相対差、
対向装備された電磁極間の間隔、目標加熱温度、
又は被熱処理板2の厚さ等種々の要因によつて複
雑に変化することが一般に知られている。
特に、上述の要因の内、例えば被熱処理板2の
長手方向に直交する方向の幅(以下、単に「板
幅」という)と電磁極の長手方向に直交する方向
の幅(以下、単に「電磁極幅」という)との相対
差に起因して、被熱処理板2の両側の端部(以
下、単に「板端」という)に局所的に渦電流Jの
高密度部分(第8図の斜線B部分参照)が発生
し、温度分布が例えば第9図1(板中心に対して
左右対称となるので、片側のみを示した。以下同
じ)に示す如く不均一になることがある。このよ
うな板端での温度の高低温のギヤツプは加熱処理
上種々の不具合を招来せしめるため、例えば板幅
方向の結晶組織の不均一による歩留り低下等に対
する対応策を講じなければならないという必要性
が生じていた。
このような観点から、上述の従来例では、電磁
極6A,……,6A及び8A,……,8Aの各々
に、磁束密度調整部材(一般に、FluxModifier
といわれる。以下、単に「FM部材」という)2
0,……,20が配設されている。
この各FM部材20は、図示しないFM部材移
動枠体中に各電磁極6A,8Aに対応した所定間
隔をもつて配設され、更に当該FM部材移動枠体
中の駆動装置(図示せず)によつて当該各電磁極
6A,8Aの対向磁極側の両端に常に接するよう
配設されている。しかも、各FM部材20は、板
幅に対応して電磁極からの突出距離差l(第7図
参照)を微調整し得るよう構成されている。これ
によつて、板端における磁束分布を板幅に応じて
調整し、これに起因した温度の高低差を極力減じ
ることができるようになつている。
一方、上述した板端における温度分布の不均一
を改善しようとする別の提案としては、特開昭53
−1339号、同53−1614号、或いは同60−92428号
公報記載のものが知られている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、前述した各従来例の内、第6図
ないし第8図に示したFM部材20,……,20
の調整による手法にあつては、当該各FM部材2
0の突出距離l(第7図参照)を最適値に調整し
た場合でも、その管理限界を±10℃以下に設定し
て操業することは極めて困難であり、品質管理上
不充分である等の状況があつた。しかも、この場
合において、突出距離lを最適値以上に大きくし
てしまい各FM部材20を板端へ近接し過ぎる
と、その温度分布は第9図2に示す如く板端にお
ける温度が著しく高くなり、場合によつては板端
が溶解状態になるという不都合もあつた。
一方、前述した各公報(特開昭53−1339号、同
53−1614号、同60−92428号)記載のものにあつ
ては、いづれも装備が大掛かりとなり整備投資が
激増するという不都合があつた。
〔発明の目的〕 本発明は、かかる従来例の有する不都合を勘案
し、とくに板端における温度分布の不均一を極力
簡単な手法によつて解消し、全体として精度の良
い電磁誘導加熱を行うことのできる電磁誘導加熱
装置を提供することを、その目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
そこで、本発明では、被熱処理板の移動通路を
介して装備され当該移動通路の方向に直交し且該
移動通路に沿つて被熱処理板の内側に配設された
複数組の誘導加熱コイルと、この誘導加熱コイル
に装備された鉄心部分から被熱処理板に平行に且
該被熱処理板の板幅方向に沿つて外部に突設され
た磁束密度調整部材とを備えた横磁束型電磁誘導
加熱装置において、移動通路を通過する被熱処理
板の両端部近傍に、当該被熱処理板を透過する板
端近傍の交番磁束の一部を被熱処理板から分離し
て迂回せしめる磁束迂回手段を装備している。そ
して、この磁束迂回手段を、交番磁束の磁力線の
方向にほぼ平行に積層された積層磁性部材により
形成するという構成を採用している。これによつ
て前述した目的を達成しようとするものである。
〔作 用〕
被熱処理板は、移動通路を通過しつつこれと直
角に上下にわたつて配設された複数組の電磁極に
より交番磁界の作用を受ける。これによつて電磁
誘導加熱に付され熱処理される。
この際、主磁束は被熱処理板内をそのまま直交
して通過する。被熱処理板の板端における板端磁
束の一部は、当該被熱処理板に近接して配設され
た磁束迂回手段によつて、当該被熱処理板の板端
を透過せずに迂回し当該磁束迂回手段を磁路とし
て伝搬する。これによつて、従来、被熱処理板の
板端において発生していた高密度の磁束分布に起
因した異常な高温域が排除され、被熱処理板全体
として均一化された温度分布が得られる。
また、板端磁束エネルギが消費されずに迂回さ
れて機能するようになつていることから、電源エ
ネルギを節約し省エネルギ化も図り得る。
〔第1実施例〕 以下、本発明の第1実施例を第1図ないし第3
図に基づいて説明する。ここで、前述の第6図な
いし第8図に示した従来例と同一の構成部材につ
いては同一の符号を用いる。
まず、第1図ないし第2図において、符号2は
前述の従来例と同一に構成された電磁極部6およ
び8の間の通路を通過する被熱処理板を示し、ま
た符号20,……,20は前述と同様のFM部材
を示す。
被熱処理板2の両側の所定位置には、板端に近
接する形で磁束迂回手段としての磁束迂回部材3
0,……,30が、図示しない支持機構によつて
配設されている。このため、被熱処理板2を介し
て装備された板端部分の各一対の電磁極部分から
生じる板端磁束が磁束迂回部材30,……を介し
て消費することなく一方から他方へ通過するよう
になつている。
この磁束迂回部材30,……,30は、磁性部
材により製作されている。本実施例では強磁性体
であるケイ素鋼板を略Cの字状の溝形に打ち抜
き、積層して各々所定長さLS(第1図参照)に形
成されたものが使用されている。この磁束迂回部
材30の積層は、第1図に示す如く磁束の迂回方
向に沿つて板面が平行となるように、また板面相
互間が絶縁された状態で設定されている。ここ
で、長さLsは、各電磁極6A,8Aの長手方向に
直交する方向(以下、側面方向という)の幅と同
一に形成されている。また厚さL0(第2図参照)
は加熱条件に合わせて適宜の値(例えば5〜40
[mm])のものが選択される。
そして、各磁束迂回部材30は、側面方向から
みた場合には各電磁極6A,8Aの中間に、且つ
平面からみた場合には各FM部材20から所定距
離l1だけ離れた位置(第2図参照)に設けられ、
しかも通過する被熱処理板2を両側から一部挟む
ようにして配設されている。更に、上記離間距離
l1は板幅に応じて調節可能な構成になつている。
具体的には、各磁束迂回部材30の支持機構を駆
動せしめる駆動手段(例えばネジ切り桿の回転を
利用した手段;図示せず)によつて行われるよう
になつている。
ここで、各磁束迂回部材30を支持する支持機
構(図示せず)は、適当な手段によつて構成され
るが、例えば、適宜の絶縁材を介して並設される
各個の磁束迂回部材30を一本の固定桿に固定
し、当該固定桿を更に装置全体の基柱部に対して
固定的又は可動的に装着させるという構造のもの
としてもよい。又、各磁束迂回部材30をウオー
ムギア機構に連接し、各個独立して被熱処理板2
の板幅方向に沿つて往復可動可能に配設すること
としてもよい。
その他の構成は、前述の従来例と同一になつて
いる。
次に、本第1実施例の全体的な作用について説
明する。
まず、各電磁極6A,8Aの誘導加熱コイル1
4,16に交番電流を流し、各々にN極又はS極
の各磁極を瞬時的に形成せしめ、電磁極相互間の
通路を通過する被熱処理板2に直交する磁束Φ
(第2図参照)を発生せしめる。この磁束Φは隣
接する電磁極同士ではお互いに逆向きに発生する
よう予め設定されている。このため、通過する被
熱処理板2には、渦電流が誘導されジユール熱に
よつて被熱処理板2が発熱し加熱効果が得られ
る。
この場合において、被熱処理板2の上方に配設
されている例えばある電磁極6Aから磁束Φの板
端近傍にある一部(板端磁束)は、両側に近接し
て配設された磁束迂回部材30,30に誘引され
る。この磁束Φの一部(板端磁束)Φ´、Φ´が、当
該磁束迂回部材30,30を経て下方の対向する
電磁極8Aへ迂回(バイパス)することになる
(第2図参照)。そして、この迂回作用は各電磁極
間毎に予め設定された割合をもつてお互いに逆向
きに行われる。
この結果、被熱処理板2に対しては、板端の所
定部分において磁束Φの一部がシールドされ交番
磁束を所定量まで減少せしめることができる。こ
のため、各FM部材20を最適位置に設定した場
合でも、対応不可能な板端での局所的な磁束密度
の高分布域(第8図中の斜線B部分参照)を排除
し、板幅方向の磁束密度全体を中央部の磁束密度
とほぼ同程度に設定することができる。従つて、
前述の従来例のような板端における局所的な高温
部の発生を排除し、精度のよい加熱処理を行うこ
とができることとなる。
また、上述の場合、各磁束迂回部材30は、磁
束Φの一部(板端磁束)を迂回せしめる本来的な
作用のほかに、各FM部材20を経由する磁束を
更に板端側へ誘導するように作用することから、
各FM部材20の作用をも補助的に受け持つこと
になる。このため、両者の位置を板幅に合わせて
適宜設定することによつて、渦電流分布の均一化
が一層促進される。
ここで、本実施例の実験結果を、以下に詳述す
る。第9図2に示されるような温度分布の加熱状
態が得られる位置に各FM部材20を調整した
後、各磁束迂回部材30を被処理材の入口側から
2番目の電磁極に対して左右に一対配設し、被熱
処理板2としては、板幅1520[mm]、厚さ1.5[mm]
のアルミニウム合金板(JISA5052合金)を15
[m/分]のラインスピードで当該装置に通過せ
しめ、これに176[Hz]の交番磁束を作用せしめ、
目標加熱温度を400[℃]とした。また、各磁束迂
回部材30の各寸法をL0=12[mm]、LL=70[mm]、
LW=120[mm](第2図参照)とし、長さLSは各電
磁極幅と同一にし、素材としては0.5[mm]厚さの
方向性ケイ素鋼板を積層して形成した。この場合
の積層状態は、第1図に示す如く磁束の迂回方向
に沿つて板面が平行となるように、また板面相互
間が絶縁された状態にて組込まれている。更に、
板端は各磁束迂回部材30の中央部へ約70[mm]
入り込むように配設した。
このようにして加熱した時の実験結果(温度分
布)を、第3図に示す。即ち、このデータからわ
かるように、本実施例によると、各従来例(第9
図1,2参照)に比較して板端での高温域の解消
はもとより、板幅全体に亘つて優れた均一性を有
する温度分布が得られることが判明した。
また、本実施例における磁束の迂回作用は比較
的簡単な構成によつて達成されているので、装置
全体の小形化が可能となり、実用的なものとなつ
ている。
更に、本実施例では、板端磁束を迂回させて、
板端に余分な高温域を創成しない分だけ、電源エ
ネルギを節約し省エネルギ化を図り得るという利
点がある。
なお、上記第1実施例では、磁束迂回部材3
0,……,30として断面略Cの字状のものにつ
いて開示したが、これは例えば断面半円形状のも
のであつてもよい。また、各磁束迂回部材30の
長さLSは上記実施例のものに限定することなく適
当な寸法、例えば2基以上の電磁極に跨がるよう
形成してもよい。また、配設位置については、電
磁極回路の結線方式又は目標加熱温度等に応じ
て、例えば被熱処理板2の中心に対して千鳥状に
対向的に配設する等の手法を採つてもよい。更
に、予め数種類の異なつたサイズの磁束迂回部材
を準備し、それらを支持機構に着脱自在に装備可
能な構成とし、被熱処理板2のサイズ又は目標加
熱温度等により使い分ける手法を採ることもでき
る。
〔第2実施例〕 次に、本発明の第2実施例を第4図に基づいて
説明する。ここで、前述した第1実施例と同一の
構成部材に対しては同一の符号を用いることとす
る。
第4図において、符号40,……,40は、磁
束迂回手段としての平板状の磁束迂回部材を示
す。この磁束迂回部材40,……,40は、隣接
する電磁極相互間に板端磁束を迂回するものであ
つて、前述の第1実施例の場合と同様に、磁性部
材であるケイ素鋼板を相互に絶縁するとともに磁
束の迂回方向に対して平行となるように積層して
全体的には厚板状に形成され、これを図示の如く
隣接する電磁極相互間に位置し且つ2の上下に亘
り図示しない支持機構(但し、位置調整可能)に
よつて配設されている。
そして、各磁束迂回部材40の長さLSは隣接す
る電磁極相互間に跨がる長さに形成され、また、
板厚L0及び板相互の間隔lKは所定値になつてい
る。更に、各FM部材20と各磁束迂回部材40
との間隔lMは板端磁束を誘導し得る値(lM<lK
に選択されている。
その他の構成は、前述した第1実施例と同一に
なつている。
次に、この本第2実施例の動作について説明す
る。
各電磁極部6及び8を駆動せしめて被熱処理板
2に直交する磁束Φを発生せしめ、前述の第1実
施例と同様に動作させる。この場合において、各
FM部材20に発生する磁束の内、板端磁束が各
磁束迂回部材40を介して隣接する電磁極に迂回
する。この迂回作用は、板端の両側及びその上下
における各磁束迂回部材40において同時に行わ
れる。従つて、板端磁束がシールドされたと同様
に作用することになり、温度分布の均一化を図る
ことができる。
即ち、本実施例においても、その作用効果は前
述の第1実施例と同様のものが得られるほか、各
磁束迂回部材40の構成が容易である等の利点が
得られる。
なお、本第2実施例における各磁束迂回部材4
0の被熱処理板2の長手方向に対する配置例は、
必ずしも上述したものに限定する必要はなく、加
熱温度や周囲の条件等必要に応じて変えてもよ
く、その変形例を下記に述べる。
まず、第5図1に示す如く、4基の電磁極の組
の内、中央部の2基についてのみ磁束迂回部材4
0,……,40を上下に配設してもよい。更に、
同図2に示す如く、互いに千鳥状であつて上下に
配設してもよい。更に、同図3に示すように4基
の電磁極の組全部に跨るよう両側且つ上下に配設
するとしてもよい。
また、上述の第2実施例(第4図)及び変形例
(第5図1,2,3)にあつては、各磁束迂回部
材40の内、上側か下側かのいずれか一方を外す
という構成としてもよい。一方、上述したものを
適宜組合わせて使用してもよい。
前述した各実施例においては、磁束迂回部材と
して第1図に示した如く略Cの字状又は第4図に
示した如く平板状のものについて例示したが、本
発明は必ずしもこれに限定されるものではなく、
例えば負荷電力が小さい場合等にあつては、両者
を組合わせた鍵形状に形成してもよい。
また、これらの磁束迂回部材の上下方向の高さ
又は配設間隔は、FM部材の上下間隔よりも適度
に大きくしてもよい。また、第4図に示した磁束
迂回部材40は、左右のFM部材20,20に対
向するように平板状で且つ垂直方向からみてコの
字状に内側より外側に向けて積層するとしてもよ
い。また、磁束迂回部材自体が昇温するような事
態が発生する場合には、空気等の冷却ガスを当該
磁束迂回部材に吹き付ける冷却機構を装備して機
能の充実を図ることもできる。更に、前述の各実
施例では加熱能力の同じ電磁極の組を4基装備す
る場合について例示したが、これは加熱目標温度
等によつて適当な数(例えば1基ないし10基)の
ものであつても同様に適用し得るとともに、配設
位置(例えば入口、出口と中央部)によつて加熱
能力に差を保有させる構造のものにも適用可能で
ある。更に、被熱処理板の搬送方向が垂直方向又
は水平方向であつても適用可能なものである。
〔発明の効果〕
本発明は以上のように構成され機能するので、
これによると、磁束迂回手段を装備することによ
つて、従来より、板端に生じていた著しく高い電
流密度の分布が排除され、これがため簡単な構成
ながら被熱処理板全体に亘つて加熱温度の均一化
を図ることができ、従つて精度のよい加熱処理を
施すことができ、同時に磁束のエネルギの消費が
少なくなるので装置全体の省エネルギ化を図るこ
とができるという従来にない優れた横磁束型電磁
誘導加熱装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1実施例を示す概略斜視
図、第2図は第1図中の−線に沿つた概略断
面図、第3図は第1実施例の板幅対温度分布の関
係を示す線図、第4図は本発明の第2実施例を示
す概略斜視図、第5図1,2,3は各々第2実施
例の変形例を示す説明図、第6図は従来例を示す
概略側面図、第7図は第6図中の−線に沿つ
た概略断面図、第8図は渦電流密度分布を説明す
るための説明図、第9図1,2は各々従来例にお
ける板幅対温度分布の関係を示す線図である。 2……被熱処理板、6A,8A……電磁極、1
4,16……誘導加熱コイル、20……磁束密度
調整部材、30,40……磁束迂回手段としての
磁束迂回部材。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 被熱処理板の移動通路を介して装備され当該
    移動通路の方向に直交し且該移動通路に沿つて前
    記被熱処理板の内側に配設された複数組の誘導加
    熱コイルと、この誘導加熱コイルに装備された鉄
    心部分から前記被熱処理板に平行に且該被熱処理
    板の板幅方向に沿つて外部に突設された磁束密度
    調整部材とを備えた横磁束型電磁誘導加熱装置に
    おいて、 前記移動通路を通過する被熱処理板の両端部近
    傍に、当該被熱処理板を透過する板端近傍の交番
    磁束の一部を前記被熱処理板から分離して迂回せ
    しめる磁束迂回手段を装備し、 この磁束迂回手段を、前記交番磁束の磁力線の
    方向にほぼ平行に積層された積層磁性部材により
    形成したことを特徴とする横磁束型電磁誘導加熱
    装置。 2 前記磁束迂回手段は、被熱処理板の移動通路
    を介して装備された磁束密度調整部材相互間に磁
    束を迂回せしめるように配設されていることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の横磁束型電
    磁誘導加熱装置。 3 前記磁束迂回手段は、隣接する磁束密度調整
    部材相互間に磁束を迂回せしめるように配設され
    ていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
    載の横磁束型電磁誘導加熱装置。
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