JPH03291396A - Ni―Fe合金によるめっき方法 - Google Patents

Ni―Fe合金によるめっき方法

Info

Publication number
JPH03291396A
JPH03291396A JP9289890A JP9289890A JPH03291396A JP H03291396 A JPH03291396 A JP H03291396A JP 9289890 A JP9289890 A JP 9289890A JP 9289890 A JP9289890 A JP 9289890A JP H03291396 A JPH03291396 A JP H03291396A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
current density
plating
alloy
plated
weight composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9289890A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshihiro Mori
森 好宏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Corp
Original Assignee
Sumitomo Metal Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Industries Ltd filed Critical Sumitomo Metal Industries Ltd
Priority to JP9289890A priority Critical patent/JPH03291396A/ja
Publication of JPH03291396A publication Critical patent/JPH03291396A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Magnetic Heads (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 Ll上旦且里旦■ 本発明はNi−Fe合金によるめっき方法、より詳細に
は磁性膜として機能するNi−Fe合金めつき方法に関
する。
来の ・″とその課 従来、この種のNi−Fe合金めっき方法は1例えば磁
気記録ヘッド等のような対象物上に均一な成分比を有す
るNi−Fe合金めっき膜を形成するために用いられて
いた。
一般に、磁性薄膜として利用されているNi−Fe合金
めっき膜は、その合金組成の違いによって、磁気特性が
大きく左右される。Ni−Fe合金めっき膜の合金組成
を左右する要因としては、めっき方法、めっき浴及びめ
っき条件等が考えられる。例えば、定電流によるめっき
やめっき電流をパルス化して行なうパルスめっき等の電
気めっきにおいて、同じめっき浴を用いても定電流によ
るめっきとパルスめっきとでは、めっき膜の特性が変わ
ることが知られている。そして、このようにNi −F
e合金めっき膜の合金組成を左右する要因の中で、特に
影響が大きいものがめつき電流密度である。
第9図は、Ni −Fe合金によるめっきを施した被め
っき体及びめっき膜の断面を示したものである。図中2
0は電気めっきにより形成されたNi −Fe合金めっ
き膜であり、このNi−Fe合金めっき膜20が施され
た被めっき体21は平坦部A、傾斜部B、平坦部Cとい
う段差のある面を有している。
第10図はめっき電流密度とNi−Fe合金めっき膜中
におけるFeの重量組成との関係を示すFe重量組成−
電流密度曲線である。
この図で示されるように、めっき電流密度を上げると、
Ni−Fe合金めっき膜中のFe重量組成は上昇し、あ
るめっき電流密度1)0でFe重量組成は極大値Fe+
oとなる。
段差のある面を持つ被めっき体21にNi−Fe合金め
っきを施した場合、傾斜部BにおいてNi−Fe合金組
成にずれが生じてしまい、このことが特に微細パターン
を有する素子では磁気特性劣下の大きな原因となる。均
一な磁気特性を有するNi−Fe合金めっきによる磁性
薄膜を得るためには、めっき電流密度の変動を小さくし
て合金組成のばらつきを小さくすればよいことから、従
来は、めっき電流密度の変動に対するFe重量組成の変
動が最も少ない点、すなわち、Fe重量組成の極大値近
傍におけるめっき電流密度(第10図においては1、。
)を選択して電気めっきを行なっていた(特開昭55−
82793号公報)、シかしこの方法では、第9図に示
したような、段差のある面を有した被めっき体21に電
気めっきを行なう場合、傾斜部Bの影響によりめっき電
流密度は第10図及び第1)図に示したように、平坦部
A、Cでは工、。となり、傾斜部BではI ++どなっ
て、傾斜部Bのめっき電流密度が平坦部A、Cのめっき
電流密度に比べ、小さくなる。つまり、平坦部A、Cと
傾斜部Bとのめっき電流密度の差Δ工によって、Fe重
量組成は平坦部A、CではFe+。となり、傾斜部Cで
はFe++となって、前記両者の間でFe重量組成にΔ
Fe、、のずれが生じてしまう。そこで、平坦部A、C
と傾斜部BとのFe重量組成のずれを少なくするために
、第12及び第13図に示したように、平坦部A、Cに
おけるめっき電流密度を、Fe重量組成の極大値を与え
る電流密度(第10図中I+a)より大きな電流密度I
 rsとし、傾斜部Bにおけるめっき電流密度を、△工
だけずれた、Fe重量組成の極大値を与える電流密度よ
り小さな値I +4として電気めっきを行なう方法が提
案されている(特開平1−180994号公報)。
日が ′しようとする課 上記した従来のNi−Fe合金によるめっき方法では、
第12図に示したように、平坦部A、Cと傾斜部Bにお
いて、めっき電流密度は、略同程度のFe+4を得るこ
とが可能であるけれども、平坦部AあるいはCから傾斜
部Bへの遷移領域において第12図に示した電流密度の
ビークFe、、が表れ、傾斜部BのFe重量組成に、局
部的ではあるがΔFe+sのずれを生じ、いずれにして
も平坦部A、Cと傾斜部Bとの間でFe重量組成のずれ
は免れ得ないという課題があった。
本発明は上記した課題に鑑みなされたものであって、段
差のある面を有した被めっき体に対して、平坦部と傾斜
部とにおけるNi−Fe合金の微視的な組成変動のない
、均一なNi−Fe合金めっき膜を形成するためのNi
−Fe合金のめっき方法を提供することを目的としてい
る。
課 を解ゞ るための 1″7 上記した目的を達成するために本発明に係るNi −F
e合金のめっき方法は、段差のある面を有した被めっき
体において、平坦部における電流密度を、Fe重量組成
−電流密度曲線におけるFe重量組成の極大値を与える
電流密度と、該電流密度よりも大きな電流密度との間で
連続的に変化させながらめっきを行なうことを特徴とし
ている。
■ 第3図は、第9図に示すような段差のある面を有した被
めっき体に、電気めっきによりNi−Fe合金めっき膜
を形成する場合のFe重量組成−電流密度曲線を示して
いる。
図中■4はFe重量組成が極大値となるめっき電流密度
であり、このめっき電流密度■4を用いて平坦部A、C
の電気めっきを行なった場合、第4図に示すようにNi
−Fe合金めっき膜中におけるFe重量組成は、傾斜部
Bの方がFesとなり平坦部A、Cの方のFe4 と比
較して小さくなる。
一方、めっき電流密度を前記■4よりも、平坦部A、C
と傾斜部Bの電流密度の差、61以上大きな+6として
電気めっきを行なうと、第5図に示すようにNi−Fe
合金めっき膜中におけるFe重量組成は、傾斜部Bの方
がFeeとなり、平坦部A、Cの方のFesと比較して
大きくなる。すなわち、平坦部A、Cのめっき電流密度
をFe重量組成の極大値を与える電流密度I4に設定し
た時と該電流密度よりも大きな電流密度I6に設定した
時とでは、Ni−Fe合金めっき膜中におけるFe重量
組成が平坦部A、Cと傾斜部Bとで逆転する。
従って、平坦部A、Cのめっき電流密度を14から1.
まで連続的に変化させてめっきを行うことにより、めっ
き電流密度の変化毎に平坦部A、Cと傾斜部BとでNi
−Fe合金めっき膜中におけるFe重量組成の変化が起
こり、めっき膜全体としてはNi−Fe合金めっき膜中
におけるNi−Fe合金組成に差がなくなり、その均質
化が図られる6!鳳」 第2図は本実施例に係るNi−Fe合金のめつき方法で
用いられるめっき装置を模式的に示した構成図である。
図中1)はめっき浴10中に載置された段差のある面を
有した被めっき体で、この被めっき体1)は、電源15
の陰極側と接続されている。また、めっき浴10中には
被めっき体1)と対向して、電源15の陽極側と接続さ
れた電極13が設けられており、各電極1).13は、
電流密度を連続的に変化させるための関数発生器14を
介して、電源15と接続されている。
以下、本発明の実施例に係るめっき方法を図面に基づい
て説明する。
第9図に示したような、段差のある面を有した被めっき
体21にめっきを施す方法において。
Ni−Fe合金めっき膜20中におけるNi−Fe合金
組成の差をなくし、その均質化を図るために、電流密度
を連続的に変化させる。
すなわち、第3図において、平坦部A、Cの連続的に変
化させる電流密度の範囲ΔI°を、前記電流密度の差Δ
工よりも大きくとり、Fe重量組成の極大値となる電流
密度■4と電流密度I6との間で電流密度を変化させて
めっきを行なう。このように、Fe重量組成の極大値と
なる電流密度I4と、この工、より平坦部A、Cと傾斜
部Bとの電流密度の差である△Iよりも大きな電流密度
16との間を連続的に変化するように設定すると、めっ
き膜20中のFe重量組成は平坦部A、C及び傾斜部B
の両者ともFe<とFeeとの間で連続的に変化し、す
なわち、第4図及び第5図に示した状態の間を連続的に
変化し、合金めっきM2Oの平坦部A、Cと傾斜部Bの
組成変化の大きさが等しくなり、形成されためっき膜2
0全体の合金組成は均一となる。
この際、第6図〜第8図に示したように、連続的に変化
させる電流密度は、直線的な三角波、正弦波あるいは台
形波で変化させても変わらない効果を得ることができる
。さらに、連続的に変化させる電流の周波数を、数m5
ec〜数10 secの範囲で変化させても変わらない
効果を得ることができる。特に段差が100μm以下の
場合は本方法による均一化の効果は大きい。
また、第1図に示したように、Δ■=Δ■° となるよ
うに設定してめっきを行なうと、第4図及び第5図にお
けるFe4とFesとが等しくなり、また、Fe3とF
e6とが等しくなり、より一層その組成が均一化された
めっき膜20を得ることができる。
光渥坏と伽里 以上の説明により明らかなように、本発明に係るNi−
Fe合金によるめっき方法にあっては、段差のある面を
有した被めっき体にめっきを施す場合、平坦部における
電流密度を、Fe重量組成−電流密度曲線におけるFe
重量組成の極大値を与える電流密度と、該電流密度より
も大きな電流密度との間で連続的に変化させながらめっ
きを行なうことにより、平坦部と傾斜部との合金組成が
均一となり、磁気特性の均一なNi−Fe合金めっき膜
を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係るNi −Fe合金めっき方法にお
いて連続的に変化させる電流密度を平坦部と傾斜部との
電流密度の差に等しく設定した時のFe重量組成−電流
密度曲線、第2図は本発明の実施例に係るめっき方法を
実施する際に用いるめっき装置を示す概略構成図、第3
図は平坦部の電流密度なFe重量組成の極大値となる電
流密度と極大値より大きな電流密度との間で変化させて
めっきを施す様子を説明するFe重量組成−電流密度曲
線、第4図は平坦部の電流密度をFe重量組成の極大値
が得られる電流密度に設定してめっき膜を形成したとき
の被めっき体及びめっき膜の断面図、第5図は平坦部の
電流密度なFe重量組成の極大値が得られる電流密度よ
り大きな電流密度に設定してめっき膜を形成したときの
被めっき体及びめっき膜の断面図、第6図〜第8図は連
続的に変化させる電流密度−時間曲線、第9図はNi−
Fe合金めっきを施した段差のある面を有する被めっき
体及びめっき膜の断面図、第10図は平坦部におけるめ
っき電流密度をFe重量組成の極大値に設定してめっき
を施す場合を示すFe重量組成−電流密度曲線、第1)
図は第10図に示した条件でめっき膜を施したときの被
めっき体及びめっき膜の断面図、第12図は平坦部にお
けるめっき電流密度をFe重量組成の極大値より大きな
電流密度に設定してめっきを施す場合を示すFe重量組
成−電流密度曲線。 第13図は第12図に示した条件でめっき膜を施したと
きの被めっき体及びめっき膜の断面図である。 20・・・めっき膜 21・・・被めっき体 特 許 出 願 人 :住友金属工業株式会社代  理
  人 :弁理士 井内龍ニ 第1図 第2図 第6図 第8図 第9図 第7図 斡 ↓N +#贋中/Fet量知り吹゛(0ム) 第10図 第12図 (mA/Crrl’ J 第1,1 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)段差のある面を有した被めっき体にNi−Fe合
    金によるめっきを行なうめっき方法において、平坦部に
    おける電流密度を、Fe重量組成−電流密度曲線におけ
    るFe重量組成の極大値を与える電流密度と、該電流密
    度よりも大きな電流密度との間で連続的に変化させなが
    らめっきを行なうことを特徴とするNi−Fe合金によ
    るめっき方法。
JP9289890A 1990-04-06 1990-04-06 Ni―Fe合金によるめっき方法 Pending JPH03291396A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9289890A JPH03291396A (ja) 1990-04-06 1990-04-06 Ni―Fe合金によるめっき方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9289890A JPH03291396A (ja) 1990-04-06 1990-04-06 Ni―Fe合金によるめっき方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH03291396A true JPH03291396A (ja) 1991-12-20

Family

ID=14067286

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9289890A Pending JPH03291396A (ja) 1990-04-06 1990-04-06 Ni―Fe合金によるめっき方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH03291396A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7986296B2 (en) 2004-05-24 2011-07-26 Au Optronics Corporation Liquid crystal display and its driving method
CN102995083A (zh) * 2012-12-07 2013-03-27 北京大学 一种采用电镀来制备软磁材料铁镍合金阵列的方法
CN103537877A (zh) * 2013-10-31 2014-01-29 江苏三科安全科技有限公司 阻隔防爆铝合金的金属电附着工艺

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7986296B2 (en) 2004-05-24 2011-07-26 Au Optronics Corporation Liquid crystal display and its driving method
CN102995083A (zh) * 2012-12-07 2013-03-27 北京大学 一种采用电镀来制备软磁材料铁镍合金阵列的方法
CN103537877A (zh) * 2013-10-31 2014-01-29 江苏三科安全科技有限公司 阻隔防爆铝合金的金属电附着工艺
WO2015062163A1 (zh) * 2013-10-31 2015-05-07 丁佐军 阻隔防爆铝合金的金属电附着工艺

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5744019A (en) Method for electroplating metal films including use a cathode ring insulator ring and thief ring
US6090260A (en) Electroplating method
US7933096B2 (en) Layered return poles for magnetic write heads
US2515192A (en) Method of electroplating
JP2006249450A (ja) メッキ方法およびメッキ装置
JPH03291396A (ja) Ni―Fe合金によるめっき方法
US6751071B2 (en) Thin film magnetic head comprising magnetoresistive element having shield layer formed by plating and method of manufacturing the thin film magnetic head
Liu et al. High moment FeCoNi alloy thin films fabricated by pulsed-current electrodeposition
US20080197021A1 (en) Method to make superior soft (low Hk), high moment magnetic film and its application in writer heads
US1920964A (en) Electrodeposition of alloys
JPH11100693A (ja) Ni−Fe合金電気めっき方法およびこの方法を用いた Ni−Fe合金めっき膜
JP3416620B2 (ja) 電解銅箔製造装置及び電解銅箔製造方法
JPH01180994A (ja) ニッケル−鉄合金めっき方法
US3887440A (en) Method of manufacturing a continuous magnetic foil by electrodeposition
JPS55152200A (en) Electroplating
JP2002056507A (ja) 薄膜磁気ヘッドの製造方法、薄膜磁気ヘッド及び磁気ディスク装置
JPH02101189A (ja) 精密電気めっき方法及びその装置
JPH0319314B2 (ja)
JPS5871391A (ja) 溶接用鋼ワイヤの硫酸銅浴電気めつき方法
Solov'eva Investigation of Chromium Electrodeposition on Titanium. Initial Stages of Electrocrystallization
Walker Effect of Ultrasound on Nickel Electrodeposits
KR930009993B1 (ko) 도금방법
CA1044645A (en) Apparatus for continuously producing magnetic film
JPH08100292A (ja) めっき膜の形成方法及びその装置
SU1016833A1 (ru) Способ получени цилиндрических магнитных пленок