JPH03288130A - Color liquid crystal display device - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的コ
（産業上の利用分野）
本発明は、カラー液晶表示装置に関し、特にカラー液晶
表示装置に用いられるカラーフィルタ基板に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention (Industrial Application Field) The present invention relates to a color liquid crystal display device, and more particularly to a color filter substrate used in a color liquid crystal display device.
（従来の技術）
近年、液晶表示装置は低重量、低消費電力等の利点から
種々の分野で利用されるようになってきた。このような
中、液晶表示装置に対して大表示画面あるいはカラー表
示の要求が高まってきた。(Prior Art) In recent years, liquid crystal display devices have come to be used in various fields due to their advantages such as low weight and low power consumption. Under these circumstances, there has been an increasing demand for large display screens or color displays for liquid crystal display devices.
このような要求に応えるべく、種々のカラー液晶表示装
置か研究され開発されてきた。In order to meet such demands, various color liquid crystal display devices have been researched and developed.
例えば、このような液晶表示装置に用いられるカラーフ
ィルタは、透明基板上に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）
の各画素に対応したそれぞれの色部を規則正しく配列し
、さらにこれら各画素の周囲を光遮蔽するため黒色塗料
、または金属蒸着膜等でブラックマトリックスを形成し
て迷光を遮断し、各画素のコントラストを強調させてい
る。For example, color filters used in such liquid crystal display devices include red (R), green (G), and blue (B) colors on a transparent substrate.
Each color part corresponding to each pixel is arranged regularly, and a black matrix is formed with black paint or metal vapor deposition film to block light around each pixel, and stray light is blocked, thereby increasing the contrast of each pixel. is emphasized.
また、カラーフィルタの各色部は染色法、顔料分散法、
電着法、印刷法等の方法によって形成されているか、一
般にカラーフィルタ表面には製造工程による１乃至数ミ
クロンの凹凸が残る。これらカラーフィルタ上の凹凸を
平滑化して、液晶表示装置の一方の電極となる透明導電
膜を安定な状態で形成するために、例えばアクリル系の
樹脂でオーバーコート層を形成することが知られている
。In addition, each color part of the color filter is manufactured by dyeing method, pigment dispersion method,
The color filter may be formed by a method such as an electrodeposition method or a printing method, or generally, unevenness of one to several microns remains on the surface of the color filter due to the manufacturing process. It is known to form an overcoat layer using, for example, acrylic resin in order to smooth out these unevenness on the color filter and form a transparent conductive film that becomes one electrode of a liquid crystal display device in a stable state. There is.
（発明か解決しようとする課８）
ところで、近年ではオーバーコート層上に透明電極を設
置して成るカラー液晶表示装置の製造において、次のよ
うなことか問題となっている。(Question 8 to be solved by the invention) Incidentally, in recent years, the following problems have arisen in the manufacture of color liquid crystal display devices in which transparent electrodes are provided on an overcoat layer.
即ち、カラー液晶表示装置の場合、配向膜あるいはシー
ル剤の焼成工程を従来の液晶表示装置同様に高温で行う
と、Ｉ 、 Ｔ、 ０． （Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ０
ｘｉｄｅ）等で形成される透明導電膜かオーバーコート
層から剥離、あるいは透明導電膜がクラックするといっ
たことが発生してしまう。That is, in the case of a color liquid crystal display device, if the baking process of the alignment film or sealant is performed at high temperature as in conventional liquid crystal display devices, I, T, 0. (Indium Tin0
However, the transparent conductive film formed by the above-mentioned method (xide) may peel off from the overcoat layer, or the transparent conductive film may crack.
このようなことは、単純マトリックス型のカラ液晶表示
装置、あるいはＭ Ｉ Ｍ （Ｍｅｔａｌ Ｉｎｄｉｕ
ｍＭｅｔａｌ）型カラー液晶表示装置といった微細なス
トライブ形状に透明導電膜を形成して成るカラー液晶表
示装置で頻繁に発生する。This kind of thing can be solved by simple matrix type color liquid crystal display device or MIM (Metal Ind.
This phenomenon frequently occurs in color liquid crystal display devices in which a transparent conductive film is formed in the form of fine stripes, such as mMetal type color liquid crystal display devices.
このような課題を解決する方法としては、配向膜あるい
はシール剤の焼成工程を低温で行うと良いことがわかっ
たか、低温工程で行うことは生産性を損うことは勿論の
こと、本来の液晶表示装置の性能が損なわれるといった
種々の問題がある。As a way to solve these problems, it has been found that it is better to perform the firing process of the alignment film or sealant at a low temperature. There are various problems such as the performance of the display device being impaired.
そこで本発明は上述した課題に鑑みなされたもので、そ
の目的とするところは十分に高い温度で配向膜あるいは
シール剤を焼成しても、オーバコート層と透明導電膜と
か剥離することなく、また表示特性に優れたカラー液晶
表示装置を提供することである。The present invention was made in view of the above-mentioned problems, and its purpose is to prevent the overcoat layer and transparent conductive film from peeling off even if the alignment film or sealant is baked at a sufficiently high temperature. An object of the present invention is to provide a color liquid crystal display device with excellent display characteristics.
［発明の構成］
（課題を解決するための手段）
本発明のカラー液晶表示装置は、光透過性基板と、この
光透過性基板上に形成される複数の色部と、この複数の
色部上に形成されるオーバーコート層と、このオーバー
コート層上に設置されるインジウムと錫の酸化物を主成
分とし、５５０ ｎｍの１
波長光に対して９００ ｃｍ 以上、３２００ｃｍ−
’以下の光吸収係数を有する透明電極層とを備えた第１
の電極基板と、基板上に電極層を備えた第２の電極基板
と、第１の電極基板と第２の電極基板との間に所定の電
圧を印加する駆動手段と、第１の電極基板の第１の透明
電極側と、第２の電極基板の第２の電極側によって保持
される液晶組成物とを備えたことを特徴としたものであ
る。[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) A color liquid crystal display device of the present invention includes a light-transmitting substrate, a plurality of colored portions formed on the light-transmitting substrate, and a plurality of colored portions. The main components are an overcoat layer formed on the overcoat layer and an oxide of indium and tin installed on the overcoat layer.
a transparent electrode layer having a light absorption coefficient of '
an electrode substrate, a second electrode substrate having an electrode layer on the substrate, a driving means for applying a predetermined voltage between the first electrode substrate and the second electrode substrate, and a first electrode substrate. The device is characterized by comprising a liquid crystal composition held by the first transparent electrode side of the second electrode substrate and the second electrode side of the second electrode substrate.
（作 用）
本発明者等は、オーバーコート層と透明導電膜との接着
性の改善について研究を進めたところ、オーバーコート
層と透明導電膜との熱膨脹係数の違い、あるいは表面電
荷密度減少に起因するファンデルワールス力の低下によ
り、配向膜あるいはシール剤の焼成工程時にオーバーコ
ート層と透明導電膜とか剥離することを見い出した。(Function) The present inventors conducted research on improving the adhesion between the overcoat layer and the transparent conductive film, and found that the difference in thermal expansion coefficient between the overcoat layer and the transparent conductive film or the decrease in surface charge density. It has been found that due to the resulting decrease in van der Waals force, the overcoat layer and the transparent conductive film peel off during the baking process of the alignment film or sealant.
そこで、更にオーバーコート層と熱膨脹係数が近く、オ
ーバーコート層との間で作用するファンデルワールス力
か大きな透明導電膜について研究を進めたところ、イン
ジウムと錫の酸化物を主成分とし、５５０ ｎｍの波長
光に対して９００ ｃｍ−’以上、３２００ｃｍ−ｎ−
１以下の光吸収係数を有する材料を用いて透明導電膜を
構成することにより、オーバーコートからの透明導電膜
の剥離あるいはクラックが防止できることを見出した。Therefore, we further researched a transparent conductive film with a coefficient of thermal expansion close to that of the overcoat layer and a large van der Waals force that acts between the overcoat layer and found a transparent conductive film containing indium and tin oxides as the main components and with a thickness of 550 nm. 900 cm-' or more, 3200 cm-n- for wavelength light of
It has been found that by forming the transparent conductive film using a material having a light absorption coefficient of 1 or less, peeling or cracking of the transparent conductive film from the overcoat can be prevented.
透明導電膜の５５０ ｎｍの波長光に対する光吸収係数
が９００ ａｍ−１よりも小さいと、透明導電膜の膨張
係数は樹脂オーバーコート層に比べて非常に小さいため
、焼成工程時に透明導電膜と樹脂オーバコート層との剥
離か頻繁になる。また、透明導電膜の５５０ ｎｍの波
長光に対する光吸収係数が３２００ｃｍ’よりも大きく
なると、透明導電膜の光透過率が５０％以下となってし
まい、表示のための充分な透過光を得ることができなく
なってしまう。If the light absorption coefficient of the transparent conductive film for light with a wavelength of 550 nm is smaller than 900 am-1, the expansion coefficient of the transparent conductive film is much smaller than that of the resin overcoat layer. Peeling from the overcoat layer becomes frequent. Furthermore, if the light absorption coefficient of the transparent conductive film for light with a wavelength of 550 nm is greater than 3200 cm', the light transmittance of the transparent conductive film will be less than 50%, making it difficult to obtain sufficient transmitted light for display. I become unable to do so.
また、本発明のカラー液晶表示装置のカラーフィルタを
構成する色部としては、高い耐熱性を有するものであれ
ば種々のものが使用可能である。Further, as the color portion constituting the color filter of the color liquid crystal display device of the present invention, various materials can be used as long as they have high heat resistance.
そして、この色部を形成する方法としては、顔料分散法
、電着法あるいは印刷法等があり、これらの方法により
形成される色部は顔料選択の自由度が大きいため、２０
０℃以上に十分に大きな耐熱性を得ることか可能であり
本発明に最適である。特に印刷法は製造費用の視点から
も最適であり、オフセット印刷機を用いて赤（Ｒ）、緑
（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタを容易に形成するこ
とができる。また印刷版としては、パターン形状も十分
なものが得られる水無し平板を使用することが好ましい
。Methods for forming this colored area include a pigment dispersion method, an electrodeposition method, a printing method, etc. Colored areas formed by these methods have a large degree of freedom in selecting pigments, so
It is possible to obtain sufficiently high heat resistance of 0° C. or higher, making it ideal for the present invention. In particular, the printing method is optimal from the viewpoint of manufacturing costs, and red (R), green (G), and blue (B) color filters can be easily formed using an offset printing machine. Further, as the printing plate, it is preferable to use a waterless flat plate because it can provide a sufficient pattern shape.
また、本発明に使用可能なオーバーコート層としては、
色部と同様に十分な耐熱性を有するものである必要かあ
るか、従来知られているような材料を使用することかで
きる。中でもエポキシ系樹脂が本発明には最適である。In addition, as overcoat layers that can be used in the present invention,
Does it need to have sufficient heat resistance like the colored part, or can it be made of a conventionally known material? Among them, epoxy resins are most suitable for the present invention.
即ち、エポキシ系樹脂は高い耐熱性を有していると共に
、酸素遮断能力に優れた樹脂であるため、カラーフィル
タが劣化することを十分に防ぐことができる。また、エ
ポキシ系樹脂は上述した透明導電膜材料と特に優れた密
着性を有することが実験により確認された。That is, since the epoxy resin has high heat resistance and excellent oxygen blocking ability, it can sufficiently prevent the color filter from deteriorating. Furthermore, it has been confirmed through experiments that the epoxy resin has particularly excellent adhesion to the above-mentioned transparent conductive film material.
（第１の実施例）
以下、本発明の第１の実施例について図面を参照して説
明する。(First Example) Hereinafter, a first example of the present invention will be described with reference to the drawings.
第１図は、本発明の一実施例に係るカラー液晶表示装置
（１）の概略構成図を示したもので、第２図は第１図に
おけるカラー液晶表示装置のＡ〜Ａ′線に沿って切断し
た概略断面図を示すもので、次のような構成となってい
る。FIG. 1 shows a schematic configuration diagram of a color liquid crystal display device (1) according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 shows the color liquid crystal display device along line A to A' in FIG. This figure shows a schematic cross-sectional view taken by cutting, and has the following configuration.
このカラー液晶表示装置（１）は光透過型で使用される
ものであり、対向するストライブ状の第１の透明電極（
２３）と、第２の透明電極（４３）とが直交するように
配置されて成るドツトマトリックス型のカラー液晶表示
装置（１）である。This color liquid crystal display device (1) is used as a light transmissive type, and has first transparent electrodes in the form of stripes facing each other (
This is a dot matrix type color liquid crystal display device (1) in which a transparent electrode (23) and a second transparent electrode (43) are arranged orthogonally to each other.
このカラー液晶表示装置（１）は、第１の透明電極（２
３〉、第２の透明電極（４３）を有する液晶セル（３）
と、この第１の透明電極（２３）、第２の透明電極（４
３）に接続され、これらを駆動するＸ軸ドライバ（１（
１１）とＹ軸ドライバ（１０３）とによって構成されて
いる。This color liquid crystal display device (1) has a first transparent electrode (2
3>, liquid crystal cell (3) having a second transparent electrode (43)
The first transparent electrode (23) and the second transparent electrode (4)
3) and drives these X-axis drivers (1(
11) and a Y-axis driver (103).
液晶セル（３）は、第２図に示すように、対向する第１
の電極基板（３１）と第１の電極基板（５１）とによっ
て液晶組成物（７１）か挟持されて成っている。As shown in FIG. 2, the liquid crystal cell (3) has two opposing first
A liquid crystal composition (71) is sandwiched between an electrode substrate (31) and a first electrode substrate (51).
この第１の電極基板（３１）は、ガラス製の光透過性基
板（１１）の−主面上に等間隔で形成される遮光部（１
３）と、この遮光部（１３）間に規則的に配設されて成
る緑（Ｇ）、青（Ｂ）の個々の色部（１５ａ）。This first electrode substrate (31) has light shielding portions (1
3) and the individual colored portions (15a) of green (G) and blue (B) regularly arranged between the light shielding portion (13).
（１５ｂ） 、 （１５Ｃ）によって構成されるカラー
フィルタ（１７）を備えている。(15b) and (15C).
また、このカラーフィルタ（１７）上には、接着層（１
９）を介して設置されるエポキシ樹脂から成るオバーコ
ート層（２１）、１． Ｔ、 Ｏ，（ｌｎｄｉｕｍ
ＴｉｎＯｘｉｄｅ）から成るストライブ形状で膜厚か２
０００オングストロームの均一な第１の透明電極（２３
）が順次設置されている。この第１の透明電極（２３）
の５５０ ｎｍの波長光に対する光吸収率μを測定した
ところ、光吸収率μは１１７８ｃｍ＋−１であった。Further, on this color filter (17), an adhesive layer (1
9) an overcoat layer (21) made of epoxy resin installed through 1. T, O, (lndium
The film thickness is approximately 2.
000 angstrom uniform first transparent electrode (23
) are being installed in sequence. This first transparent electrode (23)
When the light absorption coefficient μ for light with a wavelength of 550 nm was measured, the light absorption coefficient μ was 1178 cm+-1.
そして、第１の透明電極（２３）上には、高分子化合物
によって形成された配向膜（２５）が設置され、光透過
性基板（１１）の反対側面には偏光板（２７）が設置さ
れて、第１の電極基板（３１）は構成されている。An alignment film (25) made of a polymer compound is placed on the first transparent electrode (23), and a polarizing plate (27) is placed on the opposite side of the light-transmitting substrate (11). The first electrode substrate (31) is constructed as follows.
第２の電極基板（５１）の構成は、ガラス製の光透過性
基板（４１）上に、上記した第１の透明電極（２３）に
直交するようにストライブ形状の第２の透明電極（４３
）が設置されている。そして、この第２の電極（４３）
上に配向膜（４５）か設置されている。また光透過性基
板（５１〉の逆面には偏光板（４７）が設置されて構成
されている。The configuration of the second electrode substrate (51) is such that a striped second transparent electrode ( 43
) is installed. And this second electrode (43)
An alignment film (45) is placed on top. Further, a polarizing plate (47) is installed on the opposite side of the light-transmitting substrate (51>).
このような第１の電極基板（３１）と第２の電極基板（
５１）の配向膜（２５） 、 （４５）設置側に液晶組
成物（３１）か挟持され、周囲がシール剤（図示せず）
により封止されて液晶セル（３）は構成されている。Such a first electrode substrate (31) and a second electrode substrate (
A liquid crystal composition (31) is sandwiched between the alignment film (25) and (45) of 51), and a sealing agent (not shown) is placed around the alignment film (25) and (45).
The liquid crystal cell (3) is configured by being sealed with.
次に、このような構成のカラー液晶表示装置（１）の、
特に第１の透明電極（２３）の製造方法を第３図を参照
して詳述する。Next, the color liquid crystal display device (1) having such a configuration,
In particular, the method for manufacturing the first transparent electrode (23) will be described in detail with reference to FIG.
例えばガラスからなる光透過性基板（１１）上に、例え
ば黒色レジストから成る感光性黒色基材を１．５ミクロ
ンの膜厚て塗布し、この感光性黒色基材上にフォトマス
クを設置し、このフォトマスク上から紫外線を照射する
ことにより架橋反応させ感光性黒色基材に潜像を形成し
た。そして、現像を行い、規則的に黒色樹脂膜を形成し
、この後ベーキングして第３図（ａ）に示すような遮光
部（１３）を完成させた。この、感光性黒色基材の膜厚
は１．５〜２，０ミクロン程度あれば十分な光学濃度か
得られる。For example, on a light-transmitting substrate (11) made of glass, a photosensitive black base material made of, for example, black resist is applied to a thickness of 1.5 microns, and a photomask is placed on this photosensitive black base material. By irradiating ultraviolet rays from above this photomask, a crosslinking reaction was caused to form a latent image on the photosensitive black substrate. Then, development was carried out to form a black resin film regularly, followed by baking to complete the light shielding part (13) as shown in FIG. 3(a). A sufficient optical density can be obtained if the film thickness of this photosensitive black base material is about 1.5 to 2.0 microns.
次に、第３図（ｂ）に示すようにオフセット印刷機を用
いて赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青
（Ｂ）の個々の色部（１５ａ） 、 （Ｌ５ｂ） 、
（１５Ｃ）を印刷法で形成する。ここで印刷版としては
扱い易い水無し平板を用いた。この時の印刷の精度は、
遮光部（１３）が位置精度に優れたフォトリソグラフィ
によって形成されているため、赤（Ｒ）、ｌ （Ｇ）。Next, as shown in FIG. 3(b), using an offset printing machine, the individual color parts (15a), (L5b), red (R), green (G), and blue (B) are printed.
(15C) is formed by a printing method. Here, a waterless flat plate, which is easy to handle, was used as the printing plate. The printing accuracy at this time is
Red (R), l (G) because the light shielding part (13) is formed by photolithography with excellent positional accuracy.
青（Ｂ）の色部（１５ａ） 、 （１５ｂ） 、 （１
５ｃ）は各遮光部（１３）間を塗り潰すたけの印刷精度
かあれば充分である。Blue (B) colored parts (15a), (15b), (1
5c), it is sufficient if the printing accuracy is sufficient to fill in the spaces between the light shielding parts (13).
そして、各色部（１５ａ） ＝ （１５ｂ） 、 （１
５Ｃ）の印刷が完了する毎にヘーキングにより上記着色
部のインキを固化させる。このような工程を３回繰り返
すことにより、複数の赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の
色部（１５ａ） 、 （１５ｂ） 、 （１５Ｃ）から
成るカラーフィルタ（１７）を完成させる。Then, each color part (15a) = (15b), (1
Each time printing in step 5C) is completed, the ink in the colored area is solidified by haking. By repeating this process three times, a color filter (17) consisting of multiple red (R), green (G), and blue (B) color parts (15a), (15b), and (15C) is completed. let
この様にして得られたカラーフィルタ（１７）の表面は
印刷技術の限界から２．０〜４．０ミクロンの規則的な
凹凸を有したものとなっている。The surface of the color filter (17) thus obtained has regular irregularities of 2.0 to 4.0 microns due to the limitations of printing technology.
次いで第３図（Ｃ）に示すように、カラーフィルタ（１
７）と、あるいは後工程で使用するエポキシ樹脂とも強
固な接合かえられる接合用樹脂を接着層（１９）として
０．１ミクロンと極く薄く塗布する。Next, as shown in FIG. 3(C), a color filter (1
7) or an epoxy resin used in the subsequent process, a bonding resin that can be used for strong bonding is applied as an adhesive layer (19) in an extremely thin layer of 0.1 micron.
この時の塗布厚は迷光を防ぐ目的からも、０．１〜０．
２ミクロン程度の薄膜か好ましい。The coating thickness at this time is 0.1 to 0.00 mm, also for the purpose of preventing stray light.
A thin film of about 2 microns is preferred.
この後、接着層（１９）上に２．０ミクロンの塗布厚で
エポキシ系樹脂を塗布し、オーバーコート層（２１）を
形成する。この時の膜厚はカラーフィルタ（１７）の表
面性の確保、あるいは耐熱性等を考慮すると、２．０〜
３０ミクロン程度が好ましい。この膜厚が２．０ミクロ
ン以下であるとオーバーコート層（２１）上に多少の凹
凸か残り、３．０ミクロン以上の膜厚であるとカラー液
晶表示装置（１）とした時の迷光の原因となってしまう
。Thereafter, an epoxy resin is applied to the adhesive layer (19) to a coating thickness of 2.0 microns to form an overcoat layer (21). The film thickness at this time should be 2.0~2.0 to 2.0 to
The thickness is preferably about 30 microns. If the film thickness is 2.0 microns or less, some unevenness will remain on the overcoat layer (21), and if the film thickness is 3.0 microns or more, it will cause stray light when used in a color liquid crystal display (1). It becomes the cause.
上記の工程が完了したオーバーコート層（２１）上に、
Ｉ、 Ｔ、 ０． （Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ ０ｘ
ｉｄｅ）薄膜（図示せず）をマグネトロンスパッタ装置
により、２０００オングストロームの膜厚で５５０ｒ＋
ｍの波長光に対して１１７０ｃｍ ’の光吸収係数とな
るように形成した。このスパッタ時の導入ガスは、Ａｒ
と０２で０゜分圧で０．７％程度とした。そしてインジ
ウムと錫をターケントとして形成された１、Ｔ、Ｏ。On the overcoat layer (21) where the above steps have been completed,
I, T, 0. (Indium Tin 0x
ide) A thin film (not shown) was sputtered at 550r+ with a film thickness of 2000 angstroms using a magnetron sputtering device.
It was formed to have a light absorption coefficient of 1170 cm' for light with a wavelength of m. The gas introduced during this sputtering is Ar.
and 02, it was set to about 0.7% at 0° partial pressure. And 1, T, and O formed by using indium and tin as tarquent.
薄膜をＨＣｌ系のエッチャント（通常ＨＮＯ３を含む）
によりストライプ形状にエツチングし、第３図（ｄ）に
示すような第１の透明電極（２３）とした。Treat the thin film with an HCl-based etchant (usually containing HNO3)
This was etched into a stripe shape to form a first transparent electrode (23) as shown in FIG. 3(d).
このようにして成る第１の電極基板（３１）を備えたカ
ラー液晶表示装置（１）とすることにより、配向膜（２
５） 、 （４５）あるいはシール剤（図示せず）を２
５０℃の高温焼成しても、ストライプ形状に形成した第
１の透明電極（２３）かオーバーコート層（１８）から
の剥離、あるいは第１の透明電極（２３）のクラックが
発生しなかった。By providing the color liquid crystal display device (1) equipped with the first electrode substrate (31) constructed in this way, the alignment film (2
5), (45) or sealant (not shown)
Even when fired at a high temperature of 50° C., the first transparent electrode (23) formed in a stripe shape did not peel off from the overcoat layer (18), nor did the first transparent electrode (23) crack.
また、本実施例ではオーバーコート層（１８）として酸
素遮断能力の高いエポキシ樹脂を使用したため、カラー
フィルタ（１７）の耐熱性を測定したところ、２８０℃
といった高い耐熱性を有するものであった。このため、
配向膜（２５） 、 （４５）あるい″はシール剤の焼
成工程におけるカラーフィルタ（１７）の劣化といった
ことは全くながった。更にオーバーコート層（１８）の
酸素遮断能力により、長期間にわたりカラーフィルタ（
１７）の劣化を抑えて鮮明な画像を維持することか可能
となった。In addition, in this example, since an epoxy resin with high oxygen blocking ability was used as the overcoat layer (18), the heat resistance of the color filter (17) was measured and was found to be 280°C.
It had high heat resistance. For this reason,
The alignment film (25), (45) or '' did not experience any deterioration of the color filter (17) during the baking process of the sealant.Furthermore, due to the oxygen blocking ability of the overcoat layer (18), it could last for a long time. Color filters (
17) It has become possible to suppress the deterioration and maintain clear images.
また、高温て配向膜（２５） 、 （４５）あるいはシ
ール剤の焼成か可能であることから、従来に比べて製造
時間を短縮させ、生産性を向上させることができると共
に、品質の良い配向膜（２５） 、 （４５）が形成で
きるため、表示特性に優れたカラー液晶表示装置（１）
とすることかできた。In addition, since it is possible to bake the alignment film (25), (45) or sealant at high temperature, it is possible to shorten manufacturing time and improve productivity compared to conventional methods, and to produce a high-quality alignment film. (25) , (45) can be formed, so a color liquid crystal display device with excellent display characteristics (1)
I was able to do that.
こては光透過型のスーパーツィステッド液晶表示装置を
例にとって説明したが、これに限ることなく ＴＦＴ型
液晶表示装置、あるいはＭＩＭ型液晶表示装置等であっ
ても良い。Although the iron has been described using a light transmission type super twisted liquid crystal display device as an example, the present invention is not limited to this, and may be a TFT type liquid crystal display device, an MIM type liquid crystal display device, or the like.
尚、本明細書中ての耐熱温度は、完成したカラフィルタ
（■７）を大気中で３０分間加熱処理する前後の各色部
（１５ａ＞ 、（１５ｂ） 、 （１５ｃ）の色差ΔＥ
ａｂ’≦３を判断基準として求めた温度を用いた。また
、オーバーコート層（Ｉ８）と第１の透明電極（２３）
との接着性については、耐熱性の試験の後、クロスカッ
ト法を用いて行なった。In addition, the heat resistance temperature in this specification is the color difference ΔE of each color part (15a>, (15b), (15c) before and after the completed color filter (■7) is heat-treated in the atmosphere for 30 minutes.
The temperature determined using ab'≦3 as a criterion was used. In addition, an overcoat layer (I8) and a first transparent electrode (23)
After a heat resistance test, the adhesion with the film was tested using a cross-cut method.
（第２の実施例）
以下、本発明の第２の実施例を第１と同様の箇所につい
ては同一符号を付して説明する。(Second Embodiment) Hereinafter, a second embodiment of the present invention will be described with the same reference numerals assigned to the same parts as the first embodiment.
本実施例の第１の実施例と相違する点は、第１の透明電
極（２３）の構成であり、第４図を参照して説明する。The difference between this embodiment and the first embodiment is the configuration of the first transparent electrode (23), which will be explained with reference to FIG. 4.
本実施例のカラー液晶表示装置（１）の第１の透明電極
（２３）は、第４図（ｂ）に示すように、オーバーコー
ト層（１８）上に設置される２００オングストロームの
膜厚の光透過率の低い接着性透明電極（２３ａ）と、こ
の接着性透明電極（２３ａ）上に設置される１８００オ
ングストロームの膜厚のＩ、Ｔ、Ｏ。As shown in FIG. 4(b), the first transparent electrode (23) of the color liquid crystal display device (1) of this example has a film thickness of 200 angstroms and is placed on the overcoat layer (18). An adhesive transparent electrode (23a) with low light transmittance, and I, T, and O having a film thickness of 1800 angstroms installed on this adhesive transparent electrode (23a).
薄膜（２３ｂ）の２層膜によって構成されている。It is composed of a two-layer thin film (23b).
このような接着性透明電極（２３）は、第３図（ａ）に
示すようにマグネトロンスパッタ装置にて、インジウム
と錫をターゲットとし、Ａｒと０２との分圧を０．７程
度としてスパッタリングにより形成することができる。Such an adhesive transparent electrode (23) is produced by sputtering using a magnetron sputtering device with a partial pressure of Ar and O2 of about 0.7 using indium and tin as targets, as shown in FIG. 3(a). can be formed.
そして、同図（ｂ）に示すように、この接着性透明電極
（２３）上に、Ａｒと０２との分圧を０．７程度として
スパッタリングにより従来と同様の１． Ｔ、 Ｏ，薄
膜（２３ｂ）を形成した。Then, as shown in FIG. 6(b), sputtering was performed on the adhesive transparent electrode (23) at a partial pressure of Ar and O2 of about 0.7 as in the conventional method. A T, O, thin film (23b) was formed.
そして、接着性透明電極（２３ａ）および１．Ｔ。Then, the adhesive transparent electrode (23a) and 1. T.
Ｏ１薄膜（２３ｂ）をストライプ形状にパターニングし
て第１の透明電極（２３）を形成した。この接着性透明
電極（２３ａ）の光吸収率μを測定したところ、光吸収
率μは９５［ｉ ｃｍ−’であった。The O1 thin film (23b) was patterned into a stripe shape to form a first transparent electrode (23). When the light absorption rate μ of this adhesive transparent electrode (23a) was measured, the light absorption rate μ was 95 [i cm-'.
このような構成とすることにより、第１の実施例のカラ
ー液晶表示装置（１）と同様の効果に加えて、光透過率
の低い接着性透明電極（２３ａ）が非常に薄膜で形成さ
れているため、高い透過率とすることができた。With this configuration, in addition to the same effect as the color liquid crystal display device (1) of the first embodiment, the adhesive transparent electrode (23a) with low light transmittance is formed of a very thin film. Because of this, we were able to achieve high transmittance.
（第３の実施例）
以下、本発明の第３の実施例を図面を参照し、第１の同
様の箇所については同一符号を付して説明する。本実施
例の第１の実施例と相違する点は、第１の透明電極（２
３）の構成であり、第４図を参照して説明する。(Third Embodiment) Hereinafter, a third embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings, with the same reference numerals assigned to the same parts as in the first embodiment. The difference between this embodiment and the first embodiment is that the first transparent electrode (2
3), which will be explained with reference to FIG.
本実施例のカラー液晶表示装置の第１の透明電極（２３
）は、第４図（ｃ）に示すように、オーバーコート層（
１８）上に、光透過率か連続的に高くなるようにして設
置されたもので、２０００オンゲストロムの膜厚と成っ
ている。The first transparent electrode (23
), as shown in FIG. 4(c), the overcoat layer (
18) The film was installed so that the light transmittance increased continuously and had a film thickness of 2000 Angstroms.
このような第１の透明電極（２３）は、マグネトロンス
パッタ装置にて、インジウムと錫をターゲットとし、Ａ
ｒと０２との分圧を０．８程度から１％以上に徐々に上
げることによりオーバーコート層（１８）上に設置し、
ストライプ形状にパターニングすることにより容易に製
造することができる。この第１の透明電極（２３）の光
吸収率μを測定したところ、光吸収率μは９１２ ｃｍ
−１であった。The first transparent electrode (23) is made using a magnetron sputtering device using indium and tin as targets.
Installed on the overcoat layer (18) by gradually increasing the partial pressure of r and 02 from about 0.8 to 1% or more,
It can be easily manufactured by patterning it into a stripe shape. When the light absorption coefficient μ of this first transparent electrode (23) was measured, the light absorption coefficient μ was 912 cm
-1.
このような第１の透明電極（２３）とすることにより、
第１の実施例の効果に加えて第１の実施例のカラー液晶
表示装置（１）に比べて高い光透過率とすることがでた
。また本実施例のカラー液晶表示装置（１）では、理由
はさだがではないが３００℃近い高い耐熱性を有するも
のにできた他、生産性も向上させることかできる。By using such a first transparent electrode (23),
In addition to the effects of the first example, a higher light transmittance was achieved compared to the color liquid crystal display device (1) of the first example. In addition, the color liquid crystal display device (1) of this embodiment has a high heat resistance of nearly 300° C., although the reasons are not obvious, and productivity can also be improved.
尚、ここでも光透過型のスーパーツィステッド液晶表示
装置を例にとって説明したか、これに限ることなくＴＦ
Ｔ型液晶表示装置、あるいはＭＩＭ型液晶表示装置等で
あっても良い。It should be noted that although the explanation has been made here by taking a light transmission type super twisted liquid crystal display device as an example, the explanation is not limited to this;
It may be a T-type liquid crystal display device, an MIM-type liquid crystal display device, or the like.
［発明の効果］
以上詳述したように、本発明のカラー液晶表示装置では
、特有の構成とすることにより、配向膜の焼成あるいは
シール剤の焼成工程における透明電極のクラックあるい
は剥離といったことかなく、製造歩留りに優れ、高品位
なカラー表示が可能なカラー液晶表示装置とすることが
できる。[Effects of the Invention] As detailed above, in the color liquid crystal display device of the present invention, due to the unique configuration, cracking or peeling of the transparent electrode during the process of baking the alignment film or baking the sealant can be avoided. , a color liquid crystal display device with excellent manufacturing yield and capable of high-quality color display can be obtained.
第１図は本発明のカラー液晶表示装置の一実施例に係る
液晶表示装置の概略構成図、第２図は第１図におけるＡ
−Ａ−線に沿って切断した液晶セル部分の概略断面図、
第３図は第１図におけるカラー液晶表示装置の製造方法
を示す製造プロセス図、第４図は他の実施例におけるカ
ラー液晶表示装置の製造方法を示す製造プロセス図であ
る。
（１）・・・カラー液晶表示装置
（３）・・・液晶セル
（１７）・・・カラーフィルタ
（１８）・・・オーバーコート層
（２３〉・・・第１の透明電極
（３１）・・・第１の電極基板
（４３）・・・第２の透明電極
（５１）・・・第２の電極基板
（７１）・・・液晶組成物FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a liquid crystal display device according to an embodiment of the color liquid crystal display device of the present invention, and FIG. 2 is an A in FIG.
- A schematic cross-sectional view of the liquid crystal cell portion cut along the A- line,
3 is a manufacturing process diagram showing a method for manufacturing the color liquid crystal display device in FIG. 1, and FIG. 4 is a manufacturing process diagram showing a method for manufacturing the color liquid crystal display device in another embodiment. (1)...Color liquid crystal display device (3)...Liquid crystal cell (17)...Color filter (18)...Overcoat layer (23>...First transparent electrode (31)... ...First electrode substrate (43)...Second transparent electrode (51)...Second electrode substrate (71)...Liquid crystal composition
Claims (1)
の色部と、この複数の色部上に形成されるオーバーコー
ト層と、このオーバーコート層上に設置されるインジウ
ムと錫の酸化物を主成分とし、５５０ｎｍの波長光に対
して９００ｃｍ＾−＾１以上、３２００ｃｍ＾−＾１以
下の光吸収係数を有する透明電極層とを備えた第１の電
極基板と、 基板上に電極層を備えた第２の電極基板と、前記第１の
電極基板と前記第２の電極基板との間に所定の電圧を印
加する駆動手段と、 前記第１の電極基板の前記第１の透明電極側と、前記第
２の電極基板の前記第２の電極側によって保持される液
晶組成物とを備えたことを特徴としたカラー液晶表示装
置。[Claims] A light-transmissive substrate, a plurality of colored parts formed on the light-transmissive substrate, an overcoat layer formed on the plurality of colored parts, and an overcoat layer disposed on the overcoat layer. A first electrode comprising a transparent electrode layer containing indium and tin oxide as main components and having a light absorption coefficient of 900 cm^-^1 or more and 3200 cm^-^1 or less for light with a wavelength of 550 nm. a substrate; a second electrode substrate having an electrode layer on the substrate; driving means for applying a predetermined voltage between the first electrode substrate and the second electrode substrate; and the first electrode. A color liquid crystal display device comprising: a liquid crystal composition held by the first transparent electrode side of the substrate and the second electrode side of the second electrode substrate.
Priority Applications (1)
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|---|---|
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