JPH03267166A - 塗工容器 - Google Patents
塗工容器Info
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- JPH03267166A JPH03267166A JP6388090A JP6388090A JPH03267166A JP H03267166 A JPH03267166 A JP H03267166A JP 6388090 A JP6388090 A JP 6388090A JP 6388090 A JP6388090 A JP 6388090A JP H03267166 A JPH03267166 A JP H03267166A
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- coating
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Links
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（ａｌ産業上の利用分野
この発明は、塗液を収容し基体の表面に塗布を施すため
の塗工容器に関する。
の塗工容器に関する。
（ｂｌ従来の技術
基体の表面に塗膜を形成する方法としては、従来、塗工
槽（塗工容器）の中に収容された塗液の中に前記基体を
浸漬し、引き上げ、乾燥させる浸漬塗布方式が一般的で
あった。浸漬塗布方式では塗工槽に基体全体を一度に浸
漬するため、−塗工槽で使用する塗液の量が多いが、塗
工槽を複数用いて複数の基体の塗布を同時に進行するこ
とができ、量産に通している。
槽（塗工容器）の中に収容された塗液の中に前記基体を
浸漬し、引き上げ、乾燥させる浸漬塗布方式が一般的で
あった。浸漬塗布方式では塗工槽に基体全体を一度に浸
漬するため、−塗工槽で使用する塗液の量が多いが、塗
工槽を複数用いて複数の基体の塗布を同時に進行するこ
とができ、量産に通している。
また、最近では塗液を収容したリング状の塗工容器の内
径側に基体゛を通過させて、前記基体の表面に塗膜を形
成する方式も開発されている。
径側に基体゛を通過させて、前記基体の表面に塗膜を形
成する方式も開発されている。
この後者の塗布方式は、例えば、感光体の円筒状基体に
感光膜を形成する場合にも利用されており、次のように
塗布が行われる。
感光膜を形成する場合にも利用されており、次のように
塗布が行われる。
はぼ水平に設けられたリング状の塗工容器の内径側は、
壁の代わりに後述のスペーサが塗工容器の底面の内径側
に設けられたリング状のブレードに密着し、感光液を収
容している。前記スペーサは塗布される円筒状基体を上
下うら支持している。さらに下のスペーサを押上治具に
より前記円筒状基体ごと軸方向にほぼ垂直に押し上げ、
リング状の塗工容器のリングの中を下から上へと通過さ
ゼる。これにより、リング状の塗工容器の内径側の壁の
役割を果たしていた上スペーサは上へと移動し、その下
にセットされている円筒状基体の外周面は感光液と直接
接触し、その状態で上へと押し上げられ円筒状基体の外
周面に感光液が塗布され感光膜が形成される。円筒状基
体の塗布が終了すると、円筒状基体の下のスペーサがリ
ング状塗工容器の内径側に固定され壁の代わりとなり、
感光液を収容する。
壁の代わりに後述のスペーサが塗工容器の底面の内径側
に設けられたリング状のブレードに密着し、感光液を収
容している。前記スペーサは塗布される円筒状基体を上
下うら支持している。さらに下のスペーサを押上治具に
より前記円筒状基体ごと軸方向にほぼ垂直に押し上げ、
リング状の塗工容器のリングの中を下から上へと通過さ
ゼる。これにより、リング状の塗工容器の内径側の壁の
役割を果たしていた上スペーサは上へと移動し、その下
にセットされている円筒状基体の外周面は感光液と直接
接触し、その状態で上へと押し上げられ円筒状基体の外
周面に感光液が塗布され感光膜が形成される。円筒状基
体の塗布が終了すると、円筒状基体の下のスペーサがリ
ング状塗工容器の内径側に固定され壁の代わりとなり、
感光液を収容する。
以上のようにリング状の塗工容器を用いた塗布装置では
塗液の量、特に廃棄する量が少なく塗工効率が比較的高
いほか、装置が小型でありコストダウンを図ることがで
きる。
塗液の量、特に廃棄する量が少なく塗工効率が比較的高
いほか、装置が小型でありコストダウンを図ることがで
きる。
（Ｃ１発明が解決しようとする課題
しかしながら、上述の方式ではいずれも塗工容器内で塗
液の濃度と粘度が変化し易いという問題がある。塗液中
からの溶剤の蒸発により塗液が濃縮するからである。そ
のため濃度および粘度が経時的に変化し、形成された塗
膜は膜厚がその都度異なってしまう。従って製品である
感光体は、その電子写真特性、特に帯電性、感度、残留
電位に影響が出てバラツキが大きくなる。
液の濃度と粘度が変化し易いという問題がある。塗液中
からの溶剤の蒸発により塗液が濃縮するからである。そ
のため濃度および粘度が経時的に変化し、形成された塗
膜は膜厚がその都度異なってしまう。従って製品である
感光体は、その電子写真特性、特に帯電性、感度、残留
電位に影響が出てバラツキが大きくなる。
特にリング状の塗工容器内の感光液の中に基体を通過さ
せる方式により、基体に電荷発生層と電荷輸送層を塗布
する場合は、基体−本当たりの塗液便用量が数ｍｌと非
常に少ないので、時間当たりの新液の補給量も少ない。
せる方式により、基体に電荷発生層と電荷輸送層を塗布
する場合は、基体−本当たりの塗液便用量が数ｍｌと非
常に少ないので、時間当たりの新液の補給量も少ない。
従って上述のような悪影響の問題が大きい。
そこでこの発明の目的は、収容されている塗液の濃度お
よび粘度が変化しない塗工容器を提供することにある。
よび粘度が変化しない塗工容器を提供することにある。
（ｄ１課題を解決するための手段
この発明では、塗液を収容し、前記塗液の中で塗布され
るべき基体に塗布を施すとともに、一定液量を保つため
に前記塗液を補給する補給口を、前記塗液の液量減少時
の液面位置より充分下に備える塗工容器において、 前記一定液量収容時のほぼ液面位置に排出口を設けたこ
とを特徴とする。
るべき基体に塗布を施すとともに、一定液量を保つため
に前記塗液を補給する補給口を、前記塗液の液量減少時
の液面位置より充分下に備える塗工容器において、 前記一定液量収容時のほぼ液面位置に排出口を設けたこ
とを特徴とする。
（ｅ）作用
この発明に係る塗工容器では、塗液減少時の液面より充
分に下方に設けられた補給口より新しい塗液を、塗工に
必要な一定液量より多くなるように補給する。すると塗
工容器の下方より新しい塗液が入り上部の旧法が上昇し
、特に溶剤が莫発して濃度と粘度が大きくなった塗液の
上層部分が、前記一定液量の液面位置より上になり、一
定液量の液面位置に設けられている排出口より流出する
。すなわち、調整済の新しい塗液を余分に補給して、塗
液をオーバフローさせて、濃度と粘度の変化した部分を
排出することにより、塗液の濃度と粘土が一定に保たれ
、基体により塗布膜の膜厚のバラツキが発生しない。従
って、例えば感光体の基体の塗布の場合は、感光膜の膜
厚が一定になり、感光体の電子写真特性が安定し、画像
形成において画質に悪影響を及ぼさない。
分に下方に設けられた補給口より新しい塗液を、塗工に
必要な一定液量より多くなるように補給する。すると塗
工容器の下方より新しい塗液が入り上部の旧法が上昇し
、特に溶剤が莫発して濃度と粘度が大きくなった塗液の
上層部分が、前記一定液量の液面位置より上になり、一
定液量の液面位置に設けられている排出口より流出する
。すなわち、調整済の新しい塗液を余分に補給して、塗
液をオーバフローさせて、濃度と粘度の変化した部分を
排出することにより、塗液の濃度と粘土が一定に保たれ
、基体により塗布膜の膜厚のバラツキが発生しない。従
って、例えば感光体の基体の塗布の場合は、感光膜の膜
厚が一定になり、感光体の電子写真特性が安定し、画像
形成において画質に悪影響を及ぼさない。
（ｆ）実施例
図は、この発明の実施例である塗工容器を適用した感光
体塗布装置の概略構成図である。
体塗布装置の概略構成図である。
塗工容器ユニット１０はリング状であり、そのリングの
内径側を塗布されるべき感光体の円筒状基体３０が通過
する。塗液皿（本実施例における塗工容器）１の底面の
円筒状基体と密着する部分にはブレード３が設けられ、
前記ブレード３はブレード押さえ３ａにより固定されて
いる。塗液皿１の壁の最下位に新しい塗液を補給する補
給口１）が配設されている。また、必要な一定液量のと
きのほぼ液面位置には排出口１２が配設されている。補
給口１）には補給パイプ１７がタンク１８まで配管され
ポンプ１６により感光液を補給する。排出口１２には排
出パイプ１３がタンク１４まで配管されている。パイプ
１９はタンク１４からタンク１８へと感光液をポンプ１
５により循環させる。塗液皿１の上方には蓋２が設けら
れ、前記Ｍ２の中央には円筒状基体の外径よりやや大き
い外径を有する開口部２ａと、２つの撹拌機４をセット
するための撹拌孔２ｂが形成されている。リング状の塗
液皿１には内径側の壁がなく、その代わりに前記円筒状
基体３０がブレード３に摺接して感光液２０を収容し、
塗布動作中は円筒状基体３０、塗液器１、Ｍ２、ブレー
ド３が塗工容器ユニノ１−１０を構成する。塗布される
円筒状基体は、塗布動作前あるいは塗布動作後には塗工
容器ユニ・ット１０を構成せず、円筒状基体３０の上下
いずれかのスペーサ５ａまたは５ｂが前記ブレードと密
着して塗工容器ユニット１０を構成する。
内径側を塗布されるべき感光体の円筒状基体３０が通過
する。塗液皿（本実施例における塗工容器）１の底面の
円筒状基体と密着する部分にはブレード３が設けられ、
前記ブレード３はブレード押さえ３ａにより固定されて
いる。塗液皿１の壁の最下位に新しい塗液を補給する補
給口１）が配設されている。また、必要な一定液量のと
きのほぼ液面位置には排出口１２が配設されている。補
給口１）には補給パイプ１７がタンク１８まで配管され
ポンプ１６により感光液を補給する。排出口１２には排
出パイプ１３がタンク１４まで配管されている。パイプ
１９はタンク１４からタンク１８へと感光液をポンプ１
５により循環させる。塗液皿１の上方には蓋２が設けら
れ、前記Ｍ２の中央には円筒状基体の外径よりやや大き
い外径を有する開口部２ａと、２つの撹拌機４をセット
するための撹拌孔２ｂが形成されている。リング状の塗
液皿１には内径側の壁がなく、その代わりに前記円筒状
基体３０がブレード３に摺接して感光液２０を収容し、
塗布動作中は円筒状基体３０、塗液器１、Ｍ２、ブレー
ド３が塗工容器ユニノ１−１０を構成する。塗布される
円筒状基体は、塗布動作前あるいは塗布動作後には塗工
容器ユニ・ット１０を構成せず、円筒状基体３０の上下
いずれかのスペーサ５ａまたは５ｂが前記ブレードと密
着して塗工容器ユニット１０を構成する。
前記塗工容器ユニフト１０は、その外周部下方のフレー
ム８に固定されている。スペーサチャ・７り７は上下の
スペーサ５ａまたは５ｂを所定の位置で固定する働きを
する。下のスペーサ５ｂの下方には押上装置６の押上治
具６ｂが設けられている。押上装置６は、前記押上治具
６ｂに送りネジ６ａが下方より接続し、モータ６ｃの回
転がギア部６ｅを経て伝達される。押上装置６は押上治
具６ｂにより、下のスペーサ５ｂとそれにセットされた
円筒状基体３０を塗工容器ユニット１０に収容された感
光液（本実施例の塗液）２０の中を通過させる。これに
より円筒状基体３０は直接感光液２０と接触して感光膜
２１が形成される。
ム８に固定されている。スペーサチャ・７り７は上下の
スペーサ５ａまたは５ｂを所定の位置で固定する働きを
する。下のスペーサ５ｂの下方には押上装置６の押上治
具６ｂが設けられている。押上装置６は、前記押上治具
６ｂに送りネジ６ａが下方より接続し、モータ６ｃの回
転がギア部６ｅを経て伝達される。押上装置６は押上治
具６ｂにより、下のスペーサ５ｂとそれにセットされた
円筒状基体３０を塗工容器ユニット１０に収容された感
光液（本実施例の塗液）２０の中を通過させる。これに
より円筒状基体３０は直接感光液２０と接触して感光膜
２１が形成される。
押上治具６ｂの上部にはサン七Ｓ１が取す付けられ、ス
ペーサが固定される位置で前記サン七Ｓ１に対応する塗
工容器ユニット１０の下方の位置にセンサＳ２が取り付
けられている。押上装置６が円筒状基体を押し上げ下の
スペーサ５ｂが塗工容器ユニット１０の所定位置にくる
と円筒状基体の塗布が終了する。このときセンサＳ１と
センサＳ２の位置がぴったりと並んてセンサＳ２がセン
サＳ１を検知してオンする。逆に、次の円筒状基体をセ
ットするために押上治具が降下するとセンサＳ２はセン
サＳ１を検知しないのでオフとなる。コノヨウナセンサ
の検知タイミングに基づいて、塗布動作と塗布動作の合
間に塗工容器ユニ７）内の感光液の補給および撹拌が行
われる。
ペーサが固定される位置で前記サン七Ｓ１に対応する塗
工容器ユニット１０の下方の位置にセンサＳ２が取り付
けられている。押上装置６が円筒状基体を押し上げ下の
スペーサ５ｂが塗工容器ユニット１０の所定位置にくる
と円筒状基体の塗布が終了する。このときセンサＳ１と
センサＳ２の位置がぴったりと並んてセンサＳ２がセン
サＳ１を検知してオンする。逆に、次の円筒状基体をセ
ットするために押上治具が降下するとセンサＳ２はセン
サＳ１を検知しないのでオフとなる。コノヨウナセンサ
の検知タイミングに基づいて、塗布動作と塗布動作の合
間に塗工容器ユニ７）内の感光液の補給および撹拌が行
われる。
即ち、濃度と粘度が調整された感光液２ｏがタンク１８
からポンプ↓６により補給口１）に補給される。このと
き感光液を塗工に必要な一定量より余分になるように補
給すると、塗工容器内の感光液の液面が上昇して、上層
部分の濃度と粘度の高くなった感光液は排出口１２の位
置より上へ上昇し排出口１２より排出パイプ１３を通っ
てタンク１４へと排出される。そののち塗工容器中では
撹拌が行われ、タンク１４では図示せぬ粘調装置等によ
り溶剤追加、撹拌が行われ、バイブ１９を通ってタンク
１８に戻される。
からポンプ↓６により補給口１）に補給される。このと
き感光液を塗工に必要な一定量より余分になるように補
給すると、塗工容器内の感光液の液面が上昇して、上層
部分の濃度と粘度の高くなった感光液は排出口１２の位
置より上へ上昇し排出口１２より排出パイプ１３を通っ
てタンク１４へと排出される。そののち塗工容器中では
撹拌が行われ、タンク１４では図示せぬ粘調装置等によ
り溶剤追加、撹拌が行われ、バイブ１９を通ってタンク
１８に戻される。
本実施例では、感光液（塗液）としてジブロムアンスア
ンスロン２重量部、ブチラール樹脂（エスレソクＢＭ・
２、セキスイ化学製）２重量部、シクロへキサノン２３
０重量部を調合しボールミルで８時間分散し、粘度は６
ｃＰのものを用いた。塗工動作の合間に新液を余分に補
給しオーバフローさせることにより感光液の粘度は経時
的に著しい変化は認められず、±０．５ｃＰ前後で安定
していた。さらに−円筒状基体に使用される塗布量は常
に０．０５ｇ／ｎ？前後で、感光膜の膜厚の安定した感
光体を形成することができる。
ンスロン２重量部、ブチラール樹脂（エスレソクＢＭ・
２、セキスイ化学製）２重量部、シクロへキサノン２３
０重量部を調合しボールミルで８時間分散し、粘度は６
ｃＰのものを用いた。塗工動作の合間に新液を余分に補
給しオーバフローさせることにより感光液の粘度は経時
的に著しい変化は認められず、±０．５ｃＰ前後で安定
していた。さらに−円筒状基体に使用される塗布量は常
に０．０５ｇ／ｎ？前後で、感光膜の膜厚の安定した感
光体を形成することができる。
本実施例ではリング状の塗工容器ユニットを用いる塗布
装置に適用したが、浸漬塗布法式の塗工槽（塗工容器）
に適用しても、常に安定した濃度と と粘度の感光液により塗布するこ→ができる。
装置に適用したが、浸漬塗布法式の塗工槽（塗工容器）
に適用しても、常に安定した濃度と と粘度の感光液により塗布するこ→ができる。
（ｇ１発明の効果
以上のように、この発明によれば、塗液減少時の液面よ
り充分に下方に設けられた補給口より新しい塗液を、塗
工に必要な一定液量より多くなるように補給する。こう
して上部に設けられた排出口よりオーバフローさせ溶剤
が蒸発して濃度と粘度が変化した塗液を流出させ、その
分調整法の新しい塗液を補給する。従って、時間を経て
も塗液の濃度と粘度が変化することがなり塗液の濃度と
粘土が一定に保たれる。そして塗布膜の膜厚のバラツキ
が発生することなく、例えば感光体の基体の塗布の場合
は、感光膜の膜厚が一定になり、安定した電子写真特性
を有する感光体を製造することができる。
り充分に下方に設けられた補給口より新しい塗液を、塗
工に必要な一定液量より多くなるように補給する。こう
して上部に設けられた排出口よりオーバフローさせ溶剤
が蒸発して濃度と粘度が変化した塗液を流出させ、その
分調整法の新しい塗液を補給する。従って、時間を経て
も塗液の濃度と粘度が変化することがなり塗液の濃度と
粘土が一定に保たれる。そして塗布膜の膜厚のバラツキ
が発生することなく、例えば感光体の基体の塗布の場合
は、感光膜の膜厚が一定になり、安定した電子写真特性
を有する感光体を製造することができる。
図は、この発明の実施例である塗工容器を適用した感光
体塗布装置の概略構成図である。 １−塗液器（本実施例の塗工容器）、 １）−補給口、 １２〜排出口、 ２〇−感光液（本実施例の塗液）、 ３〇−円筒状基体（本実施例の基体）。
体塗布装置の概略構成図である。 １−塗液器（本実施例の塗工容器）、 １）−補給口、 １２〜排出口、 ２〇−感光液（本実施例の塗液）、 ３〇−円筒状基体（本実施例の基体）。
Claims (1)
- （１）塗液を収容し、前記塗液の中で塗布されるべき基
体に塗布を施すとともに、 一定液量を保つために前記塗液を補給する補給口を、前
記塗液の液量減少時の液面位置より充分下に備える塗工
容器において、 前記一定液量収容時のほぼ液面位置に排出口を設けたこ
とを特徴とする塗工容器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6388090A JPH03267166A (ja) | 1990-03-14 | 1990-03-14 | 塗工容器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6388090A JPH03267166A (ja) | 1990-03-14 | 1990-03-14 | 塗工容器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03267166A true JPH03267166A (ja) | 1991-11-28 |
Family
ID=13242049
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6388090A Pending JPH03267166A (ja) | 1990-03-14 | 1990-03-14 | 塗工容器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03267166A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5058562A (en) * | 1989-07-28 | 1991-10-22 | Toyoda Koki Kabushiki Kaisha | Rotary diamond tool for truing grinding wheel |
| US5133783A (en) * | 1989-10-27 | 1992-07-28 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Inner peripheral type thin plate blade and method of producing the same |
| JP2005326821A (ja) * | 2004-04-14 | 2005-11-24 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体の塗工方法及び塗工装置 |
-
1990
- 1990-03-14 JP JP6388090A patent/JPH03267166A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5058562A (en) * | 1989-07-28 | 1991-10-22 | Toyoda Koki Kabushiki Kaisha | Rotary diamond tool for truing grinding wheel |
| US5133783A (en) * | 1989-10-27 | 1992-07-28 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Inner peripheral type thin plate blade and method of producing the same |
| JP2005326821A (ja) * | 2004-04-14 | 2005-11-24 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体の塗工方法及び塗工装置 |
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