JPH03261191A - レーザー増幅システム - Google Patents

レーザー増幅システム

Info

Publication number
JPH03261191A
JPH03261191A JP5821790A JP5821790A JPH03261191A JP H03261191 A JPH03261191 A JP H03261191A JP 5821790 A JP5821790 A JP 5821790A JP 5821790 A JP5821790 A JP 5821790A JP H03261191 A JPH03261191 A JP H03261191A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
ase
pinhole
high quality
amplified
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5821790A
Other languages
English (en)
Inventor
Nobutada Aoki
延忠 青木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP5821790A priority Critical patent/JPH03261191A/ja
Publication of JPH03261191A publication Critical patent/JPH03261191A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は金属蒸気またはガスをレーザー媒質とするレー
ザー装置をレーザー増幅器として使用するレーザー増幅
シスムに関する。
(従来の技術) レーザー増幅シスムはエネルギ開発、レーザー加工、レ
ーザーによる半導体製造分野などに応用され、とりわけ
、近年ではウラン濃縮技術にも応用されている。
金属蒸気またはガスをレーザ媒質とするレーザー装置の
発振管は口径に比較してその長手寸法が長い。また、レ
ーザーとしての出力を高めるためには複数台のレーザー
装置を使用して、そのうちの1台をレーザー発振器とし
て、それ以外をレーザー増幅器として使用し、全体で高
いレーザー出力を得るレーザー増幅システムとして構成
することが多い。このようなレーザー増幅システムは第
7図に示したような構成をしており、その第7図を参照
して従来例を説明する。
符号1で示すレーザー発振器はレーザー発振管2と、こ
の発振管2を駆動する駆動電源3およびレーザー発振媒
体供給、排気装置I4とからなっている。このレーザー
発振器1から出射したマスタービーム5は、反射ミラー
6.6を通って第1のレーザー増幅器7へ入射する。こ
の第1のレーザー増幅器7は前記レーザー発振器1と同
様な構成をしており、レーザー発振管2.駆動電源3お
よびレーザー発振媒体供給、排気装置4とからなってい
る。
このレーザー増幅器7から出射した増幅ビーム8は反射
ミラー6.6を通って第2のレーザー増幅器7aに入射
する。この第2のレーザー増幅器7aの構成は前記第1
のレーザー増幅器7と同様である。このようにして、従
来のレーザー増幅システムはレーザー発振器1と、後段
の第1のレーザー増幅器7および第2のレーザー増幅器
7aならびに図示してないが必要に応じて第3.第4な
どのレーザー増幅器を複数台配列して大きなレーザー増
幅ビームを得ている。また、第1および第2のレーザー
増幅器7.7aの台数が2台よりもさらに多い場合にも
上述した配置の繰返しで構成される。
(発明が解決しようとする課題) レーザー発振管2からマスタービーム5つまり基準レー
ザービームを取り出す場合、レーザー発振器1および各
レーザー増幅器7,7a・・・の段間に反射ミラー6.
6を使用して光軸を揃えることができる。しかしながら
、第8図および第9図に示したようにレーザー発振器管
2から出射する高品質ビーム9のほか1=AsE10(
^mplilied 5pon+@neous Emi
ssion)と呼ばれる自然放出光(以下、ASEと記
す)が伝送ビーム中に混合する。このASEIOはレー
ザー増幅器7,7a・・・内の増幅エネルギを損失し、
伝送ビーム中の高品質ビーム9の割合を低減する害を及
ぼす性質を有している。
そのため、第7図に示した従来のレーザー増幅システム
ではレーザー増幅器7,7a・・・内の増幅エネルギの
損失を抑え、高品質ビーム9の割合が大きいレーザー増
幅ビームを得ることが困難な課題がある。
本発明は上記課題を解決するためになされたもので、A
SEによる増幅エネルギの損失を抑え、高効率で高品質
のレーザー増幅ビームを得ることができるレーザー増幅
シスムを提供することにある。
[発明の構成コ (課題を解決するための手段) 本発明はレーザー発振器と、このレーザー発振器に少な
くとも1台のレーザー増幅器を組合せてなるレーザー増
幅システムにおいて、前記レーザー発振器とレーザー増
幅器との股間、また、必要に応じてレーザー増幅器とほ
かのレーザー増幅器との段間にピンホールを有する空間
フィルタ装置を設けてなることを特徴とする。
空間フィルタ装置としては凸レンズと凸レンズとの間に
ピンホールを有するピンホール板を介在させて組合せた
もの、または凹面ミラと凹面ミラとの間に前記ピンホー
ル板を介在させて組合せたものからなっている。
(作 用) レーザービーム中には各レーザー発振管からのASEが
発生しているので、このASEを混入したレーザービー
ムをレンズなどによって収束した場合、高品質ビームは
その収束性が高く、非常に小さなスポット径に絞ること
ができる。これに対して、ASEは収束性が極めて低い
。そこで、高品質ビームの収束点(焦点)にピンホール
を配置して、このピンホールによってASEを除去し、
そのピンホール内を高品質ビームだけを通過させ対称に
配置された凸レンズまたは凹面ミラによって平行ビーム
に戻す。このピンホールによって混入したASEの割合
の高いレーザー増幅器内の増幅エネルギの損失を低減す
ることができる。また、取扱うレーザー発振器の発振波
長によるビーム軌道の変化をなくすことができる。
(実施例) 第1図および第2図を参照しながら本発明に係るレーザ
ー増幅システムの一実施例を説明する。
第1図において、符号1はレーザー発振器で、このレー
ザー発振器1はレーザー発振管2と、この発振管2を駆
動する駆動電源3およびレーザー発振媒体供給、排気装
置4とからなっている。このレーザー発振管2から出射
されるマスタービーム5の光軸線上には中間フィルタ装
置としての一対の凸レンズ11. llaが配置されて
おり、この凸レンズ11. lla間にピンホール12
を中心部に有するピンホール板13が配置されている。
凸レンズllaの後側には一対の反射ミラー6゜6aが
配置されている。反射ミラー6aの光軸線上に第1のレ
ーザー増幅器7のレーザー発振管2が配置されている。
この第1のレーザー増幅器7は前記レーザー発振器1と
同様な構成で、レーザー発振管2.駆動電源3およびレ
ーザー発振媒体供給、排気装置4とからなっている。
この第1のレーザー増幅器7の発振管2から出射する増
幅ビーム8の光軸線上には前記レーザー発振器1と同様
に中間フィルタ装置としての一対の凸レンズII、 I
laおよびこの凸レンズIf、 Ila間にピンホール
12を有するピンホール板13が配置されている。凸レ
ンズllaの後側には一対の反射ミラ6.6aが配置さ
れている。反射ミラ6aの後側には前述した第1のレー
ザー増幅器7と同様の構成を有する第2のレーザー増幅
器7aが配置されている。このように第1図に示したレ
ーザー増幅システムはマスタービーム(基準レーザービ
ーム)5を発振する発振管2と、そのビームを増幅する
機能を有するレーザー増幅器7と、マスタービーム5お
よび増幅ビーム8中のASEを除去する目的で設けられ
た一対の凸レンズ11. llaとピンホール12を有
するピンホール板13とを組合せて構成した中間フィル
タ装置および光調整用の反射ミラー6.6aとからなっ
ている。 しかして、レーザー発振器1からのマスター
ビーム中に含まれるA S E 10は第2図に拡大し
てその要部のみ示す一対の凸レンズ11. llaとピ
ンホール12を有するピンホール板13とからなるフィ
ルタ装置で除去されて高品質ビーム9となって第工図に
示した後段のレーザー増幅器7へと伝送される。この伝
送によってA S E l(lによる増幅エネルギの損
失を低減し、効率よく高品質の増幅ビーム8を得ること
ができる。なお、第2図中符号14は高品質ビームの焦
点を示しており、ピンホール板13のピンホール12は
その焦点14に合致させることが必要である。
また、レーザー増幅器7の段数が1段以上になるシステ
ムでは各レーザー増幅器7の段間にも凸レンズII、 
llaおよびピンホール板13を配置してASEを除去
することができる。さらに増幅ビーム8の強度が十分増
加していない低い段の増幅ビームではASEの含有率が
高いため効率の向上に有利となる。
上記実施例では中間フィルタ装置は一対の凸レンズI1
. llaとピンホール板13との組合わせで説明した
が、これに限るものではない。レーザービームの軌道線
はたとえば第3図に示したように取扱うレーザービーム
が複数の発振波長成分を含むレーザービーム15の場合
には凸レンズ11を通過した後の焦点14の位置が破線
で示した焦点14aの位置に波長によるずれ16が生じ
、各波長毎にレーザービームの軌道が分離する。
このような場合には第4図から第6図に示したように、
放物面ミラー17または凸状球面ミラー18などの反射
ミラーを組合せて中間フィルタ装置を構成することが望
ましい。
すなわち、第4図に示した中間フィルタ装置は複数の発
振波長成分を含むレーザービーム15の放射領域に一対
の放物面ミラー17.17aを軸外配置し、この放物面
ミラー17.17aの焦点にピンホール板13を配置し
た例を示している。この例では放物面ミラー17.17
aには軸外でもレーザー波面のゆがみを生じないミラー
を使用することが好ましい。第4図における放物面ミラ
17.17aは精度がすぐれたものを製造することが困
難で高価になるきらいがある。したがって、第5図およ
び第6図に示したような中間フィルタ装置を適用するこ
とによって製造が容易で、低価格で得ることかできる。
すなわち、第5図は通常の凹状球面ミラー18゜18a
を垂直に向い合わせて、中心に孔23を有する一対のス
クレーバーミラ19. 19aを配置し、かつ凹状球面
ミラー18.18a間にピンホール板13を配置した例
である。この例では凹状球面ミラー18゜18a、スク
レーバーミラー19.19aおよびピンホール板13の
ピンホールの相互作用によって、複数の発振波長成分を
含むレーザービーム15からASEを除去した高品質の
出射ビーム20を放射させることができる。
第6図の例は第5図の変形例であって、凹状球面ミラー
I11.18a間に孔23を有する両面コーティングス
クレーバーミラー21を配置した例を示している。この
例においても、複数の発振波長成分を含むレーザービー
ム15は両面コーティングスクレーバー21の表面から
入射し、凹状球面ミラー18゜18a間で反射し、孔2
3でASEが除去されて背面からASEを除去した高品
質の出射ビーム22を得ることができる。
以上、説明した中間フィルタ内を配置することによって
レーザー発振管からのマスタービーム5および増幅ビー
ム8中に含まれるASEを除去することができる。
[発明の効果] 本発明によればレーザービー2ムの増幅に有害なASE
を除去することができ、もって、高い効率でレーザービ
ームを増幅し、高品質の増幅ビームを得ることができる
。また、レーザー発振器からの発振波長によるビーム軌
道の変化をなくすことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係るレーザー増幅システムの一実施例
を示す系統図、第2図は第1図における空間フィルタ装
置を示す装置配置図、第3図は第2図における空間フィ
ルタ装置のレーザービームの軌道線図、第4図から第6
図はそれぞれ空間フィルタ装置の他の例を示す装置配置
図、第7図は従来のレーザー増幅システムを示す系統図
、第8図は第7図におけるレーザービーム中に混入する
自然放出光の軌道線図、第9図は第8図のレーザービー
ムの縦断面図である。 1・・・レーザー発振器 2・・・レーザー発振管 3・・・駆動電源 4・・・レーザー発振媒体供給、排気装置5・・・マス
タービーム 6・・・反射ミラー 7・・・レーザー増幅器 8・・・増幅ビーム 9・・・高品質ビーム 10・・・ASE 11・lla・・・凸レンズ 2・・・ピンホール 3・・・ピンホール板 4・・・高品質ビームの焦点 5・・・複数の発振波長成分を含むレーザービーム6・
・・波長による焦点のずれ 7・・・放物面ミラー 訃・・凹状球面ミラー 9・・・スクレーバーミラー 20・・・出射ビーム 21・・・両面コーティングスクレーバーミラー22・
・・出射ビーム 23・・・孔 (8733)代理人 弁理士 猪 股 祥 晃(ほか 
1名) $3  図 沸 4 盟 茅 図 芽 乙 盟 茅 図 ソ 昇 図 早 ワ 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. レーザー発振器と、このレーザー発振器に少なくとも1
    台のレーザー増幅器を組合わせてなるレーザー増幅シス
    テムにおいて、前記レーザー発振器とレーザー増幅器と
    の段間にピンホールを有する空間フィルタ装置を設けて
    なることを特徴とするレーザー増幅システム。
JP5821790A 1990-03-12 1990-03-12 レーザー増幅システム Pending JPH03261191A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5821790A JPH03261191A (ja) 1990-03-12 1990-03-12 レーザー増幅システム

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5821790A JPH03261191A (ja) 1990-03-12 1990-03-12 レーザー増幅システム

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH03261191A true JPH03261191A (ja) 1991-11-21

Family

ID=13077897

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5821790A Pending JPH03261191A (ja) 1990-03-12 1990-03-12 レーザー増幅システム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH03261191A (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008042048A (ja) * 2006-08-09 2008-02-21 Komatsu Ltd 極端紫外光源装置用ドライバーレーザ
JP2008135631A (ja) * 2006-11-29 2008-06-12 Komatsu Ltd 露光装置用狭帯域レーザ装置
JP2008172202A (ja) * 2006-11-14 2008-07-24 Asml Netherlands Bv 放射ビームのパルス間の均一性を向上させる方法
WO2015008405A1 (ja) * 2013-07-18 2015-01-22 三菱電機株式会社 ガスレーザ装置
WO2015033830A1 (ja) * 2013-09-05 2015-03-12 ギガフォトン株式会社 レーザ増幅器、及びレーザ装置、並びに極端紫外光生成システム
WO2015045102A1 (ja) * 2013-09-27 2015-04-02 ギガフォトン株式会社 レーザ装置及び極端紫外光生成システム
WO2016151827A1 (ja) * 2015-03-25 2016-09-29 ギガフォトン株式会社 レーザ装置
CN114815123A (zh) * 2022-05-11 2022-07-29 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 激光扩束器

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008042048A (ja) * 2006-08-09 2008-02-21 Komatsu Ltd 極端紫外光源装置用ドライバーレーザ
JP2008172202A (ja) * 2006-11-14 2008-07-24 Asml Netherlands Bv 放射ビームのパルス間の均一性を向上させる方法
JP2008135631A (ja) * 2006-11-29 2008-06-12 Komatsu Ltd 露光装置用狭帯域レーザ装置
US9515446B2 (en) 2013-07-18 2016-12-06 Mitsubishi Electric Corporation Gas laser device
JP5985059B2 (ja) * 2013-07-18 2016-09-06 三菱電機株式会社 ガスレーザ装置
WO2015008405A1 (ja) * 2013-07-18 2015-01-22 三菱電機株式会社 ガスレーザ装置
WO2015033830A1 (ja) * 2013-09-05 2015-03-12 ギガフォトン株式会社 レーザ増幅器、及びレーザ装置、並びに極端紫外光生成システム
WO2015033426A1 (ja) * 2013-09-05 2015-03-12 ギガフォトン株式会社 レーザ増幅器、及びレーザ装置、並びに極端紫外光生成システム
JPWO2015033830A1 (ja) * 2013-09-05 2017-03-02 ギガフォトン株式会社 レーザ増幅器、及びレーザ装置、並びに極端紫外光生成システム
US9685756B2 (en) 2013-09-05 2017-06-20 Gigaphoton Inc. Laser amplifier, laser apparatus, and extreme ultraviolet light generating system
WO2015045102A1 (ja) * 2013-09-27 2015-04-02 ギガフォトン株式会社 レーザ装置及び極端紫外光生成システム
JPWO2015045102A1 (ja) * 2013-09-27 2017-03-02 ギガフォトン株式会社 レーザ装置及び極端紫外光生成システム
US9762024B2 (en) 2013-09-27 2017-09-12 Gigaphoton Inc. Laser apparatus and extreme ultraviolet light generation system
WO2016151827A1 (ja) * 2015-03-25 2016-09-29 ギガフォトン株式会社 レーザ装置
CN114815123A (zh) * 2022-05-11 2022-07-29 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 激光扩束器

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5210643A (en) Wave combining apparatus for semiconductor lasers
US5926494A (en) Laser systems with improved performance and reduced parasitics and method
US4429393A (en) Double phase-conjugate ring resonator
WO1987005751A1 (en) Efficient phase conjugate laser
US4551684A (en) Noise reduction in laser amplifiers
KR100491558B1 (ko) 광 조사 장치와 광 조사 방법
JPS60130934A (ja) 光アイソレ−タ
JPH03261191A (ja) レーザー増幅システム
US5832020A (en) Solid-state laser forming highly-repetitive, high-energy and high-power laser beam
JP2003502850A (ja) 固体レーザ
JPH11316318A (ja) 光学結合装置
US7436581B2 (en) Apparatus and method for self-phase control with stimulated Brillouin scattering phase conjugate mirror
JPH11271670A (ja) アフォーカル結像光学系及びレーザ装置
JPH0259192A (ja) 大出力レーザ装置
JP2001007427A (ja) 固体レーザ光伝搬装置
JP2648433B2 (ja) ゼロ損失導波体結合器
JP2940050B2 (ja) レーザー装置
JP3219532B2 (ja) レーザービーム伝送装置
JP2550693B2 (ja) 固体レーザ装置
JPS5917523A (ja) 光学装置
JPH0249483A (ja) レーザ増幅器
JPS60128409A (ja) レ−ザモジユ−ル装置
CN117096716A (zh) 一种位相可任意编程的激光器
JPH09214069A (ja) レーザー光パターン成形装置及び色素レーザー装置
JP2023553749A (ja) レーザービーム増幅デバイス