JPH03248342A - 光ディスク基板の製造方法 - Google Patents
光ディスク基板の製造方法Info
- Publication number
- JPH03248342A JPH03248342A JP2046121A JP4612190A JPH03248342A JP H03248342 A JPH03248342 A JP H03248342A JP 2046121 A JP2046121 A JP 2046121A JP 4612190 A JP4612190 A JP 4612190A JP H03248342 A JPH03248342 A JP H03248342A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical disk
- disk
- recording
- substrate
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 38
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 36
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 22
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 32
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims abstract description 31
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 claims abstract description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 30
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 12
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 9
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 7
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims description 6
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 abstract description 11
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光ディスク基板とその製造方法、特に、情報
の読みだし専用であるビデオディスク。
の読みだし専用であるビデオディスク。
ＣＤやＣＤ−ＲＯＭ、情報の追記可能な追記型光ディス
ク、情報の書換え可能な書換え可能型光ディスクなどの
光ディスク基板とその製造方法に関する。
ク、情報の書換え可能な書換え可能型光ディスクなどの
光ディスク基板とその製造方法に関する。
従来の光ディスク基板は、第６図に示すような工程で製
造されている。
造されている。
以下、順を追って説明する。
囚 ガラス円盤製作工程では、カラス円盤１の表面を研
磨し、洗浄を行う。
磨し、洗浄を行う。
（Ｂ） ホトレジスト塗布工程では、表面研磨し、洗
浄されたガラス円盤１の表面にホトレジスト１３を塗布
し、これを乾燥する。
浄されたガラス円盤１の表面にホトレジスト１３を塗布
し、これを乾燥する。
レーザ光による記録工程では、記録すべき情報をレーザ
光４の強度変調によりガラス円盤１に塗布されたホトレ
ジス）１３に照射し、露光（Ｃ） を行う。
光４の強度変調によりガラス円盤１に塗布されたホトレ
ジス）１３に照射し、露光（Ｃ） を行う。
（Ｄ） 現像工程では、ホトレジスト１３の現像を行
う。露光されていない部分のホトレジス）１３は現像処
理で反応せず、レーザ光４により露光された部分のホト
レジスト１３は現像処理で反応してピット１４ができる
。このようにしてできたガラス円盤をガラス原盤という
。
う。露光されていない部分のホトレジス）１３は現像処
理で反応せず、レーザ光４により露光された部分のホト
レジスト１３は現像処理で反応してピット１４ができる
。このようにしてできたガラス円盤をガラス原盤という
。
（Ｅ） メッキ工程では、ガラス原盤にメッキを行う
。
。
このメッキをした金属を剥すと、ガラス原盤のピット等
の凹凸が反転して転写されている。これをスタンバ１５
という。
の凹凸が反転して転写されている。これをスタンバ１５
という。
（Ｆ） 成形工程では、前述のスタンバ１５を用いて
、ポリカーボネート等のプラスチック材料を射出成形等
の技術で転写し、あるいはフォトポリマー（２Ｐ）法等
で転写して光ディスク基板１６の成形をする。このとき
、スタンバ１５の凹凸は反転して転写されるので、最終
的に成形される光ディスク基板１６の凹凸は、ガラス原
盤と一致する。
、ポリカーボネート等のプラスチック材料を射出成形等
の技術で転写し、あるいはフォトポリマー（２Ｐ）法等
で転写して光ディスク基板１６の成形をする。このとき
、スタンバ１５の凹凸は反転して転写されるので、最終
的に成形される光ディスク基板１６の凹凸は、ガラス原
盤と一致する。
以上のように製作される光ディスク基板１６には、そ九
ぞれの光ティスフの用途に応じて反射膜、保護膜、記録
膜等が成膜される。
ぞれの光ティスフの用途に応じて反射膜、保護膜、記録
膜等が成膜される。
第９図は、従来の光ディスク基板１６を用いて光磁気テ
ィスフとしたときの一例であり、トラッキングサーボを
動作させるための溝１９．トラッキングやセクターのア
ドレス等の情報を記録してし・るピット１７（基板のへ
こみのこと）が形成された光ディスク基板１６上に、中
間膜８．磁性記録膜９．保護膜１０が構成される。この
ような従来の光ディスク基板１６は、ピッ）１７や溝１
９はほぼ緩やかな曲面で形成されているが、ピット１７
の底部に鋭角部分１８を有している。この光ディスク基
板１７の鋭角部分１８は、光ディスク基板１６上に成膜
される中間膜８．記録膜９．保護膜１０にも影響を与え
、急峻な断差を形成する。
ィスフとしたときの一例であり、トラッキングサーボを
動作させるための溝１９．トラッキングやセクターのア
ドレス等の情報を記録してし・るピット１７（基板のへ
こみのこと）が形成された光ディスク基板１６上に、中
間膜８．磁性記録膜９．保護膜１０が構成される。この
ような従来の光ディスク基板１６は、ピッ）１７や溝１
９はほぼ緩やかな曲面で形成されているが、ピット１７
の底部に鋭角部分１８を有している。この光ディスク基
板１７の鋭角部分１８は、光ディスク基板１６上に成膜
される中間膜８．記録膜９．保護膜１０にも影響を与え
、急峻な断差を形成する。
光ディスクでは、媒体に断差を生ずるような欠陥やゴミ
があるとその部分から記録膜や保護膜の剥離や腐食が起
こりやすい傾向があり、上記鋭角部分１８も剥離や腐食
を起こしやすくなる傾向を持つ。
があるとその部分から記録膜や保護膜の剥離や腐食が起
こりやすい傾向があり、上記鋭角部分１８も剥離や腐食
を起こしやすくなる傾向を持つ。
光ディスク基板１６にこのような鋭角部分１８が存在す
る理由は、以下の製造方法によるためである。
る理由は、以下の製造方法によるためである。
前述したように、従来の光ディスク基板製造工程は、第
６図に示す工程で作られる。第７図は、第６図（Ｃ）の
拡大図であるが、ガラス円盤ｌ上にホトレジスト１１が
塗布されて構成されたガラス原盤上に、レーザ光４を照
射して記録が行われる。
６図に示す工程で作られる。第７図は、第６図（Ｃ）の
拡大図であるが、ガラス円盤ｌ上にホトレジスト１１が
塗布されて構成されたガラス原盤上に、レーザ光４を照
射して記録が行われる。
このガラス原盤を現像処理すると第８図のようになる。
ピット１４はガラス円盤１が露出するため、鋭角部分が
発生する。このガラス原盤から、第６図の（Ｅ）メッキ
工程、（Ｆ）成形工程を経て光ディスク基板を作成する
と、第９図に示すようなピット１７の底部に鋭角部分１
８が発生する。
発生する。このガラス原盤から、第６図の（Ｅ）メッキ
工程、（Ｆ）成形工程を経て光ディスク基板を作成する
と、第９図に示すようなピット１７の底部に鋭角部分１
８が発生する。
第６図の（Ｃ）レーザ光による記録工程で、ガラス円盤
１が露出しないように弱いレーザ光を照射して現像処理
すると、ピットのエツジがなだらかになりすぎるために
、再生信号強度が取れず、また情報の記録密度も低下す
る。したがって、ピットエツジをなだらかにすることが
出来ない。
１が露出しないように弱いレーザ光を照射して現像処理
すると、ピットのエツジがなだらかになりすぎるために
、再生信号強度が取れず、また情報の記録密度も低下す
る。したがって、ピットエツジをなだらかにすることが
出来ない。
以上から、従来の光ディスク基板製造方法では、ピット
部に鋭角部分を作らずに光ディスク基板を作成すること
ができなかった。
部に鋭角部分を作らずに光ディスク基板を作成すること
ができなかった。
しかしながら、このような従来の光ディスク基板および
その製造方法は、記録膜や保護膜の剥離や腐食が起りや
すく長期信頼性に欠けるという欠点がある。
その製造方法は、記録膜や保護膜の剥離や腐食が起りや
すく長期信頼性に欠けるという欠点がある。
（１）本発明の光ディスク基板は、情報をピットの有無
で記録してある光ディスク基板において、ピットの底部
が鋭角を有せずに曲面で形成されて構成される。
で記録してある光ディスク基板において、ピットの底部
が鋭角を有せずに曲面で形成されて構成される。
（２）本発明の光ディスク基板製造方法は、情報をピッ
トの有無で記録してある光ディスク基板の製造方法にお
いて、ガラス円盤製作工程、ホトレジスト塗布工程、レ
ーザ光による記録工程。
トの有無で記録してある光ディスク基板の製造方法にお
いて、ガラス円盤製作工程、ホトレジスト塗布工程、レ
ーザ光による記録工程。
現像工程２メッキ工程および成形工程からなり、前記ホ
トレジスト塗布工程において感度特性の異なる２種類以
上のホトレジストを使用して構成される。
トレジスト塗布工程において感度特性の異なる２種類以
上のホトレジストを使用して構成される。
次に、本発明の実施例について、図面を参照して詳細に
説明する。
説明する。
第１図は本発明の一実施例を示す製造工程図である。
第１図に示す光ディスク基板製造方法は、従来の光ディ
スク基板製造工程とはホトレジスト塗布工程が異なり、
第１ホトレジスト塗布工程Ｂ１と第２ホトレジスト塗布
工程Ｂ２の２段階の工程からなる。
スク基板製造工程とはホトレジスト塗布工程が異なり、
第１ホトレジスト塗布工程Ｂ１と第２ホトレジスト塗布
工程Ｂ２の２段階の工程からなる。
第２図は、第１ホトレジスト塗布工程Ｂ１と第２ホトレ
ジスト塗布工程Ｂ２を終了した後のガラス原盤に、レー
ザ光４を照射して露光する図である。ガラス原盤上には
、第１ホトレジスト層２と第２ホトレジスト層３が積層
されている。この第１ホトレジスト層２と第２ホトレジ
スト層３の感度特性を第３図に示す。これにレーザビー
ム４を照射して露光するが、このとき、レーザビーム４
の露光パワーは、現像処理後に第４図に示すようにピッ
ト５でカラス基板１が露出しない露光パワーを用いる。
ジスト塗布工程Ｂ２を終了した後のガラス原盤に、レー
ザ光４を照射して露光する図である。ガラス原盤上には
、第１ホトレジスト層２と第２ホトレジスト層３が積層
されている。この第１ホトレジスト層２と第２ホトレジ
スト層３の感度特性を第３図に示す。これにレーザビー
ム４を照射して露光するが、このとき、レーザビーム４
の露光パワーは、現像処理後に第４図に示すようにピッ
ト５でカラス基板１が露出しない露光パワーを用いる。
これにより、ピット底部は鋭角を有せずに、緩やかな曲
面で構成される。このとき、第２ホトレジスト膜３の露
光感度は、第１ホトレジスト膜２の露光感度よりも高い
ので、ピットのエツジは急峻にすることができるため、
従来例とは異なって、充分な再生信号強度を得ることが
てき、また情報の記録密度を低下することもない。
面で構成される。このとき、第２ホトレジスト膜３の露
光感度は、第１ホトレジスト膜２の露光感度よりも高い
ので、ピットのエツジは急峻にすることができるため、
従来例とは異なって、充分な再生信号強度を得ることが
てき、また情報の記録密度を低下することもない。
第４図に示したガラス原盤から第１図に示すメッキ工程
Ｅと成形工程Ｆを経て、本発明による鋭角を有せずに曲
面でへこんでいるピットの光ディスク基板が作成できる
。
Ｅと成形工程Ｆを経て、本発明による鋭角を有せずに曲
面でへこんでいるピットの光ディスク基板が作成できる
。
この発明による光ティスフ基板を使用して、光磁気ディ
スクとしたときの実施例の断面図を第５図に示す。
スクとしたときの実施例の断面図を第５図に示す。
第５図の本発明による光ティスフ基板７にはトラッキン
グサーボを動作させるための溝１２．トラックやセクタ
ーのアドレス等の情報を記録しているピット１１が形成
され、その上に中間膜８゜磁性記録膜９．保護膜ｌＯが
構成される。このとき基板のピット１１には第９図に示
したような鋭角部分１８がないため、記録膜や保護膜の
剥離や腐食は起こらなくなる。
グサーボを動作させるための溝１２．トラックやセクタ
ーのアドレス等の情報を記録しているピット１１が形成
され、その上に中間膜８゜磁性記録膜９．保護膜ｌＯが
構成される。このとき基板のピット１１には第９図に示
したような鋭角部分１８がないため、記録膜や保護膜の
剥離や腐食は起こらなくなる。
本発明の光ディスク基板とその製造方法は、ビット底部
の鋭角部のない基板の提供が可能になるため、記録膜や
保護膜の剥離や腐食が起こらなくなり、長期信頼性を向
上できるという効果がある。
の鋭角部のない基板の提供が可能になるため、記録膜や
保護膜の剥離や腐食が起こらなくなり、長期信頼性を向
上できるという効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示す製造工程図、第２図は
第１図に示す記録工程におけるガラス原盤およびレーザ
照射状態を示す断面図、第３図は第２図に示す各レジス
ト膜の感度特性図、第４図は第１図に示す現像工程後の
ガラス原盤の断面図、第５図は第１図に示す製造工程を
経て製造された光ティスフ基板を用いて製作された光磁
気ディスクの断面図、第６図は従来の一例を示す製造工
程図、第７図は第６図に示す記録工程におけるガラス原
盤およびレーザ照射状態を示す断面図、第８図は第６図
に示す現像工程後のガラス原盤の断面図、第９図は第６
図に示す製造工程を経て製造された光ティスフ基板を用
いて製作された光磁気ディスクの断面図である。 Ｇ、Ｇｌ・・・・・ガラス原盤、１・・・・ガラス円盤
、２・・・・・・第１ホトレジスト層、３・・・・・・
第２ホトレジスト層、４・・・・・・レーザ光、５，１
１，１４．１７・・・・・ピット、６．１５・・・・・
・スタンバ、７．１６・・・・・・光ディスク基板、８
・・・・・・中間膜、９・・・・・・磁性記録膜、ｌＯ
・・・・・・保護膜、１２．１９・・・・・・溝、１３
・・・・・ホトレジスト、１８・・・・・・鋭角部分、
Ａ・・・・カラス円盤製造工程、Ｂ１・・・・・第１ホ
トレジスト塗布工程、Ｂ２・・・・・・第２ホトレジス
ト塗布工程、Ｂ・・・・・ホトレジスト塗布工程、Ｃ・
・・・−記録工程、Ｄ・・・・・現像工程、Ｅ・・・・
・・メッキ工程、Ｆ・・・・・・成形工程、 １・・・・・・残膜厚、■・・・・・・露光量。
第１図に示す記録工程におけるガラス原盤およびレーザ
照射状態を示す断面図、第３図は第２図に示す各レジス
ト膜の感度特性図、第４図は第１図に示す現像工程後の
ガラス原盤の断面図、第５図は第１図に示す製造工程を
経て製造された光ティスフ基板を用いて製作された光磁
気ディスクの断面図、第６図は従来の一例を示す製造工
程図、第７図は第６図に示す記録工程におけるガラス原
盤およびレーザ照射状態を示す断面図、第８図は第６図
に示す現像工程後のガラス原盤の断面図、第９図は第６
図に示す製造工程を経て製造された光ティスフ基板を用
いて製作された光磁気ディスクの断面図である。 Ｇ、Ｇｌ・・・・・ガラス原盤、１・・・・ガラス円盤
、２・・・・・・第１ホトレジスト層、３・・・・・・
第２ホトレジスト層、４・・・・・・レーザ光、５，１
１，１４．１７・・・・・ピット、６．１５・・・・・
・スタンバ、７．１６・・・・・・光ディスク基板、８
・・・・・・中間膜、９・・・・・・磁性記録膜、ｌＯ
・・・・・・保護膜、１２．１９・・・・・・溝、１３
・・・・・ホトレジスト、１８・・・・・・鋭角部分、
Ａ・・・・カラス円盤製造工程、Ｂ１・・・・・第１ホ
トレジスト塗布工程、Ｂ２・・・・・・第２ホトレジス
ト塗布工程、Ｂ・・・・・ホトレジスト塗布工程、Ｃ・
・・・−記録工程、Ｄ・・・・・現像工程、Ｅ・・・・
・・メッキ工程、Ｆ・・・・・・成形工程、 １・・・・・・残膜厚、■・・・・・・露光量。
Claims (2)
- （１）情報をピットの有無で記録してある光ディスク基
板において、ピットの底部が鋭角を有せずに曲面で形成
されていることを特徴とする光ディスク基板。 - （２）ガラス円盤を製作するガラス円盤製作工程と、感
度特性の異なる２種類以上のホトレジストを使用するホ
トレジスト塗布工程と、レーザ光による記憶を行なう記
録工程と、前記記録の現像を行なう現像工程と、前記ガ
ラス円盤上に現像により現われた記録にメッキを施すメ
ッキ工程と、前記メッキにより形成されたスタンパによ
り光ディスクを成形する成形工程とを含むことを特徴と
する光ディスク基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2046121A JP2689672B2 (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | 光ディスク基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2046121A JP2689672B2 (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | 光ディスク基板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03248342A true JPH03248342A (ja) | 1991-11-06 |
| JP2689672B2 JP2689672B2 (ja) | 1997-12-10 |
Family
ID=12738161
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2046121A Expired - Fee Related JP2689672B2 (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | 光ディスク基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2689672B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL1021760C2 (nl) * | 2002-10-28 | 2004-05-03 | Otb Groep B V | Moederplaat voor het fabriceren van een stempelplaat alsmede een stempelplaat en opslagmedium en een werkwijze voor het fabriceren van de moederplaat, stempelplaat en opslagmedium. |
| US8040764B2 (en) * | 2008-05-30 | 2011-10-18 | Sony Corporation | Optical disc apparatus and correction servo control signal generation method |
| US8274875B2 (en) | 2008-05-26 | 2012-09-25 | Sony Corporation | Optical disc device and focus control method |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5266407A (en) * | 1975-11-29 | 1977-06-01 | Victor Co Of Japan Ltd | Disc form information signal recording medium |
| JPS5495391A (en) * | 1978-01-13 | 1979-07-27 | Fujikura Ltd | Method of manufacturing overhead cable clad with pipe |
| JPS5862451U (ja) * | 1981-10-20 | 1983-04-27 | ティーディーケイ株式会社 | 光記録媒体 |
| JPS61153850A (ja) * | 1984-12-26 | 1986-07-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光デイスク用原盤およびその製造方法 |
| JPH0229955A (ja) * | 1988-07-18 | 1990-01-31 | Nec Corp | 光ディスク製造方法 |
-
1990
- 1990-02-26 JP JP2046121A patent/JP2689672B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5266407A (en) * | 1975-11-29 | 1977-06-01 | Victor Co Of Japan Ltd | Disc form information signal recording medium |
| JPS5495391A (en) * | 1978-01-13 | 1979-07-27 | Fujikura Ltd | Method of manufacturing overhead cable clad with pipe |
| JPS5862451U (ja) * | 1981-10-20 | 1983-04-27 | ティーディーケイ株式会社 | 光記録媒体 |
| JPS61153850A (ja) * | 1984-12-26 | 1986-07-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光デイスク用原盤およびその製造方法 |
| JPH0229955A (ja) * | 1988-07-18 | 1990-01-31 | Nec Corp | 光ディスク製造方法 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL1021760C2 (nl) * | 2002-10-28 | 2004-05-03 | Otb Groep B V | Moederplaat voor het fabriceren van een stempelplaat alsmede een stempelplaat en opslagmedium en een werkwijze voor het fabriceren van de moederplaat, stempelplaat en opslagmedium. |
| WO2004038714A1 (en) * | 2002-10-28 | 2004-05-06 | Singulus Mastering B.V. | Master plate for fabricating a stamper plate, stamper plate, storage medium, and method for fabricating the master plate, stamper plate and storage medium |
| US8274875B2 (en) | 2008-05-26 | 2012-09-25 | Sony Corporation | Optical disc device and focus control method |
| US8040764B2 (en) * | 2008-05-30 | 2011-10-18 | Sony Corporation | Optical disc apparatus and correction servo control signal generation method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2689672B2 (ja) | 1997-12-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0427615B2 (ja) | ||
| JP2689672B2 (ja) | 光ディスク基板の製造方法 | |
| JPH10241213A (ja) | 光ディスク用スタンパーの製造方法 | |
| JPH11120626A (ja) | 光ディスク作製用マスタディスクの製造方法 | |
| JP3344653B2 (ja) | 光ディスクの製造方法 | |
| JPS60147946A (ja) | 光メモリ素子の製造方法 | |
| JPH08180457A (ja) | 光ディスク及びその製造方法 | |
| JPH09128801A (ja) | 光学式情報記録再生媒体 | |
| JPH10106047A (ja) | 光学記録媒体の製造方法 | |
| JPH0352141B2 (ja) | ||
| JPH10241214A (ja) | 光ディスク用スタンパーの製造方法 | |
| JPH01276442A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JPH1011801A (ja) | 光ディスク基板 | |
| JPH11353719A (ja) | 光ディスク原盤の製造方法 | |
| JPH0648548B2 (ja) | 光メモリ素子の製造方法 | |
| JPS5877044A (ja) | デイスク原盤製造方法 | |
| JPS60258743A (ja) | 光デイスク | |
| JPS6273440A (ja) | 光メモリ素子 | |
| JPS63133334A (ja) | 光デイスク用原盤の製造方法 | |
| JPS6139248A (ja) | 光情報記録担体 | |
| JPH02189743A (ja) | 光ディスク | |
| JPS60197960A (ja) | 光メモリ素子の製造方法 | |
| JPH0388150A (ja) | ディスク状記録担体 | |
| JPH01258247A (ja) | 光記録媒体の製造方法および構造 | |
| JP2001351270A (ja) | 光ディスクの製造方法および光ディスク |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |