JPH03232514A - 粉塵を除去する装置及びそれを用いた有害性排ガス中の粉塵を除去する方法 - Google Patents
粉塵を除去する装置及びそれを用いた有害性排ガス中の粉塵を除去する方法Info
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- JPH03232514A JPH03232514A JP2887890A JP2887890A JPH03232514A JP H03232514 A JPH03232514 A JP H03232514A JP 2887890 A JP2887890 A JP 2887890A JP 2887890 A JP2887890 A JP 2887890A JP H03232514 A JPH03232514 A JP H03232514A
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- Separation Of Particles Using Liquids (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、ガス中に含まれる粉塵を除去する装置及びこ
の装置を用いてその除塵装置の上流の有害性排ガス発生
源や下流の有害性排ガス処理装置に圧力変動を起こさな
いで有害性排ガスを除塵する方法に関するものである− (従来の技術および発明が解決しようとする課題)半導
体製造工程からは、アルシン、ホスフィン、ジボラン、
モノシラン等で代表されるガス状の有毒性物質を含む有
害性排ガスが生成する。このような有害性排ガスは人体
に対する毒性が極めて高いので、その排ガスの大気への
放出に際してはそれに含まれる有害性物質の完全除去が
要求される。
の装置を用いてその除塵装置の上流の有害性排ガス発生
源や下流の有害性排ガス処理装置に圧力変動を起こさな
いで有害性排ガスを除塵する方法に関するものである− (従来の技術および発明が解決しようとする課題)半導
体製造工程からは、アルシン、ホスフィン、ジボラン、
モノシラン等で代表されるガス状の有毒性物質を含む有
害性排ガスが生成する。このような有害性排ガスは人体
に対する毒性が極めて高いので、その排ガスの大気への
放出に際してはそれに含まれる有害性物質の完全除去が
要求される。
排ガス中に含まれる有害性物質を除去するための有効な
方法として、吸着法が広く知られており、また燃焼法(
特開昭62−134414号、特開昭62−15251
7号)も知られている。前者の方法は、排ガス中の有害
性物質を吸着剤を充填した吸着層において吸着除去する
方法であり、後者の方法は排ガス中の有害性物質を燃焼
条件で酸化分解し、単体元素や酸化物の固体状物質に変
換させて除去する方法である。
方法として、吸着法が広く知られており、また燃焼法(
特開昭62−134414号、特開昭62−15251
7号)も知られている。前者の方法は、排ガス中の有害
性物質を吸着剤を充填した吸着層において吸着除去する
方法であり、後者の方法は排ガス中の有害性物質を燃焼
条件で酸化分解し、単体元素や酸化物の固体状物質に変
換させて除去する方法である。
半導体製造工程より排出される排ガス中にはAs。
P、Ga、In、Si、AQなどの有害物の固体粒子が
排ガスに同伴されてくる。この固体粒子は、吸着法では
吸着層を閉塞する原因となり、一方、燃焼法では燃焼炉
のバーナーで有害性排ガスを燃焼処理する際にその同伴
量があまりに多くなると燃焼に支障をきたす恐れがある
のであらかじめ除去しなければならない。
排ガスに同伴されてくる。この固体粒子は、吸着法では
吸着層を閉塞する原因となり、一方、燃焼法では燃焼炉
のバーナーで有害性排ガスを燃焼処理する際にその同伴
量があまりに多くなると燃焼に支障をきたす恐れがある
のであらかじめ除去しなければならない。
ところで、一般的に気体から粉塵を除去する洗浄除塵に
用いる装置には、気液混相流を形成させる方式のジェッ
トスクラバー、サイクロンスクラバー、ベンチュリース
クラバーが知られている。
用いる装置には、気液混相流を形成させる方式のジェッ
トスクラバー、サイクロンスクラバー、ベンチュリース
クラバーが知られている。
しかし、このようなスクラバーをそのまま前記有害性排
ガスの除塵装置として用いる時には、気液混相流の生じ
る部分で起る不規則な圧力変動がその上流側のガス発生
源である半導体製造装置に伝達されて悪影響を与えると
ともに、その下流側の燃焼炉や吸着装置にも伝達されて
その運転条件を変動させる等の不都合を生じる。従って
、粉塵を含むガスの除塵装置において、その上流側及び
下流側に圧力変動を生じさせない装置の開発が強く要望
されている。
ガスの除塵装置として用いる時には、気液混相流の生じ
る部分で起る不規則な圧力変動がその上流側のガス発生
源である半導体製造装置に伝達されて悪影響を与えると
ともに、その下流側の燃焼炉や吸着装置にも伝達されて
その運転条件を変動させる等の不都合を生じる。従って
、粉塵を含むガスの除塵装置において、その上流側及び
下流側に圧力変動を生じさせない装置の開発が強く要望
されている。
(課題を解決するための手段)
本発明者らは、除塵処理において、その上流側及び下流
側に圧力変動を生じさせない除塵装置を開発すべく鋭意
研究を重ねた結果、除塵槽内にジェットスクラバーを内
蔵させた除塵装置を用いることによってその課題を解決
し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。
側に圧力変動を生じさせない除塵装置を開発すべく鋭意
研究を重ねた結果、除塵槽内にジェットスクラバーを内
蔵させた除塵装置を用いることによってその課題を解決
し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明によれば、除塵槽内部に、加圧液流のライ
ンに連なるスプレーノズル及び除塵槽内に開放するガス
吸込口を有するジェットスクラバーを垂設し、さらに除
塵槽にはその上端に除塵された気体の排ガスライン及び
その底部には排液ラインを設け、かつこの排液ラインを
前記加圧液流のラインに接続してなるガス中の粉塵を除
去する装置が提供される。
ンに連なるスプレーノズル及び除塵槽内に開放するガス
吸込口を有するジェットスクラバーを垂設し、さらに除
塵槽にはその上端に除塵された気体の排ガスライン及び
その底部には排液ラインを設け、かつこの排液ラインを
前記加圧液流のラインに接続してなるガス中の粉塵を除
去する装置が提供される。
また、その装置を使用する方法として、有害性排ガス発
生源の下流に除塵槽を介設して、その内部にジェットス
クラバーを予めそのガス吸込口を除塵槽内に開放させて
垂設し、排ガス中の粉塵をこのガス吸込口から吸引させ
るとともにジェットスクラバー内に導入される加圧液流
により除塵槽底部に噴霧して沈積させ、同時に貯留液を
上記加圧液流として循環させることを特徴とする有害性
排ガス中の粉塵を除去する方法が提供される。
生源の下流に除塵槽を介設して、その内部にジェットス
クラバーを予めそのガス吸込口を除塵槽内に開放させて
垂設し、排ガス中の粉塵をこのガス吸込口から吸引させ
るとともにジェットスクラバー内に導入される加圧液流
により除塵槽底部に噴霧して沈積させ、同時に貯留液を
上記加圧液流として循環させることを特徴とする有害性
排ガス中の粉塵を除去する方法が提供される。
(発明の実施例)
本発明における有害性排ガスの処理装置の一例を図面に
ついて説明すると、第1図において、1は半導体製造装
置等の有害性排ガス発生源を示す。
ついて説明すると、第1図において、1は半導体製造装
置等の有害性排ガス発生源を示す。
2は吸着処理装置、3は燃焼処理装置、4は逆火防止装
置、5は除塵フィルター、29は除塵装置を各示す、有
害性排ガス発生源からの有害性排ガス供給ライン(配管
)は、その切換バルブ7及び8により吸着処理装置2に
続くライン9と、燃焼処理装置3に続くラインIfとに
分岐される0通常の状態においては、吸着処理装置に続
くバルブ7は閉とされ、燃焼処理装置に続くバルブ8は
開放される。
置、5は除塵フィルター、29は除塵装置を各示す、有
害性排ガス発生源からの有害性排ガス供給ライン(配管
)は、その切換バルブ7及び8により吸着処理装置2に
続くライン9と、燃焼処理装置3に続くラインIfとに
分岐される0通常の状態においては、吸着処理装置に続
くバルブ7は閉とされ、燃焼処理装置に続くバルブ8は
開放される。
有害性排ガス発生源lからの有害性排ガス(以下、単に
排ガスとも言う)は、ライン6、除塵装置29、逆火防
止装置f4を通過した後、ライン10を通り、バルブ8
及びライン11を通り、さらにバーナー12を通って燃
焼処理装置3内に噴出されて燃焼処理される。燃焼排ガ
スは、ライン13を通って装置から抜出され、除塵フィ
ルター5及び排気ポンプ14を通って大気へ放出される
。燃焼処理装置3では、有害性排ガスの燃焼処理により
生成した微粉末は、燃焼処理装置の上端部にライン18
を介して導入され、炉壁を液膜として流下する液体及び
中間部にライン18′を介してスプレーされた液滴によ
って捕捉される。微粉末を捕捉した液体は、装置底部か
ら、ライン15、液循環ポンプ16、冷却器17を通っ
て再び焼燃炉へ循環される。その循環液の一部はライン
19を通って廃液ドラム20に貯留される。
排ガスとも言う)は、ライン6、除塵装置29、逆火防
止装置f4を通過した後、ライン10を通り、バルブ8
及びライン11を通り、さらにバーナー12を通って燃
焼処理装置3内に噴出されて燃焼処理される。燃焼排ガ
スは、ライン13を通って装置から抜出され、除塵フィ
ルター5及び排気ポンプ14を通って大気へ放出される
。燃焼処理装置3では、有害性排ガスの燃焼処理により
生成した微粉末は、燃焼処理装置の上端部にライン18
を介して導入され、炉壁を液膜として流下する液体及び
中間部にライン18′を介してスプレーされた液滴によ
って捕捉される。微粉末を捕捉した液体は、装置底部か
ら、ライン15、液循環ポンプ16、冷却器17を通っ
て再び焼燃炉へ循環される。その循環液の一部はライン
19を通って廃液ドラム20に貯留される。
このような燃焼処理装置は、特願昭63−218389
号及び特願昭63−284930号明細書に記載されて
いる。
号及び特願昭63−284930号明細書に記載されて
いる。
燃焼バーナ12への排ガス供給ライン11には、必要に
応じ、可燃性ガスがライン21を通って導入され、燃焼
バーナー12には支燃ガスとしての酸素又は空気がライ
ン22を通って導入される。さらに、ライン11には、
窒素ガスライン23がバルブ25及びライン27を介し
て接続されるとともに、給水ライン24がバルブ26及
びライン27を介して接続され、必要に応じ、窒素ガス
と水との混合物がライン27を通って燃焼バーナノズル
内を流れるようになっている。水と窒素ガスとの混合物
を燃焼バーナノズル内を流通させることによって、バー
ナノズルの洗浄を行うことができる。なお、ライン13
にはコントロールバルブ28を有する空気導管が接続さ
れ、空気を燃焼排ガス中に混入させ、燃焼排ガスを希釈
することによって除塵フィルターの閉塞を回避できるよ
うになっている。
応じ、可燃性ガスがライン21を通って導入され、燃焼
バーナー12には支燃ガスとしての酸素又は空気がライ
ン22を通って導入される。さらに、ライン11には、
窒素ガスライン23がバルブ25及びライン27を介し
て接続されるとともに、給水ライン24がバルブ26及
びライン27を介して接続され、必要に応じ、窒素ガス
と水との混合物がライン27を通って燃焼バーナノズル
内を流れるようになっている。水と窒素ガスとの混合物
を燃焼バーナノズル内を流通させることによって、バー
ナノズルの洗浄を行うことができる。なお、ライン13
にはコントロールバルブ28を有する空気導管が接続さ
れ、空気を燃焼排ガス中に混入させ、燃焼排ガスを希釈
することによって除塵フィルターの閉塞を回避できるよ
うになっている。
本発明で用いる除塵装置29は、除塵槽の内部にジェッ
トスクラバーを付設した構造のものである。
トスクラバーを付設した構造のものである。
ジェットスクラバーは周知のようにジェットポンプを利
用した洗浄集じん装置であって、基本構造的にはインゼ
クターおよびエゼクタ−と同じものである。第2図から
明らかな様に、本発明で用いるジェットスクラバーは、
スプレーノズル34、デイフユーザ−37、ガス吸込口
38からなり、その全体は除塵槽30に内蔵される。加
圧された液流はライン32から除塵装置!29に入り、
ジェットスクラバーのスプレーノズル34より高速噴流
となって吹き出される。これによってガス吸込口38よ
りガスが吸引され、デイフユーザ−37において気液の
接触混合が行なわれるとともに、吸引ガス中の粉塵の除
塵が行なわれる。デイフユーザ−37を排出した粉塵を
含有する液体は、その粉塵を沈降部35に落として循環
液中の粉塵濃度を上げることなくポンプ31によりライ
ン32を通って液循環する。このことは循環液の洗浄能
力を保つのに非常に効果がある。除塵された気体は除塵
槽に設けたガス出口33から排出される。有害性排ガス
はライン6より除塵槽30に入り、ガス吸込口38より
吸引されるが、ライン6終端と吸込口38の入口端とは
除塵槽30内でそれぞれ開放端となり、また、この開放
端にはデイフユーザ−37から排出されたガスが循環し
。
用した洗浄集じん装置であって、基本構造的にはインゼ
クターおよびエゼクタ−と同じものである。第2図から
明らかな様に、本発明で用いるジェットスクラバーは、
スプレーノズル34、デイフユーザ−37、ガス吸込口
38からなり、その全体は除塵槽30に内蔵される。加
圧された液流はライン32から除塵装置!29に入り、
ジェットスクラバーのスプレーノズル34より高速噴流
となって吹き出される。これによってガス吸込口38よ
りガスが吸引され、デイフユーザ−37において気液の
接触混合が行なわれるとともに、吸引ガス中の粉塵の除
塵が行なわれる。デイフユーザ−37を排出した粉塵を
含有する液体は、その粉塵を沈降部35に落として循環
液中の粉塵濃度を上げることなくポンプ31によりライ
ン32を通って液循環する。このことは循環液の洗浄能
力を保つのに非常に効果がある。除塵された気体は除塵
槽に設けたガス出口33から排出される。有害性排ガス
はライン6より除塵槽30に入り、ガス吸込口38より
吸引されるが、ライン6終端と吸込口38の入口端とは
除塵槽30内でそれぞれ開放端となり、また、この開放
端にはデイフユーザ−37から排出されたガスが循環し
。
吸引されることから、ライン6には吸引のための負圧は
作用しない。このため、除塵装置29の出入口における
排ガス圧力には何らの変化を生じない。
作用しない。このため、除塵装置29の出入口における
排ガス圧力には何らの変化を生じない。
なお、39は沈降部下部に設置されたドレンバルブであ
って、粉塵のスラリーを除去するためのものである。ま
た、36は液面計である。
って、粉塵のスラリーを除去するためのものである。ま
た、36は液面計である。
本発明の除塵装置において、デイフユーザ−37から排
出される気液混相流は、その下方の液面に直接噴出衝突
させるのは好ましくなく、第2図に示したように、デュ
フユーザー先端部を屈曲させて、除塵槽壁面方向に噴出
させるのが好ましい。
出される気液混相流は、その下方の液面に直接噴出衝突
させるのは好ましくなく、第2図に示したように、デュ
フユーザー先端部を屈曲させて、除塵槽壁面方向に噴出
させるのが好ましい。
また、デュフユーザー先端部を液面方向に向ける時には
、その先端部と液面との間に、邪魔板や金網、あるいは
水を通す多孔板等を配設するのが好ましい。
、その先端部と液面との間に、邪魔板や金網、あるいは
水を通す多孔板等を配設するのが好ましい。
除塵装置で用いる液体としては、水、鉱物油、合成油等
の各種液体が用いられ、排ガスの種類によって適当に選
択される。
の各種液体が用いられ、排ガスの種類によって適当に選
択される。
(発明の効果)
本発明の除塵装置は、以上のように、ガス吸込口を開放
端としてもつジェットスクラバーを除塵槽に内蔵させた
構造を有するもので、その出入口における排ガス圧力に
は圧力変動を生じない。
端としてもつジェットスクラバーを除塵槽に内蔵させた
構造を有するもので、その出入口における排ガス圧力に
は圧力変動を生じない。
従って1本発明の除塵装置は、半導体製造装置等の圧力
変動を嫌う有害性排ガス発生源からの排ガスに対する除
塵装置として好適のものである。
変動を嫌う有害性排ガス発生源からの排ガスに対する除
塵装置として好適のものである。
本発明の除塵装置を半導体製造装置と有害性排ガス処理
装置との間に介在させて半導体製造装置からの有害性排
ガスを処理する時には、有害性排ガス中の粉塵が除去さ
れるため、その有害性排ガス処理装置における粉塵トラ
ブルを効果的に防止することが可能となるとともに、そ
の除塵処理において圧力変動が生じないため、その半導
体製造装置や有害性排ガス処理装置では安定な操業を行
うことができる。また、本発明の除塵装置は、圧力変動
を生じない除塵装置として、前記した半導体製造分野に
限らず、他の分野においても有利に適用されるものであ
る。
装置との間に介在させて半導体製造装置からの有害性排
ガスを処理する時には、有害性排ガス中の粉塵が除去さ
れるため、その有害性排ガス処理装置における粉塵トラ
ブルを効果的に防止することが可能となるとともに、そ
の除塵処理において圧力変動が生じないため、その半導
体製造装置や有害性排ガス処理装置では安定な操業を行
うことができる。また、本発明の除塵装置は、圧力変動
を生じない除塵装置として、前記した半導体製造分野に
限らず、他の分野においても有利に適用されるものであ
る。
第1図は本発明による有害性排ガス処理装置の系統図、
第2図は本発明の除塵装置の断面図である。 1・・・有害性排ガス発生源 2・・・吸着処理装置 3・・・燃焼処理装置 7.8・・・切り換えバルブ 12・・・バーナー 16・・・液循環ポンプ 28・・・圧力コントロールバルブ 29・・・除塵装置 30・・・除塵槽 31・・・液循環用ポンプ 32・・・液循環ライン 33・・・排ガスミロライン 34・・・スプレーノズル 35・・・沈降部 36・・・液面計 37・・・デイフユーザ− 38・・・ガス吸い込み口 39・・・スラリー波高しバルブ 第 図
第2図は本発明の除塵装置の断面図である。 1・・・有害性排ガス発生源 2・・・吸着処理装置 3・・・燃焼処理装置 7.8・・・切り換えバルブ 12・・・バーナー 16・・・液循環ポンプ 28・・・圧力コントロールバルブ 29・・・除塵装置 30・・・除塵槽 31・・・液循環用ポンプ 32・・・液循環ライン 33・・・排ガスミロライン 34・・・スプレーノズル 35・・・沈降部 36・・・液面計 37・・・デイフユーザ− 38・・・ガス吸い込み口 39・・・スラリー波高しバルブ 第 図
Claims (2)
- (1)除塵槽内部に、加圧液流のラインに連なるスプレ
ーノズル及び除塵槽内に開放するガス吸込口を有するジ
ェットスクラバーを垂設し、さらに除塵槽にはその上端
に除塵された気体の排ガスライン及び底部には排液ライ
ンを設け、かつ、この排液ラインを前記加圧液流のライ
ンに接続してなるガス中の粉塵を除去する装置。 - (2)有害性排ガス発生源の下流に除塵槽を介設して、
その内部にジェットスクラバーを予めそのガス吸込口を
除塵槽内に開放させて垂設し、排ガス中の粉塵をこのガ
ス吸込口から吸引させるとともにジェットスクラバー内
に導入される加圧液流により除塵槽底部に噴霧して沈積
させ、同時に貯留液を上記加圧液流として循環させるこ
とを特徴とする有害性排ガス中の粉塵を除去する方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2887890A JP2889944B2 (ja) | 1990-02-08 | 1990-02-08 | 粉塵を除去する装置及びそれを用いた有害性排ガス中の粉塵を除去する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2887890A JP2889944B2 (ja) | 1990-02-08 | 1990-02-08 | 粉塵を除去する装置及びそれを用いた有害性排ガス中の粉塵を除去する方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03232514A true JPH03232514A (ja) | 1991-10-16 |
JP2889944B2 JP2889944B2 (ja) | 1999-05-10 |
Family
ID=12260647
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2887890A Expired - Fee Related JP2889944B2 (ja) | 1990-02-08 | 1990-02-08 | 粉塵を除去する装置及びそれを用いた有害性排ガス中の粉塵を除去する方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2889944B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07124432A (ja) * | 1993-11-04 | 1995-05-16 | Takuo Mochizuki | 浮遊微粒子捕捉装置 |
JP2006051465A (ja) * | 2004-08-13 | 2006-02-23 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 除塵装置、有機系燃料のガス化システムおよび液体燃料製造システム |
JP2012241212A (ja) * | 2011-05-17 | 2012-12-10 | Jp Steel Plantech Co | 転炉排ガス処理装置のスカートシール装置 |
TWI704954B (zh) * | 2019-02-27 | 2020-09-21 | 潘彥儒 | 以微氣泡捕捉固體顆粒的濕式處理裝置 |
-
1990
- 1990-02-08 JP JP2887890A patent/JP2889944B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH07124432A (ja) * | 1993-11-04 | 1995-05-16 | Takuo Mochizuki | 浮遊微粒子捕捉装置 |
JP2006051465A (ja) * | 2004-08-13 | 2006-02-23 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 除塵装置、有機系燃料のガス化システムおよび液体燃料製造システム |
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JP2889944B2 (ja) | 1999-05-10 |
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