JPH0321389A - 写真廃液処理方法及び装置 - Google Patents

写真廃液処理方法及び装置

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JPH0321389A
JPH0321389A JP15658789A JP15658789A JPH0321389A JP H0321389 A JPH0321389 A JP H0321389A JP 15658789 A JP15658789 A JP 15658789A JP 15658789 A JP15658789 A JP 15658789A JP H0321389 A JPH0321389 A JP H0321389A
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JP
Japan
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waste liquid
processing
photographic
waste solution
rotating body
Prior art date
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Pending
Application number
JP15658789A
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English (en)
Inventor
Takao Ogawa
尊夫 小川
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Ogawa Kankyo Kenkyusho KK
Original Assignee
Ogawa Kankyo Kenkyusho KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は写真処理廃液を良好に処理する方法及び装置に
関する。
(従来の技術) 近年銀塩写真の現像処理時間は短くなり30分以内の処
理が可能となっている。またユーザーの撮影済みフイル
ムなDPE取り次ぎ店に出してからプリントを手にする
までの所用時間の大半はDPE取り次ぎ店とラボと称す
る現像処理を行う所の往復時間となる。このためこれを
スピードアップする必要から小型で、自動制御による取
扱の容易な自動現像機が開発され集配時間が短縮できる
よう各所に事務所の片隅に設置する感覚で自動現像機(
以下ミニラポと称する)が設置できるようになった。と
ころが一般にこのような場所には廃水処理設備はないた
め、疲労した現像液や定着液、水洗液は廃液タンクに貯
めて処理業者が定期的に収集するシステムを採用してい
る。ところが交通混雉の都会では収集に時間がかかり意
外と大変であり、また逆に過疎地区では収集効率が悪く
、ややもすると不法に廃棄されたりして河川、海水の汚
染汚濁の原因になりかねない。このためミニラボ側では
廃液の発生量の少ない機械の開発が7つのテーマであり
、現状では写真の品質に影響することもあってある程度
の量以下にはなかなか少なくできないのが現状である。
一般的なミニラボ(時間3!曙ロールフイルム3θ本処
理)で廃液の発生量は7日当りおよそ現像廃液が3リッ
トル、漂白定着廃液が,1リットル、水洗液が/θリッ
トル、合計/!リットル程度である。
梁/表は代表的な写真処理薬品の或分を示すものである
。一般に写真の処理廃液は汚濁度が高く、BOD(生物
化学的酸素要求量)やCOD(化学的酸素要求量)は数
万PPMもある。
従来廃水処理に対する一般的な方法としては、活性汚泥
法、活性炭を使用する方法、オゾンのような酸化剤を使
用する方法、分離膜で処理する方法、廃液を焼却する方
法、廃液を蒸発または蒸留する方法、温度による溶解度
の差により液体から固体を析出さ゛せる方法としては晶
析による方法が知られている。
(発明が解決しようとする課題) 写真処理廃液を上記活性汚泥法のような一般的な廃水処
理で浄化することは非常におおきな設備を必要としまた
生物分解できない成分も多く、ミニラポに併設すること
は現実的でない。また活性炭を使用するにしても吸着容
量の制約から多量の活性炭を必要とし、交換の頻度およ
びコストで同じく現実的でない。オゾンのような酸化剤
を使用することは写真処理薬品にはオゾンで分肺できな
い或分が多く不十分である。分離膜で処理する方法にお
いては写真処理薬品は多量の無機塩を含むと同時に有機
物の分子量も数/Oから/θOθ程度まで分布しこれら
を効率よく分離する膜は現状では見あたらない。廃液を
焼却する方法はCOD或分を分解することはできるが薬
品中のイオウ戊分のため多量の亜硫酸ガスや鉄分や塩類
のダストが発生しこれの処理を要するなど少量の廃液を
処理するにもかなり大変な設備となりミニラポに併設す
ることは現実的でない。廃液を蒸発または蒸留する方法
は留出液に薬液戊分が留出しCOD除去率はせいぜい!
θ俤程度と悪く且つ成分が熱により分解し悪臭ガスが発
生しかえってこれを除くために大変な処理が必要となり
実用化できていない。また晶析操作で用いられる攪拌槽
型晶析装置及び連続式運搬槽型晶析装置は、母液の管理
が厳密であるため例えば銀塩写真処理廃液のように母液
の管理がむずかしく、又大きな結晶をつくる制御が容易
でない場合には使用できない。又微細な氷の結晶を析出
する場合は、その表面に付着する液体によって分離効率
は高くならず実用的でもない。このように写真処理廃液
は種々の検討がなされてきているが、いまだ《二簡便な
処理方式は見いだせず、この結果ミニラポにおいては処
理業者が廃戚を収集する方式を採用している。
本発明は、これを解決するものであって写真処理廃液を
効率よくかつ簡便に処理することができる新規な写真廃
液処理方法及び装置を提供する。
(課題を解決するための手段) 本発明は、冷却した回転体の表面部に写真廃液(現像廃
液、定着廃液、水院廃液)を接触させて氷結し、これよ
り得た処理液を写真現像処理機の処理槽(現像処理槽、
定着処理槽、水洗処理槽)に戻す。廃液を上記回転体の
表面部に接触させる手段として、該表面部を廃液に浸す
方法と表面部に発液な流下させる方法を有する。又該表
面部を冷却する方法は、表面部内に冷却疏体を通したり
、ベルチェ効果を利用して表面部を冷却したりする。
(作用及び実施例) 第/図は写真自動現像機ミニラポ(1)からの溌液な処
理する場合を示す。該ミニラボから発生する現像処理槽
(2)の廃液、漂白定着処理僧(3)の洗液は、各々配
管(4)、(5)を介してそれぞれタンク16)、(7
)に入れられると共に多@に発生する水洗処理僧(8)
の溌戚α力は、配管(9)を介して廃液処理装置00の
I58液収容体αDに入れられる。該収容体に入れられ
た廃液は後記の冷却された回転体Oによって冷却され廃
液に氷(氷結物)を析出する。該析出した氷は回転体の
表面に付着し、該付着した氷はその取り出し手段即ち図
示のものにおいては温熱器a3で解かされながらスクレ
ーパー兼集液装置a◆で掻き落し集液される。解かされ
た処理液は次の廃液処理装置(図面中右側)の収容体に
送られ同様の処理が行われる。これによって処理された
液は精製液としてボンプα0により配管aOを介し上記
ミニラポの水洗処理槽(8)に送られる。
一方濃縮された液は、手前側の廃液処理装置(図面中左
側)に順次送られ,更に濃縮され上記漂白定着廃液タン
ク(7)に配管α8を介して送られる。
なお図示のものでは廃液処理装置は!段になっているが
、その他の複数段あるいは単段(バッチ式を含む)にす
ることができる。該各廃液処理装置間には連結管a9が
設けられ、処理廃液の一部を前段の処理装置へ戻してい
る。この戻す量は各段の廃液濃度を一定に保ち、精製度
や濃縮度をきめる要素となっている。
次に第λ図及び第3図{=おいて、廃液処理装置の回転
体Oは、できるだけ広い表面積(氷の析出面積)をもち
ゆっくりした氷の生或速度で運転を行う。又種晶なしで
安定した水の結晶を得る手段として冷却用の伝熱面に氷
を付着させる方式を採用する。この方式は結晶の付着に
より伝熱係数が低下することおよびよい結晶が得られな
いことから既存の晶析装置ではもちいられない方式であ
るが、廃液処理装置としては操作性、安定性から最適で
ある。これらを実現する手段として中空の多数の円盤(
至)をその間に空隙のを形成するよう《ニスペーサー(
自)を介存して並列し、円盤の中空部空間・(自)に冷
却媒体である不凍液等の冷却液、冷却ガス等を通し、円
盤の表面に氷を析出させるようにすることでコンパクト
で大きな表面積を得る。
上記円盤(至)とスペーサ一〇は、廃液収容体Qn I
’:−ベアリイグ(財)によって回転可能に支持される
中空の回転軸(至)にボルト(至)をもって締結され、
回転体Oを形威している。該回転体の支持部の内側には
?記廃液をシールするシール部材@が設けられている。
該回転体は、支持台(至)に取り付けられたギャードモ
ーター翰より、該ギャードモーターの出力軸■にキー0
υ止めされるギヤ■■■と、上記回転軸(至)端部にキ
ー(至)と止めナット一により固定されるギヤ■■■を
介して回転される。該回転体の軸中心部(1)には、冷
却された不凍液を送る管■■■が挿入され、該管は上記
支持台(至)に保定具働によって固定されている。該管
内の不凍液は、止栓働手前に流入し、該管に設けられた
ノズル構或体(財)にあけられたノズル四を通って上記
内盤の中空部(至)に流出する。
流出した液は該円盤の中空部に放射状《二配列された仕
切板(41)に仕切られて流れ、円盤の表面部(6)を
冷却する。冷却後の不凍液は上記管(9)上部の空間を
通り集戒されその後該管の流入口一を通って該管に戻り
流出される。
上記円盤(至)は、その一部が収容体Qll内の廃液に
没入しており、これによって該廃液を冷却し円盤表面部
に水を析出付着させる。析出した氷は該円盤の凹転に伴
って上方に運ばれる。付着した氷(至)は上記円盤間の
空隙に設けられた上記スクレーパーα4ε二よって掻収
られ、その氷は自然溶解または下部に上記スクレーパー
をねじ一等で固定した温水器α3(第グ図)や電気ヒー
ター等《:よって溶解され、これを精製された処理水と
し、又は図示のように該処理水を次の廃液処理装置の収
容体に送り込んで更に処理水を精製する。なお、上記円
盤の厚みが大きい場合等はその外周面にも上記スクレー
パーを設けるようにしてもよい。
上記温水器には、上記収容体上部に形成された支持部(
L47)に支持されたパイプ(ニ)、晴によって温水が
それぞれ流入、流出される。該温水は弟!図のように蒸
発器一、圧縮機(5l)、開放弁(52)、凝縮器(5
3)等からなる冷凍機システムの該凝縮器(53)から
発生する熱を利用して作り出す。
上記円盤は6角形や♂角形その他の多角形{二したりあ
るいは円盤の表面にフィン状の凹凸を設け/ たりして作ることができる。
上記廃液処理装置は、適宜上記廃戚を各円盤間に強制的
に流出させ円盤面の氷結物表面を攪拌することかでき、
この場合濃縮廃液とこれより分離する処理液間の分離効
率は一層向上する。即ち、第6図及び第7図において、
上記収容体αDの両側にそれぞれ仕切板(54)、(5
5)を設け、その一方の仕切板(54)にノズル(56
)を形威し、他方の仕切板(55)に流通孔(57)を
形或している。廃液は、ボンブ(58)によって配管(
59)を介して前方の流出側室(60)へ送られ、その
ノズルから各円盤間へ流出され、後方の流入側室(6l
)を通って上記ポンプに戻るようになっている。
弟♂図〜第//図に、上記廃液を円盤表面に流下して氷
結物表面を攪拌する場合を示す。上記収容体に流入した
廃液は、ポンプ(62)により配管(63)、(64)
、ヘッダー(65)、上記回転体の外周に形威された複
数の円盤ωの空隙(ハ)に設けた配管(66)を介して
、該配管(66)のノズル(67)へ送られ、該ノズル
より上記円盤の表面部にかけて流下させる。該円盤表面
を流下した廃液は上記収容体0(:溜り、再び上記ポン
プによって上記ノズル(67)へ循環する。上記円盤の
表面に接した廃液は、冷却された円盤によって冷却され
廃液に氷(氷結物)を析出する。該析出した氷は円盤の
表面に付着する。こうすることにより廃液は常時円盤表
面で析出した氷の表面を攪拌しながら流下し、氷の近傍
の廃液の不純物濃度をすみやかに平均的な濃度へと低下
させる。
第73図は第/図と同じくミニラボ(1)からの廃液を
処理する場合を示すがこの場合は現像液を処理し、現像
廃液の発生量を少なくする例を示すものである。現像処
理槽(2)から排出される現像廃液は、配管(4)を介
して廃液処理装置αOの廃液収容体a1)に入れられ、
第7図のときと同様《二精製、濃縮される。精製された
液はポンプαeにより配管08を介して現像処理檜(2
)に戻される。濃縮された廃液は現像廃液としてタンク
(6)に入れられる。この場合精製液はさほどきれいに
する必要がないため廃液処理装置の段数は2〜3段(図
は3段)と少なくできる。こうすること《=より、現像
廃液をより濃厚な状態で排出できるため廃液量はずっと
少なくできる。またこの方式の変形としてより濃厚な現
像液を用い現像処理槽(2)と漂白定着処理槽(8》の
間に現像水洗槽を設け、そこから発生する現像水洗液に
対して廃液処理装置を適用し、処理水を現像水洗槽に戻
し、濃縮液は現像廃液として排出する方法もトータルな
現像廃液の量を減らす手段として可能である。
上記廃液はその他定着液としたり、現像液、定着液、水
洗液の数種または全部をまとめて廃液とすることができ
、又その処理液を上記のように現像処理槽、水洗処理槽
に戻したり、その他定着処理槽やその数種またはそれら
全部の処理檜へ戻すようI二したりする。なお、上記回
転体の表面部に生成した氷結物を取り出す手段や該氷結
物を融解した処理液を写真現像処理機の処理槽C:戻す
手段等はその他種々のものを用いることができる。父上
記回転体の表面部を廃液に浸す方法と該表面部に廃戚を
流下させる方法は併用することができる。
(発明の効果) 本発明は上記のよう《二構成され、写真廃液を処理しこ
れを写真処理槽に戻して使用することができると共に処
理水を河川や下水道等にも流出させることができ、又該
廃液を効率よく簡便に処理することができる。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の実施例を示し、第7図は概略図、第λ図
は一部省略した拡大縦断面図、第3図は第2図の1−1
線断面図、第グ図はスクレーパ一部の拡大断面図、第!
図は温水を作り出す手段を示す概略図、第6図は拡大横
断面図、第7図は一部省略した中央水平断面図、弟♂図
は他の例の一部省略した拡大縦断面図、第9図は他の例
の拡大横断面図、第7θ図は一部省略した他の例の中央
水平断血図、弟//図はノズル部の拡大断向図、弟72
図は第♂図における山一n線断面図、@73図は他の例
の概略図である。 1・・・写真現像処理機、2、3、8・・・処理槽、1
2・・・回転体、l3・・・温水器、l4・・・スクレ
ーパ− 15・・・ポンプ、16・・・配管、21・・
・空隙、23・・・空間、42・・・表面部、45・・
・氷結物、5!5,67・・・ノズル 第 4 図 第5 図 第6区 13−. 第 7 図 第9図 第10図 第13 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、回転体の外周に沿つて複数の空隙を形成した表面部
    を冷却し、該表面部に写真現像処理機より発生する廃液
    を接触させて氷結し、これより得た処理液を上記写真現
    像処理機の処理槽に戻すようにした写真廃液処理方法。 2、上記廃液を上記回転体の表面部に撹拌状態で接触す
    るようにした請求項1記載の写真廃液処理方法。 3、回転体の外周に沿つて複数の空隙を形成した表面部
    を有し該表面部内に形成した空間に冷却流体を通して該
    表面部を冷却する回転体、該回転体の表面部に写真現像
    処理機より発生する廃液を接触させる手段、上記回転体
    の表面部に生成した氷結物を取り出す手段、該氷結物よ
    り得た処理液を上記写真現像処理機の処理槽に戻すポン
    プ機構を備えた写真廃液処理装置。 4、上記廃液を上記回転体の表面部に攪拌状態で接触さ
    せるノズル機構を備えた写真廃液処理装置。
JP15658789A 1989-06-19 1989-06-19 写真廃液処理方法及び装置 Pending JPH0321389A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5705471A (en) * 1994-09-29 1998-01-06 E. I. Du Pont De Nemours And Company 1,1,2,2,3,3,4,4-octaflourobutane compositions
US5772911A (en) * 1994-09-29 1998-06-30 E. I. Du Pont De Nemours And Company 1,1,2,2,3,3,4,4-Octafluorobutane compositions

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5079166A (ja) * 1973-11-07 1975-06-27

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US5772911A (en) * 1994-09-29 1998-06-30 E. I. Du Pont De Nemours And Company 1,1,2,2,3,3,4,4-Octafluorobutane compositions

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