JPH03204852A - ノルボルナン系スルホンアミド誘導体の製造方法 - Google Patents
ノルボルナン系スルホンアミド誘導体の製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D493/00—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system
- C07D493/02—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D493/08—Bridged systems
-
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- C07C303/00—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
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-
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07C311/00—Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
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- C07C311/20—Sulfonamides having sulfur atoms of sulfonamide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings having the nitrogen atom of at least one of the sulfonamide groups bound to a carbon atom of a ring other than a six-membered aromatic ring
-
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
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- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
U産業上の利用分野J
本発明は、式(I):
(式中、R′は保護されていてもよいC11,OHまた
はCoo)(、R2は置換基を有していてもよいフェニ
ル、Yは酸素または置換されていてもよいメチレンを表
す) て示されるノルボルナン系スルホンアミド誘導体の製造
方法に関するものである。
はCoo)(、R2は置換基を有していてもよいフェニ
ル、Yは酸素または置換されていてもよいメチレンを表
す) て示されるノルボルナン系スルホンアミド誘導体の製造
方法に関するものである。
[従来技術とその課題]
本発明にがかるノルボルナン系スルホンアミド誘導体(
1)は、−形成 (式中、R2は置換基を有していてもよいフェニル、Y
は置換されていてもよいメチレンまたは酸素、mは0ま
たは1、nは3または4を表す)て示されるビシクロへ
ブタン系カルホン酸誘導体の合成中間体である。
1)は、−形成 (式中、R2は置換基を有していてもよいフェニル、Y
は置換されていてもよいメチレンまたは酸素、mは0ま
たは1、nは3または4を表す)て示されるビシクロへ
ブタン系カルホン酸誘導体の合成中間体である。
ビシクロへブタン系カルホン酸誘導体はアラキト′ン酸
からプロスタグランンンH,(PGH,)を経て生合成
されるトロンホ牛サンA、(TXA、)の受容体拮抗物
質であって、該TXA、の血小板凝集作用および平滑筋
収縮作用等を阻害する作用を有することから、T X
A、 、の諸作用に関連する種々の疾患の治療および予
防に有効と考えられている。
からプロスタグランンンH,(PGH,)を経て生合成
されるトロンホ牛サンA、(TXA、)の受容体拮抗物
質であって、該TXA、の血小板凝集作用および平滑筋
収縮作用等を阻害する作用を有することから、T X
A、 、の諸作用に関連する種々の疾患の治療および予
防に有効と考えられている。
そのような疾患として、心筋梗塞、脳梗塞、肺塞栓、血
栓症、妊娠毒血症、腎不全並びに気管支収縮作用に基つ
く喘息などが挙げられる。また、この誘導体は、クモ膜
下出血後の血管彎縮防止、循環系または消化器系動脈再
潅流後のTXA、によるショックの防止、失血、敗血症
、外傷、心機能障害、内毒素、急性肝臓炎もしくはやけ
となどによるショック防止または体外循環中における血
小板減少防止などにも有効である。
栓症、妊娠毒血症、腎不全並びに気管支収縮作用に基つ
く喘息などが挙げられる。また、この誘導体は、クモ膜
下出血後の血管彎縮防止、循環系または消化器系動脈再
潅流後のTXA、によるショックの防止、失血、敗血症
、外傷、心機能障害、内毒素、急性肝臓炎もしくはやけ
となどによるショック防止または体外循環中における血
小板減少防止などにも有効である。
本発明者らは一連のビンクロへブタン系カルボン酸誘導
体を合成し、それらを開示した(特開昭63−1391
61号公報)。これら化合物の合成中間体の1っである
スルホンアミド誘導体(1)は通常、下記反応式で示さ
れるように、式<W>の2−アルコキンカルネニル−3
〜力ルホ+7−ノルボルナンを出発物質とし、タルティ
ウス転位を利用する工程を経て製造されている。
体を合成し、それらを開示した(特開昭63−1391
61号公報)。これら化合物の合成中間体の1っである
スルホンアミド誘導体(1)は通常、下記反応式で示さ
れるように、式<W>の2−アルコキンカルネニル−3
〜力ルホ+7−ノルボルナンを出発物質とし、タルティ
ウス転位を利用する工程を経て製造されている。
(Io)
(式中、R1、R2およびYは上記の定義に従う)この
従来法は、臨床使用に十分な量のビシクロへブタン系カ
ルボン酸誘導体の大量生産に適用するには下記の点で適
切といえない。
従来法は、臨床使用に十分な量のビシクロへブタン系カ
ルボン酸誘導体の大量生産に適用するには下記の点で適
切といえない。
1)NaN3の大量使用に伴う危険性。
2)中間生成物であるアシド化合物の有毒性。
3)アミノ基の保護(上記式で2で示されている)およ
び脱保護の工程の繁雑さ。
び脱保護の工程の繁雑さ。
従って、上記の生理活性物質を大量生産するには、これ
らの問題点を回避して効率良く式(1)の化合物を製造
する方法が必要である。
らの問題点を回避して効率良く式(1)の化合物を製造
する方法が必要である。
[課題を解決するための手段1
本発明者らは、大量生産に適した安全かつ簡便な、ノル
ボルナン系スルホンアミド誘導体(■)の製造方法を確
立するために種々検討を重ねた結果、対応する3−酸ア
ミド誘導体にホフマン転位を適用し、生成したアミンを
スルホン酸ハロゲン化物と反応させて3−スルホンアミ
ド誘導体を調製することにより、上記目的を達成した。
ボルナン系スルホンアミド誘導体(■)の製造方法を確
立するために種々検討を重ねた結果、対応する3−酸ア
ミド誘導体にホフマン転位を適用し、生成したアミンを
スルホン酸ハロゲン化物と反応させて3−スルホンアミ
ド誘導体を調製することにより、上記目的を達成した。
即ち、本発明は式(■)。
(式中、RおよびYは上記の定義に従う)て示されるノ
ルホルナン系酸アミドをホフマン転位の反応条件下で処
理した後、式(■):R’5O2X (
III)(式中、R2は上記の定義に従い、Xはハロケ
ンを表す) で示されるスルホン酸ハロゲン化物を作用させることを
特徴とする式(I)で示されるノルホルナン系スルホン
アミド誘導体の製造方法を提供するものである。
ルホルナン系酸アミドをホフマン転位の反応条件下で処
理した後、式(■):R’5O2X (
III)(式中、R2は上記の定義に従い、Xはハロケ
ンを表す) で示されるスルホン酸ハロゲン化物を作用させることを
特徴とする式(I)で示されるノルホルナン系スルホン
アミド誘導体の製造方法を提供するものである。
ホフマン転位の反応条件は、当該技術分野において周知
であり、通常、アルカリの存在下て酸アミドに臭素また
は塩素を反応させた後、転位させ、さらに加水分解する
ことからなる。あるいは、次亜塩素酸アルカリ金属塩、
例えば、次亜塩素酸ナトリウムもしくは次亜塩素酸カリ
ウム、または次亜臭素酸アルカリ金属塩、例えば、次亜
臭素酸ナトリウムもしくは次亜臭素酸カリウムのアルカ
リ溶液を用いてもよい。
であり、通常、アルカリの存在下て酸アミドに臭素また
は塩素を反応させた後、転位させ、さらに加水分解する
ことからなる。あるいは、次亜塩素酸アルカリ金属塩、
例えば、次亜塩素酸ナトリウムもしくは次亜塩素酸カリ
ウム、または次亜臭素酸アルカリ金属塩、例えば、次亜
臭素酸ナトリウムもしくは次亜臭素酸カリウムのアルカ
リ溶液を用いてもよい。
本発明に用いることかできるアルカリの例として、水酸
化ナトリウムまたは水酸化カリウム等を挙げることがで
きる。
化ナトリウムまたは水酸化カリウム等を挙げることがで
きる。
また、次亜塩素酸アルカリ金属塩または次亜臭素酸アル
カリ金属塩のアルカリ溶液を用いる場合、アルカリ溶液
としては、上記アルカリの水溶液を用いる。
カリ金属塩のアルカリ溶液を用いる場合、アルカリ溶液
としては、上記アルカリの水溶液を用いる。
次いて、生成物と式:R2S○、Xて示される置換スル
ホン酸ハロゲン化物とを、水酸化ナトリウムまたは水酸
化カリウム等の水酸化アルカリ金属の存在下で反応させ
ると、所望のスルホンアミド誘導体(I)が生成する。
ホン酸ハロゲン化物とを、水酸化ナトリウムまたは水酸
化カリウム等の水酸化アルカリ金属の存在下で反応させ
ると、所望のスルホンアミド誘導体(I)が生成する。
本発明の好ましい実施態様では、ホフマン転位反応を以
下の条件下で行う。即ち、式(II)の3酸アミドを、
次亜塩素酸ナトリウムおよび水酸化ナトリウムの存在下
、温度0〜40°Cて5分〜2時間、次いで、60〜2
00°Cて5分〜4時間、好ましくは10〜40’Cで
10分〜2時間、ついで80〜200°Cで5分〜2時
間、最も好ましくは10〜40℃で10分〜1時間、つ
いで80〜+60’cで5分〜2時間反応させる。
下の条件下で行う。即ち、式(II)の3酸アミドを、
次亜塩素酸ナトリウムおよび水酸化ナトリウムの存在下
、温度0〜40°Cて5分〜2時間、次いで、60〜2
00°Cて5分〜4時間、好ましくは10〜40’Cで
10分〜2時間、ついで80〜200°Cで5分〜2時
間、最も好ましくは10〜40℃で10分〜1時間、つ
いで80〜+60’cで5分〜2時間反応させる。
次いで、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化
アルカリの存在下、生成物に置換スルホン酸ハロゲン化
物を作用すると、所望のスルホンアミド誘導体(I)が
生成する。
アルカリの存在下、生成物に置換スルホン酸ハロゲン化
物を作用すると、所望のスルホンアミド誘導体(I)が
生成する。
本明細書中、R1において、エステル形成基とは置換さ
れていてもよい炭化水素基を意味する。
れていてもよい炭化水素基を意味する。
そのような基として、例えば、低級アルキル、低級アル
フキ/アルキル、ハロゲン化アルキルなとの置換基を有
していてもよいアルキル、または芳香環に置換基を有し
ていてもよいアラルキル、フェニルか置換されていても
よいフェナシルなどを挙げることができる。
フキ/アルキル、ハロゲン化アルキルなとの置換基を有
していてもよいアルキル、または芳香環に置換基を有し
ていてもよいアラルキル、フェニルか置換されていても
よいフェナシルなどを挙げることができる。
低級アルキルとは炭素原子数1〜8個の直鎖または分枝
鎖状飽和炭化水素基であって、メチル、エチル、n−プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、5ec−
ブチル、tert−7’チル、ペンチル、インペンチル
、ネオペンチル、1,2−ジメチルブチル、ヘキシル、
ヘプチル、オクチルなどを挙げることができる。
鎖状飽和炭化水素基であって、メチル、エチル、n−プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、5ec−
ブチル、tert−7’チル、ペンチル、インペンチル
、ネオペンチル、1,2−ジメチルブチル、ヘキシル、
ヘプチル、オクチルなどを挙げることができる。
低級アルコキシとは炭素原子数1〜8個のアルコキシで
あって、メトキシ、エトキ/、プロポキン、インフロボ
キシ、ブトキ/、ペントキシ、ヘプチルオキ/、ヘプチ
ルオキ/、オクチルオキン等を挙げることができる。
あって、メトキシ、エトキ/、プロポキン、インフロボ
キシ、ブトキ/、ペントキシ、ヘプチルオキ/、ヘプチ
ルオキ/、オクチルオキン等を挙げることができる。
低級アルコキンアルキルとは上記定義のアルコキン基の
水素原子か上記定義のアルキル基で置換されて形成され
る基であって、メトキンメチル、エトキシメチルなとを
挙げることかできる。
水素原子か上記定義のアルキル基で置換されて形成され
る基であって、メトキンメチル、エトキシメチルなとを
挙げることかできる。
ハロゲン化アルキルとは、1〜4個のハロケン原子で置
換された上記定義におけるアルキル基であって、2,2
.2−トリクロロエチル、2−ヨードエチルなどを挙げ
ることかできる。
換された上記定義におけるアルキル基であって、2,2
.2−トリクロロエチル、2−ヨードエチルなどを挙げ
ることかできる。
ハロゲンとは、塩素、臭素、塩素なとを指す。
芳香環に置換基を有していてもよいアラルキルとして、
ペンシル、p−メトキシベンジル、p−ニトロベンジル
などを挙げることかできる。
ペンシル、p−メトキシベンジル、p−ニトロベンジル
などを挙げることかできる。
フェニルが置換されていてもよいフェナ/ルとしてフェ
ナシル、p−ブロモフェナシル、p−ニトロフェナシル
などを挙げることができる。
ナシル、p−ブロモフェナシル、p−ニトロフェナシル
などを挙げることができる。
Yにおいて、メチレンの置換基として、低級アルキル、
例えば、メチル、エチルなとを挙げることかできる。
例えば、メチル、エチルなとを挙げることかできる。
置換スルホン酸ハロケン化物の、置換基を有していても
よいフェニルにおける置換基として、ハロケン、低級ア
ルキル、低級アルコキシ、またはヒドロキンなとを挙げ
ることかできる。そのような置換スルホン酸ハロケン化
物の例として、例えば塩化ヘンセンスルホニル、臭化ヘ
ンセンスルホニル、塩化メトキンフェニルスルホニル、
塩化ヒ1−ロキンフェニルスルホニル、塩化トリルスル
ホル、臭化ブロムヘンセンスルホニル(例えば、臭化4
−ブロムヘンセンスルホニル)ナトヲ挙ケることかでき
る。
よいフェニルにおける置換基として、ハロケン、低級ア
ルキル、低級アルコキシ、またはヒドロキンなとを挙げ
ることかできる。そのような置換スルホン酸ハロケン化
物の例として、例えば塩化ヘンセンスルホニル、臭化ヘ
ンセンスルホニル、塩化メトキンフェニルスルホニル、
塩化ヒ1−ロキンフェニルスルホニル、塩化トリルスル
ホル、臭化ブロムヘンセンスルホニル(例えば、臭化4
−ブロムヘンセンスルホニル)ナトヲ挙ケることかでき
る。
好ましい化合物(II)はRか保護されていてもよいヒ
ドロキシメチル、カルホキノル、またはアルコキンカル
ホニルであり、Yがメチレンである化合物である。ここ
でヒドロキシメチルの保護基とは、アルカリ条件下で安
定な通常用いられているヒドロキシ保護基であれば特に
限定されるものではなく、例えば、エーテル系のメトキ
シメチル、メチルチオメチル、2−メトキ/エトキ/メ
チル、テトラヒドロピラニル、1−エトキンエチル、ヘ
ンンル、4−メトキシヘンシルなと、またはシリルエー
テル系のtert−プチルジフェニルンリルなとを挙げ
ることかできる。また、好ましい置換スルホン酸ハロケ
ン化物は塩化ペンセンスルホニル、臭化ヘンゼンスルホ
ニルまたは臭化ブロムヘンセンスルホニルである。特に
好ましい化合物(II)としてRがヒドロキシメチルま
たはカルホキンルであって、Yがメチレンである化合物
か挙げられる。
ドロキシメチル、カルホキノル、またはアルコキンカル
ホニルであり、Yがメチレンである化合物である。ここ
でヒドロキシメチルの保護基とは、アルカリ条件下で安
定な通常用いられているヒドロキシ保護基であれば特に
限定されるものではなく、例えば、エーテル系のメトキ
シメチル、メチルチオメチル、2−メトキ/エトキ/メ
チル、テトラヒドロピラニル、1−エトキンエチル、ヘ
ンンル、4−メトキシヘンシルなと、またはシリルエー
テル系のtert−プチルジフェニルンリルなとを挙げ
ることかできる。また、好ましい置換スルホン酸ハロケ
ン化物は塩化ペンセンスルホニル、臭化ヘンゼンスルホ
ニルまたは臭化ブロムヘンセンスルホニルである。特に
好ましい化合物(II)としてRがヒドロキシメチルま
たはカルホキンルであって、Yがメチレンである化合物
か挙げられる。
また、特に好ましい置換スルホン酸ハロゲン化物として
、塩化ヘンセンスルホニルまたは臭化4ブロムヘンゼン
スルホニルカ挙ケラレル。
、塩化ヘンセンスルホニルまたは臭化4ブロムヘンゼン
スルホニルカ挙ケラレル。
上記のごとく本発明方法によれば、2位に保護されてい
てもよいヒドロキシメチル基、カルホキフル基またはそ
のエステルを、3位にカルバモイル基を有するノルボル
ナン系酸アミドにホフマン反応を適用することにより3
−アミン化合物としり後、同一反応系でフェニルスルホ
ニル基を導入することにより、効率よく目的化合物(A
)を得ることかできる。
てもよいヒドロキシメチル基、カルホキフル基またはそ
のエステルを、3位にカルバモイル基を有するノルボル
ナン系酸アミドにホフマン反応を適用することにより3
−アミン化合物としり後、同一反応系でフェニルスルホ
ニル基を導入することにより、効率よく目的化合物(A
)を得ることかできる。
本発明方法は、式(1)で示されるスルホンアミド誘導
体の製造に一般的に適用し得るか、とりわけ、光学活性
な誘導体(1)の製造において有用である。例えば式(
I)の化合物には以下に示す立体配置を有する化合物お
よびその鏡像異性体の各光学異性体か存在している。
体の製造に一般的に適用し得るか、とりわけ、光学活性
な誘導体(1)の製造において有用である。例えば式(
I)の化合物には以下に示す立体配置を有する化合物お
よびその鏡像異性体の各光学異性体か存在している。
これらの光学異性体は、いずれも様々な有機化合物の合
成中間体として有用と考えられるか、特に、式<ra>
て示される光学異性体は、下記のビンクロへブタン系カ
ルホン酸(以下、S−145−dと呼称する)で代表さ
れる、高い生理活性を有する光学活性な化合物の合成中
間体として重要である。
成中間体として有用と考えられるか、特に、式<ra>
て示される光学異性体は、下記のビンクロへブタン系カ
ルホン酸(以下、S−145−dと呼称する)で代表さ
れる、高い生理活性を有する光学活性な化合物の合成中
間体として重要である。
しかるに、従来は、上記化合物の製造出発物質(Ia)
を効率よく製造する方法が知られていなかったために、
該化合物の大量生産は容易でなかった。
を効率よく製造する方法が知られていなかったために、
該化合物の大量生産は容易でなかった。
本発明は、光学異性体(Ia)の製造方法を改良し、そ
の結果、上記S−145−dの製造を容易にするもので
ある。しかしなから、本発明方法は特定の光学異性体の
製造に限定されるものではなく、任意の形の化合物(1
)を、対応する出発物質(II)から製造する場合に広
く適用し得ることは当業者ならば容易に理解し得ること
である。
の結果、上記S−145−dの製造を容易にするもので
ある。しかしなから、本発明方法は特定の光学異性体の
製造に限定されるものではなく、任意の形の化合物(1
)を、対応する出発物質(II)から製造する場合に広
く適用し得ることは当業者ならば容易に理解し得ること
である。
本明細書においては、以下の理由から、式(I a)の
光学活性なスルホンアミド誘導体を例として、本発明方
法を説明する。
光学活性なスルホンアミド誘導体を例として、本発明方
法を説明する。
1)臨床上重要な光学活性体S−145−dおよびその
類似体の製造出発物質として光学活性異性体(Ia)か
用いられている。
類似体の製造出発物質として光学活性異性体(Ia)か
用いられている。
2)生理活性物質S−145−d化合物群の製造過程に
おいて、光学異性体(T a)か、危険を伴う、保護−
脱保護操作を要する従来法で調製されている。
おいて、光学異性体(T a)か、危険を伴う、保護−
脱保護操作を要する従来法で調製されている。
出発物質である/ルホルナン系酸アミド誘導体(II)
は、当業者に既知の有機化学の手法により、様々な物質
から合成することができるが、前記の3−カルホン酸(
IV)から調製することか好ましい。
は、当業者に既知の有機化学の手法により、様々な物質
から合成することができるが、前記の3−カルホン酸(
IV)から調製することか好ましい。
光学活性なカルボン酸(IVa)を含む本発明方法の工
程の1例は下記反応式で示される。
程の1例は下記反応式で示される。
(以下余白)
1)C(2CO,E【
光学活性な3−酸アミl”(Ha)は、光学活性な2−
アルコキンカルボニル−3−カルホキシーノルホルナン
(IVa)を、例えば、テトロヒドロフラン等の有機溶
媒中、窒素雰囲気下でトリエチルアミン等の3級アミン
とクロルキ酸エチルと反応させた後、アンモニアで処理
することにより製造される。
アルコキンカルボニル−3−カルホキシーノルホルナン
(IVa)を、例えば、テトロヒドロフラン等の有機溶
媒中、窒素雰囲気下でトリエチルアミン等の3級アミン
とクロルキ酸エチルと反応させた後、アンモニアで処理
することにより製造される。
3−酸アミド誘導体(I[a)をそのままで、あるいは
加水分解に付して2位のアルコキシカルホニル基をカル
ホキシル基に変換した後、既述のホフマン転移反応にけ
す。加水分解は、例えば、メタノール等のアルコール溶
媒中、水酸化カリウムなとのアルカリを用い、通常の方
法で行う。
加水分解に付して2位のアルコキシカルホニル基をカル
ホキシル基に変換した後、既述のホフマン転移反応にけ
す。加水分解は、例えば、メタノール等のアルコール溶
媒中、水酸化カリウムなとのアルカリを用い、通常の方
法で行う。
また、上記工程の出発物質である(IV a)は例えば
本出願人の出願にがかるEP−A−373931号に記
載のアリール酢酸モノエステルから容易に製造すること
かできる。
本出願人の出願にがかるEP−A−373931号に記
載のアリール酢酸モノエステルから容易に製造すること
かできる。
(以下余白)
即ち、式。
(式中、Arはアリール基を表す)
で示されるアリール酢酸モノエステルを以下の2方法の
いずれかに従って処理すればよい。
いずれかに従って処理すればよい。
(1)中性〜酸性条件下(アルコール中、酸触媒による
エステル化やンアソメタン等のメチル化剤)でジアルキ
ルエステル化した後、加水素分解してアリール酢酸誘導
体部分を除去する。
エステル化やンアソメタン等のメチル化剤)でジアルキ
ルエステル化した後、加水素分解してアリール酢酸誘導
体部分を除去する。
(2)適当なアルコール(メタノール等)中、そのアル
コールの金属塩(ナトリウムメチラートなど)の存在下
で加熱する。
コールの金属塩(ナトリウムメチラートなど)の存在下
で加熱する。
例えば、本発明における出発物質(IVa)は、D1を
方法(2)に従って処理することにより、好都合に得る
ことかできる。
方法(2)に従って処理することにより、好都合に得る
ことかできる。
化合物(n)のその他の光学異性体をも同様に処理して
3−酸アミ1”(U)に導き、本発明方法に従って対応
するスルホンアミド誘導体(1)を得ることかできる。
3−酸アミ1”(U)に導き、本発明方法に従って対応
するスルホンアミド誘導体(1)を得ることかできる。
本発明方法によれば安全、かつ高効率でフルボルナン系
スルホンアミド中間体を得ることかできる。このように
して調製したスルホンアミド中間体(1)を例えば、特
開昭63−139161号公報記載の方法を含む、当業
者既知の方法に従って処理することにより、容易に種々
の有用な医薬品を製造することができる(例、化合物(
Ia)から、S−145−dの製造)。
スルホンアミド中間体を得ることかできる。このように
して調製したスルホンアミド中間体(1)を例えば、特
開昭63−139161号公報記載の方法を含む、当業
者既知の方法に従って処理することにより、容易に種々
の有用な医薬品を製造することができる(例、化合物(
Ia)から、S−145−dの製造)。
そのような方法は、例えば以下の反応工程を含む。即チ
、a)水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナト
リウム、水素化ホウ素リチウム、水素化トリメトキシア
ルミニウムリチウム、水素化トリーtert−ブト牛シ
アルミニウムリチウム、水素化ンイソブチルアルミニウ
ム、ジホラン、Na−Hgなとによって還元または接触
還元し、b)クロム酸化(例えば、FCC、ンヨンズ試
薬なと)、スワーン酸化もしくはピリノン・SO3コン
プレックスによる酸化によJり2−アルデヒド体とし、
次いで、C)メトキシメチルトリフェニルホスホニウム
クロリドをンムンルナトリウム、シムフルカリウム、n
−ブチルリチウム、カリウムtert−フトキサイド、
リチウムジイソプロピルアミド、ナトリウムアミド、水
素化ナトリウムなどの塩基で処理することにより得られ
るイリドを用いたウイノチヒ反応による増炭反応に付す
。
、a)水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナト
リウム、水素化ホウ素リチウム、水素化トリメトキシア
ルミニウムリチウム、水素化トリーtert−ブト牛シ
アルミニウムリチウム、水素化ンイソブチルアルミニウ
ム、ジホラン、Na−Hgなとによって還元または接触
還元し、b)クロム酸化(例えば、FCC、ンヨンズ試
薬なと)、スワーン酸化もしくはピリノン・SO3コン
プレックスによる酸化によJり2−アルデヒド体とし、
次いで、C)メトキシメチルトリフェニルホスホニウム
クロリドをンムンルナトリウム、シムフルカリウム、n
−ブチルリチウム、カリウムtert−フトキサイド、
リチウムジイソプロピルアミド、ナトリウムアミド、水
素化ナトリウムなどの塩基で処理することにより得られ
るイリドを用いたウイノチヒ反応による増炭反応に付す
。
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、
これらの実施例はいかなる意味においても本発明を制限
するものではない。
これらの実施例はいかなる意味においても本発明を制限
するものではない。
製造例1 2−メトキンカルボニル−3−カルバモイル
ノルボルナン(2a) 2−メトキンカルボニル−3−カルホ牛ンノルホルナン
(4a) 309(151mM)をテトラヒドロフラン
300iCに溶解し、窒素気流中、00Cにてトリエチ
ルアミン 23.2肩ρ(151+nMXl。
ノルボルナン(2a) 2−メトキンカルボニル−3−カルホ牛ンノルホルナン
(4a) 309(151mM)をテトラヒドロフラン
300iCに溶解し、窒素気流中、00Cにてトリエチ
ルアミン 23.2肩ρ(151+nMXl。
1)、クロルギ酸エチル 15.9i((151mMX
11)を加えて25分間撹拌する。同温度で28%アン
モニア水30.68mC(151mMX 3.0)を加
えて35分間撹拌する。反応液を酢酸エチル七本に分配
し、酢酸エチル層を2N HCρ200m(1、次いて
水にて洗浄し、減圧濃縮する。残渣をエーテル−石油エ
ーテルから再結晶し、標題の2−メトキシカルボニル−
3−カルバモイルノルホルナン(2a) 25.19y
(84,3%)を得る。mp、]]1O−1126C無
色プリズム晶)。
11)を加えて25分間撹拌する。同温度で28%アン
モニア水30.68mC(151mMX 3.0)を加
えて35分間撹拌する。反応液を酢酸エチル七本に分配
し、酢酸エチル層を2N HCρ200m(1、次いて
水にて洗浄し、減圧濃縮する。残渣をエーテル−石油エ
ーテルから再結晶し、標題の2−メトキシカルボニル−
3−カルバモイルノルホルナン(2a) 25.19y
(84,3%)を得る。mp、]]1O−1126C無
色プリズム晶)。
IR(KBr);3435.3300.3190.29
60.1722.1676.1658.1618.14
36.1415.1312.1225.1201.11
82.1156.1115.671.608CJI−’ (MeOH,C= 1.OOO) 元素分析(CIOH1503Nとして)計算値;C:6
0.90.Hニア、67Nニア、 I O 実測値;C:60.97. Hニア、68Nニア、 0
7 ’HNMR(CDCff−−TMS) δ1.26−1.70(m、6H)、 2.51(br、S、IH)、 2.55−2.61(br、m、 IH)、2.85
(dd、 J=5.5,1.5Hz、 IH)、3
.02−3.12(m、IH)、 3.68(S、3)()、 5.63(br、S、LH) 実施例12−カルボ牛シー3−フェニルスルホニルアミ
ドノルボルナン(Ia’) (以下余白) チル溶液を合し、塩水で洗い、乾燥後、濃縮して結晶を
得る。先に得られた結晶と合わせて9417の2−カル
ホキシー3−カルハモイルノルホルナン(2a”)を得
る(96.9%)。m、p、197〜200℃。
60.1722.1676.1658.1618.14
36.1415.1312.1225.1201.11
82.1156.1115.671.608CJI−’ (MeOH,C= 1.OOO) 元素分析(CIOH1503Nとして)計算値;C:6
0.90.Hニア、67Nニア、 I O 実測値;C:60.97. Hニア、68Nニア、 0
7 ’HNMR(CDCff−−TMS) δ1.26−1.70(m、6H)、 2.51(br、S、IH)、 2.55−2.61(br、m、 IH)、2.85
(dd、 J=5.5,1.5Hz、 IH)、3
.02−3.12(m、IH)、 3.68(S、3)()、 5.63(br、S、LH) 実施例12−カルボ牛シー3−フェニルスルホニルアミ
ドノルボルナン(Ia’) (以下余白) チル溶液を合し、塩水で洗い、乾燥後、濃縮して結晶を
得る。先に得られた結晶と合わせて9417の2−カル
ホキシー3−カルハモイルノルホルナン(2a”)を得
る(96.9%)。m、p、197〜200℃。
1)2−カルボキン−3−カルハモイルノルホルナン(
2a) 製造例1て調製した3−酸アミド(2a) 104゜
5g(0,53M)をメタノール300Rρに溶解し、
10〜15°Cにて冷1N KOH1065i12(0
゜53MX 2.0)を加え、室温にて3.5時間撹拌
する。水冷下にl農塩酸を加えてpH約1.0とし、生
した結晶をろ取し、水洗する。ろ液はlNNaOHて中
和(pH7)L、減圧濃縮してメタノールを除去し、酢
酸エチルと2N HCρにて分配する。
2a) 製造例1て調製した3−酸アミド(2a) 104゜
5g(0,53M)をメタノール300Rρに溶解し、
10〜15°Cにて冷1N KOH1065i12(0
゜53MX 2.0)を加え、室温にて3.5時間撹拌
する。水冷下にl農塩酸を加えてpH約1.0とし、生
した結晶をろ取し、水洗する。ろ液はlNNaOHて中
和(pH7)L、減圧濃縮してメタノールを除去し、酢
酸エチルと2N HCρにて分配する。
水層を塩析して酢酸エチルで抽出する。全酢酸工(Me
OH,C= 1.014) IR(KBr);3442.3358.2960.36
50−2400,1734、1722.1648.16
20.1393、l315.1237、1190ciI 元素分析(CBH,3No3として) 計算値;C:58.99.Hニア、17Nニア65 実測値、 C:59.11.、 Hニア、 1 BNニ
ア 79 ’HNMR(CD30D−TMS)。
OH,C= 1.014) IR(KBr);3442.3358.2960.36
50−2400,1734、1722.1648.16
20.1393、l315.1237、1190ciI 元素分析(CBH,3No3として) 計算値;C:58.99.Hニア、17Nニア65 実測値、 C:59.11.、 Hニア、 1 BNニ
ア 79 ’HNMR(CD30D−TMS)。
61.20−1.75(n+、6H)、2.56(br
、S、IH)、 2.78(d、 J=5.2Hz、 IH)、3.
09(t、J=5.2Hz、 IH)3.05〜3.
19(m、 L H)2)2〜カルホ牛シー3−フェ
ニルスルホニルアミノノルホルナン(Ia”) 次亜塩素酸ナトリウム(14,7%水溶液)141.5
91?(275mM)と、2N NaOH20611
12(275mMX 1.5)を混ぜて25°Cにて、
上記1)で調製した2−カルボ牛シー3−カルバモイル
ーノルボルナン(2a’) 50.39g(275mM
)を、2N NaO8138M(!(275mM)に溶
解して加え、1時間撹拌する(温度約30℃まで昇温)
。次いて、反応液を浴温125℃にて撹拌すると30分
間で100’C(内温)になる。さらに15分間還流し
、直ちに室温まで冷却後、水冷する。次いて濃塩酸にて
pH3〜4に調整した後、酢酸エチルで洗う。水層を塩
化メチレンで洗浄した後、5NNaOHを用いてpH1
1とし、25℃で塩化ベンゼンスルホニル52.6xQ
(275mMX 1.5)を加えて30分間撹拌する。
、S、IH)、 2.78(d、 J=5.2Hz、 IH)、3.
09(t、J=5.2Hz、 IH)3.05〜3.
19(m、 L H)2)2〜カルホ牛シー3−フェ
ニルスルホニルアミノノルホルナン(Ia”) 次亜塩素酸ナトリウム(14,7%水溶液)141.5
91?(275mM)と、2N NaOH20611
12(275mMX 1.5)を混ぜて25°Cにて、
上記1)で調製した2−カルボ牛シー3−カルバモイル
ーノルボルナン(2a’) 50.39g(275mM
)を、2N NaO8138M(!(275mM)に溶
解して加え、1時間撹拌する(温度約30℃まで昇温)
。次いて、反応液を浴温125℃にて撹拌すると30分
間で100’C(内温)になる。さらに15分間還流し
、直ちに室温まで冷却後、水冷する。次いて濃塩酸にて
pH3〜4に調整した後、酢酸エチルで洗う。水層を塩
化メチレンで洗浄した後、5NNaOHを用いてpH1
1とし、25℃で塩化ベンゼンスルホニル52.6xQ
(275mMX 1.5)を加えて30分間撹拌する。
pH6〜7になったところて、5N NaOH55i+
!(275mM)を加え、さらに塩化フェニルスルホニ
ル 17.5m((275mMX0.5)を追加する。
!(275mM)を加え、さらに塩化フェニルスルホニ
ル 17.5m((275mMX0.5)を追加する。
さらに5 N N ao H55iff(275mM)
を加え、40分間撹拌する。
を加え、40分間撹拌する。
反応液に酢酸エチルを加えて水層を分取する。次に濃塩
酸を用いて酸性にした後、酢酸エチルで抽出する。M
g S O4にて乾燥後、減圧濃縮し、残渣をトルエン
、酢酸エチルの混液から再結晶して2カルボキシ−3−
フェニルスルホニルアミノノルボルナン(Ia’)66
.49(81,8%)を得る。
酸を用いて酸性にした後、酢酸エチルで抽出する。M
g S O4にて乾燥後、減圧濃縮し、残渣をトルエン
、酢酸エチルの混液から再結晶して2カルボキシ−3−
フェニルスルホニルアミノノルボルナン(Ia’)66
.49(81,8%)を得る。
m、p、157〜159℃。
22.5
[α] −5,3±0.5゜
(CHCC,、C=1.005)
25
[α] −58,3±10゜
65
(CHCρ31 C= 1 、 OOD )22.5
[α] +14.7±0.5゜
(MeOH,C=1.004)
(MeOH,C=]、004)
IR(KBr);3290,3650−2400.17
05.1461.1448.1424.1307、12
94、1.260S 1252.1226、1155、
1096.754. 717.690,588.555cm−’元素分析(C
,、H,7No4Sとして)計算値;C・56.93.
H:5.8ON:4.74 S:]O85 実測値:C:56.75.H:5.73N:4.73
S:10.81 HNMR(CDCC3−TMS) δ1. ] 8−1.77(m、 6H)、2.08
(dd、 J=4.8,1.6)iz、 IH)、
2、28(br、 S、 l H)、2.40−2.
50(br、m、 IH)、3.77 3.93(m
、IH)、 5.24(d、J=7.0Hz、IH)、7.45−7
.67(m、3H)、 7.81−7.95(m、2H) 実施例2 (2a) (2a”) (r a”) 1)2−ヒドロキンメチル−3−カルバモイル/ルホル
ナン(2a′つ 窒素雰囲気下、製造例1で調製した2−メトキシカルボ
ニル−3−カルバモイルノルホルナン(2a)(5,5
0g、27 、9 mmol)をTHF(57,5mの
に溶かし、塩化リチウム(3,559,83,8mmo
l)、水素化ホウ素ナトリウム(3,181?、841
mmol)、エタノール(115111C)を加え室
温で終夜撹拌する。塩化ナトリウムで飽和した2N塩酸
とメチルエチルケトンを加えた後、沈澱をろ過して除く
。有機層を飽和食塩水で洗浄後、乾燥、濃縮し、シリカ
ケルカラムクロマトクラフィーに付シテクロロホルムー
メタ/−ルて精製すると標題の化合物(2a”)(3、
60g、21.3mmol、収率76%ンか得られる。
05.1461.1448.1424.1307、12
94、1.260S 1252.1226、1155、
1096.754. 717.690,588.555cm−’元素分析(C
,、H,7No4Sとして)計算値;C・56.93.
H:5.8ON:4.74 S:]O85 実測値:C:56.75.H:5.73N:4.73
S:10.81 HNMR(CDCC3−TMS) δ1. ] 8−1.77(m、 6H)、2.08
(dd、 J=4.8,1.6)iz、 IH)、
2、28(br、 S、 l H)、2.40−2.
50(br、m、 IH)、3.77 3.93(m
、IH)、 5.24(d、J=7.0Hz、IH)、7.45−7
.67(m、3H)、 7.81−7.95(m、2H) 実施例2 (2a) (2a”) (r a”) 1)2−ヒドロキンメチル−3−カルバモイル/ルホル
ナン(2a′つ 窒素雰囲気下、製造例1で調製した2−メトキシカルボ
ニル−3−カルバモイルノルホルナン(2a)(5,5
0g、27 、9 mmol)をTHF(57,5mの
に溶かし、塩化リチウム(3,559,83,8mmo
l)、水素化ホウ素ナトリウム(3,181?、841
mmol)、エタノール(115111C)を加え室
温で終夜撹拌する。塩化ナトリウムで飽和した2N塩酸
とメチルエチルケトンを加えた後、沈澱をろ過して除く
。有機層を飽和食塩水で洗浄後、乾燥、濃縮し、シリカ
ケルカラムクロマトクラフィーに付シテクロロホルムー
メタ/−ルて精製すると標題の化合物(2a”)(3、
60g、21.3mmol、収率76%ンか得られる。
融点・135.5〜137.5°C
元素分析(C9H,5N O、として)計算値;C・6
3.88. H:8.93828 実測値;C:63.70.H:8.86827 (NieOl(、C=1.004) IR(KBr);3760−3010,2962.28
75.1660,1613.1432.1048C,W HN MR(CD 30 D T M S )61.
15−1.36(m、2H)、 1.36−1.70(m、4H)、 1.90−2.07(br、m、 LH)、2.10
−2.20(br、m、 IH)、2.20−2.3
1(m、 IH)、2.4.9(br、s、 IH
)、 3.19−3.48(m、2H) 2)2−ヒドロキンメチル−3−フェニルスルホニルア
ミノノルホルナン(Ia”) 14.5%次亜塩素酸ナト’IJウム水溶液(3,09
9,6、02mmol)と2N水酸化ナトリウム水溶液
(4,5m12.9 、 OOmmol)の混合液に化
合物(2a”X l 、 02g、6 、 OOmmo
l)を13MI2の水に溶かして加える。室温で20分
間撹拌した後、15分間還流する。冷却後、5N水酸化
ナトリウム水溶液(30xQ、 15.0mmol)
と塩化ヘンゼンスルホニル(1,1mM、9 、 OO
mmol)をo’cて加え室温で撹拌する。TLCで塩
化ヘンゼンスルホニルか消失していた場合は0.38+
12(2,98mmol)を追加する。3時間反応後、
2N塩酸を加え酢酸エチルで抽出する。有機層を水、飽
和食塩水で洗浄後、乾燥、濃縮する。トルエン−酢酸エ
チルより再結晶することにより2−ヒドロキンメチル−
3−フェニルスルホニルアミノノルホルナン(I a”
)(] 、 119.3.95mmol、収率 658
%)を得る。
3.88. H:8.93828 実測値;C:63.70.H:8.86827 (NieOl(、C=1.004) IR(KBr);3760−3010,2962.28
75.1660,1613.1432.1048C,W HN MR(CD 30 D T M S )61.
15−1.36(m、2H)、 1.36−1.70(m、4H)、 1.90−2.07(br、m、 LH)、2.10
−2.20(br、m、 IH)、2.20−2.3
1(m、 IH)、2.4.9(br、s、 IH
)、 3.19−3.48(m、2H) 2)2−ヒドロキンメチル−3−フェニルスルホニルア
ミノノルホルナン(Ia”) 14.5%次亜塩素酸ナト’IJウム水溶液(3,09
9,6、02mmol)と2N水酸化ナトリウム水溶液
(4,5m12.9 、 OOmmol)の混合液に化
合物(2a”X l 、 02g、6 、 OOmmo
l)を13MI2の水に溶かして加える。室温で20分
間撹拌した後、15分間還流する。冷却後、5N水酸化
ナトリウム水溶液(30xQ、 15.0mmol)
と塩化ヘンゼンスルホニル(1,1mM、9 、 OO
mmol)をo’cて加え室温で撹拌する。TLCで塩
化ヘンゼンスルホニルか消失していた場合は0.38+
12(2,98mmol)を追加する。3時間反応後、
2N塩酸を加え酢酸エチルで抽出する。有機層を水、飽
和食塩水で洗浄後、乾燥、濃縮する。トルエン−酢酸エ
チルより再結晶することにより2−ヒドロキンメチル−
3−フェニルスルホニルアミノノルホルナン(I a”
)(] 、 119.3.95mmol、収率 658
%)を得る。
融点:118.5〜1200°C
(CHCρ3+ c= 1.01. ]%)元素分析
(C,、H,、N○3Sとして)計算値、C:59.7
5.H:6.82N:4.98.S:1.1.39 実測値、C:59.83.H:6.9]N:5.02
S:]、1.33 JR(KBr);3490,3]30,2960.28
80.1479.1446.1320.1]62.10
98.1032.755.688.590.555cz ’HNMR(CDCρ3−TMS) δ1 12−1.68(m、7H)、 1、78(br、s、 I H)、 2.05(d、J=2.8Hz、IH)、2、10(b
r、s、 L H)、 3.05−3.18(m、 LH)、3.34(d
ABq、A−part、J=7.3゜10.8Hz、
1N)、 3.42(d ABq、 B −part、 J
=7.6108Hz、 LH)、 5、] 1(d、J = I O,OHz、 I
H)、7.45−7.55(m、3)i)、 7.86−7.96(m、2H) 実施例1て調製した2−カルボキン−3−フェニルスル
ホニルアミドーノルホルナン(Ia)ヲ用い、下記の反
応式で示される反応に従って2−ホルミルメチル体(d
)を製造した。
(C,、H,、N○3Sとして)計算値、C:59.7
5.H:6.82N:4.98.S:1.1.39 実測値、C:59.83.H:6.9]N:5.02
S:]、1.33 JR(KBr);3490,3]30,2960.28
80.1479.1446.1320.1]62.10
98.1032.755.688.590.555cz ’HNMR(CDCρ3−TMS) δ1 12−1.68(m、7H)、 1、78(br、s、 I H)、 2.05(d、J=2.8Hz、IH)、2、10(b
r、s、 L H)、 3.05−3.18(m、 LH)、3.34(d
ABq、A−part、J=7.3゜10.8Hz、
1N)、 3.42(d ABq、 B −part、 J
=7.6108Hz、 LH)、 5、] 1(d、J = I O,OHz、 I
H)、7.45−7.55(m、3)i)、 7.86−7.96(m、2H) 実施例1て調製した2−カルボキン−3−フェニルスル
ホニルアミドーノルホルナン(Ia)ヲ用い、下記の反
応式で示される反応に従って2−ホルミルメチル体(d
)を製造した。
(以下余白)
東煮混
(C)
(b)
(d)
1)LAH法
水素化アルミニウムリチウム14.89(390mM)
をテトラヒドロフラン150酎に懸濁し、化合物(1a
)28.369(96mM)を30iCに溶解し、室温
にて45分間で滴下する。さらに室温1こて1.5時間
撹拌後、0°Cにて酢酸エチルを徐々に加えて試薬を分
解させる。次いて、水を加えて析出する沈澱をテカンテ
ーションして除く。沈澱を酢酸エチルで充分に洗浄し、
酢酸エチル溶液を合してMg5O,にて乾燥後、減圧濃
縮する。トルエン−酢酸エチルから再結晶し、化合物(
a)2]09<77.8%)を得る。無色プリズム品。
をテトラヒドロフラン150酎に懸濁し、化合物(1a
)28.369(96mM)を30iCに溶解し、室温
にて45分間で滴下する。さらに室温1こて1.5時間
撹拌後、0°Cにて酢酸エチルを徐々に加えて試薬を分
解させる。次いて、水を加えて析出する沈澱をテカンテ
ーションして除く。沈澱を酢酸エチルで充分に洗浄し、
酢酸エチル溶液を合してMg5O,にて乾燥後、減圧濃
縮する。トルエン−酢酸エチルから再結晶し、化合物(
a)2]09<77.8%)を得る。無色プリズム品。
m、p、121〜122°C0
[α]F+7.8±05゜
(CHCρ3+ C=1.014)
元素分析(C、、H、。N03Sとして)計算値;C:
59.75.H:6.82N:4..98 S:1.
1.39 実測値;C:59.83.H:6.91N:5.02.
S:11.33 IR(KBr);3495.3125.2960.14
79.1446.1322.1182.1169.11
63.1096.1034.755.688.593.
556CJI ’HNMR(CDC(、、−TMS);61.12−1
.68(m、 7H,)、1.78(br、S、
IH)、 2.05(d、 J=2.8Hz、 IH)、2、
10(br、 S、 I H)、3.05−3.18
(m、 IH)、3.34(dABq、Apart、
J−7,3゜10.8Hz、 I H)、 3、42 (dA Bq、 Bpart、 J =
7.6゜10.8Hz、 IH)、 5.11(d、J=100Hz、 IH)、7.45
−7.55(m、3H)、 7.86−7.96<m、2H) 2)PCC法 窒素気流中、1)で調製した化合物(a)8.0117
(28,5mM)の塩化メチレン溶液(600mのにP
CCI 8 4g(85,4mM)とモレキュラーシー
ブス(4A粉末、25.1g)を加え、30°Cにて撹
拌する。約1時間後に反応の終了をTLCにて確認後、
ンリカゲル力ラムを用いて無機物を除き、n−ヘキサン
−酢酸エチル(2:1)で溶出するフラクションを濃縮
し、アルデヒド(b) 7.29(90%)を得る。こ
のものは不安定であったので、直ちに次の反応に付す。
59.75.H:6.82N:4..98 S:1.
1.39 実測値;C:59.83.H:6.91N:5.02.
S:11.33 IR(KBr);3495.3125.2960.14
79.1446.1322.1182.1169.11
63.1096.1034.755.688.593.
556CJI ’HNMR(CDC(、、−TMS);61.12−1
.68(m、 7H,)、1.78(br、S、
IH)、 2.05(d、 J=2.8Hz、 IH)、2、
10(br、 S、 I H)、3.05−3.18
(m、 IH)、3.34(dABq、Apart、
J−7,3゜10.8Hz、 I H)、 3、42 (dA Bq、 Bpart、 J =
7.6゜10.8Hz、 IH)、 5.11(d、J=100Hz、 IH)、7.45
−7.55(m、3H)、 7.86−7.96<m、2H) 2)PCC法 窒素気流中、1)で調製した化合物(a)8.0117
(28,5mM)の塩化メチレン溶液(600mのにP
CCI 8 4g(85,4mM)とモレキュラーシー
ブス(4A粉末、25.1g)を加え、30°Cにて撹
拌する。約1時間後に反応の終了をTLCにて確認後、
ンリカゲル力ラムを用いて無機物を除き、n−ヘキサン
−酢酸エチル(2:1)で溶出するフラクションを濃縮
し、アルデヒド(b) 7.29(90%)を得る。こ
のものは不安定であったので、直ちに次の反応に付す。
HNMR(CDCら−TMS)。
61.12−1.84(m、6H)、
2.16−2.34(m、2H)、
2.40−2.51(br、m、IH)、3.78−3
.95(m、IH)、 4.90−5.10(br、m、 IH)、7.45
−7.70(m、3H)、 7.82−7.97(m、2H)、 9.57(S、 IHン 3)n−BuLiを用いるウイ、チヒ反応窒素気流中、
メトキシメチルトリフェニルホスホニウムクロリド31
、2g(91mM)をテトラヒドロフラン16011
ρに懸濁し、−78℃にてnBuLr(1,8M へ牛
サン溶液、56.OL2.84mM)を加える。次にO
′Cにて25分間撹拌後、再ひ一78°Cにて2)で調
製した化合物(b) 7.2y(25,8mM)のテト
ラヒドロフラン(8011Q)溶液を加える。約35分
間で室温に上げ、氷水を加えて酢酸エチルで抽出する。
.95(m、IH)、 4.90−5.10(br、m、 IH)、7.45
−7.70(m、3H)、 7.82−7.97(m、2H)、 9.57(S、 IHン 3)n−BuLiを用いるウイ、チヒ反応窒素気流中、
メトキシメチルトリフェニルホスホニウムクロリド31
、2g(91mM)をテトラヒドロフラン16011
ρに懸濁し、−78℃にてnBuLr(1,8M へ牛
サン溶液、56.OL2.84mM)を加える。次にO
′Cにて25分間撹拌後、再ひ一78°Cにて2)で調
製した化合物(b) 7.2y(25,8mM)のテト
ラヒドロフラン(8011Q)溶液を加える。約35分
間で室温に上げ、氷水を加えて酢酸エチルで抽出する。
水洗後濃縮して残渣をシリカケルカラムクロマトに付し
て化合物(C)を得る。これを精製することなく90%
ギ酸5.0順に溶解し、室温で1時間撹拌浸炭酸水素す
I−1/ウムにて中和後、酢酸エチルで抽出する。水洗
後、濃縮して残渣を7リカゲルカラムクロマトにて精製
し、アルデヒド(d) 3.309(44%)を得る。
て化合物(C)を得る。これを精製することなく90%
ギ酸5.0順に溶解し、室温で1時間撹拌浸炭酸水素す
I−1/ウムにて中和後、酢酸エチルで抽出する。水洗
後、濃縮して残渣を7リカゲルカラムクロマトにて精製
し、アルデヒド(d) 3.309(44%)を得る。
m、p、100〜103℃。
HNMR(CDC&3−TMS)。
61.15−1.80(m、7H)、
1、85(br、 S、 I H)、2.26−2.
56(m、3H)、 2.74−2.83(m、LH)、 5.21(d、J=8.0Hz、LH)7.44−7.
63(m、3H)、 7.75−7.98(+n、2H)、 9.57(S、IH) 元素分析(C15H19N○3Sとして)計算値;C・
61.40. H:6.54N:4.77、S:Io、
93 実測値、 C:61.39. H:6.51N:4.9
0. S:11.02 [発明の効果] 本発明方法によれば安全、かつ高効率でスルホンアミド
中間体を得ることができる。このようにして調製したス
ルホンアミド中間体を参考例に従って処理することなど
により、容易に種々の有用な医薬品を製造することがで
きる。また、本発明方法をビシクロ[3,1,1]へブ
タン系化合物(例えば、2−カルバモイル−3−カルボ
牛シー7.7−シメチルビシクロ[3,1,1]へブタ
ン)に応用しても同様に実施できる。
56(m、3H)、 2.74−2.83(m、LH)、 5.21(d、J=8.0Hz、LH)7.44−7.
63(m、3H)、 7.75−7.98(+n、2H)、 9.57(S、IH) 元素分析(C15H19N○3Sとして)計算値;C・
61.40. H:6.54N:4.77、S:Io、
93 実測値、 C:61.39. H:6.51N:4.9
0. S:11.02 [発明の効果] 本発明方法によれば安全、かつ高効率でスルホンアミド
中間体を得ることができる。このようにして調製したス
ルホンアミド中間体を参考例に従って処理することなど
により、容易に種々の有用な医薬品を製造することがで
きる。また、本発明方法をビシクロ[3,1,1]へブ
タン系化合物(例えば、2−カルバモイル−3−カルボ
牛シー7.7−シメチルビシクロ[3,1,1]へブタ
ン)に応用しても同様に実施できる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、Rは保護されていてもよいCH_2OHまたは
COOR^1、R^1は水素またはエステル形成基、Y
は酸素または置換されていてもよいメチレンを表す) で示されるノルボルナン系酸アミドをホフマン転位の反
応条件下で処理した後、式(III): R^2SO_2X(III) (式中、R^2は置換基を有していてもよいフェニル、
Xはハロゲンを表す) で示されるスルホン酸ハロゲン化物を作用させることを
特徴とする式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R′は保護されていてもよいCH_2OHまた
はCOOHを表し、R^2およびYは上記定義に従う) で示されるノルボルナン系スルホンアミド誘導体の製造
方法。 2、ホフマン転位の反応条件が、水酸化アルカリ金属の
存在下、次亜塩素酸アルカリ金属塩または次亜臭素酸ア
ルカリ金属塩を作用させることである請求項1記載の方
法。 3、水酸化アルカリ金属が水酸化ナトリウムである請求
項2記載の方法。 4、置換スルホン酸ハロゲン化物が塩化ベンゼンスルホ
ニル、臭化ベンゼンスルホニル、および臭化ブロムベン
ゼンスルホニルからなる群から選択される請求項1記載
の方法。 5、置換スルホン酸ハロゲン化物が塩化ベンゼンスルホ
ニルまたは臭化ベンゼンスルホニルである請求項4記載
の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27442889 | 1989-10-18 | ||
JP1-274428 | 1989-10-18 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03204852A true JPH03204852A (ja) | 1991-09-06 |
JP2828334B2 JP2828334B2 (ja) | 1998-11-25 |
Family
ID=17541537
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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---|---|
US (1) | US5124462A (ja) |
EP (1) | EP0557519B1 (ja) |
JP (1) | JP2828334B2 (ja) |
KR (1) | KR0137673B1 (ja) |
AT (1) | ATE154005T1 (ja) |
DE (1) | DE69030884T2 (ja) |
DK (1) | DK0557519T3 (ja) |
ES (1) | ES2104612T3 (ja) |
GR (1) | GR3024010T3 (ja) |
WO (1) | WO1991005765A1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3431204B2 (ja) * | 1993-04-22 | 2003-07-28 | 塩野義製薬株式会社 | ノルボルナン型エステル・ヒドロラーゼ |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA1278577C (en) * | 1985-11-18 | 1991-01-02 | Tatsuo Tsuri | Bicyclic sulfonamide derivatives |
DE3720760A1 (de) * | 1987-06-24 | 1989-01-05 | Bayer Ag | Norbornan- und norbornensulfonamide, verfahren zu deren herstellung sowie ihre verwendung als arzneimittel |
JP2756689B2 (ja) * | 1989-02-20 | 1998-05-25 | 塩野義製薬株式会社 | 置換ヘキセン酸誘導体 |
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- 1990-10-16 AT AT90914953T patent/ATE154005T1/de not_active IP Right Cessation
- 1990-10-16 ES ES90914953T patent/ES2104612T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1990-10-16 DE DE69030884T patent/DE69030884T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-10-16 DK DK90914953.6T patent/DK0557519T3/da active
- 1990-10-16 WO PCT/JP1990/001330 patent/WO1991005765A1/ja active IP Right Grant
- 1990-10-16 US US07/690,925 patent/US5124462A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-10-16 EP EP90914953A patent/EP0557519B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-10-17 JP JP2279806A patent/JP2828334B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-06-18 KR KR91700627A patent/KR0137673B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1997
- 1997-07-08 GR GR970401665T patent/GR3024010T3/el unknown
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EP0557519A4 (en) | 1992-02-20 |
KR920701139A (ko) | 1992-08-11 |
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US5124462A (en) | 1992-06-23 |
ATE154005T1 (de) | 1997-06-15 |
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KR0137673B1 (en) | 1998-05-01 |
GR3024010T3 (en) | 1997-10-31 |
WO1991005765A1 (en) | 1991-05-02 |
EP0557519A1 (en) | 1993-09-01 |
ES2104612T3 (es) | 1997-10-16 |
DK0557519T3 (da) | 1997-06-23 |
DE69030884T2 (de) | 1997-12-18 |
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