JPH0317129A - ビス(アミノフェノキシ)ベンゾニトリルからの架橋性ポリイミド - Google Patents
ビス(アミノフェノキシ)ベンゾニトリルからの架橋性ポリイミドInfo
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1046—Polyimides containing oxygen in the form of ether bonds in the main chain
- C08G73/105—Polyimides containing oxygen in the form of ether bonds in the main chain with oxygen only in the diamino moiety
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
(1)発明の分野
本発明は熱的に架橋させることができ、かつ改良された
熱酸化安定性及び加工性を示すポリイミド及びその高分
子酸前駆体に関する。
熱酸化安定性及び加工性を示すポリイミド及びその高分
子酸前駆体に関する。
(2)関連技術の説明
,d リイミドはそれらが持つ靭性、低密度、熱安定性
、耐放射線性及び機械的強さの故に宇宙空間工業及び電
子工業にかいて広く用いられている。
、耐放射線性及び機械的強さの故に宇宙空間工業及び電
子工業にかいて広く用いられている。
例えば、米国特許第3,356,648号、同第a9
5 9, 3 5 0号及び同第4.59Z925号明
細書には芳香族ジアミンとヘキサフルオロイソプロピリ
デン結合基を含有する二酸無水物との縮合ボリマ−生成
物に基づいてポリイミドが開示される。
5 9, 3 5 0号及び同第4.59Z925号明
細書には芳香族ジアミンとヘキサフルオロイソプロピリ
デン結合基を含有する二酸無水物との縮合ボリマ−生成
物に基づいてポリイミドが開示される。
これらのポリイミドは、筺ずジアミンと二酸無水物とを
適当な溶剤中で反応させてボリアミド酬( polya
mic acid ) f生成させ、続いてボリアミド
酸をポリイミドに環化させることによって製造すること
ができる。
適当な溶剤中で反応させてボリアミド酬( polya
mic acid ) f生成させ、続いてボリアミド
酸をポリイミドに環化させることによって製造すること
ができる。
米国%.ff第3763.211号明細書には、Z6−
ジ(4−アミノ7エノキシ)ペンゾニトリル等のビス(
アミノ7エノキシ)ペンゾニトリルモノマーの製造が教
示さ力、かつそれぞれ芳香族酸クロライド又は芳香族二
無水物との反応にょうポリアミドポリマ−又はポリイミ
ドポリマーを製造する際にそれらモノマーを使用するこ
とが示唆されている。
ジ(4−アミノ7エノキシ)ペンゾニトリル等のビス(
アミノ7エノキシ)ペンゾニトリルモノマーの製造が教
示さ力、かつそれぞれ芳香族酸クロライド又は芳香族二
無水物との反応にょうポリアミドポリマ−又はポリイミ
ドポリマーを製造する際にそれらモノマーを使用するこ
とが示唆されている。
上記のようにして製造されるもののようなポリイミドは
多くの一般的な有機溶剤、例えばトルエン、n−メチル
ーピロリドン、アセトン、メチルエチルケトン、ジグラ
イム( diglyme )、 γ一プチロラクトン,
プロピレングリコールメチルエーテル及び同様の物質に
可溶性であるか、又は膨潤性である。この溶解性はある
種の用途、例えば溶液紡糸、吹付塗装及びキャスティン
グによるボリマーフイルムの製造にかいて有利となり得
るが、支持体に適用後にポリイミドの表面を有機溶剤を
用いて清浄にするか,さもなければ処理しなければなら
ない場合、あるいは複合材料又は或形物品が溶剤又は燃
料と接触する場合等のある種の用途においては有害な性
質となる可能性がある。例えば、ポリイミドはそのフイ
ルムを銅のような裏材料に積層し、次いでホトレジスト
を塗被し、露光し、エッチングする可撓性の印刷回路部
品用途にかいて一般に用いられる。往々にして、そのポ
リイミド表面は、米国特許第3,833,436号明細
書に開示されるもののようなレジストの適用に先き立っ
てダスト、その他の不納物を除去するために1ず有轡溶
剤を用いて清浄にしなければならない。斯る処理はポリ
イミドの絶縁層又は誘電層としての有効性を減じさせる
ことになる可溶性又は膨潤性ポリイミドに亀裂や、ある
いは部分的溶解を生じさせる可能性がある。加えて、航
空機工業で用いられる複合材料物品又は成形部品(例え
ば、タンクのライナー)Fiそれらを清掃するときに用
いられる溶剤及びそれらが接触することになるだろう燃
料に対して不活性でなければならない。
多くの一般的な有機溶剤、例えばトルエン、n−メチル
ーピロリドン、アセトン、メチルエチルケトン、ジグラ
イム( diglyme )、 γ一プチロラクトン,
プロピレングリコールメチルエーテル及び同様の物質に
可溶性であるか、又は膨潤性である。この溶解性はある
種の用途、例えば溶液紡糸、吹付塗装及びキャスティン
グによるボリマーフイルムの製造にかいて有利となり得
るが、支持体に適用後にポリイミドの表面を有機溶剤を
用いて清浄にするか,さもなければ処理しなければなら
ない場合、あるいは複合材料又は或形物品が溶剤又は燃
料と接触する場合等のある種の用途においては有害な性
質となる可能性がある。例えば、ポリイミドはそのフイ
ルムを銅のような裏材料に積層し、次いでホトレジスト
を塗被し、露光し、エッチングする可撓性の印刷回路部
品用途にかいて一般に用いられる。往々にして、そのポ
リイミド表面は、米国特許第3,833,436号明細
書に開示されるもののようなレジストの適用に先き立っ
てダスト、その他の不納物を除去するために1ず有轡溶
剤を用いて清浄にしなければならない。斯る処理はポリ
イミドの絶縁層又は誘電層としての有効性を減じさせる
ことになる可溶性又は膨潤性ポリイミドに亀裂や、ある
いは部分的溶解を生じさせる可能性がある。加えて、航
空機工業で用いられる複合材料物品又は成形部品(例え
ば、タンクのライナー)Fiそれらを清掃するときに用
いられる溶剤及びそれらが接触することになるだろう燃
料に対して不活性でなければならない。
従って、本発明の目的は、溶剤に可溶性又は膨潤性のポ
リイミドに基づいて被傍,フイルム、複合材料、その他
の物品を表面に対する適用後あるいは成形後に不溶性と
なす方法を提供することである。
リイミドに基づいて被傍,フイルム、複合材料、その他
の物品を表面に対する適用後あるいは成形後に不溶性と
なす方法を提供することである。
本発明の目的はまた、ヘキサフルオロインプロピリデン
結合基を含有する芳香族゛二酸無水物に由来する架橋性
ポリイ建ドを製造することである。
結合基を含有する芳香族゛二酸無水物に由来する架橋性
ポリイ建ドを製造することである。
本発明は、式!:
(式中、nは反復基の数であり,Aは四価の芳香族有機
基であう、カルボニル基の各対は環部分Aの隣接炭素に
結合されている。)の構造の反復単位を少なくとも1個
有する、架橋性のポリイミドボリマーを提供する。
基であう、カルボニル基の各対は環部分Aの隣接炭素に
結合されている。)の構造の反復単位を少なくとも1個
有する、架橋性のポリイミドボリマーを提供する。
式Iの構造を持つポリイミドは,約75〜約110℃に
加熱されるとき、驚くほど低い温度で架橋され、不融性
で溶媒抵抗性の造形物を形成できることが見いだされた
。それにより、溶媒に対する不活性が先ず必要である場
合のフイルム、積層品、及び複合体の製造にかいて、そ
れらのポリイミドを有用であるようにする。
加熱されるとき、驚くほど低い温度で架橋され、不融性
で溶媒抵抗性の造形物を形成できることが見いだされた
。それにより、溶媒に対する不活性が先ず必要である場
合のフイルム、積層品、及び複合体の製造にかいて、そ
れらのポリイミドを有用であるようにする。
式Iの好適なポリイミドは、1種以上の芳香族ニッ無水
物と、式■: rワσ で環置換されていてもよい。よシ好適な二酸無水物は、
ピロメリット酸二無水物及び核桝造:019以上のアミ
ノフエノキシばンゾニトリルとのポリイミドボリマー縮
合生底物を形成することによシ製造される。好適なペン
ゾニトリルは、NH,基が隣接酸素原子に対してオルト
、パラ又はメタ位であシ、酸素原子がCN基に関して2
.4−又はz6一位置にあるようなものである。本発明
の目的のために最適なペンソニトリルは2.6 −’)
(4−アミノフエノキシ)ベンゾニトリル及ヒ2.4−
ジ(4−アミノフエノキシ)ペンゾニトリルである。
物と、式■: rワσ で環置換されていてもよい。よシ好適な二酸無水物は、
ピロメリット酸二無水物及び核桝造:019以上のアミ
ノフエノキシばンゾニトリルとのポリイミドボリマー縮
合生底物を形成することによシ製造される。好適なペン
ゾニトリルは、NH,基が隣接酸素原子に対してオルト
、パラ又はメタ位であシ、酸素原子がCN基に関して2
.4−又はz6一位置にあるようなものである。本発明
の目的のために最適なペンソニトリルは2.6 −’)
(4−アミノフエノキシ)ベンゾニトリル及ヒ2.4−
ジ(4−アミノフエノキシ)ペンゾニトリルである。
本発明のポリイミドを形成するのに使用される二清無水
物に関して、最適には、式Iの残基Aは、フエニレン、
ナフタレン、又はビスフエニレン型の化合物を包含し、
これらの総てが、未置換であっても、ハロゲン、ヒドロ
キシ、01〜C6の低級アルキル若しくは01〜C6の
低級アルコキシ(式中、BはSO雪、0、CO%C1〜
C6のアルキル、C1〜C6のアルコキシ、炭素原子1
〜10個を有するベルフルオロアルキル若シくハベルフ
ルオロアリールアルキル又Fi2個の芳香族基に直接結
合する炭素一炭素結合からなる群から選択される。)を
有するジフエニルニ酸無水物である。本発明の最適な実
施態様では、Bはへキサ7ルオロインプロピリジン基(
CFs C−CFs )又は1−フエニル−242
−}!)フルオロエタン.基(CF3−C−フエニル)
である。
物に関して、最適には、式Iの残基Aは、フエニレン、
ナフタレン、又はビスフエニレン型の化合物を包含し、
これらの総てが、未置換であっても、ハロゲン、ヒドロ
キシ、01〜C6の低級アルキル若しくは01〜C6の
低級アルコキシ(式中、BはSO雪、0、CO%C1〜
C6のアルキル、C1〜C6のアルコキシ、炭素原子1
〜10個を有するベルフルオロアルキル若シくハベルフ
ルオロアリールアルキル又Fi2個の芳香族基に直接結
合する炭素一炭素結合からなる群から選択される。)を
有するジフエニルニ酸無水物である。本発明の最適な実
施態様では、Bはへキサ7ルオロインプロピリジン基(
CFs C−CFs )又は1−フエニル−242
−}!)フルオロエタン.基(CF3−C−フエニル)
である。
本発明に使用して好適なテトラカルボン酸二無水物の例
には下記のものが包含されるっ1, 2, 4. 5−
ベンゼンテトラカルボン酸二無水物;1, 2, 3.
4−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物;1,4−ビ
ス(z3−ジカルボキシフエノキシ)ヘンゼンニ酸無水
物; 1,3−ビス(よ4−ジカルボキシフエノキシ)ベンゼ
ンニ酸無水物: 1, 2. 4 5−ナフタレンテトラカルボン酸二無
水物;1, 2, 5. 6−ナフタレンテトラカルボ
ン酸二無水物;1, 4, 5. 8−ナフタレンデト
ラカルボン撤二無水物;2, 3, 6. 7−ナフタ
レンテトラカルボンツニ無水物;z6−ジクロロナフタ
レン−1. 4, 5. 8−テトラカルボン酸二無水
物: ス7−ジクロロナフタレン−1. 4, 5. 8−テ
トラカルボン酸二無水物; 2, 3, 6. 7−テトラクロロナフタレン−1.
4, 5. 8 −テトラカルボン酸二無水物; 3, y 4. 4′−ジフエニルテトラカルボン酸二
無水物:2, 2′a, 3’−ジフエニルテトラカル
ビン酸二無水物;4,4′−ビス(3.4−ジカルボキ
シフエノキシ)ジフエニルニ酵無水物; ビス(2.3−ジカルボキシフエニル〉エーテルニ酸無
水物: 4.4′−ビス(23−ジカルボキシフエノキシ):)
7エニルエーテルニ酸無水物; 4,4′−ビス(3.4−:)カルボキシフエノキシ}
ジフエニルエーテルニ酸m水物; ビス(3.4−ジカルボキシフエニル)スルフイド二酸
無水物; 4.4′−ビス(2.3−ジカルボキシ7エノキシ)ジ
フエニルスル7イドニ酸無水物; 4.4′−ビス14−ジカルボキシフエノキシ)ジ7エ
ニルスルフイドニ酸無水物; ビス(3.4−9カルボキシ7工二ル)スルホンニ酸無
水物; 4,4′−ビス(z3−ジカルボキシフエノキシ)ジ7
エニルスルホンニ[[l水物; 4.4′−ビス(L4−ジカルボキシフエノキシ)ジフ
エニルスルホンニ酸無水物: &3’−4.4’−ベンゾフエノンテト2カルボン酸二
無水物: Z 2’ & 3’−ベンゾフエノンテトラカルビン酸
二無水物: 2,3,y4′−ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無
水物; 44′−ビス(a4−ジカルボキシフエノキシ)ペンゾ
フエノン二酸無水物; ビス(23−ジカルボキシフエニル)メタンニ酸無水物
; ビス(3.4−ジカルボキシフエニル)メタン二酸無水
物; L1−ビス(2.3−シカルボキシフエニル)エタンニ
酸無水物: L1−ビス( 34−シカルボキシフエニル)エタンニ
酸無水物; L2−ビスi4−ジカルボキシフエニル)エタンニ酸無
水物; 2.2−ビス(2.3−ジカルボキシフエニル)フロバ
ンニ無水物; Z2−ビス(3.4−ジカルポキシフエニル)フロパン
ニ酸無水物; Z2 ビス [4−(2.3−ジカルボキシフエノキシ
)フエニル〕フロパンニ無水物; 2.2 ビス(4−14−ジカルボキシフエノキシ)
フエニル〕フロパンニ酸無水物; 4−(2.3−ジカルボキシフエノキシ)−4’−(:
a4−ジカルボキシフエノキシ)ジフエニルーZ2−プ
ロパンニ酸無水物: 2.2−ビス(4−(3.4−ジカルボキシフエノキシ
ーa5−ジメチル)7エニル〕プロパンニ無水物; 2a45−チオフエンテトラカルボン酸二無水物:2,
&45−ピロリジンテトラカルボン酸二無水物;2aa
a−ビラジンテトラカルボン酸二無水物:LaalO−
7エナントレンテトラカルボン酸二無水物; 3.4’JlO−ベリレンテトラカルボン酸二無水物;
2,21’ス(3.4−シカルボキシフエニル)へキサ
フルオロプロパンニ無水物; 1.3−ビス(34−ジカルボキシフエニル)へキサフ
ルオロプロパンニ酸無水物; Ll−ビス(34−ジカルポキシフエニル)−1−7エ
ニル−2.2.2−11フルオロエタンニ酸無水物; z2−ビス[:4−(3.4−ジカルボキシフエノキシ
)フエニル〕へキサフルオロプロパン二m水物:L1−
ビス(4−(34−ジカルボキシフエノキシ)フエニル
〕−1−7エニルー2.2.2−}リフルオロエタンニ
無水物;及ヒ 44′−ピス〔2−(a4−ジカルボキシフエニノレ)
へキサフルオロインプロビル〕ジフエニルエーテルニ酸
無水物; 並びにそれらの混合物。
には下記のものが包含されるっ1, 2, 4. 5−
ベンゼンテトラカルボン酸二無水物;1, 2, 3.
4−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物;1,4−ビ
ス(z3−ジカルボキシフエノキシ)ヘンゼンニ酸無水
物; 1,3−ビス(よ4−ジカルボキシフエノキシ)ベンゼ
ンニ酸無水物: 1, 2. 4 5−ナフタレンテトラカルボン酸二無
水物;1, 2, 5. 6−ナフタレンテトラカルボ
ン酸二無水物;1, 4, 5. 8−ナフタレンデト
ラカルボン撤二無水物;2, 3, 6. 7−ナフタ
レンテトラカルボンツニ無水物;z6−ジクロロナフタ
レン−1. 4, 5. 8−テトラカルボン酸二無水
物: ス7−ジクロロナフタレン−1. 4, 5. 8−テ
トラカルボン酸二無水物; 2, 3, 6. 7−テトラクロロナフタレン−1.
4, 5. 8 −テトラカルボン酸二無水物; 3, y 4. 4′−ジフエニルテトラカルボン酸二
無水物:2, 2′a, 3’−ジフエニルテトラカル
ビン酸二無水物;4,4′−ビス(3.4−ジカルボキ
シフエノキシ)ジフエニルニ酵無水物; ビス(2.3−ジカルボキシフエニル〉エーテルニ酸無
水物: 4.4′−ビス(23−ジカルボキシフエノキシ):)
7エニルエーテルニ酸無水物; 4,4′−ビス(3.4−:)カルボキシフエノキシ}
ジフエニルエーテルニ酸m水物; ビス(3.4−ジカルボキシフエニル)スルフイド二酸
無水物; 4.4′−ビス(2.3−ジカルボキシ7エノキシ)ジ
フエニルスル7イドニ酸無水物; 4.4′−ビス14−ジカルボキシフエノキシ)ジ7エ
ニルスルフイドニ酸無水物; ビス(3.4−9カルボキシ7工二ル)スルホンニ酸無
水物; 4,4′−ビス(z3−ジカルボキシフエノキシ)ジ7
エニルスルホンニ[[l水物; 4.4′−ビス(L4−ジカルボキシフエノキシ)ジフ
エニルスルホンニ酸無水物: &3’−4.4’−ベンゾフエノンテト2カルボン酸二
無水物: Z 2’ & 3’−ベンゾフエノンテトラカルビン酸
二無水物: 2,3,y4′−ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無
水物; 44′−ビス(a4−ジカルボキシフエノキシ)ペンゾ
フエノン二酸無水物; ビス(23−ジカルボキシフエニル)メタンニ酸無水物
; ビス(3.4−ジカルボキシフエニル)メタン二酸無水
物; L1−ビス(2.3−シカルボキシフエニル)エタンニ
酸無水物: L1−ビス( 34−シカルボキシフエニル)エタンニ
酸無水物; L2−ビスi4−ジカルボキシフエニル)エタンニ酸無
水物; 2.2−ビス(2.3−ジカルボキシフエニル)フロバ
ンニ無水物; Z2−ビス(3.4−ジカルポキシフエニル)フロパン
ニ酸無水物; Z2 ビス [4−(2.3−ジカルボキシフエノキシ
)フエニル〕フロパンニ無水物; 2.2 ビス(4−14−ジカルボキシフエノキシ)
フエニル〕フロパンニ酸無水物; 4−(2.3−ジカルボキシフエノキシ)−4’−(:
a4−ジカルボキシフエノキシ)ジフエニルーZ2−プ
ロパンニ酸無水物: 2.2−ビス(4−(3.4−ジカルボキシフエノキシ
ーa5−ジメチル)7エニル〕プロパンニ無水物; 2a45−チオフエンテトラカルボン酸二無水物:2,
&45−ピロリジンテトラカルボン酸二無水物;2aa
a−ビラジンテトラカルボン酸二無水物:LaalO−
7エナントレンテトラカルボン酸二無水物; 3.4’JlO−ベリレンテトラカルボン酸二無水物;
2,21’ス(3.4−シカルボキシフエニル)へキサ
フルオロプロパンニ無水物; 1.3−ビス(34−ジカルボキシフエニル)へキサフ
ルオロプロパンニ酸無水物; Ll−ビス(34−ジカルポキシフエニル)−1−7エ
ニル−2.2.2−11フルオロエタンニ酸無水物; z2−ビス[:4−(3.4−ジカルボキシフエノキシ
)フエニル〕へキサフルオロプロパン二m水物:L1−
ビス(4−(34−ジカルボキシフエノキシ)フエニル
〕−1−7エニルー2.2.2−}リフルオロエタンニ
無水物;及ヒ 44′−ピス〔2−(a4−ジカルボキシフエニノレ)
へキサフルオロインプロビル〕ジフエニルエーテルニ酸
無水物; 並びにそれらの混合物。
以上にリストした二酸無水物のテトラカルボン峡及び酸
エステルが、ポリイミドの製造に又使用できること聖、
当業者は認識している。これらのテトラカルボン酸又は
その誘導体は、既知の方法によってv4製できる。例え
ば、ヘルス等の米国特許第a8 4 7, 8 6 7
号及びホーソンの米国特許第465Q850号は、参考
文献としてここに引用され、そこにはビス(エーテル酸
無水物)及びビス(ジアルキル芳香族エーテル酸無水物
)を夫々示している。含フッ素二酸無水物の調製は、ゴ
ードンの米国特許第331Q573号及びクリチレイ等
の米国特許第3.64Q601号に開示されており、そ
れらは又参考文献としてここに引用する。
エステルが、ポリイミドの製造に又使用できること聖、
当業者は認識している。これらのテトラカルボン酸又は
その誘導体は、既知の方法によってv4製できる。例え
ば、ヘルス等の米国特許第a8 4 7, 8 6 7
号及びホーソンの米国特許第465Q850号は、参考
文献としてここに引用され、そこにはビス(エーテル酸
無水物)及びビス(ジアルキル芳香族エーテル酸無水物
)を夫々示している。含フッ素二酸無水物の調製は、ゴ
ードンの米国特許第331Q573号及びクリチレイ等
の米国特許第3.64Q601号に開示されており、そ
れらは又参考文献としてここに引用する。
本発明の最も好ましいポリイミドは、下記の二酸無水物
を使用して調製される。即ち、L2.45−ペンセンテ
トラカルボン酸二無水物(ピロメリツ}d二無水物一P
MDAとして又知られている)、ビス(34−ジカルボ
キシーフエニル)エーテル二酸無水物(オキシフタル酸
二無水物一〇DPAとして又知られている)、a3:4
4’−ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物(ペン
ゾフエノンテトラカルボン酸二無水物一BTDAとして
又知られている)、a4’44’−ジフエニルテトラ力
ルホ7 酸二無水物(BPDA)、2.2−ビス(34
−シカルボキシ7エニル)へキサフルオロプロパンニ酸
無水物(6FDA)、及び44′−ビス〔2−i4−ジ
カルボキシフエニル)ヘキサフルオロインプロビル〕ジ
フエニルエーテルニ酸無水物(12F’DA)である。
を使用して調製される。即ち、L2.45−ペンセンテ
トラカルボン酸二無水物(ピロメリツ}d二無水物一P
MDAとして又知られている)、ビス(34−ジカルボ
キシーフエニル)エーテル二酸無水物(オキシフタル酸
二無水物一〇DPAとして又知られている)、a3:4
4’−ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物(ペン
ゾフエノンテトラカルボン酸二無水物一BTDAとして
又知られている)、a4’44’−ジフエニルテトラ力
ルホ7 酸二無水物(BPDA)、2.2−ビス(34
−シカルボキシ7エニル)へキサフルオロプロパンニ酸
無水物(6FDA)、及び44′−ビス〔2−i4−ジ
カルボキシフエニル)ヘキサフルオロインプロビル〕ジ
フエニルエーテルニ酸無水物(12F’DA)である。
本発明の範囲内の架橋性ポリイミドは、前記式Hのアだ
ノ7エノキシベンゾニトリルト次式の一種以上の他の芳
香族ジアミンとの混合物を用いて又調製できる。
ノ7エノキシベンゾニトリルト次式の一種以上の他の芳
香族ジアミンとの混合物を用いて又調製できる。
Nu2− D − NH.
但し上式中Dは、フエニレン、ナフタレン若しくはビス
フエニレン型化合物であって、それは末置換若シくはハ
ロゲン、ヒドロキシ、Cl乃至C6アルキル又はCI乃
至C4アルコキシ基で置換されることができる。
フエニレン型化合物であって、それは末置換若シくはハ
ロゲン、ヒドロキシ、Cl乃至C6アルキル又はCI乃
至C4アルコキシ基で置換されることができる。
前記■のジアミンと共重合混合物において使用に適して
いるジアミの例は次のものを包含する。
いるジアミの例は次のものを包含する。
m−7エニレンジアミン:
p−7エニレンジアミ/;
L3−ビス(4−アミノフエニル)プロパン;2l2−
ビス(4−アミノフエニル)フロパン:44′−ジアミ
ノージフエニルメタン:1.2−ビス(4−アミノフエ
ニル)エタン:Ll−ビス(4−アミノフエニル)エタ
ン:2.2−ジアミノージエチルスル7イド;1:’ス
(4−7ミノフエニル)スルフイド;2l4′−ジアミ
ノージフエニルスルフイト:ビス(3−アミノフエニル
)スルホン;?ス(4−アミノ7エニル)スルホン;4
4′−ジアミノージペンジルスルホキシド;ビス(4−
7ミノ7エニル)エーテル;k’X(3−アミノフエニ
ル)エーテル;ビス(4−アミノフエニル)ジエチルシ
ラン;ビス(4−アミノフエニル)ジフエニルシラン;
ピス(4−アミノフエニル)エチルホス7インオキシド
; ビス(4−7■ノフエニル)フエニルホスフインオキシ
ド; ビス(4−アミノフエニル)一N−フエニルアミン; ビス(4−アミノ7エニル)一N−メチルアミン:L2
−ジアミノーナフタレン; L4−ジアミノーナ7タレン; L5−ジアミノーナフタレン; L6−ジアミノーナフタレ/; L7−ジアミノーナフタレン; L8−ジアミノーナフタレン; 23−ジアミノーナフタレン; 26−ジアミノーナフタレン; L4−ジアミノー2−メチルーナ7タレン;L5−ンア
ミノ−2−メチルーナフタレン:L3−ジアミノ−2−
7エニルーナフタレ/;44′−ジアミノービフエニル
; よ3′−ジアミノービ7エニル; a3′−シクロロ−4 4′− シアミノーピフエニル
;3 3’−ジメテル−44′−ジアミノービフエニル
;3 4’−ジメチルーヘ4′−ジアミノービフエニル
:3 3’−ジメトキシ−447−ジアミノービ7エニ
ル;4l4′−ビス(4−アミノフエノキ7)ビフエニ
ル;24−ジアミノートルエン; Z5−ジアミノートルエン; z6−ジアミノートルエン; a5−ジアミメートルエン; L3−ジアミノー2.5−ジクロローベンゼン;L4−
ジアミノ−25−ジクロローベンゼン:1−メトキシ−
2.4−ジアミノーベンゼン;L4−ジアミノ−2−メ
トキシ−5−メチルベンゼン; L4−ジアミノー23.S6−テトラメチルベンゼン; 1.4 − ヒス( 2−メfルー4−アミノーペンチ
ル)一ベンゼン0 L4−ビス(Ll−ジメチル−5−アミノーぺ/チル)
一ベンゼン; 1.4−ビス(4−7ミノフエノキシ)一ベンゼン;0
−キシリレ/ジアミン; m−キシレンジアミン: p−キシリレンジアミン: a3′−ジアミノーベンゾフエノン; 44′−ジアミノーベンゾフエノ/; z6−ジアミノーピリジン; a5−ジアミノーピリジン; L3−ジアミノーアダマンタン; ビス[2−(3−アミノ7エニル)へキサ7ルオロイソ
フロビル〕シフェニルエーテル;a3’−ジアミノーL
L 1’−ジアダマ/タン:N−(3−アミノ7エニ
ル)−4−yミノベンズアミド: 4−アミノフエニル−3−アミノベンゾエート:′2.
2−ビス(4−アミノ7エニル)へキサフルオロプロパ
ン; 22−ビス(3−アミノ7エニル)へキサフルオ口プロ
パン: 2−(3−アミノフエニル)−2−(4−アミノ7エニ
ル)へキサフルオロプロパン; 22−ピス[−(4−アミノフエノキシ)7エニル〕へ
キサ7ルオロプロパン; z2−ビス[:4−(2−クロロ−4−アミノフエノキ
シ)フエニル〕ヘキサフルオロプロパン:L1−ビス(
4−アミノ7エニル)−1−7エニルー2122−トリ
フルオロエタン; L1−ビス[4−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕
−1−フエニルー2.2.2−IJ7ルオロエタン; L4−ビス(3−アミノフエニル)プタ〜1−エンー3
−イン; L3−ビス(3−アミノ7エニル)へキサフルオ口プロ
パン; L5−ビス(3−アミノ7エニル)デカフルオロベンタ
ン: 44’−ヒス(2−(4−アミノフエノキシ7工二ル)
へキサフルオロイソフロビル〕シフエニルエーテル: 及びそれらの混合物。
ビス(4−アミノフエニル)フロパン:44′−ジアミ
ノージフエニルメタン:1.2−ビス(4−アミノフエ
ニル)エタン:Ll−ビス(4−アミノフエニル)エタ
ン:2.2−ジアミノージエチルスル7イド;1:’ス
(4−7ミノフエニル)スルフイド;2l4′−ジアミ
ノージフエニルスルフイト:ビス(3−アミノフエニル
)スルホン;?ス(4−アミノ7エニル)スルホン;4
4′−ジアミノージペンジルスルホキシド;ビス(4−
7ミノ7エニル)エーテル;k’X(3−アミノフエニ
ル)エーテル;ビス(4−アミノフエニル)ジエチルシ
ラン;ビス(4−アミノフエニル)ジフエニルシラン;
ピス(4−アミノフエニル)エチルホス7インオキシド
; ビス(4−7■ノフエニル)フエニルホスフインオキシ
ド; ビス(4−アミノフエニル)一N−フエニルアミン; ビス(4−アミノ7エニル)一N−メチルアミン:L2
−ジアミノーナフタレン; L4−ジアミノーナ7タレン; L5−ジアミノーナフタレン; L6−ジアミノーナフタレ/; L7−ジアミノーナフタレン; L8−ジアミノーナフタレン; 23−ジアミノーナフタレン; 26−ジアミノーナフタレン; L4−ジアミノー2−メチルーナ7タレン;L5−ンア
ミノ−2−メチルーナフタレン:L3−ジアミノ−2−
7エニルーナフタレ/;44′−ジアミノービフエニル
; よ3′−ジアミノービ7エニル; a3′−シクロロ−4 4′− シアミノーピフエニル
;3 3’−ジメテル−44′−ジアミノービフエニル
;3 4’−ジメチルーヘ4′−ジアミノービフエニル
:3 3’−ジメトキシ−447−ジアミノービ7エニ
ル;4l4′−ビス(4−アミノフエノキ7)ビフエニ
ル;24−ジアミノートルエン; Z5−ジアミノートルエン; z6−ジアミノートルエン; a5−ジアミメートルエン; L3−ジアミノー2.5−ジクロローベンゼン;L4−
ジアミノ−25−ジクロローベンゼン:1−メトキシ−
2.4−ジアミノーベンゼン;L4−ジアミノ−2−メ
トキシ−5−メチルベンゼン; L4−ジアミノー23.S6−テトラメチルベンゼン; 1.4 − ヒス( 2−メfルー4−アミノーペンチ
ル)一ベンゼン0 L4−ビス(Ll−ジメチル−5−アミノーぺ/チル)
一ベンゼン; 1.4−ビス(4−7ミノフエノキシ)一ベンゼン;0
−キシリレ/ジアミン; m−キシレンジアミン: p−キシリレンジアミン: a3′−ジアミノーベンゾフエノン; 44′−ジアミノーベンゾフエノ/; z6−ジアミノーピリジン; a5−ジアミノーピリジン; L3−ジアミノーアダマンタン; ビス[2−(3−アミノ7エニル)へキサ7ルオロイソ
フロビル〕シフェニルエーテル;a3’−ジアミノーL
L 1’−ジアダマ/タン:N−(3−アミノ7エニ
ル)−4−yミノベンズアミド: 4−アミノフエニル−3−アミノベンゾエート:′2.
2−ビス(4−アミノ7エニル)へキサフルオロプロパ
ン; 22−ビス(3−アミノ7エニル)へキサフルオ口プロ
パン: 2−(3−アミノフエニル)−2−(4−アミノ7エニ
ル)へキサフルオロプロパン; 22−ピス[−(4−アミノフエノキシ)7エニル〕へ
キサ7ルオロプロパン; z2−ビス[:4−(2−クロロ−4−アミノフエノキ
シ)フエニル〕ヘキサフルオロプロパン:L1−ビス(
4−アミノ7エニル)−1−7エニルー2122−トリ
フルオロエタン; L1−ビス[4−(4−アミノフエノキシ)フエニル〕
−1−フエニルー2.2.2−IJ7ルオロエタン; L4−ビス(3−アミノフエニル)プタ〜1−エンー3
−イン; L3−ビス(3−アミノ7エニル)へキサフルオ口プロ
パン; L5−ビス(3−アミノ7エニル)デカフルオロベンタ
ン: 44’−ヒス(2−(4−アミノフエノキシ7工二ル)
へキサフルオロイソフロビル〕シフエニルエーテル: 及びそれらの混合物。
本発明の最も好ましいポリイミドは、式■の少なくとも
1つの繰り返し単位を有するものである。
1つの繰り返し単位を有するものである。
m
好ましい具体例において、nはボリマー濃度0. 5重
量嘩のポリマーのジメチルアセトアミド溶液から25℃
で測定したとき、少なくとも約0.1dt/tの固有粘
度とするに十分な数である。
量嘩のポリマーのジメチルアセトアミド溶液から25℃
で測定したとき、少なくとも約0.1dt/tの固有粘
度とするに十分な数である。
本発明のポリイミドを調製する好ましい方法は、ジアミ
ンと二酸無水物を有機浴剤中で反応させることにより、
好ましくは、少たくとも50%の該当するポリアミド酸
を与えるに十分な時間と温度?おいて実實的に無水条件
下で、ボリアミド酸を最初に調製し、次いでこのボリア
ミド酸をポリイミドに転化させる。ジアミンと二酸無水
物を反応させる適切な条件は、ロージャーズの米国特許
第335fi648号と同第3,959,350号に詳
細に開示されており、そしてこれらを参考文献としてこ
こに引用される。この中間ポリアミド酸は又エステル化
されてポリアミドーエステルを与える。
ンと二酸無水物を有機浴剤中で反応させることにより、
好ましくは、少たくとも50%の該当するポリアミド酸
を与えるに十分な時間と温度?おいて実實的に無水条件
下で、ボリアミド酸を最初に調製し、次いでこのボリア
ミド酸をポリイミドに転化させる。ジアミンと二酸無水
物を反応させる適切な条件は、ロージャーズの米国特許
第335fi648号と同第3,959,350号に詳
細に開示されており、そしてこれらを参考文献としてこ
こに引用される。この中間ポリアミド酸は又エステル化
されてポリアミドーエステルを与える。
ポリイミドを調製する好ましい方法において、電子用グ
レードのジアミンと二酸無水物(少なくとも約9 9.
5 %純度)は、N−メチルピロリドン、ガンマーブ
チロラクトン(BLO)、若しくはBLOとジグライム
のような他の溶剤の混合物において反応させうる。得ら
れる生放物はボリアミド酸であり、次いで数種の方法の
一つによって所望のポリイ■ドに転化させる:イミド化
が実質的に完了するまでボリアミド酸溶液を加熱する、
又はボリアミドrR溶液と無水酢酸のような脱水剤及び
β−ピロリンを触媒の存在又は不存在で配合し、得られ
た混合物をイミド化が実買的に完了するまで任意に加熱
するのである。
レードのジアミンと二酸無水物(少なくとも約9 9.
5 %純度)は、N−メチルピロリドン、ガンマーブ
チロラクトン(BLO)、若しくはBLOとジグライム
のような他の溶剤の混合物において反応させうる。得ら
れる生放物はボリアミド酸であり、次いで数種の方法の
一つによって所望のポリイ■ドに転化させる:イミド化
が実質的に完了するまでボリアミド酸溶液を加熱する、
又はボリアミドrR溶液と無水酢酸のような脱水剤及び
β−ピロリンを触媒の存在又は不存在で配合し、得られ
た混合物をイミド化が実買的に完了するまで任意に加熱
するのである。
本発明の好ましい具体例において、ジアミンと二酸無水
物成分は、ほぼ等モル量において反応させる。
物成分は、ほぼ等モル量において反応させる。
上述の通り、このポリマーを含む或型品又は加工品を少
なくとも約75℃でそのポリマーを不溶化させるのに十
分な時間、熱アニールさせることにより、本発明の溶剤
可溶な又は膨潤可能なポリイミド類を直ちに架橋し、普
通の有機溶剤に対して不活性にすることができる。架橋
を有効に行うのに必要な時間は架橋温度の関数である。
なくとも約75℃でそのポリマーを不溶化させるのに十
分な時間、熱アニールさせることにより、本発明の溶剤
可溶な又は膨潤可能なポリイミド類を直ちに架橋し、普
通の有機溶剤に対して不活性にすることができる。架橋
を有効に行うのに必要な時間は架橋温度の関数である。
即ち、その温度が低げれば低いほど架橋が起こるのに必
要な時間は長い。例えば、一般に約80℃では架橋する
のに12〜16時間必要である。約100〜110℃で
は、架橋は8〜10時間と短くてよい。200℃では、
4時間で可能となる。架橋の正確な機構は知られていな
いが、シアノ基と未反応ボリマー末端基及び/又は酸素
との反応が含まれると信じられている。
要な時間は長い。例えば、一般に約80℃では架橋する
のに12〜16時間必要である。約100〜110℃で
は、架橋は8〜10時間と短くてよい。200℃では、
4時間で可能となる。架橋の正確な機構は知られていな
いが、シアノ基と未反応ボリマー末端基及び/又は酸素
との反応が含まれると信じられている。
電子産業用のスピンコーティングの応用のように過度の
加工熱を回避することが必要な場合、比較的低温で架橋
される能力を有する本発明のポリイミド類が特に有利で
ある。このため、そのような応用で乾燥ポリイミド保護
絶縁フイルム層を製造するのに必要なステップベーキン
グ温度を下げることができる。本発明のポリイミド類は
、単独又は他の物質と組み合わせて、物實を本発明の熱
アニール方法を施す前に戚型、押出し、紡糸、溶液流延
及びその他の公知の方法により有用な製品に加工される
。電気、電子産業で利用されるフイルムの場合、ポリア
ミ酸前駆体の溶液がシリコンウエハーσ)ような適当な
基体上にスピンコーティングされ、そのコートされた製
品は溶剤を除くため約300〜350℃の温度まで徐々
に加熱される。
加工熱を回避することが必要な場合、比較的低温で架橋
される能力を有する本発明のポリイミド類が特に有利で
ある。このため、そのような応用で乾燥ポリイミド保護
絶縁フイルム層を製造するのに必要なステップベーキン
グ温度を下げることができる。本発明のポリイミド類は
、単独又は他の物質と組み合わせて、物實を本発明の熱
アニール方法を施す前に戚型、押出し、紡糸、溶液流延
及びその他の公知の方法により有用な製品に加工される
。電気、電子産業で利用されるフイルムの場合、ポリア
ミ酸前駆体の溶液がシリコンウエハーσ)ような適当な
基体上にスピンコーティングされ、そのコートされた製
品は溶剤を除くため約300〜350℃の温度まで徐々
に加熱される。
ポリイミド類の他の応用は、戊型部品、高温絶縁体、透
明燃料フィルターアセンブリー、封止装置、ガスケット
、スラストウオツシャー、高温安定性及び腐食防止性パ
イプ、高温及び不活性、絶縁、不動態化及び保護フイル
ム、タイヤコード中の高熱強度抵抗性繊維、耐燃性衣料
、防弾チョッキ、他の有機及び/又は無機フィラー及び
繊維との複合製品又はラミネート中の含浸物質のような
開く繊維マット中の複合製品、及びその他の当業者に適
宜なし得る応用製品を含む。
明燃料フィルターアセンブリー、封止装置、ガスケット
、スラストウオツシャー、高温安定性及び腐食防止性パ
イプ、高温及び不活性、絶縁、不動態化及び保護フイル
ム、タイヤコード中の高熱強度抵抗性繊維、耐燃性衣料
、防弾チョッキ、他の有機及び/又は無機フィラー及び
繊維との複合製品又はラミネート中の含浸物質のような
開く繊維マット中の複合製品、及びその他の当業者に適
宜なし得る応用製品を含む。
グラスファイバー、シリカ、モリブデン、グラファイト
及びPTFKのようなフイラーは上記のポリイミドに配
合され、又は混合されてモールデイング及び押出し組成
物を形戒する。
及びPTFKのようなフイラーは上記のポリイミドに配
合され、又は混合されてモールデイング及び押出し組成
物を形戒する。
ラミネートの製造において、N−メチルピロリドン、ジ
グライム、ジメチルホルムアミド、プロピレングリコー
ルメチルエーテルなどの適当な溶剤中に上記の特定のポ
リイミド又はポリア[前駆体を溶解することにより積層
用フェスを製造できる。ボロン繊維布はく、石英繊維布
はくグラファイト又はグラス布はくのような適当な補強
布はくにポリイミド溶液を塗布し、溶剤を除去する。
グライム、ジメチルホルムアミド、プロピレングリコー
ルメチルエーテルなどの適当な溶剤中に上記の特定のポ
リイミド又はポリア[前駆体を溶解することにより積層
用フェスを製造できる。ボロン繊維布はく、石英繊維布
はくグラファイト又はグラス布はくのような適当な補強
布はくにポリイミド溶液を塗布し、溶剤を除去する。
真空バッグ又はオートクレープ槓I一手続きを用いて融
解した架橋造形部品を製造した。同様に、これらのポリ
イミドは溶融又は溶解の技術により繊維に加工され、編
むことにより布はく又は構造体を形戒する。更に、グラ
ス、ボロン、石英又はグラファイトの補強布はくと、任
意に積層ワニスと加熱及び加圧下積層される。同様に、
グラス、石英、ボロン及びグラファイ}ffl維はこれ
らのポリイミドの溶液と混合され、加熱及び任意の減圧
により溶剤を除去し、混合物を溶解し架橋して望ましい
造形を有する製品を加熱及び加圧下につくる。
解した架橋造形部品を製造した。同様に、これらのポリ
イミドは溶融又は溶解の技術により繊維に加工され、編
むことにより布はく又は構造体を形戒する。更に、グラ
ス、ボロン、石英又はグラファイトの補強布はくと、任
意に積層ワニスと加熱及び加圧下積層される。同様に、
グラス、石英、ボロン及びグラファイ}ffl維はこれ
らのポリイミドの溶液と混合され、加熱及び任意の減圧
により溶剤を除去し、混合物を溶解し架橋して望ましい
造形を有する製品を加熱及び加圧下につくる。
以下、実施例により本発明を説明する。
実施例1
本実施例は、26−ジ(4−アミノフエノキシ)ペンゾ
ニトリルの合成に関する。
ニトリルの合成に関する。
温度計と攪拌機を備えた1000−のフラスコを乾燥し
窒素雰囲気に置く。無水のジメチルスルホオキシド40
0−をフラスコに投入し、15分間窒素でパージする。
窒素雰囲気に置く。無水のジメチルスルホオキシド40
0−をフラスコに投入し、15分間窒素でパージする。
その後、Z6−ジフルオロベンゾニトリル48.6f(
0.35モル)と、4一アミノフェノール8 1. 8
t ( 0. 7 5モル)を加える。透明な溶液は
アイスバス中で冷却され、10℃以下に温度を保ちつつ
、鉱油中の60%ナスベンジョンとされた水素化ナトリ
ウム30F(0.75モル)を加える。反応混合液を5
0−60℃で12時間攪拌し、F過した後室温まで冷却
し、その後1500−の水に投入して沈澱させる。生底
物は減圧戸過により単離され、水で洗浄され乾燥される
。エチルアセテートからの2度の再結晶により純粋な生
成物が得られ、収量は921(埋論量の81%)であり
、HPLC純分は99%だった。
0.35モル)と、4一アミノフェノール8 1. 8
t ( 0. 7 5モル)を加える。透明な溶液は
アイスバス中で冷却され、10℃以下に温度を保ちつつ
、鉱油中の60%ナスベンジョンとされた水素化ナトリ
ウム30F(0.75モル)を加える。反応混合液を5
0−60℃で12時間攪拌し、F過した後室温まで冷却
し、その後1500−の水に投入して沈澱させる。生底
物は減圧戸過により単離され、水で洗浄され乾燥される
。エチルアセテートからの2度の再結晶により純粋な生
成物が得られ、収量は921(埋論量の81%)であり
、HPLC純分は99%だった。
実施例2
本実施例は、z2−ビス(44−ジカルボキシフエニル
)へキサ7ルオロプロパンジ無水物(6FDA)と、実
施例lで得られたZ6ジー(4−アミノフエノキシ)ペ
ンゾニトリル( DAP B )との縮合によるポリア
ミド酸ボリマーとポリイミドボリマーの合戚に関する。
)へキサ7ルオロプロパンジ無水物(6FDA)と、実
施例lで得られたZ6ジー(4−アミノフエノキシ)ペ
ンゾニトリル( DAP B )との縮合によるポリア
ミド酸ボリマーとポリイミドボリマーの合戚に関する。
冷却管、温度計、攪拌機を備え、窒素パージされた3リ
ットルの3首フラスコにDAP86.15F(0.02
モル)と、N−メチルピロリドン(NMP)20fを窒
素雰囲気下で加えた。混合物は室温で透明溶渣にkるま
で攪拌された。電子用グレード(純度99.9%)の6
FDAが&88? ( 0. 0 2モル)加えられた
。さらに、追加のNMP40ノが加えられ、混合物は約
25−30℃で15時間攪拌された。
ットルの3首フラスコにDAP86.15F(0.02
モル)と、N−メチルピロリドン(NMP)20fを窒
素雰囲気下で加えた。混合物は室温で透明溶渣にkるま
で攪拌された。電子用グレード(純度99.9%)の6
FDAが&88? ( 0. 0 2モル)加えられた
。さらに、追加のNMP40ノが加えられ、混合物は約
25−30℃で15時間攪拌された。
生成したボリアミド峡は、25℃において、ジメチルア
セトアミドの0.5mft%溶液において0. 6 3
dt/? の固有粘度を示した。
セトアミドの0.5mft%溶液において0. 6 3
dt/? の固有粘度を示した。
ポリアミド#R溶液に1 6. 3 fの無水酢酸と1
.632のベータピコリンを加え、ボリマーを環化させ
た。溶液を約22時間攪拌し、ボリアミド改とポリイミ
ドとを項化させた。得られたポリマーはメタノール中で
沈澱され、P過により単離され、メタノールで再度洗浄
された。ポリマーは前記の式mの化学構造を有する。
.632のベータピコリンを加え、ボリマーを環化させ
た。溶液を約22時間攪拌し、ボリアミド改とポリイミ
ドとを項化させた。得られたポリマーはメタノール中で
沈澱され、P過により単離され、メタノールで再度洗浄
された。ポリマーは前記の式mの化学構造を有する。
DMACに溶解町能な生或ポリマーは以下の方法により
架橋される。DMACの20%のボリマー治欣は金属基
体の上でキャストされ、真空オーブン中30℃で18時
間乾燥される。得られたフイルムはその後真空オーブン
中で80℃で約20時間加熱され、その後さらに125
℃で4時間加熱される。生或した硬化ポリイミドフイル
ムはDMACに不溶であり、架橋していないポリイミド
が溶解可能であった他の一般的な有機溶剤にも不溶であ
った。
架橋される。DMACの20%のボリマー治欣は金属基
体の上でキャストされ、真空オーブン中30℃で18時
間乾燥される。得られたフイルムはその後真空オーブン
中で80℃で約20時間加熱され、その後さらに125
℃で4時間加熱される。生或した硬化ポリイミドフイル
ムはDMACに不溶であり、架橋していないポリイミド
が溶解可能であった他の一般的な有機溶剤にも不溶であ
った。
実施例3
反応体が3.0 8 F ( 0.0 1モル)ノDA
P Bト2.2Of(0.01モル)のピロメリト酸二
無水物(PMDA)とからなる以外は同様にして、実施
例2の方法を繰り返した。無水酢酸5.75tと脱水剤
としてのベータピコリン0.62とからたる混合物を用
いてボリアミド酸中間体を環化した。
P Bト2.2Of(0.01モル)のピロメリト酸二
無水物(PMDA)とからなる以外は同様にして、実施
例2の方法を繰り返した。無水酢酸5.75tと脱水剤
としてのベータピコリン0.62とからたる混合物を用
いてボリアミド酸中間体を環化した。
実施例4
反応体が3.08F(0.01モル)のDAPBと2.
20F(0.01モル)のよ4’ 4 4’ジフエニル
テトラカルポ/酸二無水物(BPDA)とからなる以外
は同様にして、実施例2の方法を繰り返した。
20F(0.01モル)のよ4’ 4 4’ジフエニル
テトラカルポ/酸二無水物(BPDA)とからなる以外
は同様にして、実施例2の方法を繰り返した。
得られたポリアミド酸を、無水酢M7.00tと脱水剤
としてのベータピコリン0.72とからなる混合物を用
いて環化した。
としてのベータピコリン0.72とからなる混合物を用
いて環化した。
?施例5
反応体が3.08F(0.01モル)ODAPBと3.
275’(0.01モル)のべンゾフエノンテトラカル
ポン酸二無水物(BTDA)とからなる以外は同様にし
て、実施例2の方法を繰り返した。無水昨$7.5tと
ベータピコリ:/0.75fとからなる混合物を用いて
ボリア■ド酸中間体を環化した。
275’(0.01モル)のべンゾフエノンテトラカル
ポン酸二無水物(BTDA)とからなる以外は同様にし
て、実施例2の方法を繰り返した。無水昨$7.5tと
ベータピコリ:/0.75fとからなる混合物を用いて
ボリア■ド酸中間体を環化した。
実施例6
反応体が3.08!’(0.01モル)のDAPBと3
.12F(0.01モル)のビス(3.4−ジカルボキ
シフエニル)エーテルニ醒無水物CODPA)とからな
る以外は同僚にして、実施列2の方法を繰り返した。無
水酢酸7.IPとベータビコリ/0.72とからたる混
合物を用いてポリアミド酸中間体を環化した。
.12F(0.01モル)のビス(3.4−ジカルボキ
シフエニル)エーテルニ醒無水物CODPA)とからな
る以外は同僚にして、実施列2の方法を繰り返した。無
水酢酸7.IPとベータビコリ/0.72とからたる混
合物を用いてポリアミド酸中間体を環化した。
実施例2に記載したように、実施例3〜6のポリマーの
膜を調製し、乾燥し、架倒した。架橋後においては、全
ての試料がDMACに対して不溶性であった。
膜を調製し、乾燥し、架倒した。架橋後においては、全
ての試料がDMACに対して不溶性であった。
来施例2〜6において作られたボリアミド酸ボリマーの
各々の固有粘度を表1に示す。示差走査熱量法(DSC
)によって測定した各ポリイミドのガラス転移温度もま
た表1に示す。各ボリマーが空気中において5%のNi
l損失を記録するような温度に設定した各ポリイミドの
熱TL量分析(TGA)もまた示す。
各々の固有粘度を表1に示す。示差走査熱量法(DSC
)によって測定した各ポリイミドのガラス転移温度もま
た表1に示す。各ボリマーが空気中において5%のNi
l損失を記録するような温度に設定した各ポリイミドの
熱TL量分析(TGA)もまた示す。
本発明は前記の説明及び実施例で記載されたが、本発明
はここに記載したそれらに限定されるものでなく、特t
f請求の範囲の規定のように限定されるのである。
はここに記載したそれらに限定されるものでなく、特t
f請求の範囲の規定のように限定されるのである。
手
続
補
平戊
2年
6月73日
平成2年特許願第118515号
ク
発明の名称
ビス(アミノフェノキシ)
ポリイミド
ペンゾニトリルからの架橋性
3.
補正をする者
事件との関係
住所
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、化学式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の構造を有する繰り返し単位の一以上を含有するポリイ
ミドポリマー。 但し上式中RはCF_3とフェニルからなる群から選択
され、nはポリマー濃度0.5重量%のポリマーのジメ
チルアセトアミド溶液から25℃で測定したときの固有
粘度約0.1dl/g以上にするに十分な数である。 2、RがCF_3である請求項1記載のポリマー。 3、化学式 ▲数式、化学式、表等があります▼ なる構造を有する請求項1記載のポリマー。 4、請求項1若しくは3のポリマーを造型品に形成し、
前記ポリマーを架橋結合するに十分な時間該造型品を約
75℃以上の温度に昇温させることからなるポリイミド
ポリマーを架橋結合する方法。 5、該温度が約80℃乃至約200℃の範囲にわたる請
求項4記載の方法。 6、化学式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の構造を有する繰り返し単位の一以上を含有するポリイ
ミドポリマーを架橋結合する方法。 但し上式中Aは四価の芳香族有機基であつて、カルボニ
ル基の各対が環部分A中の隣接炭素原子に結合している
ものであり、nはポリマー濃度0.5重量%のポリマー
のジメチルアセトアミド溶液から25℃で測定したとき
の固有粘度約0.1dl/g以上にするに十分な数であ
り、該方法は、前記ポリイミドポリマーを造型品に形成
し、前記ポリマーを架橋結合するに十分な時間約75℃
以上の温度に昇温させることからなる。 7、Aは下記のものからなる群から選択された芳香族二
酸無水物のポリイミド形成残基である:1,2,4,5
−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−
ジカルボキシフエニル)エーテル二酸無水物、3,3′
,4,4′−ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物
、3,4′,4,4′−ジフエニルテトラカルボン酸二
無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフエニル
)ヘキサフルオロプロパン二酸無水物、及び4,4′−
ビス〔2−(3,4−ジカルボキシフエニル)ヘキサフ
ルオロイソプロピル〕ジフエニルエーテル二酸無水物。 8、Aは下記の構造を有する請求項6記載の方法、▲数
式、化学式、表等があります▼ 但し上式中BはSO_2、O、CO、S、C_1乃至C
_6アルキル、C_1乃至C_6アルコキシ、1乃至1
0の炭素原子若しくは2個の芳香族基に直接に結合して
いる炭素−炭素結合を有する、ペルフルオロアルキル又
はペルフルオロアリールアルキルからなる群から選択さ
れる。 9、Bは▲数式、化学式、表等があります▼であり、R
がCF_3又はフェニルである請求項8記載の方法。 10、RはCF_3である請求項9記載の方法。 11、前記温度が約80℃乃至約200℃の範囲にわた
る請求項6又は8記載の方法。 12、請求項4又は6記載の方法によつて調製された架
橋結合ポリイミド。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/348,633 US5101005A (en) | 1989-05-08 | 1989-05-08 | Crosslinkable polyimides from bis (aminophenoxy) benzonitriles |
US348633 | 1989-05-08 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0317129A true JPH0317129A (ja) | 1991-01-25 |
Family
ID=23368878
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2118515A Pending JPH0317129A (ja) | 1989-05-08 | 1990-05-08 | ビス(アミノフェノキシ)ベンゾニトリルからの架橋性ポリイミド |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5101005A (ja) |
EP (1) | EP0397023A3 (ja) |
JP (1) | JPH0317129A (ja) |
CA (1) | CA2016065A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5508377A (en) * | 1993-12-21 | 1996-04-16 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Polyimide |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0474054B1 (en) * | 1990-08-27 | 1995-12-06 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Flexible multi-layer polyimide film laminates and preparation thereof |
US5470943A (en) * | 1994-01-07 | 1995-11-28 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Polyimide |
US20070265420A1 (en) * | 2006-05-12 | 2007-11-15 | General Electric Company | fiber reinforced gas turbine engine component |
US8633284B2 (en) * | 2006-05-12 | 2014-01-21 | General Electric Company | Tailorable polyimide prepolymer blends, crosslinked polymides and articles formed therefrom |
US20070265421A1 (en) * | 2006-05-12 | 2007-11-15 | General Electric Company | Method for making a prepolymer polyimide resin blend |
US20070265422A1 (en) * | 2006-05-12 | 2007-11-15 | General Electric Company | Method for making copolymeric polyimide resins |
US20070265416A1 (en) * | 2006-05-12 | 2007-11-15 | General Electric Company | Polyimide blend with tailorable properties |
US20070265417A1 (en) * | 2006-05-12 | 2007-11-15 | General Electric Company | Crosslinked polyimide copolymer material |
US8791227B1 (en) * | 2012-04-20 | 2014-07-29 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Crosslinked aromatic polyimides and methods of making the same |
US8962890B1 (en) | 2012-04-20 | 2015-02-24 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Multifunctional crosslinkers for shape-memory polyimides, polyamides and poly(amide-imides) and methods of making the same |
US9085661B1 (en) | 2012-10-26 | 2015-07-21 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Photomechanically active copolyimides derived from an azobenzenediamine, a rigid dianhydride, and a flexible dianhydride |
US9139696B1 (en) | 2014-03-28 | 2015-09-22 | The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Air Force | Aromatic diamines containing three ether-linked-benzonitrile moieties, polymers thereof, and methods of making the same |
US9644071B1 (en) | 2014-09-05 | 2017-05-09 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Bis(azobenzene) diamines and photomechanical polymers made therefrom |
US10294255B1 (en) | 2015-08-07 | 2019-05-21 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Multifunctional crosslinking agent, crosslinked polymer, and method of making same |
US10239254B1 (en) | 2015-08-07 | 2019-03-26 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Method of fabricating shape memory films |
CN115558135A (zh) * | 2022-09-26 | 2023-01-03 | 大连理工大学 | 一种具有交联结构的高耐热聚酰亚胺薄膜、制备方法及应用 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3763211A (en) * | 1971-01-20 | 1973-10-02 | Gen Electric | Aminophenoxy benzonitriles |
US3959350A (en) * | 1971-05-17 | 1976-05-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Melt-fusible linear polyimide of 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)-hexafluoropropane dianhydride |
US4742152A (en) * | 1986-05-27 | 1988-05-03 | United Technologies Corporation | High temperature fluorinated polyimides |
US4877653A (en) * | 1988-07-12 | 1989-10-31 | Hoechst Celanese Corporation | Process for insolublizing solvent soluble polyimide compositions |
-
1989
- 1989-05-08 US US07/348,633 patent/US5101005A/en not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-05-03 EP EP19900108350 patent/EP0397023A3/en not_active Withdrawn
- 1990-05-04 CA CA002016065A patent/CA2016065A1/en not_active Abandoned
- 1990-05-08 JP JP2118515A patent/JPH0317129A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5508377A (en) * | 1993-12-21 | 1996-04-16 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Polyimide |
US5631377A (en) * | 1993-12-21 | 1997-05-20 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Polyimide intermediates |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA2016065A1 (en) | 1990-11-08 |
US5101005A (en) | 1992-03-31 |
EP0397023A3 (en) | 1992-05-06 |
EP0397023A2 (en) | 1990-11-14 |
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