JPH03167555A - 永久保護膜用樹脂組成物および永久保護膜の製造方法 - Google Patents
永久保護膜用樹脂組成物および永久保護膜の製造方法Info
- Publication number
- JPH03167555A JPH03167555A JP1306586A JP30658689A JPH03167555A JP H03167555 A JPH03167555 A JP H03167555A JP 1306586 A JP1306586 A JP 1306586A JP 30658689 A JP30658689 A JP 30658689A JP H03167555 A JPH03167555 A JP H03167555A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protective film
- coating film
- resin composition
- film
- permanent protective
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 39
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 45
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 29
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 25
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 25
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 claims abstract description 20
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 15
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 9
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 45
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 45
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid group Chemical group C(CCC(=O)O)(=O)O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 10
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 8
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
- CKLJMWTZIZZHCS-UHFFFAOYSA-N Aspartic acid Chemical group OC(=O)C(N)CC(O)=O CKLJMWTZIZZHCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 19
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 19
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 18
- 229920002587 poly(1,3-butadiene) polymer Polymers 0.000 description 18
- 239000000047 product Substances 0.000 description 16
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 16
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 12
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 11
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 10
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- -1 polycyclic aromatic compound Chemical class 0.000 description 9
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 9
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 8
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 7
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 7
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 6
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 5
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 5
- 229920003319 Araldite® Polymers 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N Ipazine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(Cl)=NC(NC(C)C)=N1 OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 4
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 4
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 4
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 3
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 3
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 3
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 3
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 1-naphthylamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1 RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000427 antigen Substances 0.000 description 2
- 102000036639 antigens Human genes 0.000 description 2
- 108091007433 antigens Proteins 0.000 description 2
- LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N antimony pentoxide Chemical compound O=[Sb](=O)O[Sb](=O)=O LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 2
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 2
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000005206 1,2-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- OHBQPCCCRFSCAX-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dimethoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(OC)C=C1 OHBQPCCCRFSCAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical class NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUFZRCJENRSRLY-UHFFFAOYSA-N 2,3,5-trimethylhydroquinone Chemical compound CC1=CC(O)=C(C)C(C)=C1O AUFZRCJENRSRLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXNDIJDIPNCZQJ-UHFFFAOYSA-N 2,4,4-trimethylpent-1-ene Chemical group CC(=C)CC(C)(C)C FXNDIJDIPNCZQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)oxirane;4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound ClCC1CO1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFYSUUPKMDJYPF-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-methyl-2-nitrophenyl)diazenyl]-3-oxo-n-phenylbutanamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=O)C(C(=O)C)N=NC1=CC=C(C)C=C1[N+]([O-])=O MFYSUUPKMDJYPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940044192 2-hydroxyethyl methacrylate Drugs 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POYODSZSSBWJPD-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoyloxy 2-methylprop-2-eneperoxoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OOOC(=O)C(C)=C POYODSZSSBWJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-Butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXJAFLQWMOMYOW-UHFFFAOYSA-N 3-chlorofuran-2,5-dione Chemical compound ClC1=CC(=O)OC1=O CXJAFLQWMOMYOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 3-methylfuran-2,5-dione Chemical compound CC1=CC(=O)OC1=O AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229940059260 amidate Drugs 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 230000003466 anti-cipated effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000440 bentonite Substances 0.000 description 1
- 229910000278 bentonite Inorganic materials 0.000 description 1
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229960001506 brilliant green Drugs 0.000 description 1
- HXCILVUBKWANLN-UHFFFAOYSA-N brilliant green cation Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 HXCILVUBKWANLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSHHIZQAQLPYLS-UHFFFAOYSA-N butane-1,3-diol;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(O)CCO.CC(=C)C(O)=O NSHHIZQAQLPYLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OUWGYAHTVDEVRZ-UHFFFAOYSA-N butane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CC(O)CCO OUWGYAHTVDEVRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 1
- 238000012711 chain transfer polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- BXJGUBZTZWCMEX-UHFFFAOYSA-N dimethylhydroquinone Natural products CC1=C(C)C(O)=CC=C1O BXJGUBZTZWCMEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N dodecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- NPUKDXXFDDZOKR-LLVKDONJSA-N etomidate Chemical compound CCOC(=O)C1=CN=CN1[C@H](C)C1=CC=CC=C1 NPUKDXXFDDZOKR-LLVKDONJSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000003349 gelling agent Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- WJRBRSLFGCUECM-UHFFFAOYSA-N hydantoin Chemical compound O=C1CNC(=O)N1 WJRBRSLFGCUECM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940091173 hydantoin Drugs 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007603 infrared drying Methods 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010550 living polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000391 magnesium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052919 magnesium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019792 magnesium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- JFTBTTPUYRGXDG-UHFFFAOYSA-N methyl violet Chemical compound Cl.C1=CC(=NC)C=CC1=C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 JFTBTTPUYRGXDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- VBEGHXKAFSLLGE-UHFFFAOYSA-N n-phenylnitramide Chemical compound [O-][N+](=O)NC1=CC=CC=C1 VBEGHXKAFSLLGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011356 non-aqueous organic solvent Substances 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBSDMAPJGHBWAL-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-ylbenzene Chemical compound C=CC(C=C)C1=CC=CC=C1 DBSDMAPJGHBWAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010215 titanium dioxide Nutrition 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- JEVGKYBUANQAKG-UHFFFAOYSA-N victoria blue R Chemical compound [Cl-].C12=CC=CC=C2C(=[NH+]CC)C=CC1=C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 JEVGKYBUANQAKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000003021 water soluble solvent Substances 0.000 description 1
- 239000010456 wollastonite Substances 0.000 description 1
- 229910052882 wollastonite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/28—Applying non-metallic protective coatings
- H05K3/285—Permanent coating compositions
- H05K3/287—Photosensitive compositions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明はプリン1〜配線板の永久保護膜として使用され
るソルダーレジスト用、マーキング用、ハンダレベラ用
等に適する樹脂組成物および該樹脂組或物を用いた保護
膜の製造方法に関する。
るソルダーレジスト用、マーキング用、ハンダレベラ用
等に適する樹脂組成物および該樹脂組或物を用いた保護
膜の製造方法に関する。
く従来の技術〉
プリント配線板の高密度化は年々進み、ICランド間に
3本以上のラインを通すことが要求されてきており、ソ
ルダーレジスト等の永久保護膜を高密度化、高信頼性に
応える必要性が生じている.しかし従来の熱硬化型組成
物を用いて永久保護膜を形或する方法はパターン形成を
シルクスクリーン印刷で行う必要上、シルクのたわみか
らくる位置精度のずれのためにファインパターンが形成
できないという問題があり、近年、微細なパターンを形
成できる紫外線硬化型組或物が多用されてきている。ま
たこれまでは有機溶剤で現像できるものが多く使用され
てきたが,作業環境の改善および装置上の観点から,従
来の有機溶剤現像型からアルカリ現像型の樹脂組成物へ
の移行も同時に進められようとしている.このような移
行は省資源,省エネルギー、作業性向上、生産性の向上
性の観点からもまた要望されている。
3本以上のラインを通すことが要求されてきており、ソ
ルダーレジスト等の永久保護膜を高密度化、高信頼性に
応える必要性が生じている.しかし従来の熱硬化型組成
物を用いて永久保護膜を形或する方法はパターン形成を
シルクスクリーン印刷で行う必要上、シルクのたわみか
らくる位置精度のずれのためにファインパターンが形成
できないという問題があり、近年、微細なパターンを形
成できる紫外線硬化型組或物が多用されてきている。ま
たこれまでは有機溶剤で現像できるものが多く使用され
てきたが,作業環境の改善および装置上の観点から,従
来の有機溶剤現像型からアルカリ現像型の樹脂組成物へ
の移行も同時に進められようとしている.このような移
行は省資源,省エネルギー、作業性向上、生産性の向上
性の観点からもまた要望されている。
〈発明が解決しようとする課題〉
このように微細なファインパターンが形成でき、作業性
の良好な紫外線硬化型でかつアルカリ現像可能な樹脂組
成物は、永久保護膜を形或するのに最も好ましい材料で
あり、その開発が期待されている.しかしながら高密度
化、高信頼性の両者を同時に濶足する永久保護膜を製造
するのに適した紫外線硬化型でかつアルカリ現像可能な
樹脂組成物は、いまだ見いだされていないのが現状であ
る。
の良好な紫外線硬化型でかつアルカリ現像可能な樹脂組
成物は、永久保護膜を形或するのに最も好ましい材料で
あり、その開発が期待されている.しかしながら高密度
化、高信頼性の両者を同時に濶足する永久保護膜を製造
するのに適した紫外線硬化型でかつアルカリ現像可能な
樹脂組成物は、いまだ見いだされていないのが現状であ
る。
この原囚としてはいくつかあるが,その1つはアルカリ
現像型の樹脂組成物は、アルカリ現像に必須な樹脂中の
カルボン酸基が保護膜形成後も塗膜中に残るため、塗膜
の耐湿性、耐薬品性、耐加水分解性及び密着性に難があ
ることである。プリント配線板の場合,更に重大な問題
は,樹脂中のカルボン酸基が銅の配線を腐食し基板の性
能を著しく損なってしまうことである。したがってこれ
を避けるため樹脂中のカルボン酸基は約50mgK○H
/g以下に抑えて使用しているのが現状であり、このた
め露光、現像した場合、解像度に欠けるという問題があ
る.また、現在市販されている紫外線硬化型の樹脂組成
物は、耐薬品性、耐溶剤性が充分でなく、厚膜硬化に対
する信頼性が低いなどの問題がある.さらに紫外線硬化
型の樹脂組成物を用いて永久保護膜を製造する場合、紫
外線露光時に回路パターンマスクを塗膜に密着させる必
要があるため、塗膜にタックが無いことが要求されてい
る.すなわち光照射前の塗膜には指触試験において塗膜
に常温タック性が無いことが要求される。
現像型の樹脂組成物は、アルカリ現像に必須な樹脂中の
カルボン酸基が保護膜形成後も塗膜中に残るため、塗膜
の耐湿性、耐薬品性、耐加水分解性及び密着性に難があ
ることである。プリント配線板の場合,更に重大な問題
は,樹脂中のカルボン酸基が銅の配線を腐食し基板の性
能を著しく損なってしまうことである。したがってこれ
を避けるため樹脂中のカルボン酸基は約50mgK○H
/g以下に抑えて使用しているのが現状であり、このた
め露光、現像した場合、解像度に欠けるという問題があ
る.また、現在市販されている紫外線硬化型の樹脂組成
物は、耐薬品性、耐溶剤性が充分でなく、厚膜硬化に対
する信頼性が低いなどの問題がある.さらに紫外線硬化
型の樹脂組成物を用いて永久保護膜を製造する場合、紫
外線露光時に回路パターンマスクを塗膜に密着させる必
要があるため、塗膜にタックが無いことが要求されてい
る.すなわち光照射前の塗膜には指触試験において塗膜
に常温タック性が無いことが要求される。
本発明は、かかる従来技術の課題に鑑みなされたもので
、耐湿性,耐薬品性や密着性等の諸特性に優れ,また厚
膜硬化特性にも優れた高密度の保S膜を作業性が良好に
製造することを可能とする永久保護膜用樹脂組成物およ
び永久保護膜の製造方法を提供することを目的とする。
、耐湿性,耐薬品性や密着性等の諸特性に優れ,また厚
膜硬化特性にも優れた高密度の保S膜を作業性が良好に
製造することを可能とする永久保護膜用樹脂組成物およ
び永久保護膜の製造方法を提供することを目的とする。
く課題を解決するための手段〉
本発明者らは上記の問題点を解決するため鋭意研究を重
ねた結果,特定のアルカリ可溶性樹脂と光感応性のエチ
レン性二重結合を有するプレポリマーとを組み合わせて
用いることにより、基板の性能を低下させることなく、
しかも作業性よく高密度、高信頼性を有する永久保護膜
を製造できることを見いだし,本発明を完成するに至っ
た。
ねた結果,特定のアルカリ可溶性樹脂と光感応性のエチ
レン性二重結合を有するプレポリマーとを組み合わせて
用いることにより、基板の性能を低下させることなく、
しかも作業性よく高密度、高信頼性を有する永久保護膜
を製造できることを見いだし,本発明を完成するに至っ
た。
すなわち,本発明によれば,(A)共役ジエン重合体及
び/又は共重合体で、かつ一般式(I)(式中、R1及
びR2は水素原子,ハロゲン原子または炭素数1〜3の
有機残基を示し、R1は炭素数1〜16の有機残基を示
す)で表わされるモノアミド化コハク酸基を有するアル
カリ可溶性樹脂と, (B)光感応性のエチレン性二重結合を有するプレポリ
マーと、 (C)光重合開始剤とを含み、且つ前記(A)アルカリ
可溶性樹脂と,前記(B)プレポリマーとの配合割合が
1:4〜4:1である永久保護膜用樹脂組成物が提供さ
れる。
び/又は共重合体で、かつ一般式(I)(式中、R1及
びR2は水素原子,ハロゲン原子または炭素数1〜3の
有機残基を示し、R1は炭素数1〜16の有機残基を示
す)で表わされるモノアミド化コハク酸基を有するアル
カリ可溶性樹脂と, (B)光感応性のエチレン性二重結合を有するプレポリ
マーと、 (C)光重合開始剤とを含み、且つ前記(A)アルカリ
可溶性樹脂と,前記(B)プレポリマーとの配合割合が
1:4〜4:1である永久保護膜用樹脂組成物が提供さ
れる。
また本発明によれば,前記永久保護膜用樹脂組或物を基
材に塗布して感光性の塗膜を形或し、該塗膜に回路パタ
ーンマスクを介して紫外線で露光し、露光部の塗膜を硬
化させたのち、未露光部の塗膜をアルカリ現像により除
去して回路パターンを作製し,次いで塗膜中のモノアミ
ド化コハク酸基をイミド化コハク酸基に変換させること
を特徴とする永久保護膜の製造方法が提供される.以下
、本発明について説明する. 本発明の永久保護膜用樹脂組成物は,(A)成分のアル
カリ可溶性樹脂と、(B)成分のプレポリマーと、(C
)戊分の光重合開始剤とを含み、且つ前記(A)成分と
、前記(B)戊分とを特定量配合してなる。
材に塗布して感光性の塗膜を形或し、該塗膜に回路パタ
ーンマスクを介して紫外線で露光し、露光部の塗膜を硬
化させたのち、未露光部の塗膜をアルカリ現像により除
去して回路パターンを作製し,次いで塗膜中のモノアミ
ド化コハク酸基をイミド化コハク酸基に変換させること
を特徴とする永久保護膜の製造方法が提供される.以下
、本発明について説明する. 本発明の永久保護膜用樹脂組成物は,(A)成分のアル
カリ可溶性樹脂と、(B)成分のプレポリマーと、(C
)戊分の光重合開始剤とを含み、且つ前記(A)成分と
、前記(B)戊分とを特定量配合してなる。
本発明において、(A)成分として用いるアルカリ可溶
性樹脂,即ち特定のモノアミド化コハク酸基を有する共
役ジエン重合体及び/又は共重合体は、例えばブタジエ
ン,イソプレン等の炭素数4又は5の共役ジオレフィン
の低重合体、またはこれらの共役ジオレフィンの一種ま
たは二種以上とエチレン性不飽和二重結合を有する前記
共役ジオレフィン以外のモノマー、具体的には例えばイ
ソブチレン、ジイソブチレン、スチレン、α−メチルス
チレン,ビニルトルエン、ジビニルトルエン等の脂肪族
または芳香族七ノマーとの低重合度共重合体及びこれら
の混合物等から成る群より選択される幹等に少なくとも
下記一般式(I)で表わされるモノアミド化コハク酸基
が結合した重合体である。
性樹脂,即ち特定のモノアミド化コハク酸基を有する共
役ジエン重合体及び/又は共重合体は、例えばブタジエ
ン,イソプレン等の炭素数4又は5の共役ジオレフィン
の低重合体、またはこれらの共役ジオレフィンの一種ま
たは二種以上とエチレン性不飽和二重結合を有する前記
共役ジオレフィン以外のモノマー、具体的には例えばイ
ソブチレン、ジイソブチレン、スチレン、α−メチルス
チレン,ビニルトルエン、ジビニルトルエン等の脂肪族
または芳香族七ノマーとの低重合度共重合体及びこれら
の混合物等から成る群より選択される幹等に少なくとも
下記一般式(I)で表わされるモノアミド化コハク酸基
が結合した重合体である。
(式中、R1及びR2は水素原子、ハロゲン原子又はメ
チル基、エチル基、プロビル基等の炭素数1〜3の有機
残基を示し R3はメチル基、イソプロビル基、ブチル
基、シクロヘキシル基,ラウリル基,ベンジル基等の炭
素数1〜16の有機残基を示す)この際R1及び/又は
R2の炭素数が4以上若しくはR3の炭素数がl7以上
の場合には製造が困難である.前記一般式(I)で表わ
されるモノアミド化コハク酸基の含有割合は、共役ジエ
ン重合体及び/又は共重合体100g当たり、0.04
〜1.5モル、特に0.1〜1.2モルの範囲であるの
が好ましい.前記モノアミド化コハク酸基が0.05モ
ル未満の場合には,(A)戒分がアルカリに対して不溶
性となり、また1.5モルを超える場合には、経済的に
問題が生ずるので好ましくない。
チル基、エチル基、プロビル基等の炭素数1〜3の有機
残基を示し R3はメチル基、イソプロビル基、ブチル
基、シクロヘキシル基,ラウリル基,ベンジル基等の炭
素数1〜16の有機残基を示す)この際R1及び/又は
R2の炭素数が4以上若しくはR3の炭素数がl7以上
の場合には製造が困難である.前記一般式(I)で表わ
されるモノアミド化コハク酸基の含有割合は、共役ジエ
ン重合体及び/又は共重合体100g当たり、0.04
〜1.5モル、特に0.1〜1.2モルの範囲であるの
が好ましい.前記モノアミド化コハク酸基が0.05モ
ル未満の場合には,(A)戒分がアルカリに対して不溶
性となり、また1.5モルを超える場合には、経済的に
問題が生ずるので好ましくない。
上記共役ジエン重合体及び/又は共重合体は,ボリマー
中に存在する不飽和二重結合中のビニル基含有量が、好
ましくは50%以上、特に好ましくは50〜80%、更
に好ましくは55〜70%の範囲である.ビニル基が5
0%未満の場合には,架橋密度が小さいので好ましくな
い.また,共役ジエン重合体及び/又は共重合体の分子
量は、500〜5000であるのが好ましい.分子量が
500未満の場合には塗膜強度が低く、一方分子量が5
000を超える場合には平滑な塗膜が得られないので何
れも好ましくない。
中に存在する不飽和二重結合中のビニル基含有量が、好
ましくは50%以上、特に好ましくは50〜80%、更
に好ましくは55〜70%の範囲である.ビニル基が5
0%未満の場合には,架橋密度が小さいので好ましくな
い.また,共役ジエン重合体及び/又は共重合体の分子
量は、500〜5000であるのが好ましい.分子量が
500未満の場合には塗膜強度が低く、一方分子量が5
000を超える場合には平滑な塗膜が得られないので何
れも好ましくない。
本発明において、(A)成分として用いるモノアミド化
コハク酸基を有する共役ジエン重合体及び/又は共重合
体、即ちアルカリ可溶性樹脂を製造するには、例えば幹
となる共役ジエン重合体及び/又は共重合体に,α,β
一不飽和ジカルボン酸無水物を付加したのち、炭素数1
〜16の1級アミンによって、モノアミド化する方法等
により合成することができる。具体的には例えば,まず
アルカリ金属または有機アルカリ金属化合物を触媒とし
て,炭素数4又は5の共役ジオレフィン単独,これらの
ジオレフィン混合物あるいは共役ジオレフィン等と,前
記各々のオレフィンに対して,好ましくは50モル%以
下、さらに好ましくは1〜30モル%のスチレン、α−
メチルスチレン,ビニルトルエンまたはジビニルベンゼ
ン及びこれらの混合物等から或る群より選択される芳香
族ビニル七ノマー等とを、通常O〜100℃の温度でア
二オン重合させる方法等によって、幹となる井役ジエン
重合体及び/又は共重合体の低重合体を調製する.この
場合、分子量を制御し、ゲル分率等の少ない、淡色の低
重合物を得るためには、例えばベンジルナトリウム等の
有機アルカリ金属化合物を触媒とし,アルキルアリール
基を有する化合物,例えばトルエンを連鎖移動剤とする
連鎖移動重合法(米国特許第3,789,090号);
テトラヒドロフラン溶媒中でナフタリン等の多環芳香族
化合物を活性剤とし、ナトリウム等のアルカリ金属を触
媒とするリビング重合法(特公昭42−17485号、
同43−27432号)あるいはトルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素を溶媒とし、ナトリウム等の金属分散
体を触媒とし、ジオキサン等のエーテル類を添加して分
子量を制御する重合法(特公昭32−7446号、同3
3−1245号,同3 1 − 1 0 1. 8 8
号)等により行うことができる。また、前記共役ジエン
重合体及び/又は共重合体の低重合体として、周期律表
中■族金属(例えばコバルトまたはニッケル等)のアセ
チルアセトナート化合物およびアルキルアルミニウムハ
ロゲニドを触媒とする配位アニオン重合によって製造さ
れる低重合体(特公昭45−507号、同46−303
00号)を用いることもできる.次に、これら共役ジエ
ン重合体及び/又は共重合体の低重合体に,α,β一不
飽和ジカルボン酸無水物を付加することにより酸無水基
の付加物を製造することができる。該α,β一不飽和ジ
カルボン酸無水物とは、下記一般式(II)で表わされ
る化合物であり、具体的には、無水マレイン酸,無水シ
トラコン酸、クロル無水マレイン酸等の酸無水物が挙げ
られる。
コハク酸基を有する共役ジエン重合体及び/又は共重合
体、即ちアルカリ可溶性樹脂を製造するには、例えば幹
となる共役ジエン重合体及び/又は共重合体に,α,β
一不飽和ジカルボン酸無水物を付加したのち、炭素数1
〜16の1級アミンによって、モノアミド化する方法等
により合成することができる。具体的には例えば,まず
アルカリ金属または有機アルカリ金属化合物を触媒とし
て,炭素数4又は5の共役ジオレフィン単独,これらの
ジオレフィン混合物あるいは共役ジオレフィン等と,前
記各々のオレフィンに対して,好ましくは50モル%以
下、さらに好ましくは1〜30モル%のスチレン、α−
メチルスチレン,ビニルトルエンまたはジビニルベンゼ
ン及びこれらの混合物等から或る群より選択される芳香
族ビニル七ノマー等とを、通常O〜100℃の温度でア
二オン重合させる方法等によって、幹となる井役ジエン
重合体及び/又は共重合体の低重合体を調製する.この
場合、分子量を制御し、ゲル分率等の少ない、淡色の低
重合物を得るためには、例えばベンジルナトリウム等の
有機アルカリ金属化合物を触媒とし,アルキルアリール
基を有する化合物,例えばトルエンを連鎖移動剤とする
連鎖移動重合法(米国特許第3,789,090号);
テトラヒドロフラン溶媒中でナフタリン等の多環芳香族
化合物を活性剤とし、ナトリウム等のアルカリ金属を触
媒とするリビング重合法(特公昭42−17485号、
同43−27432号)あるいはトルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素を溶媒とし、ナトリウム等の金属分散
体を触媒とし、ジオキサン等のエーテル類を添加して分
子量を制御する重合法(特公昭32−7446号、同3
3−1245号,同3 1 − 1 0 1. 8 8
号)等により行うことができる。また、前記共役ジエン
重合体及び/又は共重合体の低重合体として、周期律表
中■族金属(例えばコバルトまたはニッケル等)のアセ
チルアセトナート化合物およびアルキルアルミニウムハ
ロゲニドを触媒とする配位アニオン重合によって製造さ
れる低重合体(特公昭45−507号、同46−303
00号)を用いることもできる.次に、これら共役ジエ
ン重合体及び/又は共重合体の低重合体に,α,β一不
飽和ジカルボン酸無水物を付加することにより酸無水基
の付加物を製造することができる。該α,β一不飽和ジ
カルボン酸無水物とは、下記一般式(II)で表わされ
る化合物であり、具体的には、無水マレイン酸,無水シ
トラコン酸、クロル無水マレイン酸等の酸無水物が挙げ
られる。
ここでRL . Raは前記一般式(I)のR1及びR
2と同様である。
2と同様である。
前記酸無水物の付加反応は、酸無水物単独もしくは前記
共役ジエン重合体及び/又は井重合体の低重合体及び酸
無水物の両者を溶解する例えば1〜ルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類.メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン等のケトン類,酢酸エチル等のエステル類
、ジエチレングリコールジメチルエーテル等の水酸基を
有しないエーテル類等の不活性溶媒中で、通常100〜
250℃の温度で反応させることにより行うことができ
る。この際ゲル化防止剤として,例えばハイドロキノン
,ジメチルハイドロキノン、トリメチルヒドロキノン、
カテコール類,P−フェニルジアミン誘導体等を、共役
ジエン重合体及び/又は共重合体100重量部に対して
、好ましくは0.5重量部以下、特に好ましくは0.1
〜0.3重量部添加して反応を行うこともできる。
共役ジエン重合体及び/又は井重合体の低重合体及び酸
無水物の両者を溶解する例えば1〜ルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類.メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン等のケトン類,酢酸エチル等のエステル類
、ジエチレングリコールジメチルエーテル等の水酸基を
有しないエーテル類等の不活性溶媒中で、通常100〜
250℃の温度で反応させることにより行うことができ
る。この際ゲル化防止剤として,例えばハイドロキノン
,ジメチルハイドロキノン、トリメチルヒドロキノン、
カテコール類,P−フェニルジアミン誘導体等を、共役
ジエン重合体及び/又は共重合体100重量部に対して
、好ましくは0.5重量部以下、特に好ましくは0.1
〜0.3重量部添加して反応を行うこともできる。
得られる酸無水基の付加物において該酸無水基の付加量
は、共役ジエン重合体及び/又は共重合体100gあた
り通常、0.05〜1.5モル程度、好ましくは0.1
2〜1.2モル程度が望ましい。
は、共役ジエン重合体及び/又は共重合体100gあた
り通常、0.05〜1.5モル程度、好ましくは0.1
2〜1.2モル程度が望ましい。
次に、上記のようにして得られた酸無水基の付加物に、
炭素数1〜16の1級アミンを反応させてモノアミド化
することにより、(A)成分であるアルカリ可溶性樹脂
を製造することができる。
炭素数1〜16の1級アミンを反応させてモノアミド化
することにより、(A)成分であるアルカリ可溶性樹脂
を製造することができる。
前記IRアミンとしては、具体的には、例えばメチルア
ミン、イソプロビルアミン、プチルアミン、シクロヘキ
シルアミン、ラウリルアミン、ペンジルアミン,アニリ
ン及びこれらの混合物等から成る群より選択される化合
物を用いることができる. 前記モノアミド化反応は下記反応式(I)により表わす
ことができ.100℃以下、好ましくは15〜60℃の
比較的低温で反応させることができる.反応温度が高す
ぎるとモノアミド化に統き、下記一般式(2)で表わさ
れるイミド化反応が進行し、酸価が減少するので好まし
くない。
ミン、イソプロビルアミン、プチルアミン、シクロヘキ
シルアミン、ラウリルアミン、ペンジルアミン,アニリ
ン及びこれらの混合物等から成る群より選択される化合
物を用いることができる. 前記モノアミド化反応は下記反応式(I)により表わす
ことができ.100℃以下、好ましくは15〜60℃の
比較的低温で反応させることができる.反応温度が高す
ぎるとモノアミド化に統き、下記一般式(2)で表わさ
れるイミド化反応が進行し、酸価が減少するので好まし
くない。
(式中R 1, Ri及びR3は,前記一般式(I)の
R”, R”及びR1と同様である)前記1級アミンを
反応させて、酸無水基をアミド化させる割合は,好まし
くは酸無水基の80モル%以上,特に好ましくは90モ
ル%以上であることが現像性およ0塗膜の長期安定性の
点から適当である.前記モノアミド化反応は、溶媒の存
在下に行うのが好ましい。溶媒としてはこれらに対し反
応竹を持たず,かつ両者を溶解するものが好ましく、例
えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢
酸エチル等のエステル類,ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル等の水酸基を有しないエーテル類等が挙げら
れる。
R”, R”及びR1と同様である)前記1級アミンを
反応させて、酸無水基をアミド化させる割合は,好まし
くは酸無水基の80モル%以上,特に好ましくは90モ
ル%以上であることが現像性およ0塗膜の長期安定性の
点から適当である.前記モノアミド化反応は、溶媒の存
在下に行うのが好ましい。溶媒としてはこれらに対し反
応竹を持たず,かつ両者を溶解するものが好ましく、例
えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢
酸エチル等のエステル類,ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル等の水酸基を有しないエーテル類等が挙げら
れる。
本発明においては、(A)a分のアルカリ可溶性樹脂の
前記残存酸無水基の一部を、エチルアルコール、エチル
セロソルブ、フェニルセロソルブ、ヒドロキシアルキル
(メタ)アクリレートなどのアルコールで開環したり,
モノアミド化コハク酸基の一部をメタクリル酸グリシジ
ル、フェニルグリシジルなどのモノエポキシ化合物でエ
ステル化した樹脂も使用することができる。
前記残存酸無水基の一部を、エチルアルコール、エチル
セロソルブ、フェニルセロソルブ、ヒドロキシアルキル
(メタ)アクリレートなどのアルコールで開環したり,
モノアミド化コハク酸基の一部をメタクリル酸グリシジ
ル、フェニルグリシジルなどのモノエポキシ化合物でエ
ステル化した樹脂も使用することができる。
本発明において用いる(6)戊分の光感応性のエチレン
性二重結合を有するブレポリマーとは紫外線で硬化可能
な樹脂であり,例えばエポキシ樹脂ウレタン樹脂、アル
キド樹脂、ポリエステル樹脂などとアクリル酸又はメタ
クリル酸(以下,総称して(メタ)アクリル酸という)
とのエステル等が挙げられる。具体的には例えば、エボ
キシ(メタ)アクリレー1−,ウレタン(メタ)アクリ
レート,アルキド(メタ)アクリレート,ポリエステル
(メタ)アクリレートなどが挙げられ、特にビスフェノ
ール型エボキシ樹脂の(メタ)アクリレート、ノボラッ
ク型エポキシ樹脂の(メタ)アクリレートを好ましく用
いることができる。前記エポキシ樹脂としては、ビスフ
ェノールA型エボキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキ
シ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂,脂環式エポ
キシ樹脂、トリグリシジルイソシアナート.ヒダントイ
ンエボキシ等の含複索環エポキシ樹脂、スビロ環含有エ
ポキシ樹脂等を用いることができる。また前記ビスフェ
ノール型エポキシ欄脂としては、例えば商品名「エビコ
ート828J r同834」、r同836J、f’同
1001ノ、「同1004J,r同1007J (以
上、油化シェルエホキシ(株)!1m).商品名「アラ
ルダイト2 6 0J,「同280」、『同6071」
、『同6084J,『同6097J (以上、チバガ
イギー社II)などが挙げられ、使用に際しては、単独
または混合物として用いることができる。
性二重結合を有するブレポリマーとは紫外線で硬化可能
な樹脂であり,例えばエポキシ樹脂ウレタン樹脂、アル
キド樹脂、ポリエステル樹脂などとアクリル酸又はメタ
クリル酸(以下,総称して(メタ)アクリル酸という)
とのエステル等が挙げられる。具体的には例えば、エボ
キシ(メタ)アクリレー1−,ウレタン(メタ)アクリ
レート,アルキド(メタ)アクリレート,ポリエステル
(メタ)アクリレートなどが挙げられ、特にビスフェノ
ール型エボキシ樹脂の(メタ)アクリレート、ノボラッ
ク型エポキシ樹脂の(メタ)アクリレートを好ましく用
いることができる。前記エポキシ樹脂としては、ビスフ
ェノールA型エボキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキ
シ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂,脂環式エポ
キシ樹脂、トリグリシジルイソシアナート.ヒダントイ
ンエボキシ等の含複索環エポキシ樹脂、スビロ環含有エ
ポキシ樹脂等を用いることができる。また前記ビスフェ
ノール型エポキシ欄脂としては、例えば商品名「エビコ
ート828J r同834」、r同836J、f’同
1001ノ、「同1004J,r同1007J (以
上、油化シェルエホキシ(株)!1m).商品名「アラ
ルダイト2 6 0J,「同280」、『同6071」
、『同6084J,『同6097J (以上、チバガ
イギー社II)などが挙げられ、使用に際しては、単独
または混合物として用いることができる。
更にノボラック型エポキシ樹脂としては、例えば商品名
「エピコート152』、『同154」、『同180J
(以上、油化シェルエポキシ(株)製)、商品名『ア
ラルダイトEPNI 1 38J、『同EPN1139
J、「同EON 1 2 3 5J、「同EON127
3J、「同EON1280J、「同EON1299J
(以上、チバガイギー社R+)、商品名rDEN431
J、「同438J (以上、ダウケミカル社II)な
どが挙げられ、使用に際しては単独または混合物として
用いることができる。
「エピコート152』、『同154」、『同180J
(以上、油化シェルエポキシ(株)製)、商品名『ア
ラルダイトEPNI 1 38J、『同EPN1139
J、「同EON 1 2 3 5J、「同EON127
3J、「同EON1280J、「同EON1299J
(以上、チバガイギー社R+)、商品名rDEN431
J、「同438J (以上、ダウケミカル社II)な
どが挙げられ、使用に際しては単独または混合物として
用いることができる。
本発明における(B)成分は、公知の方法で製造するこ
とができ、その一例として,エボキシ(メタ)アクリレ
ートの製造法について以下に述べる。
とができ、その一例として,エボキシ(メタ)アクリレ
ートの製造法について以下に述べる。
該エポキシ(メタ)アクリレートを製造するには,例え
ば上記エポキシ樹脂と,(メタ)アクリル酸とをエステ
ル化触媒の存在下、通常60〜130℃,好ましくは8
0〜110℃の温度で反応させることによって得ること
ができる。この際エポキシ樹脂と、(メタ)アクリル酸
との配合比率は、エポキシ樹脂の1化学当量に対して,
好ましくは(メタ)アクリル酸0.1〜1.0化学当量
,特に好ましくは0.5〜1.0化学当量であればよい
。
ば上記エポキシ樹脂と,(メタ)アクリル酸とをエステ
ル化触媒の存在下、通常60〜130℃,好ましくは8
0〜110℃の温度で反応させることによって得ること
ができる。この際エポキシ樹脂と、(メタ)アクリル酸
との配合比率は、エポキシ樹脂の1化学当量に対して,
好ましくは(メタ)アクリル酸0.1〜1.0化学当量
,特に好ましくは0.5〜1.0化学当量であればよい
。
前記エステル化触媒としては、トリフエニルホスフィン
、ジメチルベンジルアミンなどの公知のM媒が使用でき
、その使用量は反応液全体の重量に対して通常0.05
〜10重量%,好ましくは0.1〜5重量%が望ましい
。
、ジメチルベンジルアミンなどの公知のM媒が使用でき
、その使用量は反応液全体の重量に対して通常0.05
〜10重量%,好ましくは0.1〜5重量%が望ましい
。
さらにこれらのエポキシ(メタ)アクリレートの製造に
あたっては、ハイドロキノン.2.4−ジメチル−6−
t−プチルフェノール,p−ペンゾキノン、フェノチア
ジン,N−ニトロフエニルアミンなどの重合防止剤を添
加しておくことが望ましく、その添加量は通常反応液に
対して0.01〜1重量%程度であればよい.また、前
記反応は、不活性であり,しかも粘度低下剤としても働
く有機溶剤中においても行うことができる. 該有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン,シ
クロヘキサノン等のケトン類、エチルセロソルブアセテ
ート、酢酸エチル等のエステル類,1,4−ジオキサン
、テトラヒド口フラン.ジエチレングリコール、ジメチ
ルエーテル等のエーテル類、エチルセロソルブ,フェニ
ルセロソルブ等のアルコール類、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類,石油エーテル、石油ナフサ等の石
油系溶剤などが挙げられる。
あたっては、ハイドロキノン.2.4−ジメチル−6−
t−プチルフェノール,p−ペンゾキノン、フェノチア
ジン,N−ニトロフエニルアミンなどの重合防止剤を添
加しておくことが望ましく、その添加量は通常反応液に
対して0.01〜1重量%程度であればよい.また、前
記反応は、不活性であり,しかも粘度低下剤としても働
く有機溶剤中においても行うことができる. 該有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン,シ
クロヘキサノン等のケトン類、エチルセロソルブアセテ
ート、酢酸エチル等のエステル類,1,4−ジオキサン
、テトラヒド口フラン.ジエチレングリコール、ジメチ
ルエーテル等のエーテル類、エチルセロソルブ,フェニ
ルセロソルブ等のアルコール類、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類,石油エーテル、石油ナフサ等の石
油系溶剤などが挙げられる。
更に前記エポキシ樹脂以外にもポリビニルフェノールの
グリシジル化物等をエポキシ(メタ)アクリレートの原
料として使用することもできる.本発明において用いる
(C)成分の光重合開始剤としては、従来公知の通常の
光重合開始剤を用いることかできる。具体的には,例え
ばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテル、ペンゾインプチルエーテル,ベンジル
、ミヒラーケトン等の他、商品名「インガキュア184
J,rイルガキュア−651」、「同9o7」(以上チ
バガイギー社製),商品名「ダロキュア−ll73J
(メルク社製)等の市販されている光重合開始剤が挙
げられる。
グリシジル化物等をエポキシ(メタ)アクリレートの原
料として使用することもできる.本発明において用いる
(C)成分の光重合開始剤としては、従来公知の通常の
光重合開始剤を用いることかできる。具体的には,例え
ばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテル、ペンゾインプチルエーテル,ベンジル
、ミヒラーケトン等の他、商品名「インガキュア184
J,rイルガキュア−651」、「同9o7」(以上チ
バガイギー社製),商品名「ダロキュア−ll73J
(メルク社製)等の市販されている光重合開始剤が挙
げられる。
本発明の永久保護膜用樹脂組成物において,高信頼性の
塗膜を得るためには,前記(A)成分であるアルカリ可
溶性樹脂と,前記(8)成分であるプレポリマーとの配
合割合を1=4〜4:lの範囲とする必要があり、好ま
しくは3:7〜7:3の範囲とするのが望ましい。前記
(A)或分又は(B)戊分の一方の配合割合が1未満、
即ち他方が4を超える場合には、得られる塗膜の耐湿性
、耐加水分解性,密着性などの特性が低下する。
塗膜を得るためには,前記(A)成分であるアルカリ可
溶性樹脂と,前記(8)成分であるプレポリマーとの配
合割合を1=4〜4:lの範囲とする必要があり、好ま
しくは3:7〜7:3の範囲とするのが望ましい。前記
(A)或分又は(B)戊分の一方の配合割合が1未満、
即ち他方が4を超える場合には、得られる塗膜の耐湿性
、耐加水分解性,密着性などの特性が低下する。
アルカリ可溶性樹脂(A)とプレポリマー(B)との配
合割合を決定するにあたって考慮すべき最も大きな要因
は、アルカリ可溶性樹脂(A)の酸価である。すなわち
、樹脂組成物中のアルカリ可溶性樹脂(A)の酸価が高
い場合は、その使用量を抑えないと現像時に光照射部ま
でアルカリ現像液に溶けてしまう。またアルカリ可溶性
樹脂(A)の酸価が低い場合は、その使用量を多くしな
いと光未照射部までがアルカリ現像液に溶けなくなって
しまう。
合割合を決定するにあたって考慮すべき最も大きな要因
は、アルカリ可溶性樹脂(A)の酸価である。すなわち
、樹脂組成物中のアルカリ可溶性樹脂(A)の酸価が高
い場合は、その使用量を抑えないと現像時に光照射部ま
でアルカリ現像液に溶けてしまう。またアルカリ可溶性
樹脂(A)の酸価が低い場合は、その使用量を多くしな
いと光未照射部までがアルカリ現像液に溶けなくなって
しまう。
したがって微細なファインパターンを得るには各樹脂組
成物において、アルカリ可溶性樹脂(A)の酸価により
アルカリ可溶性樹脂(A)と,プレポリマー(l])と
を最適な割合で使用することが肝要である.例えば酸価
160のアルカリ可溶性4i1脂(A)を使用した場合
、アルカリ可溶性樹脂(A)とプレポリマー(B)との
配合割合は、7:3〜1:1である。
成物において、アルカリ可溶性樹脂(A)の酸価により
アルカリ可溶性樹脂(A)と,プレポリマー(l])と
を最適な割合で使用することが肝要である.例えば酸価
160のアルカリ可溶性4i1脂(A)を使用した場合
、アルカリ可溶性樹脂(A)とプレポリマー(B)との
配合割合は、7:3〜1:1である。
さらに本発明に用いる前記(C)成分の混合量は、(^
)或分および(B)成分の総量100重量部に対し,好
ましくは0.1〜15重量部、特に好ましくは1〜10
重量部が望ましい.この際.0.1重量部未満では光硬
化性が低下し,15重量部を超えると得られる感光性の
塗膜の強度が劣化するので何れも好ましくない. 本発明の永久保護膜用樹脂組成物には、前記(A) ,
(B)及び(C)或分以外に、更に重合防止剤を含有
させることができる.該重合防止剤としては、ハイドロ
キノン、2,6−ジーターシャルブチルパラクレゾール
、パラベンゾキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテ
ル,フェノチアジン、α−ナフチルアミン等を挙げるこ
とができる。
)或分および(B)成分の総量100重量部に対し,好
ましくは0.1〜15重量部、特に好ましくは1〜10
重量部が望ましい.この際.0.1重量部未満では光硬
化性が低下し,15重量部を超えると得られる感光性の
塗膜の強度が劣化するので何れも好ましくない. 本発明の永久保護膜用樹脂組成物には、前記(A) ,
(B)及び(C)或分以外に、更に重合防止剤を含有
させることができる.該重合防止剤としては、ハイドロ
キノン、2,6−ジーターシャルブチルパラクレゾール
、パラベンゾキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテ
ル,フェノチアジン、α−ナフチルアミン等を挙げるこ
とができる。
また本発明の組或物では、得られる塗膜にタックを生じ
させない範囲で,更に任意の他の成分を加えることがで
きる,これらの例としては、例えば2−エチルへキシル
アクリレート,2−ヒドロキシエチルアクリレート、1
,3−ブタンジオールアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート,ペンタエリスリトールトリア
クリレート、2−エチルへキシルメタクリレート,2−
ヒドロキシエチルメタクリレート,1,3−ブタンジオ
ールメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタ
クリレート.ペンタエリスリトールトリメタクリレート
等又は高融点のトリ(アクリロイルオキシエチル)イソ
シアヌレート等の従来公知の光重合性七ノマー等を挙げ
ることができ、使用に際しては単独若しくは混合物とし
て用いることができる。
させない範囲で,更に任意の他の成分を加えることがで
きる,これらの例としては、例えば2−エチルへキシル
アクリレート,2−ヒドロキシエチルアクリレート、1
,3−ブタンジオールアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート,ペンタエリスリトールトリア
クリレート、2−エチルへキシルメタクリレート,2−
ヒドロキシエチルメタクリレート,1,3−ブタンジオ
ールメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタ
クリレート.ペンタエリスリトールトリメタクリレート
等又は高融点のトリ(アクリロイルオキシエチル)イソ
シアヌレート等の従来公知の光重合性七ノマー等を挙げ
ることができ、使用に際しては単独若しくは混合物とし
て用いることができる。
本発明の永久保護膜用樹脂組成物を調製するには、例え
ば、前記(A),(B)及び(C)戒分を含む組成を、
混合するか、または混合、溶解することにより得ること
ができる。
ば、前記(A),(B)及び(C)戒分を含む組成を、
混合するか、または混合、溶解することにより得ること
ができる。
次に本発明の樹脂組戒物を用いて永久保護膜を製造する
方法について説明する。
方法について説明する。
本発明においては前記永久保護膜用樹脂組成物を基材に
塗布し、これを回路パターンを通した紫外線で露光して
露光部を硬化させ、未露光部の塗膜をアルカリ現象によ
り除去し,さらにアフターキュアを行い.永久保護膜を
得る。具体的には、まず前記樹脂組或物を通常そのまま
基材に塗布すればよく、また粘度調整の必要がある場合
には.前記樹脂組威物を有機溶剤等で希釈して基材に塗
布することによっても、永久保護膜を得ることができる
.前記有機溶剤としては,例えばエチルセルセルブ、プ
チルセルソルブ,エチレングリコールジメチルエーテル
、ジアセトンアルコール、4一メトキシ−4−メチルペ
ンタノン−2,メチルエチルケトン等の水溶性有機溶剤
、またはキシレン、トルエン、メチルイソブチルケトン
,2−エチルヘキサノール等の非水系有機溶剤等が例示
されるが、特にこれらに限定されるものではなく、前記
樹脂組成物を均一に溶解するものであればいずれの有機
溶剤も使用できる。
塗布し、これを回路パターンを通した紫外線で露光して
露光部を硬化させ、未露光部の塗膜をアルカリ現象によ
り除去し,さらにアフターキュアを行い.永久保護膜を
得る。具体的には、まず前記樹脂組或物を通常そのまま
基材に塗布すればよく、また粘度調整の必要がある場合
には.前記樹脂組威物を有機溶剤等で希釈して基材に塗
布することによっても、永久保護膜を得ることができる
.前記有機溶剤としては,例えばエチルセルセルブ、プ
チルセルソルブ,エチレングリコールジメチルエーテル
、ジアセトンアルコール、4一メトキシ−4−メチルペ
ンタノン−2,メチルエチルケトン等の水溶性有機溶剤
、またはキシレン、トルエン、メチルイソブチルケトン
,2−エチルヘキサノール等の非水系有機溶剤等が例示
されるが、特にこれらに限定されるものではなく、前記
樹脂組成物を均一に溶解するものであればいずれの有機
溶剤も使用できる。
前記樹脂組成物の希釈溶液は常温での回転粘度が、通常
0.1〜1000ポイズ、特に1〜500ポイズ程度に
することが好ましい。また必要に応じ,前記樹脂組成物
の希釈溶液に無機充填物を添加することもできる。該無
機充填物としては、マイ力,クレー、タルク、アルミナ
ホワイト,珪藻上、ベントナイト、ワラストナイト、石
英,水酸化アルミニウム,水酸化カルシウム.,硫酸バ
リウム、珪酸マグネシウム,酸化チタン、酸化亜鉛、シ
リカアルミナ,窒化珪素等を挙げることができる. 前記無機充填物の添加量は、前記樹脂組或物100重量
部に対してO〜160重量部,好ましくは40−150
重量部が望ましい. この他、必要に応じ、フタロシアニンブルーフタ口シア
ニングリーン,シアニングリーン、チタンホワイト、チ
タンイエロー、カーボンブラック,黄鉛、ハンザイエロ
ー,レーキレッド,メチルバイオレット、ブリリアント
グリーン、ビクトリアブルー等の染料または顔料、難燃
化を付与するために五酸化アンチモン等を添加すること
ができる。
0.1〜1000ポイズ、特に1〜500ポイズ程度に
することが好ましい。また必要に応じ,前記樹脂組成物
の希釈溶液に無機充填物を添加することもできる。該無
機充填物としては、マイ力,クレー、タルク、アルミナ
ホワイト,珪藻上、ベントナイト、ワラストナイト、石
英,水酸化アルミニウム,水酸化カルシウム.,硫酸バ
リウム、珪酸マグネシウム,酸化チタン、酸化亜鉛、シ
リカアルミナ,窒化珪素等を挙げることができる. 前記無機充填物の添加量は、前記樹脂組或物100重量
部に対してO〜160重量部,好ましくは40−150
重量部が望ましい. この他、必要に応じ、フタロシアニンブルーフタ口シア
ニングリーン,シアニングリーン、チタンホワイト、チ
タンイエロー、カーボンブラック,黄鉛、ハンザイエロ
ー,レーキレッド,メチルバイオレット、ブリリアント
グリーン、ビクトリアブルー等の染料または顔料、難燃
化を付与するために五酸化アンチモン等を添加すること
ができる。
次に前記樹脂組成物を基材へ塗布するには通常,ディッ
プコート、ロールコート、カーテンコート等によって行
なうことができる。得られる揄膜の乾燥は熱風乾燥,遠
赤外線等により、好ましくは120℃以下,特に好まし
くは60−100℃で、通常10〜20分程度行なうこ
とにより達或することができる.この際乾燥温度が12
0℃を越えると塗膜の熱硬化が生じるために好ましくな
い。
プコート、ロールコート、カーテンコート等によって行
なうことができる。得られる揄膜の乾燥は熱風乾燥,遠
赤外線等により、好ましくは120℃以下,特に好まし
くは60−100℃で、通常10〜20分程度行なうこ
とにより達或することができる.この際乾燥温度が12
0℃を越えると塗膜の熱硬化が生じるために好ましくな
い。
こうして得られた塗膜は常温でタックがなく、平滑な塗
面を有するため回路パターン製造用の感光性の塗膜に最
適である。
面を有するため回路パターン製造用の感光性の塗膜に最
適である。
前記乾燥後,塗膜にネガ型フィルムを設置し、例えば高
圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハイ
ドライドランプ等を用いて紫外線を照射することにより
露光部を硬化させ,次いでこれを,現像溶媒をスプレー
するか、または現像溶媒に浸漬する等の方法により現像
し,未n光部を洗い流す方法等により、未露光部を除去
する。
圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハイ
ドライドランプ等を用いて紫外線を照射することにより
露光部を硬化させ,次いでこれを,現像溶媒をスプレー
するか、または現像溶媒に浸漬する等の方法により現像
し,未n光部を洗い流す方法等により、未露光部を除去
する。
上記現像溶媒としては、通常.a度l〜5重量%程度の
炭酸ナトリウム等のアルカリ水溶液を用いることができ
るが,更に適当な界面活性剤や水溶性溶剤を添加したも
のを用いてもよい。
炭酸ナトリウム等のアルカリ水溶液を用いることができ
るが,更に適当な界面活性剤や水溶性溶剤を添加したも
のを用いてもよい。
しかる後、熱風乾燥、遠赤外線乾燥等の方法によりアフ
ターキュアーを行ない、塗膜中のモノアミド化コハク酸
基をイミド化コハクr!1裁に変換させる。アフターキ
ュアーは通常100〜180”C、好ましくは140〜
170℃で、通常10〜60分程度行なうことにより永
久保護膜を製造することができる。前記アフターキュア
ーが十分でないと塗膜の長期安定性が低く、また過度に
アフターキュアーを行なうと生産性が低下するので好ま
しくない。
ターキュアーを行ない、塗膜中のモノアミド化コハク酸
基をイミド化コハクr!1裁に変換させる。アフターキ
ュアーは通常100〜180”C、好ましくは140〜
170℃で、通常10〜60分程度行なうことにより永
久保護膜を製造することができる。前記アフターキュア
ーが十分でないと塗膜の長期安定性が低く、また過度に
アフターキュアーを行なうと生産性が低下するので好ま
しくない。
く発明の効果〉
本発明の永久保護膜用樹脂組成物は、紫外線硬化型でア
ルカリ現像できるため、作業性がよく高密度の保護膜を
製造することができる。しかも、本発明の方法によって
製造される永久保護膜は、従来の紫外線硬化型でアルカ
リ現像できる樹脂組威物を用いて作られる保護膜とは異
なり、耐湿性、耐薬品性,耐加水分解性および密着性に
優れた高い信頼性のある膜である。さらに本発明の方法
で製造される永久保護膜は、アフターキュアーにより該
保護膜中のカルボン酸基がイミド化反応で取り除かれる
ために、プリント板上の銅の配線を腐食してしまうこと
がなく、基板の性能を長期間保つことができる。さらに
またアフターキュアーにより架橋密度が増し、厚膜硬化
特性が優れているという特徴も有している. 〈実施例〉 以下に本発明を実施例に基づいて具体的に説明する。な
お、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
ルカリ現像できるため、作業性がよく高密度の保護膜を
製造することができる。しかも、本発明の方法によって
製造される永久保護膜は、従来の紫外線硬化型でアルカ
リ現像できる樹脂組威物を用いて作られる保護膜とは異
なり、耐湿性、耐薬品性,耐加水分解性および密着性に
優れた高い信頼性のある膜である。さらに本発明の方法
で製造される永久保護膜は、アフターキュアーにより該
保護膜中のカルボン酸基がイミド化反応で取り除かれる
ために、プリント板上の銅の配線を腐食してしまうこと
がなく、基板の性能を長期間保つことができる。さらに
またアフターキュアーにより架橋密度が増し、厚膜硬化
特性が優れているという特徴も有している. 〈実施例〉 以下に本発明を実施例に基づいて具体的に説明する。な
お、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
失履倒よ
永久保護II’J a脂組成物の(A)成分として,マ
レイン化ブタジエン重合体のモノアミド化物を用い、こ
れを以下のようにして合成した。
レイン化ブタジエン重合体のモノアミド化物を用い、こ
れを以下のようにして合成した。
ペンジルナトリウl5を触媒とし,連鎖移動剤1・ルエ
ンの存在下に、30℃でブタジエンを重合させて得られ
た数平均分子itlooo、25℃における粘度14ポ
イズ、1,2一結合65%の液状ブタジエン重合体32
3g,無水マレイン酸178.9g、キシレンLogお
よび商品名「アンチゲン6C」 (重合禁止剤,住友化
学■製)1.2gを,還流冷却管および窒素吹き込み管
付きの1Qのセパラブルフラスコに仕込み、窒素気流下
に190℃で5時間反応させた。次に未反応無水マレイ
ン酸,キシレンを留去させ、全酸価400mgKOH/
gのマレイン化ブタジェン重合体を合成した。得られた
重合体の軟化点(環球式軟化点J IS−K−2531
−60)は88℃であった。
ンの存在下に、30℃でブタジエンを重合させて得られ
た数平均分子itlooo、25℃における粘度14ポ
イズ、1,2一結合65%の液状ブタジエン重合体32
3g,無水マレイン酸178.9g、キシレンLogお
よび商品名「アンチゲン6C」 (重合禁止剤,住友化
学■製)1.2gを,還流冷却管および窒素吹き込み管
付きの1Qのセパラブルフラスコに仕込み、窒素気流下
に190℃で5時間反応させた。次に未反応無水マレイ
ン酸,キシレンを留去させ、全酸価400mgKOH/
gのマレイン化ブタジェン重合体を合成した。得られた
重合体の軟化点(環球式軟化点J IS−K−2531
−60)は88℃であった。
次に前記マレイン化ブタジエン重合体200g及びジエ
チレングリコールジメチルエーテル200gを還流冷却
管付きの1j2のセパラブルフラスコに入れ、80℃の
オイルパスに漬け、フラスコ内を軽く撹拌しマレイン化
ブタジエン重合体を完全に溶解したのち40℃に冷却し
た。次いで,ペンジルアミン76.4gと、ジエチレン
グリコールジメチルエーテル76.4gとからなる溶液
を40℃で2時間かけて添加したのち、さらに15時間
反応を続け,ワニス酸価69mgKOH/gのマレイン
化ブタジエン重合体のモノアミド化物を得て、これを(
A)成分とした。
チレングリコールジメチルエーテル200gを還流冷却
管付きの1j2のセパラブルフラスコに入れ、80℃の
オイルパスに漬け、フラスコ内を軽く撹拌しマレイン化
ブタジエン重合体を完全に溶解したのち40℃に冷却し
た。次いで,ペンジルアミン76.4gと、ジエチレン
グリコールジメチルエーテル76.4gとからなる溶液
を40℃で2時間かけて添加したのち、さらに15時間
反応を続け,ワニス酸価69mgKOH/gのマレイン
化ブタジエン重合体のモノアミド化物を得て、これを(
A)成分とした。
次に,ビスフェノール型エポキシアクリレートを以下の
ようにして合成し、(B)戒分として用いた。
ようにして合成し、(B)戒分として用いた。
商品名「エピコート1004J (油化シェルエボキ
シ■製)200g、トリフェニルホスフィン1.5g、
ヒドロキノン0.8g及びジエチレングリコールジメチ
ルエーテル200gを還流冷却管付きのIQのセパラブ
ルフラスコに入れ、100℃のオイルパスに漬け、フラ
スコ内を軽く撹拌してエポキシ樹脂を完全に溶解したの
ち,メタクリル酸18gを30分かけて添加した。添加
後,120℃で3時間反応を続けメタクリレートを得た
。
シ■製)200g、トリフェニルホスフィン1.5g、
ヒドロキノン0.8g及びジエチレングリコールジメチ
ルエーテル200gを還流冷却管付きのIQのセパラブ
ルフラスコに入れ、100℃のオイルパスに漬け、フラ
スコ内を軽く撹拌してエポキシ樹脂を完全に溶解したの
ち,メタクリル酸18gを30分かけて添加した。添加
後,120℃で3時間反応を続けメタクリレートを得た
。
上記の(A). (B)戊分を用い、さらに以下のよう
にして永久保護膜用樹脂組成物をrA製した。
にして永久保護膜用樹脂組成物をrA製した。
(^)或分のマレイン化ブタジエン重合体のモノアミド
化物を60g、(B)成分のビスフェノール型エポキシ
メタクリレート溶液を40g.添加物としてトリメチロ
ールプロパントリアクリレートのジエチレングリコール
ジメチルエーテルの50重量%溶液を20g、さらに(
C)成分の光重合開始剤として商品名『イルガキュア6
51J (チバガイギー社!!)7gを室温で混合、
溶解し、永久保護膜用樹脂組或物を得た。この組或物の
非揮発分濃度は52重量%であった. 上記の操作で得られた組成物をガラスエポキシ銅張り積
層板にアプリケーターで塗布したのち、80℃の熱風乾
燥機に入れて10分間乾燥したところ20μの厚みを有
する塗膜が得られた。乾燥後、常温においてこの塗膜に
触ったが、タックはまったくなかった。
化物を60g、(B)成分のビスフェノール型エポキシ
メタクリレート溶液を40g.添加物としてトリメチロ
ールプロパントリアクリレートのジエチレングリコール
ジメチルエーテルの50重量%溶液を20g、さらに(
C)成分の光重合開始剤として商品名『イルガキュア6
51J (チバガイギー社!!)7gを室温で混合、
溶解し、永久保護膜用樹脂組或物を得た。この組或物の
非揮発分濃度は52重量%であった. 上記の操作で得られた組成物をガラスエポキシ銅張り積
層板にアプリケーターで塗布したのち、80℃の熱風乾
燥機に入れて10分間乾燥したところ20μの厚みを有
する塗膜が得られた。乾燥後、常温においてこの塗膜に
触ったが、タックはまったくなかった。
次に、この塗膜に最高50μmのパターンを有するポリ
エステル基材のネガ型回路パターンマスクを密着させ、
さらに上部に厚み1,5mの石英ガラスをあて、UVj
l光装置(ウシオ電機製,商品名「高圧水銀灯照射装置
UVC − 2 5 1 8 J )で365nmの露
光量が600mJ/一となるように露光した。この露光
の間、温度は32℃に上昇したが、露光後には密着させ
たマスクが容易に剥離できた。
エステル基材のネガ型回路パターンマスクを密着させ、
さらに上部に厚み1,5mの石英ガラスをあて、UVj
l光装置(ウシオ電機製,商品名「高圧水銀灯照射装置
UVC − 2 5 1 8 J )で365nmの露
光量が600mJ/一となるように露光した。この露光
の間、温度は32℃に上昇したが、露光後には密着させ
たマスクが容易に剥離できた。
この塗膜を2重量%の炭酸ナトリウム水溶液を用いて呪
像したところ、その解像度は50μm以下であった。
像したところ、その解像度は50μm以下であった。
さらに上記現像後の塗膜を電気炉に入れ、160℃で3
0分間アフターキュアーして保護膜を作製した。この保
護膜の物性評価は既知の方法にしたがって行なった。
0分間アフターキュアーして保護膜を作製した。この保
護膜の物性評価は既知の方法にしたがって行なった。
まず、この保護膜の鉛筆硬度を、JIS−D−0202
8−10に準じて測定したところ7Hであった。
8−10に準じて測定したところ7Hであった。
また密着性については.JIS−D−02028−12
に準じた碁盤目テストを行なって評価したが,良好であ
った。
に準じた碁盤目テストを行なって評価したが,良好であ
った。
半田耐熱性は,溶融した半F月浴(264℃)中に30
秒浸漬後、JIS−D−0202 8−12に準じた
1E盤目テストを行ない評価したが、合格であった. 耐湿性は、2時間煮沸後、JIS−D−0202 8
−12に準じた碁盤目テストを行ない評価したが、合格
であった。
秒浸漬後、JIS−D−0202 8−12に準じた
1E盤目テストを行ない評価したが、合格であった. 耐湿性は、2時間煮沸後、JIS−D−0202 8
−12に準じた碁盤目テストを行ない評価したが、合格
であった。
さらに、120℃の水蒸気中に36時間放置するプレッ
シャークッカーテストを行なった後,JIS−D−02
02 8−12に準じた碁盤目テストを行なったが、
塗膜の剥離は認められず、銅の腐食も起こらなかった。
シャークッカーテストを行なった後,JIS−D−02
02 8−12に準じた碁盤目テストを行なったが、
塗膜の剥離は認められず、銅の腐食も起こらなかった。
失倉鼻茎
永久保護膜樹脂組或物の(A)成分として,マレイン化
ブタジエン重合体のモノアミド化物を用い、これを以下
のようにして合成した. 実施例1で得られた液状ブタジエン重合体258g、無
水マレイン酸194g及びキシレンlogおよび商品名
「アンチゲン6C』 (住友化学@製)1.5gを、還
流冷却管および窒素吹き込み管付きのIQのセパラブル
フラスコに仕込み、窒素気流下に190℃で4.5時間
反応させた。
ブタジエン重合体のモノアミド化物を用い、これを以下
のようにして合成した. 実施例1で得られた液状ブタジエン重合体258g、無
水マレイン酸194g及びキシレンlogおよび商品名
「アンチゲン6C』 (住友化学@製)1.5gを、還
流冷却管および窒素吹き込み管付きのIQのセパラブル
フラスコに仕込み、窒素気流下に190℃で4.5時間
反応させた。
次に、未反応無水マレイン酸、キシレンを留去させ、全
酸価480mgKOH/gのマレイン化ブタジエン重合
体を合成した。得られた重合体の軟化点は128℃であ
った。
酸価480mgKOH/gのマレイン化ブタジエン重合
体を合成した。得られた重合体の軟化点は128℃であ
った。
次に前記マレイン化ブタジエン重合体200gと、エチ
ルセロソルブアセテート277gとを還流冷却管付きの
IQのセパラブルフラスコに入れ、80℃でマレイン化
ブタジエン重合体を完全に溶解したのち40℃に冷却し
た。次いで、ペンジルアミン45.9g及びn−プチル
アミン31.2gを、1.5時間かけて添加したのち、
さらに13時間反応を続け,ワニス酸価82mgKOH
/gのマレイン化ブタジエン重合体のモノアミド化物を
得て、これを(A)成分とした。
ルセロソルブアセテート277gとを還流冷却管付きの
IQのセパラブルフラスコに入れ、80℃でマレイン化
ブタジエン重合体を完全に溶解したのち40℃に冷却し
た。次いで、ペンジルアミン45.9g及びn−プチル
アミン31.2gを、1.5時間かけて添加したのち、
さらに13時間反応を続け,ワニス酸価82mgKOH
/gのマレイン化ブタジエン重合体のモノアミド化物を
得て、これを(A)成分とした。
次に,(B)戊分として用いるエポキシアクリレートは
以下のようにして合成した。
以下のようにして合成した。
商品名「エピコート180J (油化シェルエボキシ
■11)200g、ジメチルベンジルアミン3g、ヒド
ロキノン0.8g及びエチルセロソルブアセテート20
0gを還流冷却管付きのIQのセバラブルフラスコに入
れ、100℃のオイルバスに漬け、フラスコ内を軽く撹
拌してエボキシ樹脂を完全に溶解したのち、アクリル酸
64gを30分かけて添加した。添加後、100℃で7
時間反応を続けアクリレートを得た。
■11)200g、ジメチルベンジルアミン3g、ヒド
ロキノン0.8g及びエチルセロソルブアセテート20
0gを還流冷却管付きのIQのセバラブルフラスコに入
れ、100℃のオイルバスに漬け、フラスコ内を軽く撹
拌してエボキシ樹脂を完全に溶解したのち、アクリル酸
64gを30分かけて添加した。添加後、100℃で7
時間反応を続けアクリレートを得た。
上記の(A), (B)成分を用い、さらに以下のよう
に調製し、永久保護膜用樹脂組或物を製造した。
に調製し、永久保護膜用樹脂組或物を製造した。
(^)成分のマレイン化ブタジエン重合体のモノアミド
化物溶液を60g、(B)成分のノボラック型エポキシ
アクリレート溶液を40g.添力n物としてトリメチロ
ールプロパントリアクリレートのジエチレングリコール
ジメチルエーテルの50重量%溶液をLog、さらに(
C)戒分の光重合開始剤として商品名「イルガキュア9
07J (チバガイギー社製)7gを室温で混合、溶
解し、永久保護膜用樹脂組成物を得た。この組或物の非
揮発分濃度は52重量%であった。
化物溶液を60g、(B)成分のノボラック型エポキシ
アクリレート溶液を40g.添力n物としてトリメチロ
ールプロパントリアクリレートのジエチレングリコール
ジメチルエーテルの50重量%溶液をLog、さらに(
C)戒分の光重合開始剤として商品名「イルガキュア9
07J (チバガイギー社製)7gを室温で混合、溶
解し、永久保護膜用樹脂組成物を得た。この組或物の非
揮発分濃度は52重量%であった。
上記の操作で得られた組威物を実施例1と同様に塗布し
て塗膜を作成した.塗布乾燥後、常温においてこの塗膜
に触ったが,タックは全くなかった。
て塗膜を作成した.塗布乾燥後、常温においてこの塗膜
に触ったが,タックは全くなかった。
上記塗膜に実施例1と同様に、露光・現像・アフターキ
ュアーを行ない保護膜を作成した。この塗膜の解像度は
50μであった。
ュアーを行ない保護膜を作成した。この塗膜の解像度は
50μであった。
上記塗膜に対し、実施例1と同様な物性評価を行なった
ところ、鉛筆硬度7H、密着性は良好、半田耐熱性・耐
湿性はともに合格であった.また,120℃の水蒸気中
に48時間放置するプレッシャークッカーテストを行な
ったのち,上記と同様に碁盤目テストを行なったが、塗
膜の剥離は認められなかった. 去通11走 永久保護膜樹脂組成物の(A)成分として、マレイン化
ブタジエン重合体のモノアミド化物を用い、これを以下
のようにして合成した。
ところ、鉛筆硬度7H、密着性は良好、半田耐熱性・耐
湿性はともに合格であった.また,120℃の水蒸気中
に48時間放置するプレッシャークッカーテストを行な
ったのち,上記と同様に碁盤目テストを行なったが、塗
膜の剥離は認められなかった. 去通11走 永久保護膜樹脂組成物の(A)成分として、マレイン化
ブタジエン重合体のモノアミド化物を用い、これを以下
のようにして合成した。
実施例1と同様な方法により、数平均分子量1800、
1,2一結合66%の液状ブタジェン300gと無水マ
レイン酸115gを反応させ、全酸価320mgKOH
/gのマレイン化ブタジエン重合体を合威した。
1,2一結合66%の液状ブタジェン300gと無水マ
レイン酸115gを反応させ、全酸価320mgKOH
/gのマレイン化ブタジエン重合体を合威した。
このマレイン化ブタジエン重合体200gを、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテル260gとともにIQの
セパラブルフラスコに入れ、80℃のオイルバスで撹拌
、溶解したのち45℃に冷却した。次いで、ペンジルア
ミン60gを1時間かけて添加したのち,さらに10時
間反応を続け,ワニス酸価55鵬gKOH/gのマレイ
ン化ブタジエン重合体のモノアミド化物溶液を得て、こ
れを(^)成分とした。
ングリコールジメチルエーテル260gとともにIQの
セパラブルフラスコに入れ、80℃のオイルバスで撹拌
、溶解したのち45℃に冷却した。次いで、ペンジルア
ミン60gを1時間かけて添加したのち,さらに10時
間反応を続け,ワニス酸価55鵬gKOH/gのマレイ
ン化ブタジエン重合体のモノアミド化物溶液を得て、こ
れを(^)成分とした。
(B)成分には、実施例1で合成したビスフェノール型
エポキシアクリレート溶液を用いた。
エポキシアクリレート溶液を用いた。
上記(A)#7i分を70g、(B)成分を30g、添
加物として、トリメチロールプロパントリアクリレート
のジエチレングリコールジメチルエーテルの50重量%
溶液を10g,さらに(C)成分として商品名「イルガ
キュア651J (チバガイギー社製)7gを室温で
混合、溶解して、永久保護膜用樹脂組成物とした。
加物として、トリメチロールプロパントリアクリレート
のジエチレングリコールジメチルエーテルの50重量%
溶液を10g,さらに(C)成分として商品名「イルガ
キュア651J (チバガイギー社製)7gを室温で
混合、溶解して、永久保護膜用樹脂組成物とした。
上記の組成物の希釈液を用い,実施例1と同様にして塗
膜を作成した.辿布乾燥後,常温においてこの塗膜に触
ったが、タックはまったくなかった。
膜を作成した.辿布乾燥後,常温においてこの塗膜に触
ったが、タックはまったくなかった。
上記塗膜に実施例1と同様に、露光・現像・アフターキ
ュアーを行ない保護膜を作成した。この塗膜の解像度は
50μであった。
ュアーを行ない保護膜を作成した。この塗膜の解像度は
50μであった。
また上記塗膜に対し,実施例1と同様な物性評価を行な
ったところ、鉛筆硬度7H、密着性は良好,半田耐熱性
・耐湿性はともに合格であった。
ったところ、鉛筆硬度7H、密着性は良好,半田耐熱性
・耐湿性はともに合格であった。
更に120℃の水蒸気中に24時間放置するプレッシャ
ータッカーテストを行なったのち、上記と同様に碁盤目
テストを行なったが、塗膜の剥離は認められなかった。
ータッカーテストを行なったのち、上記と同様に碁盤目
テストを行なったが、塗膜の剥離は認められなかった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)(A)共役ジエン重合体及び/又は共重合体で、か
つ一般式(I) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(I) (式中、R^1及びR^2は水素原子、ハロゲン原子ま
たは炭素数1〜3の有機残基を示し、R^3は炭素数1
〜16の有機残基を示す)で表わされるモノアミド化コ
ハク酸基を有するアルカリ可溶性樹脂と、 (B)光感応性のエチレン性二重結合を有するプレポリ
マーと、 (C)光重合開始剤とを含み、且つ前記(A)アルカリ
可溶性樹脂と、前記(B)プレポリマーとの配合割合が
、1:4〜4:1である永久保護膜用樹脂組成物。 2)請求項第1項記載の永久保護膜用樹脂組成物を基材
に塗布して感光性の塗膜を形成し、該塗膜に回路パター
ンマスクを介して紫外線で露光し、露光部の塗膜を硬化
させたのち、未露光部の塗膜をアルカリ現像により除去
して回路パターンを作製し、次いで塗膜中のモノアミド
化コハク酸基をイミド化コハク酸基に変換させることを
特徴とする永久保護膜の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1306586A JP2700933B2 (ja) | 1989-11-28 | 1989-11-28 | 永久保護膜用樹脂組成物および永久保護膜の製造方法 |
DE69024623T DE69024623T2 (de) | 1989-11-28 | 1990-11-27 | Harzzusammensetzung zur Herstellung von haltbarem Schutzüberzug und Verfahren zur Herstellung von haltbarem Schutzüberzug über einem Substrat |
US07/618,387 US5096800A (en) | 1989-11-28 | 1990-11-27 | Resin composition for forming durable protection coating and process for forming durable protection coating on substrate |
EP90122659A EP0430175B1 (en) | 1989-11-28 | 1990-11-27 | Resin composition for forming durable protection coating and process for forming durable protection coating on substrate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1306586A JP2700933B2 (ja) | 1989-11-28 | 1989-11-28 | 永久保護膜用樹脂組成物および永久保護膜の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03167555A true JPH03167555A (ja) | 1991-07-19 |
JP2700933B2 JP2700933B2 (ja) | 1998-01-21 |
Family
ID=17958851
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1306586A Expired - Lifetime JP2700933B2 (ja) | 1989-11-28 | 1989-11-28 | 永久保護膜用樹脂組成物および永久保護膜の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5096800A (ja) |
EP (1) | EP0430175B1 (ja) |
JP (1) | JP2700933B2 (ja) |
DE (1) | DE69024623T2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1993017368A1 (en) * | 1992-02-24 | 1993-09-02 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Pliable, aqueous processable, photoimageable permanent coatings for printed circuits |
JPH08319456A (ja) * | 1995-04-28 | 1996-12-03 | E I Du Pont De Nemours & Co | 印刷回路用の水系処理可能な軟質の光画像化可能耐久被覆材 |
US5643657A (en) * | 1995-04-28 | 1997-07-01 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous processable, multilayer, photoimageable permanent coatings for printed circuits |
US20030221748A1 (en) * | 2002-05-30 | 2003-12-04 | Fry's Metals, Inc. | Solder paste flux system |
US8535809B2 (en) * | 2004-04-28 | 2013-09-17 | Nhk Spring Co., Ltd. | Electrical insulating resin composition, and laminate for circuit board |
US8133651B2 (en) * | 2007-11-21 | 2012-03-13 | Gary Ganghui Teng | Lithographic printing plate comprising alkaline soluble and alkaline insoluble polymeric binders |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51104903A (en) * | 1975-03-11 | 1976-09-17 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | Kankoseizairyo oyobi insatsuyogenpan |
EP0339306A2 (de) * | 1988-04-29 | 1989-11-02 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Lichtempfindliches Gemisch mit Carboxylgruppen enthaltenden Bindemitteln |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA1105758A (en) * | 1976-05-06 | 1981-07-28 | Yoshihiro Hosaka | PHOTOSENSITIVE COMPOSITIONS CONTAINING A COPOLYMER DERIVED FROM A CONJUGATED DIOLEFIN AND AN .alpha. .beta. ETHYLENICALLY UNSATURATED CARBOXYLIC ACID OR ANHYDRIDE |
US4292414A (en) * | 1978-08-16 | 1981-09-29 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Process for the preparation of modified block copolymers |
JPS6049146B2 (ja) * | 1981-07-04 | 1985-10-31 | 日本電信電話株式会社 | 光学ガラスフアイバ用被覆材料 |
DE3603451A1 (de) * | 1986-02-05 | 1987-08-06 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von thermoplastischen formmassen auf basis von pfropfmischpolymerisaten |
JPS63208035A (ja) * | 1987-02-25 | 1988-08-29 | Toray Ind Inc | フレキソ印刷版材 |
-
1989
- 1989-11-28 JP JP1306586A patent/JP2700933B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-11-27 US US07/618,387 patent/US5096800A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-27 DE DE69024623T patent/DE69024623T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-27 EP EP90122659A patent/EP0430175B1/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51104903A (en) * | 1975-03-11 | 1976-09-17 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | Kankoseizairyo oyobi insatsuyogenpan |
EP0339306A2 (de) * | 1988-04-29 | 1989-11-02 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Lichtempfindliches Gemisch mit Carboxylgruppen enthaltenden Bindemitteln |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2700933B2 (ja) | 1998-01-21 |
DE69024623T2 (de) | 1996-06-20 |
EP0430175A1 (en) | 1991-06-05 |
US5096800A (en) | 1992-03-17 |
DE69024623D1 (de) | 1996-02-15 |
EP0430175B1 (en) | 1996-01-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI432900B (zh) | 感光性樹脂組成物 | |
JP4655362B2 (ja) | 感光性樹脂の製造方法 | |
TWI535775B (zh) | 鹼性顯影型樹脂,使用該樹脂的感光性樹脂組成物 | |
JP4030025B2 (ja) | 光硬化性液状ソルダーレジスト用インキ組成物 | |
WO2007141829A1 (ja) | 感光性樹脂および感光性樹脂組成物 | |
US6602651B1 (en) | Water-based solder resist composition | |
JP2962739B2 (ja) | 光硬化塗膜の形成方法 | |
JPS60121444A (ja) | アルカリ現像型感光性樹脂組成物 | |
JP2700933B2 (ja) | 永久保護膜用樹脂組成物および永久保護膜の製造方法 | |
JPH03250012A (ja) | ソルダーレジストインキ組成物及びその硬化物 | |
JP2937800B2 (ja) | ソルダーフォトレジストインキ用組成物 | |
US20050032946A1 (en) | Resin composition | |
JP2835539B2 (ja) | 感光性熱硬化性樹脂組成物およびパターン形成方法 | |
JP2873705B2 (ja) | 光硬化性樹脂組成物 | |
JP2003280189A (ja) | 光硬化性・熱硬化性樹脂組成物 | |
JPH0299504A (ja) | 永久保護膜用樹脂組成物および永久保護膜の製造方法 | |
JP2001264977A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP2873706B2 (ja) | 光硬化性樹脂組成物 | |
JP2689354B2 (ja) | スルホール配線基板の製造方法 | |
JP2003280191A (ja) | 光硬化性・熱硬化性樹脂組成物 | |
JP2002107919A (ja) | 感光性樹脂組成物及びその硬化物 | |
JPH03253092A (ja) | 感光性熱硬化性樹脂組成物及びソルダーレジストパターン形成方法 | |
JP2877868B2 (ja) | 光硬化性樹脂組成物 | |
JP2896636B2 (ja) | ソルダーフォトレジストインキ用組成物 | |
JP3828407B2 (ja) | 硬化性樹脂および硬化性樹脂組成物 |