JPH03148287A - ジメチルジクロロシランとメチルジクロロシランの調製方法 - Google Patents
ジメチルジクロロシランとメチルジクロロシランの調製方法Info
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 25
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 11
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 title claims description 11
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 62
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 33
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 33
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 33
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 claims abstract description 31
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims abstract description 12
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 claims abstract description 8
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 claims abstract description 7
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims abstract description 3
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 claims abstract description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 11
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 10
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 9
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 9
- YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N chloro(methyl)silane Chemical class C[SiH2]Cl YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 5
- 150000003752 zinc compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 claims description 3
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 3
- 239000002071 nanotube Substances 0.000 claims 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 12
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract description 5
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 abstract description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 abstract 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 10
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 4
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 3
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 3
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 3
- NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N chloro(114C)methane Chemical compound [14CH3]Cl NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 3
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001495 arsenic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 description 2
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000062730 Melissa officinalis Species 0.000 description 1
- 235000010654 Melissa officinalis Nutrition 0.000 description 1
- 229910001096 P alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- RIRXDDRGHVUXNJ-UHFFFAOYSA-N [Cu].[P] Chemical compound [Cu].[P] RIRXDDRGHVUXNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093920 gynecological arsenic compound Drugs 0.000 description 1
- 238000003306 harvesting Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000865 liniment Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001367 organochlorosilanes Chemical class 0.000 description 1
- -1 phosphorus compound Chemical class 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/16—Preparation thereof from silicon and halogenated hydrocarbons direct synthesis
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Abstract
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Description
と詳しく言うと、本発明は、当該技術分野において「直
接法」と称される方法を使用して、他の望ましいオルガ
ノクロロシラン類の収率、詳しく言えばモノオルガノジ
クロロシラン及び対応するジオルガノジハロシラン類を
一緒にした収率に不利な影響を及ぼすことなしに、ある
いは実質的な量の望ましくない無機ハロシラン類及びオ
ルガノトリハロシラン類を生成させることなしに、モノ
オルガノジクロロシラン類の収率を上昇させるための方
法に関する。
量の塩化水素をケイ素金属と反応してメチルハロシラン
類を生成する塩化メチルのうちの少なくとも一部分と混
合すると、MeHSiC1,の収率がMezSiC42
zとMeHSiC1zとを一緒にした収率を実質的に低
下させることなしに、あるいは有意の量の望ましくない
メチルトリクロロシラン又は無機クロロシラン類5iC
1,4及び/もしくはHSiCj!3を生成することな
しに上昇する、という発見に基づく。好ましい態様によ
れば、塩化水素は塩化メチル添加の前半の間にのみ存在
する。
属ケイ素と適当な触媒とを含んでなる反応集合物(re
action mass)の入っている反応器へ塩化メ
チルを加えてメチルクロロシラン類を調製する間に生成
されるメチルジクロロシランの収率を上昇させるための
改良方法を提供する。改良点には、ジメチルジクロロシ
ランとメチルジクロロシランとを一緒にした収率を実質
的に低下させることなく、あるいは有意の量のメチルト
リクロロシラン又はトリクロロシランとテトラクロロシ
ランのうちの少なくとも一方から選ばれた無機クロロシ
ランを生成することなしに、少なくとも最初の分の塩化
メチルをメチルジクロロシランの収率を上昇させるのに
十分なだけの量の塩化水素と均質混合することが含まれ
る。
チルジクロロシランの収率を上昇させる塩化メチル反応
物中の塩化水素の濃度は、塩化メチルと金属ケイ素とが
反応する条件に少なくともある程度までは依存する。こ
れらの条件には、触媒や、反応促進剤の存在や、温度や
、反応物の純度や、反応器の型式が含められるけれども
、条件はこれらには限定されない。
ハロシランの調製に関する技術分野の当業者が最小限の
実験で決めることができる。
に記載された好ましいひと組の反応条件を使用して、発
明者らは、メチルジクロロシランの収率は塩化メチルと
一緒に持ち込まれた塩化水ましくないH5iCl 3と
テトラクロロシランとを一緒にした濃度は、塩化水素に
ついてのこの濃度範囲内では有意の濃度にならない、す
なわち全反応生成物の約2重量%を超えない、というこ
とを発見した。そのほか、MeSiCl 3つまりもう
一つの望ましくない生成物の濃度は約1%のFICI!
、濃度で有意に上昇する。無機クロロシラン類の存在す
ることに関連する、生成物の精製につきまとう困難及び
そのほかの問題ゆえに、これらの無機クロロシランの総
量は約1重量%未満に維持する方が好ましい。これは、
通常は、塩化メチルを基準にして約o、oti量%から
約5重量%までのHCfを使って達成することができる
。この範囲は、反応条件と反応器の容量とによって変わ
る。下記の例に記載された特定の実験室規模の流動床反
応器については、塩化水素濃度についての上限は典型的
に約1重量%である。
る反応条件下に、反応器へ投入された塩化水素の量が塩
化メチルを基準にして0.01重量%から約1重量%ま
でである場合には、(1)無機ハロシラン類の濃度を痕
跡量にあるいはそれ未満に維持することができ、(2)
生成物中のメチルジクロロシランの濃度が実質的に上昇
し、(3)反応生成物中のジメチルジクロロシランとメ
チルジクロロシランとを一緒にした濃度は少なくとも9
0重量%であり、そして(4)望ましくないメチルトリ
クロロシランの濃度は典型的に5%未満である、という
ことを発見した。従って、塩化水素についてのこの濃度
範囲が本発明の方法の好ましい態様に相当する。
、最初の塩化メチルを添加する間はより多くの塩化水素
を存在させること、そして塩化メチルの終りの分を添加
する間は塩化水素を減らし又はなくすことが望ましいこ
とを、発明者らは見いだした。特に好ましい態様によれ
ば、塩化水素は、塩化メチルのうちの初めの50重量%
から約90重量%までが反応器へ加えられる間にのみ存
在する。
施する際に使用される装置の型式及び反応の条件に少な
くとも幾分かは依存する。直接法を実施するのに適した
装置には、固定床反応器、撹拌法反応器及び流動床反応
器が含められる。これらの反応器はいずれも、連続式又
はバッチ式で運転することができる。
)の米国特許第3133109号明細書に記載された反
応器あるいはマース(Maas)らにより米国特許第4
218387号明細書に記載された反応器を利用するこ
とは、本発明の範囲内である。
用される範囲内にあるべきである。ドットリンは米国特
許第3133109号明細書において、20〜200ミ
クロンの粒度範囲を開示する。反応器の容量に応じて、
本発明の方法の場合には1〜200ミクロンの範囲が採
用される。
0°Cから約350’Cまでである。所望のメチルクロ
ロシラン類の収率を最適化するためには、260°Cか
ら約330’Cまでの範囲内の温度が好ましい。
る技術分野では、直接法で使用するのに適した様々な触
媒及び促進剤が開示されている。
細書は、銅及び酸化銅、スズ又はスズ含有化合物並びに
亜鉛又は亜鉛含有化合物を含んでなるオルガノハロシラ
ン類の製造のための触媒を開示する。バーム(Raim
)らは1986年7月22日発行の米国特許第4602
101号明細書において、アルキルハロシラン類の製造
プロセスを制御するための方法を開示し、この方法は、
スズ又はスズ化合物及び銅又は銅化合物の存在下で、促
進剤としてリン又はリン含有化合物を存在させて、ハロ
ゲン化アルキルを冶金グレードのケイ素と250〜35
0°Cの温度で接触させることを包含する。
、バリウム、チタン、ジルコニウム、カドミウム、鉛、
ビスマス、ヒ素、ニッケル、アンチモン、銀、黄銅、コ
バルト、鉄、炭素及びアルミニウムが含められるが、こ
れらに限定されるものではない、これらの促進剤のいず
れも、元素の形態で使用することができ、あるいは、当
該元素を含有し且つ直接法の反応条件下でその元素を遊
離することのできる化合物として使用することができる
。
られるが、これらに限定されるものではない。
合物 2、(a)銅又は銅化合物、(b)亜鉛又は亜鉛化合物
、及び(C)スズ又はスズ化合物3、(a)銅又は銅化
合物、(b)スズ又はスズ化合物、及び(C)任意的に
ヒ素又はヒ素化合物4、(a)混合物、合金又は化合物
の形態をした銅、(b)スズ、スズ化合物、亜鉛及び亜
鉛化合物からなる群より選択された少なくとも一つのも
の、並びに(C)リン、リン化合物、リン含有合金及び
金属リン化物のうちの少なくとも一つ5、(a)銅又は
銅化合物、(b)スズ又はスズ化合物、(C)ヒ素又は
ヒ素化合物、及び(d)リン又はリン化合物 6、(a)ケイ素を混ぜて合金化された鉄又はケイ素を
混ぜて合金化されたアルくニウムと鉄の混合物、(b)
!1又は少なくとも1種の銅化合物、任意的に、(C)
スズ及びスズ化合物、(d)元素、少なくとも1種の金
属リン化物、又はリン含有合金の形態のリン、並びに(
e)亜鉛又は亜鉛化合物、のうちの少なくとも一つ ?、(a)黄銅として存在している銅及び亜鉛の上記の
金属−リン合金又はリン化物の金属部分は、好ましくは
アルミニウム、カルシウム、銅又は亜鉛である。
量で使用される。前述の触媒のうちの一部のものは、初
めのケイ素を基準にして10重量%までの量で使用され
ている。
100%未満であるべきである。冶金グレード(met
allurgical grade)のケイ素が好まし
い。
度、プロセス条件並びに装置に関して本発明の好ましい
態様を説明するものであって、特許請求の範囲の記載で
もって定義される本発明を限定するものと解釈すべきで
はない。特に指示がない限りは、これらの例中の部数及
び百分率は全て重量によるものであり、ppmで表され
た量は全て、ケイ素と一緒に反応器へ初めに投入された
前部の物質の重量を基準とする。
第3133109号明細書に記載された型式の流動床反
応器で行わせた。砂浴の温度は315°C1そして反応
時間に相当する各加熱期間は44時間であった。
%)及び鉄(0,34%)を含有している冶金グレード
のケイ素(米国オハイオ州ベバリー(Beverly)
のGlobe Metallurgical、 Inc
、)を使用した。使用した塩化水素は、最低純度99.
999%であって、米国オハイオ州デイトン(Dayt
on)のMatheson Ga5Productsよ
り入手した。塩化メチル及び塩化水素は、較正された流
量計を使って個別に測定された。
一緒にしそしてスタティックミキサーを通過させて、反
応器へ導入される前の適切な混合を保証した。
当な容器内で均質になるまで混合して調製された。その
取分とはすなわち、ケイ素が100部、塩化第一銅が6
648部、黄銅(銅及び亜鉛の重量比1/1の合金)が
600ppm、スズが30ppm 、そしてリンを13
.5重量%含有している銅−リン合金が2000ppm
であった。結果として得られたこれらの収骨の混合物を
2〜3分間激しく振盪して混ぜ合わせた。次いでこの混
合物を反応器に入れ、続いて反応器を密閉しそして31
5°Cの砂浴に入れた。
浴は連続的に流動化させて、反応器内の一定温度を維持
した。
体としての窒素をガス状塩化メチルの流れと取替えた。
間を通して塩化メチルと混ぜ合わせ、又は初めの28時
間の間だけ塩化メチルと混ぜ合わせてその時点で塩化水
素の添加を停止した。
ロパツールの浴に漬けた予め秤量されたコールドトラッ
プで凝縮させて集めた。次に、管内に集められた液体を
ドライアイス/イソプロパツールで冷却された壜へ移し
、それから予め冷却されたシリンジを使ってガスクロマ
トグラフの試料室へ注入した。このガスクロマトグラフ
は、反応生成物の種類及び濃度を調べるために使用した
。
の典型となるものである。
物の配分を測定し、これらの結果を平均した。ここに報
告され且つ第1表に要約して示される平均された値は、
次のとおりであった。
iCl z 1.4%MeSiC134,
1% 残りの物質は他のメチルクロロシラン類の混合物であっ
た。検出できる量のHSiC1!、+又はSiC1mは
存在していなかった。
応物と混合することの利点を証明する。例1で説明した
反応を、第1表に掲げられた量の塩化水素を塩化メチル
添加の全期間を通して塩化メチルと混ぜ合わせたことを
除いて反復した0反応生成物は、表に示された量のIS
iC1,3及び/又は5i(J!4を含有していた。使
用したHC7!の量及び主要生成物の百分率を、2回の
実験の平均をもとにして第1表に示す。
0.00 0.000.2 90.4
2.1 4.4 0.00 0.0
00.4 89.4 3.3 5.
0 0.05 0.020.72 89.
1 3.5 5.2 0.01
0.000.85 84.5 5.6
7.1 0.34 0.001.00
75.0 B、9 11.8
1.46 0.501.5 73.1
9.5 10.7 3.44 0.
561.5 74.6 9.2
11.3 1.63 0.372.0
?9.5 7.0 9.5 1
.11 0.23*lIC/!の重量パーセントは
塩化メチルを基準とする。
の混合物であった。
素濃度では、MeHSiCl 2の量は例1で報告され
た値から4倍以上になっており、MezSiCz 2と
Me)ISiCl zとを一緒にした収率はわずかに低
下しているだけであり且つHSiCj!i及び5iCj
!aの量は痕跡量のみであった、ということを証明する
。
12の収率も望ましくないHSiCI!、*及び5iC
j!、の収率もかなり上昇した。
水素を添加して得られるMeHSiCl tの収率に関
する利点を証明する。塩化メチル添加の初めの28時間
の間でのみ1重量%の塩化水素を塩化メチルと混ぜ合わ
せ、そして28時間の時点で塩化水素の添加を停止した
ことを除いて、例2において説明した手順を繰返した。
生成物混合物の重量%で表して次に掲げる組成を示した
。
5i(/!z 4.7重量%MeSiCI
! :1 5.16重量%H5iC130,
17重量% 5iC1a 0.00重量%先の例にお
けるように、残りの生成物はメチルクロロシラン類の混
合物であった。
すれば0.64重量%ではあったものの、MellSi
Cl zの4.71重量%の収率は、塩化メチルを添加
する全期間の間中0.72重量%の塩化水素を加えた場
合に得られた3、54%という値よりも高く、メチルジ
クロロシラン及びジメチルジクロロシランを一緒にした
収率は低下せず、また望ましくない無機のクロロシラン
類の量は痕跡量に過ぎなかった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、250℃から約350℃までの温度で金属ケイ素と
適当な触媒とを含んでなる反応集合物(reactio
nmass)の入っている反応器へ塩化メチルを加えて
メチルクロロシラン類を調製する間に生成されるメチル
ジクロロシランの収率を上昇させる方法であって、ジメ
チルジクロロシランとメチルジクロロシランとを一緒に
した収率を実質的に低下させずに5重量%を上回るメチ
ルトリクロロシランを生成し、又はトリクロロシラン及
びテトラクロロシランのうちの少なくとも一方から選択
された痕跡量を上回る無機クロロシラン類を生成するこ
となしに、少なくとも最初の分の塩化メチルをメチルジ
クロロシランの収率を上昇させるのに十分なだけの量の
塩化水素と均質混合することを特徴とする、メチルジク
ロロシランの収率上昇方法。 2、塩化水素が全反応期間中に加えられる、請求項1記
載の方法。 3、前記反応集合物が、(a)冶金グレード(meta
llurgicalgrade)のケイ素、(b)亜鉛
及び亜鉛化合物、スズ及びスズ化合物、そして次の群、
すなわち元素のリン、リン含有合金及び金属リン化物か
らなる群、より選ばれた反応促進剤からなる群より選択
された少なくとも一つのものと一緒の、触媒反応的に有
効な量の銅又は銅化合物を含んでなる、請求項2記載の
方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/389,135 US4966986A (en) | 1989-08-03 | 1989-08-03 | Method for preparing organohalosilanes |
US389135 | 1989-08-03 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03148287A true JPH03148287A (ja) | 1991-06-25 |
JP2905578B2 JP2905578B2 (ja) | 1999-06-14 |
Family
ID=23536973
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2204025A Expired - Fee Related JP2905578B2 (ja) | 1989-08-03 | 1990-08-02 | ジメチルジクロロシランとメチルジクロロシランの調製方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4966986A (ja) |
EP (1) | EP0411645B1 (ja) |
JP (1) | JP2905578B2 (ja) |
DE (1) | DE69019788T2 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4115183A1 (de) * | 1991-05-09 | 1992-11-12 | Bayer Ag | Feinteiliges silicium mit oberflaechlich gebundenem halogen, verfahren zu dessen herstellung und dessen verwendung |
DE4130790A1 (de) * | 1991-09-16 | 1993-03-18 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur abtrennung von alkenen bei der methylchlorsilan-destillation |
DE4408113A1 (de) * | 1994-03-10 | 1995-09-14 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Methylchlorsilanen |
US5596119A (en) * | 1995-12-05 | 1997-01-21 | Dow Corning Corporation | Method for controlling the direct process product distribution |
DE19816149C1 (de) * | 1998-04-09 | 1999-07-29 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Methylchlorsilanen |
DE19817775A1 (de) * | 1998-04-21 | 1999-10-28 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Organochlorsilanen |
KR100454713B1 (ko) * | 2002-01-30 | 2004-11-05 | 한국과학기술연구원 | 알킬디클로로실란의 제조 방법 |
FR2848124B1 (fr) * | 2002-12-09 | 2006-03-10 | Rhodia Chimie Sa | Utilisation d'une composition comprenant cuivre, metal alcalin et phosphore comme systeme catalytique pour conduire la synthese directe d'alkylhalogenosilanes en attenuant la formation de coke |
FR2848211B1 (fr) * | 2002-12-09 | 2005-01-14 | Rhodia Chimie Sa | Procede et systeme catalytique comprenant un metal alcalin et du phosphore comme additifs promoteurs pour la synthese directe d'alkylhalogenosilanes |
US7205258B2 (en) * | 2003-06-26 | 2007-04-17 | Scm Metal Products, Inc. | Catalysts for the production of methylchlorosilanes using zinc oxide promoters |
EP3684778B1 (en) | 2017-09-20 | 2023-08-02 | Momentive Performance Materials Inc. | Integrated process for the manufacture of methylchlorohydridomonosilanes |
US11319335B2 (en) | 2018-09-07 | 2022-05-03 | Dow Silicones Corporation | Method for preparing hydrocarbylhydrocarbyloxysilanes |
WO2020050976A1 (en) | 2018-09-07 | 2020-03-12 | Dow Silicones Corporation | Method for preparing alkylalkoxysilanes |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2488487A (en) * | 1946-02-07 | 1949-11-15 | Dow Chemical Co | Production of alkyl silicon halides |
DE1177154B (de) * | 1956-12-26 | 1964-09-03 | Gen Electric | Verfahren zur Erhoehung des Gehaltes an Trialkylhalogensilanen und Tetraalkylsilanen in den bei der Umsetzung von niedermolekularen Alkylhalogeniden mit Silicium oder dessen Legierungen oder Mischungen mit Metallen in Gegenwart von Halogenwasserstoff entstehenden Alkylierungsprodukten |
GB1089726A (en) * | 1966-09-14 | 1967-11-08 | Nikolai Georgievich Morozov | Method of preparing methylchlorosilanes and methylhydrochlorosilanes |
SU455110A1 (ru) * | 1973-05-11 | 1974-12-30 | Предприятие П/Я Г-4236 | Способ получени этилхлорсиланов |
SU722914A1 (ru) * | 1974-12-08 | 1980-03-25 | Lobusevich Nina P | Способ получени алкилхлорсиланов |
US4500724A (en) * | 1983-07-28 | 1985-02-19 | General Electric Company | Method for making alkylhalosilanes |
US4602101A (en) * | 1985-11-12 | 1986-07-22 | Dow Corning Corporation | Method of manufacturing alkylhalosilanes |
-
1989
- 1989-08-03 US US07/389,135 patent/US4966986A/en not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-08-02 DE DE69019788T patent/DE69019788T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-08-02 EP EP90114894A patent/EP0411645B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-08-02 JP JP2204025A patent/JP2905578B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69019788T2 (de) | 1995-11-16 |
JP2905578B2 (ja) | 1999-06-14 |
DE69019788D1 (de) | 1995-07-06 |
US4966986A (en) | 1990-10-30 |
EP0411645B1 (en) | 1995-05-31 |
EP0411645A3 (en) | 1991-07-24 |
EP0411645A2 (en) | 1991-02-06 |
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Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080326 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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