JPH03136619A - 遠赤外線加熱調理方法及びその装置 - Google Patents
遠赤外線加熱調理方法及びその装置Info
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- JPH03136619A JPH03136619A JP1228640A JP22864089A JPH03136619A JP H03136619 A JPH03136619 A JP H03136619A JP 1228640 A JP1228640 A JP 1228640A JP 22864089 A JP22864089 A JP 22864089A JP H03136619 A JPH03136619 A JP H03136619A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は遠赤外線加熱調理方法及びその装置、具体的に
は、遠赤外線を熱源として炊飯、煮物、蒸し物、焼き物
その他の調理を行う方法及び装置に関する。
は、遠赤外線を熱源として炊飯、煮物、蒸し物、焼き物
その他の調理を行う方法及び装置に関する。
(従来の技術)
近年、遠赤外線特有の加熱効果が着目され、熱源として
遠赤外線ヒータを用いた遠赤外線オーブンや、遠赤外線
ヒータを併設した電子レンジなどが開発され、実用に供
されてきている。これらの調理器では、棒状、リング状
あるいは板状の遠赤外線ヒータを調理器のオーブン室の
上下に配設し、オーブン室内の金網状あるいは格子状の
支持台上に被調理物を直接あるいは皿を介して載せ、上
下から遠赤外線を放射して加熱調理するようにしたもの
が多い。
遠赤外線ヒータを用いた遠赤外線オーブンや、遠赤外線
ヒータを併設した電子レンジなどが開発され、実用に供
されてきている。これらの調理器では、棒状、リング状
あるいは板状の遠赤外線ヒータを調理器のオーブン室の
上下に配設し、オーブン室内の金網状あるいは格子状の
支持台上に被調理物を直接あるいは皿を介して載せ、上
下から遠赤外線を放射して加熱調理するようにしたもの
が多い。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、これらの遠赤外線調理器では、加熱むら
を生じ易く、しかも、オーブン室の雰囲気温度を200
’C以上の高温に高めて使用するようにしであるため、
伝統的な熱気型オーブンと同様な加熱となって、遠赤外
線特有の加熱効果が十分に生かされず、また、調理する
際に被調理物の一部の飛散あるいは吹きこぼれによりオ
ーブン室内部が汚れ易く、しかも被調理物の重量減少が
多(、調理時間が長いという問題があった。
を生じ易く、しかも、オーブン室の雰囲気温度を200
’C以上の高温に高めて使用するようにしであるため、
伝統的な熱気型オーブンと同様な加熱となって、遠赤外
線特有の加熱効果が十分に生かされず、また、調理する
際に被調理物の一部の飛散あるいは吹きこぼれによりオ
ーブン室内部が汚れ易く、しかも被調理物の重量減少が
多(、調理時間が長いという問題があった。
従って、本発明は、より効果的に遠赤外線を利用して、
調理物の重量減少や調理器内部の汚れを防止すると共に
、調理時間の短縮化を図ることを技術的課題とするもの
である。
調理物の重量減少や調理器内部の汚れを防止すると共に
、調理時間の短縮化を図ることを技術的課題とするもの
である。
(課題を解決するための手段)
本発明は、前記課題を解決するための手段として、基本
的には、少なくとも3μより長波長の赤外線の大部分を
吸収する材料で形成された容器本体と蓋とからなる調理
容器に被調理物を収納し、前記調理容器全体に赤外線を
所定時間照射した後、該調理容器を放置して該調理容器
の二次放射により加熱させるようにしたものである。
的には、少なくとも3μより長波長の赤外線の大部分を
吸収する材料で形成された容器本体と蓋とからなる調理
容器に被調理物を収納し、前記調理容器全体に赤外線を
所定時間照射した後、該調理容器を放置して該調理容器
の二次放射により加熱させるようにしたものである。
前記調理容器としては、少な(とも3μより長波長の赤
外線を大部分吸収する材料が好適であるが、具体的には
、3μよりも長波長の赤外線の全部もしくは大部分を吸
収し、それよりも短波長の赤外線の一部若しくは大部分
を透過させる材料、例えば、ホウロウ、ガラス、あるい
は3μよりも長波長の赤外線の全部若しくは大部分を吸
収するのみならず、近赤外線をも吸収する材料、例えば
、陶磁器、セラミックスなどで形成されたものが好適で
ある。調理容器か吸収する波長域は必ずしも臨界的では
なく、例えば、蓋と容器本体が耐熱ガラスで形成された
調理容器の場合、3μより短波長の赤外線は80〜90
%調理容器を透過してその内部の被調理物の加熱に直接
寄与するが、3μより長波長領域の赤外線はほぼ100
%調理容器に吸収されて、調理容器自体を加熱するのに
寄与する。この場合、被調理物は調理容器が十分に加熱
されたあとは該調理容器からの二次放射及び熱伝導によ
っても加熱される。また、蓋と容器本体が陶磁器やセラ
ミックスで形成されている場合、吸収する波長域は個々
の材料によって幾分異なるが、−船釣には、近赤外線か
ら遠赤外線に至る全波長域の赤外線の大部分が調理容器
に吸収されて調理容器自体を加熱し、その調理容器から
の二次放射と熱伝導により被調理物が均等に、かつ、速
やかに加熱される。
外線を大部分吸収する材料が好適であるが、具体的には
、3μよりも長波長の赤外線の全部もしくは大部分を吸
収し、それよりも短波長の赤外線の一部若しくは大部分
を透過させる材料、例えば、ホウロウ、ガラス、あるい
は3μよりも長波長の赤外線の全部若しくは大部分を吸
収するのみならず、近赤外線をも吸収する材料、例えば
、陶磁器、セラミックスなどで形成されたものが好適で
ある。調理容器か吸収する波長域は必ずしも臨界的では
なく、例えば、蓋と容器本体が耐熱ガラスで形成された
調理容器の場合、3μより短波長の赤外線は80〜90
%調理容器を透過してその内部の被調理物の加熱に直接
寄与するが、3μより長波長領域の赤外線はほぼ100
%調理容器に吸収されて、調理容器自体を加熱するのに
寄与する。この場合、被調理物は調理容器が十分に加熱
されたあとは該調理容器からの二次放射及び熱伝導によ
っても加熱される。また、蓋と容器本体が陶磁器やセラ
ミックスで形成されている場合、吸収する波長域は個々
の材料によって幾分異なるが、−船釣には、近赤外線か
ら遠赤外線に至る全波長域の赤外線の大部分が調理容器
に吸収されて調理容器自体を加熱し、その調理容器から
の二次放射と熱伝導により被調理物が均等に、かつ、速
やかに加熱される。
なお、容器本体および蓋は、必ずしも同じ材質である必
要はなく、前記材料の組み合わせ、例えば、容器本体を
ホウロウ製とし、蓋をガラス製としても良い。また、調
理容器は、蓋と容器本体のそれぞれ温度をできるだけ均
一化するために、つまみや取っ手等がないほうが良(、
つまみや取っ手を設ける場合には、その寸法をできるだ
け小さなものにするか、あるいは、その材質を近赤外線
をも透過させる材料で形成するのが好ましい。
要はなく、前記材料の組み合わせ、例えば、容器本体を
ホウロウ製とし、蓋をガラス製としても良い。また、調
理容器は、蓋と容器本体のそれぞれ温度をできるだけ均
一化するために、つまみや取っ手等がないほうが良(、
つまみや取っ手を設ける場合には、その寸法をできるだ
け小さなものにするか、あるいは、その材質を近赤外線
をも透過させる材料で形成するのが好ましい。
また、蓋の温度上昇およびその温度を高めるため、容器
本体と蓋との間にアルミニウムフォイル、ステンレス鋼
製プレート等の金属製反射体を配設しても良く、また、
蓋の内壁面にアルミニウムなどp金属箔を張り付けたり
、金属蒸着膜その他の薄膜を形成しても良い。この場合
、遠赤外線ヒータへの通電を停止した際、蓋からの放射
エネルギーを活用するため、金属製反射体を蓋から外せ
るようにするのが望ましい。
本体と蓋との間にアルミニウムフォイル、ステンレス鋼
製プレート等の金属製反射体を配設しても良く、また、
蓋の内壁面にアルミニウムなどp金属箔を張り付けたり
、金属蒸着膜その他の薄膜を形成しても良い。この場合
、遠赤外線ヒータへの通電を停止した際、蓋からの放射
エネルギーを活用するため、金属製反射体を蓋から外せ
るようにするのが望ましい。
前記調理容器に赤外線を照射する時間は、調理容器およ
び調理物の種類によって異なるため一義的には定まらな
いが、調理が完了する近傍で調理容器や内部空間の温度
の上昇が一時的に緩やかになったり、平衡状態になった
り、あるいは温度が低下する現象を生じることから、こ
の現象が起こるまでの時間あるいは、必要に応じて、そ
の現象が生じた後、短時間経過するまでの時間が好適で
ある。
び調理物の種類によって異なるため一義的には定まらな
いが、調理が完了する近傍で調理容器や内部空間の温度
の上昇が一時的に緩やかになったり、平衡状態になった
り、あるいは温度が低下する現象を生じることから、こ
の現象が起こるまでの時間あるいは、必要に応じて、そ
の現象が生じた後、短時間経過するまでの時間が好適で
ある。
前記現象が生じる温度は、調理の種類によってほぼ一定
し、例えば、シチュー、おかゆ、炊飯、蒸し物、水蒸気
などのように水を使用する調理の場合でも、また、焼き
魚、ローストチキン、ベークドポテトなどのように水を
使用しない調理の場合でも、被調理物の一部または大部
分の温度がほぼ100℃に達したときに生じる。従って
、赤外線を照射する時間を設定する代わりに、前記現象
が起こる部位、例えば、容器本体の側壁、底壁もしくは
蓋の温度を微小時間毎に検出し、各検出温度を前回の検
出温度とを比較してその差が一定値以下になった時、あ
るいは検出温度と前回の検出温度から単位時間当たりの
温度上昇率を演算して、その温度上昇率が微小、零もし
くは負になった時、又はその時から微小時間経過した後
、赤外線の照射を停止させるようにしても良い。
し、例えば、シチュー、おかゆ、炊飯、蒸し物、水蒸気
などのように水を使用する調理の場合でも、また、焼き
魚、ローストチキン、ベークドポテトなどのように水を
使用しない調理の場合でも、被調理物の一部または大部
分の温度がほぼ100℃に達したときに生じる。従って
、赤外線を照射する時間を設定する代わりに、前記現象
が起こる部位、例えば、容器本体の側壁、底壁もしくは
蓋の温度を微小時間毎に検出し、各検出温度を前回の検
出温度とを比較してその差が一定値以下になった時、あ
るいは検出温度と前回の検出温度から単位時間当たりの
温度上昇率を演算して、その温度上昇率が微小、零もし
くは負になった時、又はその時から微小時間経過した後
、赤外線の照射を停止させるようにしても良い。
また、赤外線を照射後、調理容器をそのままの状態で放
置する時間は、任意に設定すればよいが、調理の種類を
問わず5〜15分程度あれば十分である。この調理容器
を放置している間、調理容器に蓄積されたエネルギー、
即ち、調理容器からの二次放射および熱伝導によって加
熱調理が続行される。
置する時間は、任意に設定すればよいが、調理の種類を
問わず5〜15分程度あれば十分である。この調理容器
を放置している間、調理容器に蓄積されたエネルギー、
即ち、調理容器からの二次放射および熱伝導によって加
熱調理が続行される。
前記遠赤外線加熱調理方法は、例えば、開閉可能な扉と
、内部空間内に対向して配設された遠赤外線ヒータとを
備え、前記内部空間を形成する壁面に遠赤外線放射材料
からなる遠赤外線放射層を有する装、異本体と、該装置
本体の内部空間内に挿脱自在に配置される調理容器とか
らなり、該調理容器の少なくとも外壁面が少なくとも3
μより長波長の赤外線の大部分を吸収する材料で形成さ
れた容器本体と蓋とで構成されていることを特徴とする
遠赤外線調理装置を用いて実施できる。
、内部空間内に対向して配設された遠赤外線ヒータとを
備え、前記内部空間を形成する壁面に遠赤外線放射材料
からなる遠赤外線放射層を有する装、異本体と、該装置
本体の内部空間内に挿脱自在に配置される調理容器とか
らなり、該調理容器の少なくとも外壁面が少なくとも3
μより長波長の赤外線の大部分を吸収する材料で形成さ
れた容器本体と蓋とで構成されていることを特徴とする
遠赤外線調理装置を用いて実施できる。
また、遠赤外線ヒータを制御する手段として、前記調理
容器の容器本体の側壁、底壁、蓋の温度若しくは装置本
体の内部空間の雰囲気温度を検出する温度センサーと、
遠赤外線ヒータへの通電を停止させる基準温度を設定す
る基準温度設定手段と、前記温度センサーの検出温度と
前記基準温度を比較し、検出温度が基準温度以上に達し
た時もしくはその時から所定時間経過後、遠赤外線ヒー
タの駆動回路を停止させる信号を出力する比較手段とか
らなる制御装置を設けるのが好ましい。この制御装置は
、個々の電子部品でも構成しても良く、マイクロコンピ
ュータを用いて構成しても良い。また、温度センサーと
しては、熱電対、サーミスタ、焦電型温度センサーその
他任意の接触式若しくは非接触式温度センサーを採用し
得る。
容器の容器本体の側壁、底壁、蓋の温度若しくは装置本
体の内部空間の雰囲気温度を検出する温度センサーと、
遠赤外線ヒータへの通電を停止させる基準温度を設定す
る基準温度設定手段と、前記温度センサーの検出温度と
前記基準温度を比較し、検出温度が基準温度以上に達し
た時もしくはその時から所定時間経過後、遠赤外線ヒー
タの駆動回路を停止させる信号を出力する比較手段とか
らなる制御装置を設けるのが好ましい。この制御装置は
、個々の電子部品でも構成しても良く、マイクロコンピ
ュータを用いて構成しても良い。また、温度センサーと
しては、熱電対、サーミスタ、焦電型温度センサーその
他任意の接触式若しくは非接触式温度センサーを採用し
得る。
加熱効率を高めるためには、遠赤外線ヒータは、約2.
5μより長波長の赤外線を多く放射し、それより短波長
の赤外線の放射ができる限り抑制されるように制御する
のが望ましい。このため、遠赤外線ヒータは、その動作
温度をピーク波長が3.5〜8.5μ、好ましくは、4
.5〜6.5μの範囲になるように制御するのが好適で
ある。この動作温度は、通常、その表面温度が約57〜
530℃、好ましくは、150〜350℃になるように
設定される。
5μより長波長の赤外線を多く放射し、それより短波長
の赤外線の放射ができる限り抑制されるように制御する
のが望ましい。このため、遠赤外線ヒータは、その動作
温度をピーク波長が3.5〜8.5μ、好ましくは、4
.5〜6.5μの範囲になるように制御するのが好適で
ある。この動作温度は、通常、その表面温度が約57〜
530℃、好ましくは、150〜350℃になるように
設定される。
また、被照射物である調理容器の表面から見た放射面の
広がりか大きくなるように、前記波長域にピークを有す
る赤外線を調理容器の全体に照射するのか望ましい。こ
のためには、熱源として被照射物である調理容器の表面
が放射面と相対するように放射面積の大きな遠赤外線ヒ
ータ、板状若しくは面状の形態のものを使用し、例えば
、調理容器を包囲する装置本体の内壁面全体を遠赤外線
ヒータで構成するのが望ましい。また、装置の製造コス
トの低減化を図るため、装置本体の内部空間を形成する
壁面全体を遠赤外線ヒータで構成する代わりに、装置本
体の上下内壁面に沿って板状若しくは面状遠赤外線ヒー
タを配設する一方、その壁面全体に遠赤外線放射材料か
らなる遠赤外線放射層を形成し、前記遠赤外線ヒータか
らの放射エネルギーと遠赤外線放射層からの二次放射と
で調理容器全体を加熱するようにしても良い。
広がりか大きくなるように、前記波長域にピークを有す
る赤外線を調理容器の全体に照射するのか望ましい。こ
のためには、熱源として被照射物である調理容器の表面
が放射面と相対するように放射面積の大きな遠赤外線ヒ
ータ、板状若しくは面状の形態のものを使用し、例えば
、調理容器を包囲する装置本体の内壁面全体を遠赤外線
ヒータで構成するのが望ましい。また、装置の製造コス
トの低減化を図るため、装置本体の内部空間を形成する
壁面全体を遠赤外線ヒータで構成する代わりに、装置本
体の上下内壁面に沿って板状若しくは面状遠赤外線ヒー
タを配設する一方、その壁面全体に遠赤外線放射材料か
らなる遠赤外線放射層を形成し、前記遠赤外線ヒータか
らの放射エネルギーと遠赤外線放射層からの二次放射と
で調理容器全体を加熱するようにしても良い。
また、遠赤外線特有の加熱効果を十分に発揮させるため
には、ある程度以上のエネルギーを調理容器に供給する
必要があるが、電源として100Vの商用電源を使用す
るときのように最大消費電力に制限を受ける場合には、
上下ヒータを同時に使用できず、また消費電力に制限を
受けない場合でも上下ヒータを同時に使用すると、無駄
な消費電力が増大することから、装置本体の相対する内
壁面、例えば、上下または左右の内壁面に沿って板状若
しくは面状遠赤外線ヒータを配設し、両ヒータから交互
に照射するのが好ましい。この場合、装置本体の内壁面
全体に遠赤外線放射材料からなる遠赤外線放射層を形成
するの好適である。なお、装置本体の内部空間は、必ず
しも立方体や直方体である必要はなく、球状、ドーム状
その他任意の形態を採用し得る。
には、ある程度以上のエネルギーを調理容器に供給する
必要があるが、電源として100Vの商用電源を使用す
るときのように最大消費電力に制限を受ける場合には、
上下ヒータを同時に使用できず、また消費電力に制限を
受けない場合でも上下ヒータを同時に使用すると、無駄
な消費電力が増大することから、装置本体の相対する内
壁面、例えば、上下または左右の内壁面に沿って板状若
しくは面状遠赤外線ヒータを配設し、両ヒータから交互
に照射するのが好ましい。この場合、装置本体の内壁面
全体に遠赤外線放射材料からなる遠赤外線放射層を形成
するの好適である。なお、装置本体の内部空間は、必ず
しも立方体や直方体である必要はなく、球状、ドーム状
その他任意の形態を採用し得る。
(作用)
本発明方法において、調理容器に被調理物を入れて蓋を
し、調理容器を、例えば、その上下に位置する遠赤外線
ヒータからの距離がほぼ等しくなるように配置し、遠赤
外線ヒータに通電すると、調理容器に赤外線が照射され
る。調理容器は、加熱初期の間、遠赤外線ヒータからの
放射エネルギーだけで加熱されるが、時間の経過と共に
放射エネルギーにより装置本体の内壁面の遠赤外線放射
層が加熱されて昇温し、それから除々に二次放射が起こ
り始めるため、遠赤外線ヒータからの放射エネルギーと
遠赤外線放射層からの二次放射によるエネルギーとて加
熱され、従って、調理容器は上下方向からだけでな(横
方向からも遠赤外線を受けることになり、全体が加熱さ
れる。
し、調理容器を、例えば、その上下に位置する遠赤外線
ヒータからの距離がほぼ等しくなるように配置し、遠赤
外線ヒータに通電すると、調理容器に赤外線が照射され
る。調理容器は、加熱初期の間、遠赤外線ヒータからの
放射エネルギーだけで加熱されるが、時間の経過と共に
放射エネルギーにより装置本体の内壁面の遠赤外線放射
層が加熱されて昇温し、それから除々に二次放射が起こ
り始めるため、遠赤外線ヒータからの放射エネルギーと
遠赤外線放射層からの二次放射によるエネルギーとて加
熱され、従って、調理容器は上下方向からだけでな(横
方向からも遠赤外線を受けることになり、全体が加熱さ
れる。
加熱初期には、ヒータの放射エネルギーのうち、3μ±
1μよりも長波長(例えば、調理容器が耐熱カラス製で
ある場合、4μ以上)の赤外線の大部分は、調理容器に
吸収され内部の被調理物の加熱に直接寄与しないが、そ
れよりも短波長の赤外線の大部分(前記耐熱ガラスでは
、3μ未満の大部分及び3〜4μの一部)は調理容器自
体を透過して内部の被調理物を加熱し、その温度を上昇
させる。そのため、容器本体及び蓋の温度は時間の経過
と共に上昇し、150°Cを超えるようになり、特に、
蓋の温度はヒータ温度以上に上昇し、内部の被調理物を
均一に加熱する。 被調理物の調理が完了する頃になる
と、その近傍で微小時間たけ調理容器の温度上昇が緩や
かになったり、その温度が平衡状態になったり、あるい
はその温度が低下する現象が生じる。この現象は、装置
本体の内部空間の雰囲気でも起こり、しかも、調理容器
か密閉された状態、即ち、調理容器の内部と装置本体の
内部空間との間に物質の移動、例えば、水蒸気の出入り
が無い状態でも起こる。このような現象が生じる理由は
、調理の種類を問わず、被調理物の一部若しくは全部の
温度が100℃に達する時に生じることから、被調理物
に含まれる水分か蒸発するときに調理容器等から吸収す
る熱量(蒸発熱)が急激に増大するためであると推測さ
れる。
1μよりも長波長(例えば、調理容器が耐熱カラス製で
ある場合、4μ以上)の赤外線の大部分は、調理容器に
吸収され内部の被調理物の加熱に直接寄与しないが、そ
れよりも短波長の赤外線の大部分(前記耐熱ガラスでは
、3μ未満の大部分及び3〜4μの一部)は調理容器自
体を透過して内部の被調理物を加熱し、その温度を上昇
させる。そのため、容器本体及び蓋の温度は時間の経過
と共に上昇し、150°Cを超えるようになり、特に、
蓋の温度はヒータ温度以上に上昇し、内部の被調理物を
均一に加熱する。 被調理物の調理が完了する頃になる
と、その近傍で微小時間たけ調理容器の温度上昇が緩や
かになったり、その温度が平衡状態になったり、あるい
はその温度が低下する現象が生じる。この現象は、装置
本体の内部空間の雰囲気でも起こり、しかも、調理容器
か密閉された状態、即ち、調理容器の内部と装置本体の
内部空間との間に物質の移動、例えば、水蒸気の出入り
が無い状態でも起こる。このような現象が生じる理由は
、調理の種類を問わず、被調理物の一部若しくは全部の
温度が100℃に達する時に生じることから、被調理物
に含まれる水分か蒸発するときに調理容器等から吸収す
る熱量(蒸発熱)が急激に増大するためであると推測さ
れる。
従って、調理容器の温度上昇が緩やかになったり、ある
いはその温度か平衡状態になったり、低下する現象が温
度センサーを介して検出された時若しくは、必要に応じ
て、その現象が検出されてから所定時間経過した後、制
御装置により遠赤外線ヒータへの通電を停止してそのま
まの状態で所定時間放置しておくと、調理容器はその温
度が著しく高いため、それ自体がオーブンとして機能し
、それ以上外部から熱を加えなくても、調理容器からの
二次放射により被調理物の加熱が続行され、調理が完結
する。
いはその温度か平衡状態になったり、低下する現象が温
度センサーを介して検出された時若しくは、必要に応じ
て、その現象が検出されてから所定時間経過した後、制
御装置により遠赤外線ヒータへの通電を停止してそのま
まの状態で所定時間放置しておくと、調理容器はその温
度が著しく高いため、それ自体がオーブンとして機能し
、それ以上外部から熱を加えなくても、調理容器からの
二次放射により被調理物の加熱が続行され、調理が完結
する。
また、調理容器自体およびその中の被調理物が調理容器
均一に加熱され、また、均一に昇温するため、調理容器
の内部に水が多量に存在していても、液体の諷度差に起
因する対流が発生せず、また、局部的な熱衝撃等に起因
する沸騰時の泡立ちが発生することもなく、調理容器が
密閉されていな(でも吹きこぼれが防止される。
均一に加熱され、また、均一に昇温するため、調理容器
の内部に水が多量に存在していても、液体の諷度差に起
因する対流が発生せず、また、局部的な熱衝撃等に起因
する沸騰時の泡立ちが発生することもなく、調理容器が
密閉されていな(でも吹きこぼれが防止される。
さらに、食品に対する遠赤外線の浸透深度は、放射エネ
ルギーの大きさ、波長、食品の吸収特性等によって異な
り、−船釣には約2111111程度であるため内部ま
で熱が浸透しないとされているが、実際には遠赤外線に
よる加熱では、雰囲気温度が百数十度以下と従来の熱気
型オーブンの庫内温度に比べて50〜200℃も低く、
調理容器内の相対湿度が高く維持されるため、被調理物
の表面から奪われる水分の量が極めて少な(、このため
、被調理物内部への熱の取り込みが輻射および熱伝導に
よってスムーズに行なわれ、結果として、被調理物の内
部への熱の深い浸透が起こり、短時間で調理が完了する
。特に、本発明方法においては、被調理物が小容量のほ
ぼ閉じた系に置かれているため、雰囲気の相対湿度が高
(維持されることと被調理物の均一な加熱が行われるこ
ととが相俟って、被調理物内部への熱の浸透が促進され
る。
ルギーの大きさ、波長、食品の吸収特性等によって異な
り、−船釣には約2111111程度であるため内部ま
で熱が浸透しないとされているが、実際には遠赤外線に
よる加熱では、雰囲気温度が百数十度以下と従来の熱気
型オーブンの庫内温度に比べて50〜200℃も低く、
調理容器内の相対湿度が高く維持されるため、被調理物
の表面から奪われる水分の量が極めて少な(、このため
、被調理物内部への熱の取り込みが輻射および熱伝導に
よってスムーズに行なわれ、結果として、被調理物の内
部への熱の深い浸透が起こり、短時間で調理が完了する
。特に、本発明方法においては、被調理物が小容量のほ
ぼ閉じた系に置かれているため、雰囲気の相対湿度が高
(維持されることと被調理物の均一な加熱が行われるこ
ととが相俟って、被調理物内部への熱の浸透が促進され
る。
ちなみに、熱気型オーブンでは、例えば、庫内温度が1
80℃であり、その温度での飽和水蒸気圧が75201
11mHgで、本発明の調理容器の内部温度、例えば、
120℃での飽和水蒸気圧1489ma+Hgに比べて
5倍以上と高いため、被調理物の表面が高温の乾燥した
空気にさらされて表面から水分が奪われるため、被調理
物の表面が水分のない断熱皮膜で覆われる状態になり、
熱の取り込みが悪(なり調理に時間がかかることになる
。
80℃であり、その温度での飽和水蒸気圧が75201
11mHgで、本発明の調理容器の内部温度、例えば、
120℃での飽和水蒸気圧1489ma+Hgに比べて
5倍以上と高いため、被調理物の表面が高温の乾燥した
空気にさらされて表面から水分が奪われるため、被調理
物の表面が水分のない断熱皮膜で覆われる状態になり、
熱の取り込みが悪(なり調理に時間がかかることになる
。
以下、添付の図面を参照して本発明の実施例について説
明する。
明する。
(実施例)
第1図〜第3図は、本発明に係る遠赤外線加熱調理方法
を実施するのに使用する遠赤外線加熱調理器を示し、基
本的には、装置本体1と調理容器11とから構成される
装置本体lは、開閉可能な扉2と、内部空間3内に相対
して配設された遠赤外線ヒータ4 A、 4 B、 5
とを備え、その内部空間3を形成する壁面全体に遠赤外
線放射材料を含有してなる遠赤外線放射層6が形成され
ている。また、装置本体l内には、その両側壁にガイド
溝8が設けられ、各ガイド溝8には支持部材9が摺動可
能に装着され、これに調理容器11を載せるための格子
状のトレー10が配設され、扉の開閉に応じて進退可能
にしである。
を実施するのに使用する遠赤外線加熱調理器を示し、基
本的には、装置本体1と調理容器11とから構成される
装置本体lは、開閉可能な扉2と、内部空間3内に相対
して配設された遠赤外線ヒータ4 A、 4 B、 5
とを備え、その内部空間3を形成する壁面全体に遠赤外
線放射材料を含有してなる遠赤外線放射層6が形成され
ている。また、装置本体l内には、その両側壁にガイド
溝8が設けられ、各ガイド溝8には支持部材9が摺動可
能に装着され、これに調理容器11を載せるための格子
状のトレー10が配設され、扉の開閉に応じて進退可能
にしである。
調理容器11は、3μより長波長の遠赤外線の吸収率が
高く、それより短波長の赤外線の吸収率の低い材料で表
面を被覆された容器、例えば、ホウロウ製の容器本体1
2と蓋13とで構成され、トレー10に搭載した際に、
上下ヒータ4 A、 4 B。
高く、それより短波長の赤外線の吸収率の低い材料で表
面を被覆された容器、例えば、ホウロウ製の容器本体1
2と蓋13とで構成され、トレー10に搭載した際に、
上下ヒータ4 A、 4 B。
5間のほぼ中央に位置するように形成されている(第3
図参照)。
図参照)。
遠赤外線ヒータ4A、4B、5は、第2図に示すように
、内部空間を形成する上下の壁面にそって配設されてい
る。上部ヒータは天井壁の略中央部に配置された中央ヒ
ータ4Aと、それを包囲して配設された外周ヒータ4B
とに二分され、下部ヒータ5は外周ヒータ4Bと同じ外
形を有し、該外周ヒータ4Bに対応して配設されている
。
、内部空間を形成する上下の壁面にそって配設されてい
る。上部ヒータは天井壁の略中央部に配置された中央ヒ
ータ4Aと、それを包囲して配設された外周ヒータ4B
とに二分され、下部ヒータ5は外周ヒータ4Bと同じ外
形を有し、該外周ヒータ4Bに対応して配設されている
。
また、装置本体1は、遠赤外線ヒータ4 A、 4 B
。
。
5への通電およびその温度を制御するための制御装置2
0を備え、この制御装置20は、第4図に示すように、
遠赤外線ヒータ4A、4B、5の各温度を検出する温度
センサー21.22と、調理容器lOの側壁若しくは底
壁に当接してその温度を検出する温度センサー23と、
操作パネル25に配設された外部タイマー30、調理の
種類をセットするスイッチSW1〜SW3および各温度
センサーからの信号に基づき、予め設定されたプログラ
ムに従って遠赤外線ヒータ4A、4B、5を制御するマ
イクロコンピュータ26と、該マイクロコンビュータ2
6からの信号により遠赤外線ヒータ4A、4B、5を駆
動するドライバ27とで構成されている。
0を備え、この制御装置20は、第4図に示すように、
遠赤外線ヒータ4A、4B、5の各温度を検出する温度
センサー21.22と、調理容器lOの側壁若しくは底
壁に当接してその温度を検出する温度センサー23と、
操作パネル25に配設された外部タイマー30、調理の
種類をセットするスイッチSW1〜SW3および各温度
センサーからの信号に基づき、予め設定されたプログラ
ムに従って遠赤外線ヒータ4A、4B、5を制御するマ
イクロコンピュータ26と、該マイクロコンビュータ2
6からの信号により遠赤外線ヒータ4A、4B、5を駆
動するドライバ27とで構成されている。
マイクロコンピュータ26は、例えば、第5図に示すよ
うに、ヒータの基準温度を設定するヒータ基準温度設定
手段31A、31Bと、ヒータ温度検出用温度センサー
21.22の検出温度と前記ヒータ基準温度とを比較し
てヒータを駆動する信号を出力する比較手段32A、3
2Bと、一定の周期で信号を出力するタイマー回路33
と、該タイマー回路からの信号を受けて駆動すべきヒー
タを選択し、上部ヒータ4A、4B又は下部ヒータ5の
駆動回路35.36を作動させる信号を出力する切換手
段34と、加熱完了時の調理容器の基準温度を設定する
調理容器基準温度設定手段38と、調理容器温度検出用
温度センサー23の検出温度と調理容器基準温度とを比
較し、検出温度が調理容器基準温度以上に到達したとき
電源を遮断する信号を出力する比較手段39とを構成し
ている。なお、ヒータ基準温度および調理容器基準温度
は、調理の種類に応じて何種類かマイクロコンピュータ
26のメモリに書き込まれ、スイッチSw1.sw2に
より選択される。
うに、ヒータの基準温度を設定するヒータ基準温度設定
手段31A、31Bと、ヒータ温度検出用温度センサー
21.22の検出温度と前記ヒータ基準温度とを比較し
てヒータを駆動する信号を出力する比較手段32A、3
2Bと、一定の周期で信号を出力するタイマー回路33
と、該タイマー回路からの信号を受けて駆動すべきヒー
タを選択し、上部ヒータ4A、4B又は下部ヒータ5の
駆動回路35.36を作動させる信号を出力する切換手
段34と、加熱完了時の調理容器の基準温度を設定する
調理容器基準温度設定手段38と、調理容器温度検出用
温度センサー23の検出温度と調理容器基準温度とを比
較し、検出温度が調理容器基準温度以上に到達したとき
電源を遮断する信号を出力する比較手段39とを構成し
ている。なお、ヒータ基準温度および調理容器基準温度
は、調理の種類に応じて何種類かマイクロコンピュータ
26のメモリに書き込まれ、スイッチSw1.sw2に
より選択される。
図中、R及びR1−R9は抵抗、28は時間その他の情
報を表示する表示素子、40はゼロクロスパルス発生回
路である。
報を表示する表示素子、40はゼロクロスパルス発生回
路である。
前記構成の遠赤外線加熱調理器を使用する場合、容器本
体12に被調理物を入れて蓋13をした後、調理容器1
1を装置本体1内にセットし、スイッチSW1を押すと
、調理容器温度検出用温度センサー23の検出温度が基
準温度設定手段38の基準温度よりも低いため電源開閉
手段37により電源がオンされる。他方、温度センサー
21.22で検出される上部ヒータ4A、4Bおよび下
部ヒータ5の温度が基準温度よりも低いため、比較手段
32Δ、32Bからヒータを駆動する信号が出力される
が、タイマー回路からの信号を受けて切換手段34が一
方の駆動回路35と他方の駆動回路36とを所定時間毎
に選択して作動させるという動作を繰り返すため、上部
ヒータ4 A、 4 Bと下部ヒータ5は所定の周期で
交互に通電され、加熱が開始される。この遠赤外線ヒー
タに通電する周期は、例えば、上部ヒータ4A、4Bを
8秒オンさせた後、下部ヒータを12秒オンさせるのを
1周期として設定され、ヒータ温度がヒータ基準温度設
定手段31A、31Bにより設定された温度、例えば、
300’Cに達したあとは、ヒータは温度センサー21
.22の検出温度に応じてオン−オフ制御される。
体12に被調理物を入れて蓋13をした後、調理容器1
1を装置本体1内にセットし、スイッチSW1を押すと
、調理容器温度検出用温度センサー23の検出温度が基
準温度設定手段38の基準温度よりも低いため電源開閉
手段37により電源がオンされる。他方、温度センサー
21.22で検出される上部ヒータ4A、4Bおよび下
部ヒータ5の温度が基準温度よりも低いため、比較手段
32Δ、32Bからヒータを駆動する信号が出力される
が、タイマー回路からの信号を受けて切換手段34が一
方の駆動回路35と他方の駆動回路36とを所定時間毎
に選択して作動させるという動作を繰り返すため、上部
ヒータ4 A、 4 Bと下部ヒータ5は所定の周期で
交互に通電され、加熱が開始される。この遠赤外線ヒー
タに通電する周期は、例えば、上部ヒータ4A、4Bを
8秒オンさせた後、下部ヒータを12秒オンさせるのを
1周期として設定され、ヒータ温度がヒータ基準温度設
定手段31A、31Bにより設定された温度、例えば、
300’Cに達したあとは、ヒータは温度センサー21
.22の検出温度に応じてオン−オフ制御される。
調理容器11は、遠赤外線ヒータからの放射エネルギー
および装置本体の内壁からの二次放射エネルギーを受け
て、普通赤外線およびそれより長波長の遠赤外線、場合
によっては、そらに近赤外線を吸収して昇温し、10〜
15分で200°C以上に達し、調理容器自体が熱源と
なって二次放射および熱伝導によりその内部の被調理物
を加熱する一方、遠赤外線ヒータ停止後の被調理物に必
要かつ十分な熱を持つ効率の良いオーブンとなり、その
内部の被調理物に普通赤外線および遠赤外線を放射する
。
および装置本体の内壁からの二次放射エネルギーを受け
て、普通赤外線およびそれより長波長の遠赤外線、場合
によっては、そらに近赤外線を吸収して昇温し、10〜
15分で200°C以上に達し、調理容器自体が熱源と
なって二次放射および熱伝導によりその内部の被調理物
を加熱する一方、遠赤外線ヒータ停止後の被調理物に必
要かつ十分な熱を持つ効率の良いオーブンとなり、その
内部の被調理物に普通赤外線および遠赤外線を放射する
。
被調理物は、調理容器11を透過してくる短波長の赤外
線と、調理容器からの二次放射および熱伝導により加熱
される。被調理物の調理が完了するころになると、温度
センサー23の検出温度が調理容器の基準温度に達する
ため、比較手段からの信号を受けて駆動手段がオフされ
、電源かオフされる。この状態でそのまま所定時間放置
しておけば、調理が完了する。
線と、調理容器からの二次放射および熱伝導により加熱
される。被調理物の調理が完了するころになると、温度
センサー23の検出温度が調理容器の基準温度に達する
ため、比較手段からの信号を受けて駆動手段がオフされ
、電源かオフされる。この状態でそのまま所定時間放置
しておけば、調理が完了する。
なお、前記実施例では調理容器の検出温度と基準温度が
等しくなったときを検出して遠赤外線ヒータへの通電を
停止させているが、単位時間当たりの容器本体の側壁若
しくは底壁の温度の変化率を演算し、該温度変化率が零
若しくはそれに近いある設定値以下になった時、ヒータ
への通電を停止させるようにしても良く、また、外部タ
イマー30でオフさせる時間を設定して、その時間経過
後にオフさせるようにしても良い。
等しくなったときを検出して遠赤外線ヒータへの通電を
停止させているが、単位時間当たりの容器本体の側壁若
しくは底壁の温度の変化率を演算し、該温度変化率が零
若しくはそれに近いある設定値以下になった時、ヒータ
への通電を停止させるようにしても良く、また、外部タ
イマー30でオフさせる時間を設定して、その時間経過
後にオフさせるようにしても良い。
また、こげめを付ける必要などがある場合、調理容器の
温度が設定値に達したとき、あるいは調理容器の温度の
変化率が零若しくはそれに近い値になったのを検出して
から所定時間経過したのち、ヒータへの通電を停止させ
るようにしても良い。
温度が設定値に達したとき、あるいは調理容器の温度の
変化率が零若しくはそれに近い値になったのを検出して
から所定時間経過したのち、ヒータへの通電を停止させ
るようにしても良い。
ちなみに、上部ヒータ4A、4Bの定格消費電力を各6
00W、下部ヒータ5を1200Wとし、米2カップ、
水2.4力、プを入れて遠赤外線加熱した場合の遠赤外
線ヒータ4 A、 4 B、 5、調理物およびホウロ
ウ製蓋の温度変化は第6図に示す通りであり、10〜1
5分の間に調理容器の蓋の温度は遠赤外線ヒータの表面
温度より高くなり、その内部温度も均一に上昇する。な
お、この時の装置本体の内部空間の雰囲気温度は容器温
度よりも低い。
00W、下部ヒータ5を1200Wとし、米2カップ、
水2.4力、プを入れて遠赤外線加熱した場合の遠赤外
線ヒータ4 A、 4 B、 5、調理物およびホウロ
ウ製蓋の温度変化は第6図に示す通りであり、10〜1
5分の間に調理容器の蓋の温度は遠赤外線ヒータの表面
温度より高くなり、その内部温度も均一に上昇する。な
お、この時の装置本体の内部空間の雰囲気温度は容器温
度よりも低い。
被調理物の温度が97°Cに達すると、その近傍で調理
容器の蓋の温度が平衡状態になる温度に達するため、そ
の時点で遠赤外線ヒータへの通電は停止されるが、調理
容器からの二次放射により被調理物の加熱が続行され、
所定時間、例えば、6分間放置しておくと、その間に被
調理物の温度は100’Cにまで上昇し、炊飯が完了し
た。炊飯時間は19分であり、約1時間を要する従来の
炊飯ジャーの約1/3の時間で炊飯が完了した。また、
炊き上がりの米飯の重量は市販の炊飯ジャーで炊いたと
きよりも10〜15%多く、より美味であった。
容器の蓋の温度が平衡状態になる温度に達するため、そ
の時点で遠赤外線ヒータへの通電は停止されるが、調理
容器からの二次放射により被調理物の加熱が続行され、
所定時間、例えば、6分間放置しておくと、その間に被
調理物の温度は100’Cにまで上昇し、炊飯が完了し
た。炊飯時間は19分であり、約1時間を要する従来の
炊飯ジャーの約1/3の時間で炊飯が完了した。また、
炊き上がりの米飯の重量は市販の炊飯ジャーで炊いたと
きよりも10〜15%多く、より美味であった。
しかも、炊飯過程で吹きこぼれが全く発生せず、また、
装置の停止後、10分前後してから結露し始めるが、そ
の水滴は従来のものに比べて極めて小さく、米飯の上に
落下することはなかった。
装置の停止後、10分前後してから結露し始めるが、そ
の水滴は従来のものに比べて極めて小さく、米飯の上に
落下することはなかった。
(実施例2)
調味料を振り掛けた鳥のもも肉(各300g)2枚を耐
熱ガラス製調理容器(3μより長波長の遠赤外線の透過
率100%)に入れて蓋をし、前記遠赤外線加熱調理器
に入れ、その外部タイマー30を35分にセットして、
加熱調理した。なお、もも肉の初期温度は7℃、調理容
器の初期温度は22℃である。
熱ガラス製調理容器(3μより長波長の遠赤外線の透過
率100%)に入れて蓋をし、前記遠赤外線加熱調理器
に入れ、その外部タイマー30を35分にセットして、
加熱調理した。なお、もも肉の初期温度は7℃、調理容
器の初期温度は22℃である。
この場合、調理容器の温度上昇がほとんどなくなったと
きに電源をオフさせた。この時の調理容器の蓋の温度は
256℃で、鳥のもも肉の中心温度は80℃であった。
きに電源をオフさせた。この時の調理容器の蓋の温度は
256℃で、鳥のもも肉の中心温度は80℃であった。
そのままの状態で、放置して置くと、もも肉の中心温度
は、5分経過後に91℃で鳥のローストができあがり、
美しい焦げ色がつき、また、美味であった。なお、10
分間放置しておくと、もも肉の温度は100℃に上昇し
た。
は、5分経過後に91℃で鳥のローストができあがり、
美しい焦げ色がつき、また、美味であった。なお、10
分間放置しておくと、もも肉の温度は100℃に上昇し
た。
(実施例3)
鳥のふつ切り300g、玉ねぎ140g、じゃがいも1
60g、セロリ80g1マツシユルーム50g、調味料
400m1を耐熱ガラス製調理容器に入れ、前記装置で
遠赤外線加熱し、蓋の温度上昇が殆と停止する40分で
装置を停止させ、そのまま20分間放置した。
60g、セロリ80g1マツシユルーム50g、調味料
400m1を耐熱ガラス製調理容器に入れ、前記装置で
遠赤外線加熱し、蓋の温度上昇が殆と停止する40分で
装置を停止させ、そのまま20分間放置した。
できあがったチキンシチューは極めて美味であった。
(発明の効果)
以上の説明から明らかなように、本発明は、少なくとも
3μよりも長波長の遠赤外線の大部分を吸収する材料か
らなる調理容器を用い、該調理容器全体に赤外線を照射
しているため、調理容器からの二次放射および熱伝導に
よって均一に被調理物を加熱すると共に、内部まで熱の
浸透を図ることができ、従って、効率良く短時間で調理
を行うことができる。
3μよりも長波長の遠赤外線の大部分を吸収する材料か
らなる調理容器を用い、該調理容器全体に赤外線を照射
しているため、調理容器からの二次放射および熱伝導に
よって均一に被調理物を加熱すると共に、内部まで熱の
浸透を図ることができ、従って、効率良く短時間で調理
を行うことができる。
また、調理容器自体を熱源として利用して加熱すること
ができるので、調理が完全に完了するまでヒータに通電
する必要がなく、省エネルギーを図ることができる。
ができるので、調理が完全に完了するまでヒータに通電
する必要がなく、省エネルギーを図ることができる。
さらに、調理容器の容器本体と蓋との間に隙間があって
も、はぼ閉じた系で調理が行なわれるため、従来の熱気
型オーブンや電子レンジのように装置本体の内壁面が汚
れることがなく、また、消臭や消煙のための装置が全(
不要であり、安価に製造できる。
も、はぼ閉じた系で調理が行なわれるため、従来の熱気
型オーブンや電子レンジのように装置本体の内壁面が汚
れることがなく、また、消臭や消煙のための装置が全(
不要であり、安価に製造できる。
また、調理容器の蓋を透明にしておけば、装置を停止さ
せた後でもかなりの時間結露しないので、焼き物の場合
には、好みの焼は色が付くのを外部から観察でき、極め
て便利である。
せた後でもかなりの時間結露しないので、焼き物の場合
には、好みの焼は色が付くのを外部から観察でき、極め
て便利である。
第1図は本発明に係る遠赤外線加熱調理器の一実施例を
示す装置本体の斜視図、第2図はその遠赤外線ヒータの
配置状態を示す斜視図、第3図はその調理容器と遠赤外
線ヒータとの配置状態を示す説明図、第4図はその制御
装置を示す回路図、第5図はそのブロック図、第6図は
第1図の装置の各部に於ける温度変化を示すグラフであ
る。 1〜装置本体、2〜扉、3〜内部空間、4A。 4B、5〜遠赤外線ヒータ、6〜遠赤外線放射層、lO
〜トレー、11〜調理容器、12〜容器本体、13〜蓋
。 1111 ズ
示す装置本体の斜視図、第2図はその遠赤外線ヒータの
配置状態を示す斜視図、第3図はその調理容器と遠赤外
線ヒータとの配置状態を示す説明図、第4図はその制御
装置を示す回路図、第5図はそのブロック図、第6図は
第1図の装置の各部に於ける温度変化を示すグラフであ
る。 1〜装置本体、2〜扉、3〜内部空間、4A。 4B、5〜遠赤外線ヒータ、6〜遠赤外線放射層、lO
〜トレー、11〜調理容器、12〜容器本体、13〜蓋
。 1111 ズ
Claims (10)
- (1)少なくとも3μより長波長の赤外線の大部分を吸
収する材料で形成された容器本体と蓋とからなる調理容
器に被調理物を収納し、前記調理容器全体に赤外線を所
定時間照射した後、該調理容器を放置することを特徴と
する遠赤外線加熱調理方法。 - (2)前記調理容器の温度が所定温度に達したとき、調
理容器への赤外線の照射を停止させることを特徴とする
請求項1記載の遠赤外線加熱調理方法。 - (3)前記調理容器の全体に赤外線を照射することを特
徴とする請求項1または2記載の遠赤外線加熱調理方法
。 - (4)前記調理容器の上側と下側から交互に赤外線を照
射することを特徴とする請求項1または2記載の遠赤外
線加熱調理方法。 - (5)前記容器本体および蓋がホウロウ製、ガラス製、
陶磁器製および/またはセラミックス製であることを特
徴とする遠赤外線加熱調理方法。 - (6)3.5〜8μの範囲内にピーク波長を有する赤外
線を照射する請求項1〜5のいづれか一に記載の遠赤外
線加熱調理方法。 - (7)開閉可能な扉と、内部空間内に対向して配設され
た遠赤外線ヒータとを備え、前記内部空間を形成する壁
面に遠赤外線放射材料からなる遠赤外線放射層を有する
装置本体と、該装置本体の内部空間内に挿脱自在に配置
される調理容器とからなり、該調理容器が容器本体と蓋
とからなり、該容器本体と蓋の少なくとも外壁面が少な
くとも3μより長波長の赤外線の大部分を吸収する材料
で形成された容器本体と蓋とで構成されていることを特
徴とする遠赤外線調理装置。 - (8)前記遠赤外線ヒータが板状若しくは面状の遠赤外
線ヒータであって、前記内部空間の上下に所定間隔をお
いて対向して配設されている請求項7記載の遠赤外線調
理装置。 - (9)前記容器本体および蓋がホウロウ製、ガラス製、
陶磁器製および/またはセラミックス製であることを特
徴とする遠赤外線加熱調理器。 - (10)前記遠赤外線調理装置が、前記調理容器の温度
を検出する温度センサーと、遠赤外線ヒータへの通電を
停止させる基準温度を設定する基準温度設定手段と、前
記温度センサーの検出温度を前記基準温度と比較し、検
出温度が基準温度以上の時、遠赤外線ヒータの駆動回路
を停止させる信号を出力する比較手段とからなる制御装
置を備えた遠赤外線調理容器。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18688789 | 1989-07-18 | ||
JP1-186887 | 1989-07-18 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03136619A true JPH03136619A (ja) | 1991-06-11 |
Family
ID=16196424
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1228640A Pending JPH03136619A (ja) | 1989-07-18 | 1989-09-04 | 遠赤外線加熱調理方法及びその装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03136619A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1989
- 1989-09-04 JP JP1228640A patent/JPH03136619A/ja active Pending
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