JPH03129328A - 電磁放射線束走査装置及び表示装置 - Google Patents
電磁放射線束走査装置及び表示装置Info
- Publication number
- JPH03129328A JPH03129328A JP2129967A JP12996790A JPH03129328A JP H03129328 A JPH03129328 A JP H03129328A JP 2129967 A JP2129967 A JP 2129967A JP 12996790 A JP12996790 A JP 12996790A JP H03129328 A JPH03129328 A JP H03129328A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electromagnetic radiation
- radiation flux
- light
- scanning device
- modulation layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 title claims abstract description 76
- 230000004907 flux Effects 0.000 title claims abstract description 75
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims abstract description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 24
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract description 13
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 abstract description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 5
- 230000005684 electric field Effects 0.000 abstract description 4
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 3
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 2
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 2
- 241000209140 Triticum Species 0.000 description 2
- 235000021307 Triticum Nutrition 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 239000005262 ferroelectric liquid crystals (FLCs) Substances 0.000 description 2
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000009966 trimming Methods 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000000220 Panda oleosa Species 0.000 description 1
- 235000016496 Panda oleosa Nutrition 0.000 description 1
- 240000000359 Triticum dicoccon Species 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 210000002784 stomach Anatomy 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
- G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/29—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the position or the direction of light beams, i.e. deflection
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/04—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2203/00—Function characteristic
- G02F2203/28—Function characteristic focussing or defocussing
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Geometry (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Liquid Crystal Display Device Control (AREA)
- Control Of Indicators Other Than Cathode Ray Tubes (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、光などの電磁放射線束走査装置及び表示装置
にかかるものであり、特に、電磁放射線束の走査方式の
改良とこれを利用した表示装置に関するものである。
にかかるものであり、特に、電磁放射線束の走査方式の
改良とこれを利用した表示装置に関するものである。
［従来の技術と発明が解決しようとする課題］電磁放射
線束、例えば、レーザ光に対する走査装置としては、ポ
リゴンミラー、ガルバノミラ−ホログラム利用偏向器、
電気光学偏向器、音響光学偏向器などがある。
線束、例えば、レーザ光に対する走査装置としては、ポ
リゴンミラー、ガルバノミラ−ホログラム利用偏向器、
電気光学偏向器、音響光学偏向器などがある。
しかしながら、これらの従来技術には、次のような不都
合がある。まず、ポリゴンミラーなどの機械的な偏向な
いし走査手法では、機械的な可動部分があるため故障が
生じやすく、偏向角度が制限されたり、ビーム系の縮小
のために複雑な光学系を必夛とする。
合がある。まず、ポリゴンミラーなどの機械的な偏向な
いし走査手法では、機械的な可動部分があるため故障が
生じやすく、偏向角度が制限されたり、ビーム系の縮小
のために複雑な光学系を必夛とする。
また、電気光学偏向器などの静的な走査手法では、偏向
の角度が小さく十分満足できるものではない。
の角度が小さく十分満足できるものではない。
本発明は、かかる点に鑑みてなされたもので、その目的
の一つは、可動部分のない簡易な構成で良好な走査を行
なうことができる電磁放射線束走査装置を提供すること
である。
の一つは、可動部分のない簡易な構成で良好な走査を行
なうことができる電磁放射線束走査装置を提供すること
である。
他の目的は、高解像度で大型化の容易な表示装置を提供
することである。
することである。
［課題を解決するための手段］
上述した課題を解決するために、本発明は、下記の構成
になる電磁放射線束走査装置及び表示装置を提供する。
になる電磁放射線束走査装置及び表示装置を提供する。
（１）電気光学効果を示す米麦：Ａ＠と、この光変調層
を挟んで設けられた第１及び第２のＴｉ極と、 これらの電極に電圧を印加して前記光変調層にスリット
状の電磁放射線束透過部分を形成する電源とを備えたこ
とを特徴とする電磁放射線束走査装置。
を挟んで設けられた第１及び第２のＴｉ極と、 これらの電極に電圧を印加して前記光変調層にスリット
状の電磁放射線束透過部分を形成する電源とを備えたこ
とを特徴とする電磁放射線束走査装置。
■ 請求項１記載の走査装置を重ねてスポット状の電磁
放射線束透過部分を形成することを特徴とする電磁放射
線束走査装置。
放射線束透過部分を形成することを特徴とする電磁放射
線束走査装置。
（３）請求項１記載の走査装置に、そのスリット方向と
交差する方向の帯状電磁放射線束を照射することによっ
てスポット状の電磁放射線束を形成することを特徴とす
る電磁放！）１線束走査装置。
交差する方向の帯状電磁放射線束を照射することによっ
てスポット状の電磁放射線束を形成することを特徴とす
る電磁放！）１線束走査装置。
（４）光変調層と、
この光変調層を挟んで設けられた第１及び第２の電極を
備え、 少なくとも前記光変調層、前記第１及び第２の電極のい
ずれかを帯状とし、前記第１及び第２の電極に電圧を印
加してスポット状の電磁放射線束透過部分を形成する手
段を備えたことを特徴とする電磁放射線束走査装置。
備え、 少なくとも前記光変調層、前記第１及び第２の電極のい
ずれかを帯状とし、前記第１及び第２の電極に電圧を印
加してスポット状の電磁放射線束透過部分を形成する手
段を備えたことを特徴とする電磁放射線束走査装置。
（５）光変調層と、
この米麦ＡＩ層を挟んで設けられた第１及び第２の電磁
を備え、 少なくとも前記光変調層、前記第１及び第２の電極のい
ずれかを帯状とし、前記第１及び第２の電極に電圧を印
加してスリット状の透過部分を形成する手段と、 このスリット状の透過部分と略直交する方向に、スリッ
ト状の透過部分をもつマスクを重ねてスポット状の電磁
放射線束透過部分を形成する手段を備えたことを特徴と
する電磁放ｔＪＪ線束走査装置。
を備え、 少なくとも前記光変調層、前記第１及び第２の電極のい
ずれかを帯状とし、前記第１及び第２の電極に電圧を印
加してスリット状の透過部分を形成する手段と、 このスリット状の透過部分と略直交する方向に、スリッ
ト状の透過部分をもつマスクを重ねてスポット状の電磁
放射線束透過部分を形成する手段を備えたことを特徴と
する電磁放ｔＪＪ線束走査装置。
■ 請求項４．５のいずれかに記載の走査装置であって
、スポット状の′ｒｉｖＡ１１ｉ射線束透過部分の走査
方向と略直交する方向に透過した電磁放射線束を偏向す
る手段を備えたことを特徴とする電磁放射線束走査装置
。
、スポット状の′ｒｉｖＡ１１ｉ射線束透過部分の走査
方向と略直交する方向に透過した電磁放射線束を偏向す
る手段を備えたことを特徴とする電磁放射線束走査装置
。
（７）請求項１〜３のいずれかに記載の走査装置を使用
するとともに、これに照射する電磁放射線束を、表示情
報を含む表示信号で変調する変調手段を備えたことを特
徴とする表示装置。
するとともに、これに照射する電磁放射線束を、表示情
報を含む表示信号で変調する変調手段を備えたことを特
徴とする表示装置。
■ 請求項４，５のいずれかに記載の走査装置を使用す
るとともに、これに照射するＴｉ…放射線束を、表示情
報を含む表示信号で変調する変調手段と、 この電磁放射線束を、少なくとも光導電層と光度Ｗ４１
を含んで構成された光−光変換素子に書込む手段と、 書込まれた情報に応じて読出光を変調し表示する手段を
備えたことを特徴とする表示装置。
るとともに、これに照射するＴｉ…放射線束を、表示情
報を含む表示信号で変調する変調手段と、 この電磁放射線束を、少なくとも光導電層と光度Ｗ４１
を含んで構成された光−光変換素子に書込む手段と、 書込まれた情報に応じて読出光を変調し表示する手段を
備えたことを特徴とする表示装置。
■ 米麦：ｌ１層と、
この光変調層を挟んで設けられた第１及び第２のｆｆ１
ｆｆｉに電圧を印加してｒｒＪＦ、！光度ｉ１層にスリ
ット状の電磁放射線束透過部分を形成する手段と、この
透過部分を重ねてスポット状の電磁放！）ＪＢ束透過部
分を形成する手段と、 これに照射する電磁放射線束を、表示情報を含む表示信
号で変調する変調手段と、 この電磁放射線束を少なくとも光変調層を含んで構成さ
れた光−光変換素子に書込む手段と、書込まれた情報に
応じて読出光を変調し表示する手段を備えたことを特徴
とする表示装置。
ｆｆｉに電圧を印加してｒｒＪＦ、！光度ｉ１層にスリ
ット状の電磁放射線束透過部分を形成する手段と、この
透過部分を重ねてスポット状の電磁放！）ＪＢ束透過部
分を形成する手段と、 これに照射する電磁放射線束を、表示情報を含む表示信
号で変調する変調手段と、 この電磁放射線束を少なくとも光変調層を含んで構成さ
れた光−光変換素子に書込む手段と、書込まれた情報に
応じて読出光を変調し表示する手段を備えたことを特徴
とする表示装置。
■ 光変調層と、
この光変調層を挟んで設けられた第１及び第２の７Ｉｉ
ｆｆｌに電圧を印加して館記光変調層にスリット状の電
磁放射線束透過部分を形成する手段と。
ｆｆｌに電圧を印加して館記光変調層にスリット状の電
磁放射線束透過部分を形成する手段と。
そのスリット方向と交差する方向の帯状電磁放射線束を
照射することによってスポット状の電磁放射線束透過部
分を形成する手段と、 照射する電魁放０４線束を表示情報を含む表示信号で変
調する変調手段と、 この′Ｒ電磁放射線束少なくとも光変調層を含んで構成
された光−光変換素子に書込む手段と、８込まれた情報
に応じて読出光を変調し表示する手段を備えたことを特
徴とする表示装置。
照射することによってスポット状の電磁放射線束透過部
分を形成する手段と、 照射する電魁放０４線束を表示情報を含む表示信号で変
調する変調手段と、 この′Ｒ電磁放射線束少なくとも光変調層を含んで構成
された光−光変換素子に書込む手段と、８込まれた情報
に応じて読出光を変調し表示する手段を備えたことを特
徴とする表示装置。
［実施例］
以下、本発明の実施例について、添付図面を参照しなが
ら説明する。
ら説明する。
く第１実施例〉
最初に、第１図〜第３図を参照しながら、本発明の第１
実施例について説明する。この第１実施例は、Ｉ述する
第２実施例などの基本を成すもので、帯状の電磁放射線
束の走査を行なうちのである。
実施例について説明する。この第１実施例は、Ｉ述する
第２実施例などの基本を成すもので、帯状の電磁放射線
束の走査を行なうちのである。
第１図（Ａ）には、第１実施例の構成が示されている。
同図において、第１実施例にかかる走査装置１０は、透
明ｉ［ｔ１２．１４問にスリット形成１１６が挟まれて
設けられた構成となっている。
明ｉ［ｔ１２．１４問にスリット形成１１６が挟まれて
設けられた構成となっている。
これらのうち、一方の透明ｆｆｔＶｉ１１２は、透明部
１８の両端に端子部２０．２２を各々有している。
１８の両端に端子部２０．２２を各々有している。
透明部１８は、その面方向に一様なインピーダンスを有
しており、端子部２０．２２は、透明部１８よりもきわ
めて低いインピーダンスとなるように構成されている。
しており、端子部２０．２２は、透明部１８よりもきわ
めて低いインピーダンスとなるように構成されている。
そして、端子部２０．２２には、電源２４が妾続されて
おり、後述する電圧が透明電極１２に印加されるように
なっている。
おり、後述する電圧が透明電極１２に印加されるように
なっている。
なお、端子部２０側は、アースされている。
他方、透明電極１４は、同様に透明電極１２の透明部１
８よりも極めて低いインピーダンスとなるように構成さ
れており、アースとの間に電源２６が接続されている。
８よりも極めて低いインピーダンスとなるように構成さ
れており、アースとの間に電源２６が接続されている。
次に、スリット形成層１６としては、例えば電気光学効
果を示すニオブ酸リチウムや電界偏光効果を示すＴＮ’
Ｅ−ド液晶などが使用される。本実施例では、ＴＮモー
ド液晶に偏光板をクロスニコルに配置することによって
スリット形成層１６が構成されている。
果を示すニオブ酸リチウムや電界偏光効果を示すＴＮ’
Ｅ−ド液晶などが使用される。本実施例では、ＴＮモー
ド液晶に偏光板をクロスニコルに配置することによって
スリット形成層１６が構成されている。
次に、以上のように構成された第１実浦例の作用につい
て説明する。まず、Ｍ源２４によって透明電極１２に一
定電圧ＶＡを印加したとすると、透明部１８の電位は第
１図（Ｂ）に示すようになる。
て説明する。まず、Ｍ源２４によって透明電極１２に一
定電圧ＶＡを印加したとすると、透明部１８の電位は第
１図（Ｂ）に示すようになる。
すなわち、端子部２０がアースされており、透明部１８
のインピーダンスは一様であるので、透明部１８の電位
は端子部２０の位置ＰＡから端子部２２の位置ＰＢに向
かって直線的に増大することとなる。
のインピーダンスは一様であるので、透明部１８の電位
は端子部２０の位置ＰＡから端子部２２の位置ＰＢに向
かって直線的に増大することとなる。
かかる状態で、他方の透明電極１４に電源２６によって
一定電圧■８を印加すると、スリット形成層１６には第
２図（＾）に示すようにＶＡ −Ｖｓがかかるようにな
る。すなわち、位１ＦｔＰＡ、Ｐｅ方向において、ＶＡ
＝ＶａとなるグラフＬＡ。
一定電圧■８を印加すると、スリット形成層１６には第
２図（＾）に示すようにＶＡ −Ｖｓがかかるようにな
る。すなわち、位１ＦｔＰＡ、Ｐｅ方向において、ＶＡ
＝ＶａとなるグラフＬＡ。
Ｌ８の交点位置Ｑで印加電圧がｒＯＪとなり、これから
位置ＰＡ力方向は負の電圧が位置Ｐａ方向には正の電圧
が各々印加されることとなる。スリット形成層１６の液
晶では、この電圧の値に対応して電気光学効果が生じる
。
位置ＰＡ力方向は負の電圧が位置Ｐａ方向には正の電圧
が各々印加されることとなる。スリット形成層１６の液
晶では、この電圧の値に対応して電気光学効果が生じる
。
ところで、上述したように、偏光板がクロスニコルに設
けられているため、電気光学効果が生じるしきい値ＶＳ
Ｈ以上の電圧が印加された部分では遮光状態となり、し
きい値ＶＳＨ以下の電圧の部分では透過状態となる。
けられているため、電気光学効果が生じるしきい値ＶＳ
Ｈ以上の電圧が印加された部分では遮光状態となり、し
きい値ＶＳＨ以下の電圧の部分では透過状態となる。
第２図（Ｂ）には、同図（Ａ）におけるグラフのクロス
点が拡大して示されている。この図において、両グラフ
ＬＡ、Ｌａの交点Ｑを中心とし、両グラフの差が±ｖＳ
Ｈの部分Δａの範囲が液晶、スリット層１６における透
過領域となる。従って、走査装置１０を平面で見ると、
同図（Ｃ）に示すようにスリット状の透過領域が形成さ
れることとなる。
点が拡大して示されている。この図において、両グラフ
ＬＡ、Ｌａの交点Ｑを中心とし、両グラフの差が±ｖＳ
Ｈの部分Δａの範囲が液晶、スリット層１６における透
過領域となる。従って、走査装置１０を平面で見ると、
同図（Ｃ）に示すようにスリット状の透過領域が形成さ
れることとなる。
そして、かかる状態で、透明電極１２．１４に印加され
ている電圧ＶＡ、ＶＢの少なくとも一方の値を変化させ
ると、グラフＬＡ、ＬＢの交点Ｑの位置が変動しスリッ
トＳＡも移動することとなる。このとぎ、電圧Ｖ＾を変
化させると、第２図（Ｂ）においてグラフＬＡの傾きが
変化することになるので、スリットＳＡの幅も変化する
こととなる。
ている電圧ＶＡ、ＶＢの少なくとも一方の値を変化させ
ると、グラフＬＡ、ＬＢの交点Ｑの位置が変動しスリッ
トＳＡも移動することとなる。このとぎ、電圧Ｖ＾を変
化させると、第２図（Ｂ）においてグラフＬＡの傾きが
変化することになるので、スリットＳＡの幅も変化する
こととなる。
従って、例えば透明電極１２に印加する電圧ＶＡを第３
図（Ａ）に示すように変化させ、透明電極１４に印加す
る電圧Ｖａを同図（Ｂ）に示すように変化させると、結
果的に第２図（Ｃ）に示したスリットＳ＾が位置Ｐ＾か
ら位ｆｆ１Ｐａ方向に周期的に移動するようになる。か
かる状態で、透明電極１２．１４のいずれかに光を入射
させると、スリットＳ＾を光が透過するので、結果的に
スリット状光束の走査が行なわれることとなる。
図（Ａ）に示すように変化させ、透明電極１４に印加す
る電圧Ｖａを同図（Ｂ）に示すように変化させると、結
果的に第２図（Ｃ）に示したスリットＳ＾が位置Ｐ＾か
ら位ｆｆ１Ｐａ方向に周期的に移動するようになる。か
かる状態で、透明電極１２．１４のいずれかに光を入射
させると、スリットＳ＾を光が透過するので、結果的に
スリット状光束の走査が行なわれることとなる。
〈第２実施例〉
次に、第４図を参照しながら、本発明の第２実施例につ
いて説明する。この第２実施例は、上述した第１実施例
を利用してスポット状の透過領域を形成し、スポット光
の走査を行なうようにしたものである。
いて説明する。この第２実施例は、上述した第１実施例
を利用してスポット状の透過領域を形成し、スポット光
の走査を行なうようにしたものである。
第４図（＾）には、第２実施例の基本概念が示されてい
る。図のＸ方向のスリット＄８がＸ方向に移動する第１
の走査装置３０と、図のＸ方向のスリットＳｃがＸ方向
に移動する第２の走査装置３２とを、矢印Ｆ１．Ｆ２で
示すように重ね合わせると、結果的にスリットＳＢ、Ｓ
Ｃの交差する部分のみ光を透過することとなる。これに
矢印Ｆ３方向から全面に光を照射すると、矢印Ｆ４で示
すようなスポット光が得られる。
る。図のＸ方向のスリット＄８がＸ方向に移動する第１
の走査装置３０と、図のＸ方向のスリットＳｃがＸ方向
に移動する第２の走査装置３２とを、矢印Ｆ１．Ｆ２で
示すように重ね合わせると、結果的にスリットＳＢ、Ｓ
Ｃの交差する部分のみ光を透過することとなる。これに
矢印Ｆ３方向から全面に光を照射すると、矢印Ｆ４で示
すようなスポット光が得られる。
この場合において、走査袋＠３０においてスリットＳ８
を移動させればスポット光はｙ方向に移動し、走査袋＠
３２においてスリットＳｃを移動させればスポット光は
Ｘ方向に移動する。
を移動させればスポット光はｙ方向に移動し、走査袋＠
３２においてスリットＳｃを移動させればスポット光は
Ｘ方向に移動する。
次に、第２実施例の他の態様について説明する。
まず、同図（Ｂ）に示すものは、走査装置３０と３２と
を離して配置した例である。走査装置３０のスリットＳ
８を透過したスリット光は、矢印Ｆ５で示すように走査
装置３２に入射する。走査袋＠３２のスリットＳｃは、
矢印Ｆ５のスリット光と直交する方向であるので、結果
的に矢印Ｆ６で示すスポット光が得られる。
を離して配置した例である。走査装置３０のスリットＳ
８を透過したスリット光は、矢印Ｆ５で示すように走査
装置３２に入射する。走査袋＠３２のスリットＳｃは、
矢印Ｆ５のスリット光と直交する方向であるので、結果
的に矢印Ｆ６で示すスポット光が得られる。
次に、同図（Ｃ）に示すものは、走査装置３０のスリッ
トＳｓを透過したスリット光が反射鏡によって矢印Ｆ７
で示すように反射されて走査装置３２に入射するように
構成されている。
トＳｓを透過したスリット光が反射鏡によって矢印Ｆ７
で示すように反射されて走査装置３２に入射するように
構成されている。
次に、同図（０）に示すものは、走査装置３０゜３２を
、非Ｖ行に配置したものである。同図（Ｅ）に示すもの
は、走査装置３０と異なる大きさの走査装置３６とを所
定間隔をおいて配置した例である。走査装置３０には、
矢印Ｆ８で示すように放射状に光が照射される。
、非Ｖ行に配置したものである。同図（Ｅ）に示すもの
は、走査装置３０と異なる大きさの走査装置３６とを所
定間隔をおいて配置した例である。走査装置３０には、
矢印Ｆ８で示すように放射状に光が照射される。
次に、同図ＣＦ）に示すものは、走査装置３８゜４０を
、それぞれのスリットが直交していない例である。また
、スポット光の走査範囲は、走査装置３８．４０が重な
った四辺形の範囲となる。なお、スポット光の走査範囲
は、スボッ１−移動面の前後に適当な遮光窓を設けるこ
とによって所望される範囲形状とすることができる。
、それぞれのスリットが直交していない例である。また
、スポット光の走査範囲は、走査装置３８．４０が重な
った四辺形の範囲となる。なお、スポット光の走査範囲
は、スボッ１−移動面の前後に適当な遮光窓を設けるこ
とによって所望される範囲形状とすることができる。
次に、同図（Ｇ）に示すものは、走査装置３０にそのス
リットＳＢと直交する方向に伸びた帯状光４２を照射す
るものである。この例では、スリットＳ８の移動と帯状
光４２の矢印Ｆ９方向の角度変動とによってスポット光
の走査が行なわれる。
リットＳＢと直交する方向に伸びた帯状光４２を照射す
るものである。この例では、スリットＳ８の移動と帯状
光４２の矢印Ｆ９方向の角度変動とによってスポット光
の走査が行なわれる。
更に、同図（１１）に示すものは、所定幅の走査袋Ｍ４
４の表面側にスポット幅の透過ｆｆｉ［４６を有する遮
光板４８を配置したもので、スポット光は透過領域４６
方向にのみ移動する。
４の表面側にスポット幅の透過ｆｆｉ［４６を有する遮
光板４８を配置したもので、スポット光は透過領域４６
方向にのみ移動する。
以上のような走査装置のうち、スリットが直交するもの
く特に（Ｃ）、（Ｅ） ）を用いて各スリットの移動を
所望の垂直、水平同期信号周期で行うようにすれば、同
図（１）に矢印Ｆ１０で示すようにテレビジョン受像管
の画面走査を行なうことができる。
く特に（Ｃ）、（Ｅ） ）を用いて各スリットの移動を
所望の垂直、水平同期信号周期で行うようにすれば、同
図（１）に矢印Ｆ１０で示すようにテレビジョン受像管
の画面走査を行なうことができる。
く第３実施例〉
次に、第５図を参照しながら、本発明の第３実ｆＡ開に
ついて説明する。この第３実施例は、上述した走査装置
を用いて表示装置を構成した例である。
ついて説明する。この第３実施例は、上述した走査装置
を用いて表示装置を構成した例である。
最初に、同図（Ａ）に示す表示装置５０は、上述した走
査装置３０．３２を重ね合わせた二次元走査装置５２に
、コリメートレンズ５４を介して光源５６による光を入
射させるようにしたものである。光源５６の光は、表示
信号５８によって変調されており、二次元走査袋＠５２
におけるスポット走査と表示信号５８による変調とは同
期して行なわれる。二次元走査装置５２を透過したスポ
ット光は、レンズ６０を介してスクリーン６２に投影さ
れ、ここに画像が再生される。なお、スクリーンを除い
て走査装置３２の表面を直接観察するようにしても、画
像を観察することができる。
査装置３０．３２を重ね合わせた二次元走査装置５２に
、コリメートレンズ５４を介して光源５６による光を入
射させるようにしたものである。光源５６の光は、表示
信号５８によって変調されており、二次元走査袋＠５２
におけるスポット走査と表示信号５８による変調とは同
期して行なわれる。二次元走査装置５２を透過したスポ
ット光は、レンズ６０を介してスクリーン６２に投影さ
れ、ここに画像が再生される。なお、スクリーンを除い
て走査装置３２の表面を直接観察するようにしても、画
像を観察することができる。
次に、同図（Ｂ）に示す表示装ｆｉ６４は、二次元走査
装置５２に対する光照射を、平面光源６６によって行な
うようにしたもので、二次元走査ｖｉｎ５２を透過した
スポット光は、直接スクリーン６８に入射する。なお、
スクリーン６８に対する像の投影の他、上述した表示装
置５０と同様に、二次元走査装置５２を直視するように
してもよい。
装置５２に対する光照射を、平面光源６６によって行な
うようにしたもので、二次元走査ｖｉｎ５２を透過した
スポット光は、直接スクリーン６８に入射する。なお、
スクリーン６８に対する像の投影の他、上述した表示装
置５０と同様に、二次元走査装置５２を直視するように
してもよい。
次に、同図（Ｃ）に示す表示装置７０は、二次元走査ｉ
胃５２のスポット光透過側に発光層７２を設けたもので
ある。この発光層７２では、スポット光の入射によって
別の光励起が行なわれ、この励起光によって所望の表示
が行なわれる。
胃５２のスポット光透過側に発光層７２を設けたもので
ある。この発光層７２では、スポット光の入射によって
別の光励起が行なわれ、この励起光によって所望の表示
が行なわれる。
く第４実施例〉
第６図（Ａ）〜（Ｆ）は光変調層あるいは電極を帯状と
した本発明走査装置の実施例を示す説明図である。同図
において、１００はスリット形成層（タテ方向＞、１０
１はスリット状マスク、１０２．１０５は帯状電極、１
０３，１０４は帯状光変調材、１０６は電磁放射線束、
１０７は走査装置、１０８はレンズ、１０９は垂直偏向
器、１１０は走査面、１１１は帯状の断面を有する光束
、１１２はスリット形成層である。
した本発明走査装置の実施例を示す説明図である。同図
において、１００はスリット形成層（タテ方向＞、１０
１はスリット状マスク、１０２．１０５は帯状電極、１
０３，１０４は帯状光変調材、１０６は電磁放射線束、
１０７は走査装置、１０８はレンズ、１０９は垂直偏向
器、１１０は走査面、１１１は帯状の断面を有する光束
、１１２はスリット形成層である。
同図（Ｂ）に示す帯状電極１０２あるいは、同図（Ｃ）
に示す帯状の光変調材層１０３を上述した走査装置に用
いれば、スポット状の透過領域が形成できる。このよう
にして構成される走査装置は、光変調層と、この光変調
層を挟んで設けられた第１及び第２の電極を備え、少な
くとも前記光変調層、前記第１及び第２の電極のいずれ
かを帯状とし、ｌ’Ｆ１２第１及び第２のｆｆ１ｆｆｌ
に電圧を印加してスポット状の電磁放射線束透過部分を
形成する手段を備えたことを特徴とする電磁放射線束走
査装置である。
に示す帯状の光変調材層１０３を上述した走査装置に用
いれば、スポット状の透過領域が形成できる。このよう
にして構成される走査装置は、光変調層と、この光変調
層を挟んで設けられた第１及び第２の電極を備え、少な
くとも前記光変調層、前記第１及び第２の電極のいずれ
かを帯状とし、ｌ’Ｆ１２第１及び第２のｆｆ１ｆｆｌ
に電圧を印加してスポット状の電磁放射線束透過部分を
形成する手段を備えたことを特徴とする電磁放射線束走
査装置である。
また、同図（Ｅ）に示すように、帯状光変調材層１０３
あるいは帯状電極１０２を用いて形成される前述のスポ
ット状の透過領域の長手方向と直交する方向に、垂直偏
向器１０９を用いて垂直偏向することで、透過した電磁
放射線束を２次元に走査するものである。このようにし
て構成される走査装置は上述の走査装置にスポット状の
電磁放射線束透過部分の走査方向と略直交する方向に透
過した電磁放射線束を偏向する手段を備えたことを特徴
とする電磁放射線束走査装置である。
あるいは帯状電極１０２を用いて形成される前述のスポ
ット状の透過領域の長手方向と直交する方向に、垂直偏
向器１０９を用いて垂直偏向することで、透過した電磁
放射線束を２次元に走査するものである。このようにし
て構成される走査装置は上述の走査装置にスポット状の
電磁放射線束透過部分の走査方向と略直交する方向に透
過した電磁放射線束を偏向する手段を備えたことを特徴
とする電磁放射線束走査装置である。
同図（０）は先安Ｔ１４ｍ１及び電極の両者が帯状をし
た帯状変調材１０４、帯状電極１０５を示しており、こ
れを同図（［）に示す構成の走査装置の光変調層及び電
極として用いることが可能であることは言うまでもない
。
た帯状変調材１０４、帯状電極１０５を示しており、こ
れを同図（［）に示す構成の走査装置の光変調層及び電
極として用いることが可能であることは言うまでもない
。
上述した垂直偏向器１０９を用いた垂直偏向は、ポリゴ
ンミラーをはじめとしてガルバノミラ−など種々の方法
によって行われる。
ンミラーをはじめとしてガルバノミラ−など種々の方法
によって行われる。
また、上記した光変調材層は必ずしも帯状である必要は
なく、形成したスリット状の透過領域に直交するスリッ
ト状の透過領域をもつマスクを設けて１次元方向の走査
を行う構成は、同図（Ａ）に示すものとなり、このよう
にして構成される走査装置は、光変調層と、この光度″
Ｊ４層を挟んで設けられた第１及び第２の電極を備え、
少なくとも前記光変調層、前記第１及び第２のＭ極のい
ずれかを帯状とし、前記第１及び第２の電極に電圧を印
加してスリット状の透過部分を形成する手段と、このス
リット状の透過部分と略直交する方向に、スリット状の
透過部分をもつマスクを重ねてスポット状の電磁放射線
束透過部分を形成する手段を備えたことを特徴とする電
磁放射線束走査装置である。
なく、形成したスリット状の透過領域に直交するスリッ
ト状の透過領域をもつマスクを設けて１次元方向の走査
を行う構成は、同図（Ａ）に示すものとなり、このよう
にして構成される走査装置は、光変調層と、この光度″
Ｊ４層を挟んで設けられた第１及び第２の電極を備え、
少なくとも前記光変調層、前記第１及び第２のＭ極のい
ずれかを帯状とし、前記第１及び第２の電極に電圧を印
加してスリット状の透過部分を形成する手段と、このス
リット状の透過部分と略直交する方向に、スリット状の
透過部分をもつマスクを重ねてスポット状の電磁放射線
束透過部分を形成する手段を備えたことを特徴とする電
磁放射線束走査装置である。
また、同図（Ｆ）に示すスリット形成層１１２にて形成
されるスリット状の透過領域に、帯状の断面を有する電
磁放射線束１１１を与えて１次元の走査を行なうように
しても上記したのと同様な走査装置を得ることができる
。
されるスリット状の透過領域に、帯状の断面を有する電
磁放射線束１１１を与えて１次元の走査を行なうように
しても上記したのと同様な走査装置を得ることができる
。
さらに、これを垂直に偏向して２次元走査を行うように
しても良い。前記したマスクはガラス上にクロムを蒸着
する等して形成したものの他、遮光性の膜であれば良い
。
しても良い。前記したマスクはガラス上にクロムを蒸着
する等して形成したものの他、遮光性の膜であれば良い
。
く第５実施例〉
第７図は本発明走査装置によって光−光変換素子への１
込を行う本発明表示装置の実施例を示す図である。同図
において、１１３は光源、１１４゜１１６はレンズ、１
１５は走査装置、１１７は光−光変換素子である。光−
光変換素子１１７は少なくとも２枚の電極の間に光Ｓ電
層と光変調材層を含んで構成される。光変調材層として
は、例えば電気光学効果を示すニオブ酸リチウムなどの
電気光学結晶ＰＬＺＴ、電界偏光効果を示１’ Ｔ Ｎ
モード液晶、散乱タイプ液晶、強誘電性液晶などその他
種々の光変調材が用いられても良い。このようにして構
成される表示装置は、上記した走査装置を使用するとと
もに、これに照射する電磁放射線束を、表示情報を含む
表示信号で変調する変調手段と、この電磁放射線束を、
少なくとも光導電層と光変調層を含んで構成された光−
光変換素子に書込む手段と、書込まれた情報に応じて読
出光を変調し表示する手段を備えたことを特徴とする表
示装置である。
込を行う本発明表示装置の実施例を示す図である。同図
において、１１３は光源、１１４゜１１６はレンズ、１
１５は走査装置、１１７は光−光変換素子である。光−
光変換素子１１７は少なくとも２枚の電極の間に光Ｓ電
層と光変調材層を含んで構成される。光変調材層として
は、例えば電気光学効果を示すニオブ酸リチウムなどの
電気光学結晶ＰＬＺＴ、電界偏光効果を示１’ Ｔ Ｎ
モード液晶、散乱タイプ液晶、強誘電性液晶などその他
種々の光変調材が用いられても良い。このようにして構
成される表示装置は、上記した走査装置を使用するとと
もに、これに照射する電磁放射線束を、表示情報を含む
表示信号で変調する変調手段と、この電磁放射線束を、
少なくとも光導電層と光変調層を含んで構成された光−
光変換素子に書込む手段と、書込まれた情報に応じて読
出光を変調し表示する手段を備えたことを特徴とする表
示装置である。
第８図は光−光変換素子の構成を示す図である。
同図に方いて、１１８は基板、１１９は光導電層、１２
０は必要に応じて設けられる誘電体ミラー層、１２１は
光変調材、１２２は電極である。誘電体ミラーＭ１２０
が設けられた光−光変換素子１１７は非常に弱い電磁放
射線でも書込むことが可能であり、走査装置１１５に与
える電磁放射線も特に強度は必要としない。また、本出
願人が先に提案した「表示装置」 （特願平１−１１１
３０５号）において示したように、光−光変換素子１１
７のパネルを表示装置として直視しても良い。
０は必要に応じて設けられる誘電体ミラー層、１２１は
光変調材、１２２は電極である。誘電体ミラーＭ１２０
が設けられた光−光変換素子１１７は非常に弱い電磁放
射線でも書込むことが可能であり、走査装置１１５に与
える電磁放射線も特に強度は必要としない。また、本出
願人が先に提案した「表示装置」 （特願平１−１１１
３０５号）において示したように、光−光変換素子１１
７のパネルを表示装置として直視しても良い。
第９図は本発明走査装置によって光−光変換素子への書
込みに応じて変調された読出光をスクリーンに投射し表
示する本発明表示装置の実施例を示す図である。同図に
おいて、１１３は光源、１１４．１１６はレンズ、１１
５は走査装置、１１７は光−光変換素子、１２３は偏向
ビームスプリッタ、１２４は読出光源、１２５は投射レ
ンズ、１２６はスクリーンである。光−光変換素子１１
７から出力された皇込みに応じて、偏向ビームスプリッ
タ１２３、読出光源１２４にて変調された読出光をスク
リーン１２６上に投射し表示するものである。同図では
光変調材層としてＴＮ液晶を用いた場合を示したが、光
変調材に応じて種々の方法で読出される。なお、スリッ
ト形成層としては電気光学結晶ＰＬＺＴＳ電界偏光効果
を示すＴＮモード液晶、散乱タイプ液晶、強誘電性液晶
などその他種々の米麦ｖＡ材が用いられても良い。
込みに応じて変調された読出光をスクリーンに投射し表
示する本発明表示装置の実施例を示す図である。同図に
おいて、１１３は光源、１１４．１１６はレンズ、１１
５は走査装置、１１７は光−光変換素子、１２３は偏向
ビームスプリッタ、１２４は読出光源、１２５は投射レ
ンズ、１２６はスクリーンである。光−光変換素子１１
７から出力された皇込みに応じて、偏向ビームスプリッ
タ１２３、読出光源１２４にて変調された読出光をスク
リーン１２６上に投射し表示するものである。同図では
光変調材層としてＴＮ液晶を用いた場合を示したが、光
変調材に応じて種々の方法で読出される。なお、スリッ
ト形成層としては電気光学結晶ＰＬＺＴＳ電界偏光効果
を示すＴＮモード液晶、散乱タイプ液晶、強誘電性液晶
などその他種々の米麦ｖＡ材が用いられても良い。
このようにして構成される表示装置は、光変調層と、こ
の光変調層を挟んで設けられた第１及び第２の電極に電
圧を印加して前記光変調層にスリット状の電磁放射線束
透過部分を形成する手段と、そのスリット方向と交差す
る方向の帯状ｆｆ１ｌａｔｌｌｔｆＪ線束を照射するこ
とによってスポット状の電磁放射線束透過部分を形成す
る手段と、照射する電磁放射線束を表示情報を含む表示
信号で変調する変調手段と、この電磁放射線束を少なく
とも光変調層を含んで構成された光−光変換素子に占込
む手段と、書込まれた情報に応じて読出光を変調し表示
する手段を備えたことを特徴とする表示装置である。
の光変調層を挟んで設けられた第１及び第２の電極に電
圧を印加して前記光変調層にスリット状の電磁放射線束
透過部分を形成する手段と、そのスリット方向と交差す
る方向の帯状ｆｆ１ｌａｔｌｌｔｆＪ線束を照射するこ
とによってスポット状の電磁放射線束透過部分を形成す
る手段と、照射する電磁放射線束を表示情報を含む表示
信号で変調する変調手段と、この電磁放射線束を少なく
とも光変調層を含んで構成された光−光変換素子に占込
む手段と、書込まれた情報に応じて読出光を変調し表示
する手段を備えたことを特徴とする表示装置である。
また、本実施例では走査ｇｉ置の応用例として表示装置
について述べたが、記録再生装置、光コンピュータなど
、その他応用が可能であることは言うまでもない。
について述べたが、記録再生装置、光コンピュータなど
、その他応用が可能であることは言うまでもない。
〈第６実施例〉
第１０図（＾）〜（Ｃ）はスポット状のｍｖｉ１故射線
束を形成することを説明する図である。同図において、
１２７，１２９は走査装置、１２８゜１３０．１３２ｕ
スリツ） （Ｅｔｆｌ領ｉａ）、１３３は光である。
束を形成することを説明する図である。同図において、
１２７，１２９は走査装置、１２８゜１３０．１３２ｕ
スリツ） （Ｅｔｆｌ領ｉａ）、１３３は光である。
閾値電圧の大きさによって同図（Ａ） 、 （Ｂ）に示
すように、比較的大きい帯状の透過領域を作ることがで
きる。印加電圧によってその透過領域を移動できること
は、既に述べた通りであって、同図（Ａ） 、 （Ｂ）
に示す走査装置１２７．１２９を重ね合せることによっ
て、同図（Ｃ）に示すスリット１３２を形成することが
できる。
すように、比較的大きい帯状の透過領域を作ることがで
きる。印加電圧によってその透過領域を移動できること
は、既に述べた通りであって、同図（Ａ） 、 （Ｂ）
に示す走査装置１２７．１２９を重ね合せることによっ
て、同図（Ｃ）に示すスリット１３２を形成することが
できる。
第１１図は本発明走査装置によってスリットを通過して
光−光変換素子への書込みに応じて変調された読出光を
スクリーンに投射し表示する本発明表示装置の実施例を
示す図である。同図において、１３４は光源、１３５．
１３８はレンズ、１３６．１３７はスポット走査を行う
走査装置、１３９は光−光変換素子、１４０は偏向ビー
ムスプリッタ、１４１は読出光源、１４２は投射レンズ
、１４３はスクリーンである。
光−光変換素子への書込みに応じて変調された読出光を
スクリーンに投射し表示する本発明表示装置の実施例を
示す図である。同図において、１３４は光源、１３５．
１３８はレンズ、１３６．１３７はスポット走査を行う
走査装置、１３９は光−光変換素子、１４０は偏向ビー
ムスプリッタ、１４１は読出光源、１４２は投射レンズ
、１４３はスクリーンである。
像情報を含んだ電磁放射線束をこの走査装置を用いるこ
とで、像情報の一部のみを得ることもでき、上記した第
１１図に示す表示装置における光−光変換素子１３９へ
の書込み光をトリミングするようにも用いられる。続出
側で透過像を限定しても良い。またこのｖｔ置は絞りや
シャッタとしても用いることができる。このようにして
構成される表示ｖｔ置は、光度″Ｊ４層と、この光度ｖ
Ａ層を挾んで設けられた第１及び第２の電極に電圧を印
加して前記光変調層にスリット状の電磁ｔｌｉ割線束透
過部分を形成する手段と、この透過部分を重ねてスポッ
ト状の電磁放射線束透過部分を形成する手段と、これに
照射する電磁放射線束を、表示情報を含む表示信号で変
調する変調手段と、この電磁放射線束を少なくとも光変
調層を含んで構成された光−光変換素子に占込む手段と
、書込まれた情報に応じて読出光・を変調し表示する手
段を備えたことを特徴とする表示装置である。
とで、像情報の一部のみを得ることもでき、上記した第
１１図に示す表示装置における光−光変換素子１３９へ
の書込み光をトリミングするようにも用いられる。続出
側で透過像を限定しても良い。またこのｖｔ置は絞りや
シャッタとしても用いることができる。このようにして
構成される表示ｖｔ置は、光度″Ｊ４層と、この光度ｖ
Ａ層を挾んで設けられた第１及び第２の電極に電圧を印
加して前記光変調層にスリット状の電磁ｔｌｉ割線束透
過部分を形成する手段と、この透過部分を重ねてスポッ
ト状の電磁放射線束透過部分を形成する手段と、これに
照射する電磁放射線束を、表示情報を含む表示信号で変
調する変調手段と、この電磁放射線束を少なくとも光変
調層を含んで構成された光−光変換素子に占込む手段と
、書込まれた情報に応じて読出光・を変調し表示する手
段を備えたことを特徴とする表示装置である。
〈他の実施例〉
なお、本発明は、何ら上記実施例に限定されるものでは
なく、例えば、上記実施例では走査装置を二つ使用して
スポット光を走査する表示装置を示したが、第４図（Ｇ
）に示す走査装置などを用いるようにしてもよい。
なく、例えば、上記実施例では走査装置を二つ使用して
スポット光を走査する表示装置を示したが、第４図（Ｇ
）に示す走査装置などを用いるようにしてもよい。
また、走査装置を重ね合わせる場合に、透明電極のうち
両者が接する部分のものを共通に構成して、走査ＳｉＮ
に対する印加電圧の一方を共通とするようにしてもよい
。
両者が接する部分のものを共通に構成して、走査ＳｉＮ
に対する印加電圧の一方を共通とするようにしてもよい
。
［発明の効果１
以上説明したように、本発明によれば、可動部分のない
簡易な構成で高速、高解像度の良好な走査装置を提供す
ることができ、また、この装置を用いて高解像度の表示
装置を容易に提供することができ、さらに、電極マトリ
ックスなどの微細加工が要らず、特に、広い透過部分を
形成した場合には画像のトリミングやシャッタ等として
利用することができるという効果がある。
簡易な構成で高速、高解像度の良好な走査装置を提供す
ることができ、また、この装置を用いて高解像度の表示
装置を容易に提供することができ、さらに、電極マトリ
ックスなどの微細加工が要らず、特に、広い透過部分を
形成した場合には画像のトリミングやシャッタ等として
利用することができるという効果がある。
第１図は本発明の第１実施例を示す斜視図、第２図は第
１実施列の作用を示す説明図、第３図は第１実施例にお
いてスポット光走査を行なう印加電圧波形を示すグラフ
、第４図はスポット光の二次元走査を行なう本発明の第
２実施例を示す説明図、第５図は第２実施例の走査装置
を利用して表示を行なう本発明の第３実施例を示す説明
図、第６図（Ａ）〜（Ｆ）は光変調層あるいは電極を帯
状とした本発明走査装置の第４実施例を示す説明図、第
７図は本発明走査Ｖ、ａによって光−光変換素子への書
込を行う本発明表示装置の実施例を示す図、第８図は光
−光変換素子の構成を示す図、第９図は本発明走査装置
によって光−光変換素子への書込みに応じて変調された
読出光をスクリーンに投射し表示する本発明表示装置の
実施例を示す図、第１０図（Ａ）〜（Ｃ）はスポット状
の１退散射線束を形成することを説明する図、第１１図
は本発明走査装置によってスリットを通過して光−光変
換素子への展込みに応じて変調された読出光をスクリー
ンに投射し表示する本発明表示装置の実施例を示す図で
ある。 １０．３０．３２，１０７，１１５，１２７゜１２９．
１３６．１３７・・・走査装置、１２．１４・・・透明
電極、 １６．１００．１１２・・・スリット形成層、１８・・
・透明部、２０．２２・・・端子部、２４．２６・・・
電源、５０，６４．７０・・・表示装置、５２・・・二
次元走査装置、 ５６．１１３．１３４・・・光源、５８・・・表示信号
、６２．６８，１２６．１４３・・・スクリーン、６６
・・・７面光源、７２・・・発光層、１０１・・・スリ
ット状マスク、 １０２．１０５・・・帯状電極、 １０３．１０４・・・帯状光変調材、 １０６−１ｉ１ｊｌ放射線束、 １０８．１１４，１１６，１３５．１３８・・・レンズ
、１０９・・・垂直偏向器、１１０・・・走査面、１１
７．１３９・・・・・・光−光変換素子、１１８・・・
基板、１１９・・・光導１を層、１２０・・・誘電体ミ
ラー層、１２１・・・光変調材、１２２−・・電極、Ｓ
Ａ、Ｓｓ 、Ｓｃ−スリット。 特 許 出願人 日本ビクター株式会社代表者 垣本
邦夫 ２ 図 （Ｂ） ぞ 図 手続補正書 （方式 ） ％式％ 発明の名称 電′４Ｉｉ故用線束走査装冒及び表示装四補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 神奈川県横浜市神奈用区守屋町３丁目１２番地平
成２年８月２８日（発送臼） ５、補正の対象 図面 ６、補正の内容
１実施列の作用を示す説明図、第３図は第１実施例にお
いてスポット光走査を行なう印加電圧波形を示すグラフ
、第４図はスポット光の二次元走査を行なう本発明の第
２実施例を示す説明図、第５図は第２実施例の走査装置
を利用して表示を行なう本発明の第３実施例を示す説明
図、第６図（Ａ）〜（Ｆ）は光変調層あるいは電極を帯
状とした本発明走査装置の第４実施例を示す説明図、第
７図は本発明走査Ｖ、ａによって光−光変換素子への書
込を行う本発明表示装置の実施例を示す図、第８図は光
−光変換素子の構成を示す図、第９図は本発明走査装置
によって光−光変換素子への書込みに応じて変調された
読出光をスクリーンに投射し表示する本発明表示装置の
実施例を示す図、第１０図（Ａ）〜（Ｃ）はスポット状
の１退散射線束を形成することを説明する図、第１１図
は本発明走査装置によってスリットを通過して光−光変
換素子への展込みに応じて変調された読出光をスクリー
ンに投射し表示する本発明表示装置の実施例を示す図で
ある。 １０．３０．３２，１０７，１１５，１２７゜１２９．
１３６．１３７・・・走査装置、１２．１４・・・透明
電極、 １６．１００．１１２・・・スリット形成層、１８・・
・透明部、２０．２２・・・端子部、２４．２６・・・
電源、５０，６４．７０・・・表示装置、５２・・・二
次元走査装置、 ５６．１１３．１３４・・・光源、５８・・・表示信号
、６２．６８，１２６．１４３・・・スクリーン、６６
・・・７面光源、７２・・・発光層、１０１・・・スリ
ット状マスク、 １０２．１０５・・・帯状電極、 １０３．１０４・・・帯状光変調材、 １０６−１ｉ１ｊｌ放射線束、 １０８．１１４，１１６，１３５．１３８・・・レンズ
、１０９・・・垂直偏向器、１１０・・・走査面、１１
７．１３９・・・・・・光−光変換素子、１１８・・・
基板、１１９・・・光導１を層、１２０・・・誘電体ミ
ラー層、１２１・・・光変調材、１２２−・・電極、Ｓ
Ａ、Ｓｓ 、Ｓｃ−スリット。 特 許 出願人 日本ビクター株式会社代表者 垣本
邦夫 ２ 図 （Ｂ） ぞ 図 手続補正書 （方式 ） ％式％ 発明の名称 電′４Ｉｉ故用線束走査装冒及び表示装四補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 神奈川県横浜市神奈用区守屋町３丁目１２番地平
成２年８月２８日（発送臼） ５、補正の対象 図面 ６、補正の内容
Claims (10)
- （１）電気光学効果を示す光変調層と、 この光変調層を挟んで設けられた第１及び第２の電極と
、 これらの電極に電圧を印加して前記光変調層にスリット
状の電磁放射線束透過部分を形成する電源とを備えたこ
とを特徴とする電磁放射線束走査装置。 - （２）請求項１記載の走査装置を重ねてスポット状の電
磁放射線束透過部分を形成することを特徴とする電磁放
射線束走査装置。 - （３）請求項１記載の走査装置に、そのスリット方向と
交差する方向の帯状電磁放射線束を照射することによっ
てスポット状の電磁放射線束を形成することを特徴とす
る電磁放射線束走査装置。 - （４）光変調層と、 この光変調層を挟んで設けられた第１及び第２の電極を
備え、 少なくとも前記光変調層、前記第１及び第２の電極のい
ずれかを帯状とし、前記第１及び第２の電極に電圧を印
加してスポット状の電磁放射線束透過部分を形成する手
段を備えたことを特徴とする電磁放射線束走査装置。 - （５）光変調層と、 この光変調層を挟んで設けられた第１及び第２の電極を
備え、 少なくとも前記光変調層、前記第１及び第２の電極のい
ずれかを帯状とし、前記第１及び第２の電極に電圧を印
加してスリット状の透過部分を形成する手段と、 このスリット状の透過部分と略直交する方向に、スリッ
ト状の透過部分をもつマスクを重ねてスポット状の電磁
放射線束透過部分を形成する手段を備えたことを特徴と
する電磁放射線束走査装置。 - （６）請求項４、５のいずれかに記載の走査装置であっ
て、スポット状の電磁放射線束透過部分の走査方向と略
直交する方向に透過した電磁放射線束を偏向する手段を
備えたことを特徴とする電磁放射線束走査装置。 - （７）請求項１〜３のいずれかに記載の走査装置を使用
するとともに、これに照射する電磁放射線束を、表示情
報を含む表示信号で変調する変調手段を備えたことを特
徴とする表示装置。 - （８）請求項４、５のいずれかに記載の走査装置を使用
するとともに、これに照射する電磁放射線束を、表示情
報を含む表示信号で変調する変調手段と、 この電磁放射線束を、少なくとも光導電層と光変調層を
含んで構成された光−光変換素子に書込む手段と、 書込まれた情報に応じて読出光を変調し表示する手段を
備えたことを特徴とする表示装置。 - （９）光変調層と、 この光変調層を挟んで設けられた第１及び第２の電極に
電圧を印加して前記光変調層にスリット状の電磁放射線
束透過部分を形成する手段と、この透過部分を重ねてス
ポット状の電磁放射線束透過部分を形成する手段と、 これに照射する電磁放射線束を、表示情報を含む表示信
号で変調する変調手段と、 この電磁放射線束を少なくとも光変調層を含んで構成さ
れた光−光変換素子に書込む手段と、書込まれた情報に
応じて読出光を変調し表示する手段を備えたことを特徴
とする表示装置。 - （１０）光変調層と、 この光変調層を挟んで設けられた第１及び第２の電極に
電圧を印加して前記光変調層にスリット状の電磁放射線
束透過部分を形成する手段と、そのスリット方向と交差
する方向の帯状電磁放射線束を照射することによつてス
ポット状の電磁放射線束透過部分を形成する手段と、 照射する電磁放射線束を表示情報を含む表示信号で変調
する変調手段と、 この電磁放射線束を少なくとも光変調層を含んで構成さ
れた光−光変換素子に書込む手段と、書込まれた情報に
応じて読出光を変調し表示する手段を備えたことを特徴
とする表示装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1-164855 | 1989-06-27 | ||
| JP16485589 | 1989-06-27 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03129328A true JPH03129328A (ja) | 1991-06-03 |
Family
ID=15801196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2129967A Pending JPH03129328A (ja) | 1989-06-27 | 1990-05-18 | 電磁放射線束走査装置及び表示装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5144471A (ja) |
| JP (1) | JPH03129328A (ja) |
Families Citing this family (38)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5381253A (en) * | 1991-11-14 | 1995-01-10 | Board Of Regents Of University Of Colorado | Chiral smectic liquid crystal optical modulators having variable retardation |
| US5381252A (en) * | 1993-06-22 | 1995-01-10 | Chunghawa Picture Tubes, Ltd. | Opposed scanning electron beams light source for projection LCD |
| US5710655A (en) * | 1993-07-21 | 1998-01-20 | Apeldyn Corporation | Cavity thickness compensated etalon filter |
| US5479187A (en) * | 1994-02-23 | 1995-12-26 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Vertically scanned narrow light beam source for LCD display |
| US5592193A (en) * | 1994-03-10 | 1997-01-07 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Backlighting arrangement for LCD display panel |
| US5801800A (en) * | 1996-04-29 | 1998-09-01 | Motorola, Inc. | Visual display system for display resolution enhancement |
| US6211991B1 (en) * | 1998-06-16 | 2001-04-03 | Photon Dynamics, Inc. | Modulator manufacturing process and device |
| US6151153A (en) * | 1998-06-16 | 2000-11-21 | Photon Dynamics, Inc. | Modulator transfer process and assembly |
| US8412377B2 (en) | 2000-01-24 | 2013-04-02 | Irobot Corporation | Obstacle following sensor scheme for a mobile robot |
| US8788092B2 (en) | 2000-01-24 | 2014-07-22 | Irobot Corporation | Obstacle following sensor scheme for a mobile robot |
| US6956348B2 (en) | 2004-01-28 | 2005-10-18 | Irobot Corporation | Debris sensor for cleaning apparatus |
| US6690500B2 (en) * | 2000-06-30 | 2004-02-10 | Pioneer Corporation | Aberration correction apparatus and method |
| US6690134B1 (en) | 2001-01-24 | 2004-02-10 | Irobot Corporation | Method and system for robot localization and confinement |
| US7571511B2 (en) | 2002-01-03 | 2009-08-11 | Irobot Corporation | Autonomous floor-cleaning robot |
| US8396592B2 (en) | 2001-06-12 | 2013-03-12 | Irobot Corporation | Method and system for multi-mode coverage for an autonomous robot |
| US7663333B2 (en) | 2001-06-12 | 2010-02-16 | Irobot Corporation | Method and system for multi-mode coverage for an autonomous robot |
| US9128486B2 (en) | 2002-01-24 | 2015-09-08 | Irobot Corporation | Navigational control system for a robotic device |
| US8386081B2 (en) | 2002-09-13 | 2013-02-26 | Irobot Corporation | Navigational control system for a robotic device |
| US8428778B2 (en) | 2002-09-13 | 2013-04-23 | Irobot Corporation | Navigational control system for a robotic device |
| US7332890B2 (en) | 2004-01-21 | 2008-02-19 | Irobot Corporation | Autonomous robot auto-docking and energy management systems and methods |
| DE112005000738T5 (de) | 2004-03-29 | 2007-04-26 | Evolution Robotics, Inc., Pasadena | Verfahren und Vorrichtung zur Positionsbestimmung unter Verwendung von reflektierten Lichtquellen |
| ATE536577T1 (de) | 2004-06-24 | 2011-12-15 | Irobot Corp | Fernbediente ablaufsteuerung und verfahren für eine autonome robotervorrichtung |
| US8972052B2 (en) | 2004-07-07 | 2015-03-03 | Irobot Corporation | Celestial navigation system for an autonomous vehicle |
| US7706917B1 (en) | 2004-07-07 | 2010-04-27 | Irobot Corporation | Celestial navigation system for an autonomous robot |
| US7620476B2 (en) | 2005-02-18 | 2009-11-17 | Irobot Corporation | Autonomous surface cleaning robot for dry cleaning |
| DE602006014364D1 (de) | 2005-02-18 | 2010-07-01 | Irobot Corp | Autonomer oberflächenreinigungsroboter für nass- und trockenreinigung |
| US8392021B2 (en) | 2005-02-18 | 2013-03-05 | Irobot Corporation | Autonomous surface cleaning robot for wet cleaning |
| US8930023B2 (en) | 2009-11-06 | 2015-01-06 | Irobot Corporation | Localization by learning of wave-signal distributions |
| US7403677B1 (en) * | 2005-05-11 | 2008-07-22 | Agiltron, Inc. | Fiberoptic reconfigurable devices with beam shaping for low-voltage operation |
| ES2706729T3 (es) | 2005-12-02 | 2019-04-01 | Irobot Corp | Sistema de robot |
| ATE442619T1 (de) | 2005-12-02 | 2009-09-15 | Irobot Corp | Modularer roboter |
| EP2816434A3 (en) | 2005-12-02 | 2015-01-28 | iRobot Corporation | Autonomous coverage robot |
| US7441298B2 (en) | 2005-12-02 | 2008-10-28 | Irobot Corporation | Coverage robot mobility |
| EP2466411B1 (en) | 2005-12-02 | 2018-10-17 | iRobot Corporation | Robot system |
| US20090044370A1 (en) | 2006-05-19 | 2009-02-19 | Irobot Corporation | Removing debris from cleaning robots |
| US8417383B2 (en) | 2006-05-31 | 2013-04-09 | Irobot Corporation | Detecting robot stasis |
| KR101529848B1 (ko) | 2007-05-09 | 2015-06-17 | 아이로보트 코퍼레이션 | 표면 처리 로봇 |
| JP5647269B2 (ja) | 2010-02-16 | 2014-12-24 | アイロボット コーポレイション | 掃除機ブラシ |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2365174A1 (fr) * | 1976-09-17 | 1978-04-14 | Commissariat Energie Atomique | Procede de commande d'un dispositif d'affichage analogique a bande discontinue de cristal liquide et circuit pour la mise en oeuvre de ce procede |
| US4236150A (en) * | 1978-10-18 | 1980-11-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Liquid crystal display system |
| US4911536A (en) * | 1986-05-08 | 1990-03-27 | Ditzik Richard J | Interactive graphic comunications terminal |
| JPS6446731A (en) * | 1987-08-17 | 1989-02-21 | Canon Kk | Optical modulator |
-
1990
- 1990-05-18 JP JP2129967A patent/JPH03129328A/ja active Pending
- 1990-06-26 US US07/543,404 patent/US5144471A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5144471A (en) | 1992-09-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH03129328A (ja) | 電磁放射線束走査装置及び表示装置 | |
| EP0356174B1 (en) | Reproducing apparatus for charge latent image recording medium | |
| US4611245A (en) | Real-time ultra-high resolution image projection display using laser-addressed liquid crystal light valve | |
| JP3824290B2 (ja) | アレイ型光変調素子、アレイ型露光素子、及び平面型ディスプレイ、並びにアレイ型光変調素子の駆動方法 | |
| JPS62500123A (ja) | 複数の光ビ−ムを走査して情報変調するための電気光学的装置 | |
| EP0079958B1 (en) | High resolution optical-addressing apparatus | |
| US3609002A (en) | Multiple element optical memory structures using fine grain ferroelectric ceramics | |
| DE2210310C2 (de) | Reprografisches System | |
| US4158201A (en) | Flat electro optic display panel and method of using same | |
| JPS5878118A (ja) | 二次元電気光学変調器 | |
| US5150226A (en) | Method and apparatus for repeatedly recording optical image information and image pickup device | |
| US4561727A (en) | Two-dimensional acousto-optic deflection arrangement | |
| US4894724A (en) | System and method for producing a flicker-free video image | |
| US4432071A (en) | Apparatus for fast access to a series of stored images | |
| Sprague et al. | Linear total internal reflection spatial light modulator for laser printing | |
| CA2006800C (en) | Photo-modulation method and system for reproducing charge latent image | |
| US4946264A (en) | Electro-optic signal processing apparatus | |
| EP0403307A2 (en) | Method for operating photo-to-photo transducer | |
| US5055936A (en) | Charge latent image recording medium and recording/reproducing apparatus thereof | |
| Casasent | Spatial light modulators and their use in optical data processing | |
| JPH02301716A (ja) | 光―光変換方法及び表示装置 | |
| JPH0230497B2 (ja) | ||
| JPH0271167A (ja) | 表面電位分布検出装置 | |
| JPH0434407A (ja) | 光―光変換方法及び表示装置 | |
| JPS6040618B2 (ja) | 画像表示装置 |