JPH03123627A - 金属蒸気発生装置およびその運転方法 - Google Patents
金属蒸気発生装置およびその運転方法Info
- Publication number
- JPH03123627A JPH03123627A JP25891789A JP25891789A JPH03123627A JP H03123627 A JPH03123627 A JP H03123627A JP 25891789 A JP25891789 A JP 25891789A JP 25891789 A JP25891789 A JP 25891789A JP H03123627 A JPH03123627 A JP H03123627A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal
- raw material
- electron gun
- container
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 114
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 16
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 63
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 32
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 20
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims abstract description 20
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 3
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 abstract 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000005372 isotope separation Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000011017 operating method Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は、電子銃を用いて金属の同位体を分離させる金
属蒸気発生装置の運転方法に係り、特に電子銃にトリッ
プが生ずるおそれのない金属蒸気発生装置およびその運
転方法に関する。
属蒸気発生装置の運転方法に係り、特に電子銃にトリッ
プが生ずるおそれのない金属蒸気発生装置およびその運
転方法に関する。
(従来の技術)
レーザを利用した金属原子同位体の分離濃縮技術は、従
来のガス拡散法、ノズル法、化学交換法、遠心分離法な
どと比較すると分離効率が非常に大きく、多段の分離用
カスケードを組む必要がないので設備の簡素化が図られ
る。
来のガス拡散法、ノズル法、化学交換法、遠心分離法な
どと比較すると分離効率が非常に大きく、多段の分離用
カスケードを組む必要がないので設備の簡素化が図られ
る。
第3図はレーザ法による同位体分離装置を概略的に示し
た模式図である。この同位体分離装置1は、真空容器2
内に蒸気封入容器3を収容し、この蒸気封入容器3の下
方に蒸発用るつぼ4が設置される。蒸発用るつぼ4は、
上方に開口する収納凹部内に、被分離同位体金属からな
る金属原料5を収容する。
た模式図である。この同位体分離装置1は、真空容器2
内に蒸気封入容器3を収容し、この蒸気封入容器3の下
方に蒸発用るつぼ4が設置される。蒸発用るつぼ4は、
上方に開口する収納凹部内に、被分離同位体金属からな
る金属原料5を収容する。
一方電子銃6から射出される電子ビーム7は、偏向磁場
8によって偏向され、金属原料5に照射される。すると
、金属原料5は加熱されて溶融・蒸発し、同位体金属の
蒸気流9を連続的に発生する。
8によって偏向され、金属原料5に照射される。すると
、金属原料5は加熱されて溶融・蒸発し、同位体金属の
蒸気流9を連続的に発生する。
こうして発生した金属蒸気流9は、蒸気封入容器3内を
上昇するが、その間この金属蒸気流9には、図示しない
レーザ装置から選択励起レーザ光10が照射される。こ
のレーザ光10は、分離しようとする特定の同位体の共
鳴吸収線に相当する周波数を有するため、レーザ光10
は照射を受けた同位体金属は、上述の特定の同位体だけ
が励起されてイオン化し、正電荷を有するイオン同位体
11となる。したがってこのイオン同位体11は、蒸気
封入容器3の上部にある陽電極12と陰電極13を交互
に配置した電極間の電界空間を通過する際、陰電極13
側に引寄せられて、その表面に吸着し、回収される。
上昇するが、その間この金属蒸気流9には、図示しない
レーザ装置から選択励起レーザ光10が照射される。こ
のレーザ光10は、分離しようとする特定の同位体の共
鳴吸収線に相当する周波数を有するため、レーザ光10
は照射を受けた同位体金属は、上述の特定の同位体だけ
が励起されてイオン化し、正電荷を有するイオン同位体
11となる。したがってこのイオン同位体11は、蒸気
封入容器3の上部にある陽電極12と陰電極13を交互
に配置した電極間の電界空間を通過する際、陰電極13
側に引寄せられて、その表面に吸着し、回収される。
一方、イオン化されない同位体、すなわちその共鳴吸収
線の周波数がレーザ光の周波数と一致しない同位体の蒸
気流は、電界の影響を受けず、電極12と13の間を素
通りして蒸気封入容器3の上端に配設した蒸気流捕集板
14に捕集される。
線の周波数がレーザ光の周波数と一致しない同位体の蒸
気流は、電界の影響を受けず、電極12と13の間を素
通りして蒸気封入容器3の上端に配設した蒸気流捕集板
14に捕集される。
ところで、蒸気封入容器3の外側には、例えば粒状の補
給用金属原料15を収容する補給容器16が付設される
。この補給容器16の下部にはヒータ17が取付けられ
ているが、この部分は先細りとなっており、さらにその
下端は蒸発用るつぼ4の上方で開口する。
給用金属原料15を収容する補給容器16が付設される
。この補給容器16の下部にはヒータ17が取付けられ
ているが、この部分は先細りとなっており、さらにその
下端は蒸発用るつぼ4の上方で開口する。
したがって電子ビーム7の照射によって金属蒸気流9の
発生が続き、蒸発用るつぼ4内の金属原料5が枯渇して
きたときは、補給容器16に設置されたヒータ17を稼
働させる。すると補給容器16に収容されていた粒状の
補給用金属原料15は、加熱されて溶融し、補給容器1
6の下端から蒸発用るつぼ4内に滴下する。その結果、
蒸発用るつぼ4内の金属原料5は補給される。
発生が続き、蒸発用るつぼ4内の金属原料5が枯渇して
きたときは、補給容器16に設置されたヒータ17を稼
働させる。すると補給容器16に収容されていた粒状の
補給用金属原料15は、加熱されて溶融し、補給容器1
6の下端から蒸発用るつぼ4内に滴下する。その結果、
蒸発用るつぼ4内の金属原料5は補給される。
(発明が解決しようとする課題)
このような同位体分離装置1においては、金属原料の補
給の際にも電子ビーム7を照射し続けることにより、連
続的に金属上気流を得られるという利点がある。しかし
、もし真空容器2内の真空度が低下すると、電子銃6か
ら放電が発生して電子銃6にピーク電流が流れる。する
と電子銃6内の回路は遮断されて電子銃6がトリップす
るため、その修理にかかる長い時間金属蒸気流9を得る
ことはできなくなる。
給の際にも電子ビーム7を照射し続けることにより、連
続的に金属上気流を得られるという利点がある。しかし
、もし真空容器2内の真空度が低下すると、電子銃6か
ら放電が発生して電子銃6にピーク電流が流れる。する
と電子銃6内の回路は遮断されて電子銃6がトリップす
るため、その修理にかかる長い時間金属蒸気流9を得る
ことはできなくなる。
そこでこのような事態を防止するためには、真空容器2
内の真空度を放電が生じない一定の許容水準以下に保た
なければならないが、上述のような原料補給方式の場合
は補給量を十分にコントロールすることができず、時々
補給量が多くなり過ぎることかある。するとこのような
補給時には金属蒸気流9が大量に発生し、第4図(A)
と(B)に示した電子銃出力と真空容器内の気圧の関係
からも分かるように、真空容器2内の真空度が一時的に
許容水準を超えることがある。
内の真空度を放電が生じない一定の許容水準以下に保た
なければならないが、上述のような原料補給方式の場合
は補給量を十分にコントロールすることができず、時々
補給量が多くなり過ぎることかある。するとこのような
補給時には金属蒸気流9が大量に発生し、第4図(A)
と(B)に示した電子銃出力と真空容器内の気圧の関係
からも分かるように、真空容器2内の真空度が一時的に
許容水準を超えることがある。
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであって、連続
的に原料を補給できる同位体分離装置(金属蒸気発生装
置)において、真空容器内の真空度を常に放電を防止す
る一定の許容水準以下に保ち、電子銃にトリップが生ず
るおそれのない金属蒸気発生装置およびその運転方法を
提供することを目的とする。
的に原料を補給できる同位体分離装置(金属蒸気発生装
置)において、真空容器内の真空度を常に放電を防止す
る一定の許容水準以下に保ち、電子銃にトリップが生ず
るおそれのない金属蒸気発生装置およびその運転方法を
提供することを目的とする。
(課題を解決するための手段)
本発明は上記課題を解決するために、金属原料を収容し
た蒸発用るつぼと、上記金属原料を加熱して溶融・蒸発
させる電子ビームを射出する電子銃と、上記電子ビーム
の照射により蒸発した金属蒸気を案内する蒸気封入容器
と、補給用金属原料を収容する補給容器とを真空容器内
に備えた金属蒸気発生発生装置を運転する際、真空容器
内の真空度が低下する金属原料の供給時には電子銃の出
力を下げ、その後真空度の回復に合わせて電子銃の出力
を上昇させる金属蒸気発生装置の運転方法を提供する。
た蒸発用るつぼと、上記金属原料を加熱して溶融・蒸発
させる電子ビームを射出する電子銃と、上記電子ビーム
の照射により蒸発した金属蒸気を案内する蒸気封入容器
と、補給用金属原料を収容する補給容器とを真空容器内
に備えた金属蒸気発生発生装置を運転する際、真空容器
内の真空度が低下する金属原料の供給時には電子銃の出
力を下げ、その後真空度の回復に合わせて電子銃の出力
を上昇させる金属蒸気発生装置の運転方法を提供する。
また本発明は、金属原料を収容した蒸発用るつぼと、上
記金属原料を加熱して溶融・蒸発させる電子ビームを射
出する電子銃と、上記電子ビームの照射により蒸発した
金属蒸気を案内する蒸気封入容器と、補給用金属原料を
収容する補給容器とを真空容器内に備え、上記真空容器
に取付けられた真空計と接続するコントローラによって
電子ビームへの給電を制御する金属蒸気発生発生装置に
おいて、前記補給容器にフィーダを取付け、このフィー
ダを前記コントローラと電気的に接続したことを特徴と
する金属蒸気発生装置をも提供する。
記金属原料を加熱して溶融・蒸発させる電子ビームを射
出する電子銃と、上記電子ビームの照射により蒸発した
金属蒸気を案内する蒸気封入容器と、補給用金属原料を
収容する補給容器とを真空容器内に備え、上記真空容器
に取付けられた真空計と接続するコントローラによって
電子ビームへの給電を制御する金属蒸気発生発生装置に
おいて、前記補給容器にフィーダを取付け、このフィー
ダを前記コントローラと電気的に接続したことを特徴と
する金属蒸気発生装置をも提供する。
(作用)
本発明においては、金属原料を収容した蒸発用るつぼと
、上記金属原料を加熱して溶融・蒸発させる電子ビーム
を射出する電子銃と、上記電子ビームの照射により蒸発
した金属蒸気を案内する蒸気封入容器と、補給用金属原
料を収容する補給容器とを真空容器内に備えた金属蒸気
発生発生装置を運転する際、真空容器内の真空度が放電
を発生しない許容水準を超えるおそれのある金属原料の
供給時には、予め電子銃の出力を下げて電子ビームを照
射する。この間真空容器内の真空度を計測し、その後は
真空度が許容水準以下であることを確認しながら電子銃
の出力を上昇させる。したがって本発明によれば、真空
容器内に放電が発生して電子銃がトリップするおそれは
ない。
、上記金属原料を加熱して溶融・蒸発させる電子ビーム
を射出する電子銃と、上記電子ビームの照射により蒸発
した金属蒸気を案内する蒸気封入容器と、補給用金属原
料を収容する補給容器とを真空容器内に備えた金属蒸気
発生発生装置を運転する際、真空容器内の真空度が放電
を発生しない許容水準を超えるおそれのある金属原料の
供給時には、予め電子銃の出力を下げて電子ビームを照
射する。この間真空容器内の真空度を計測し、その後は
真空度が許容水準以下であることを確認しながら電子銃
の出力を上昇させる。したがって本発明によれば、真空
容器内に放電が発生して電子銃がトリップするおそれは
ない。
また本発明は、上記方法を実施するために、金属原料を
収容した蒸発用るつぼと、上記金属原料を加熱して溶融
・蒸発させる電子ビームを射出する電子銃と、上記電子
ビームの照射により蒸発した金属蒸気を案内する蒸気封
入容器と、補給用金属原料を収容する補給容器とを真空
容器内に備え、上記真空容器に取付けられた真空計と接
続するコントローラによって電子ビームへの給電を制御
する金属蒸気発生発生装置において、前記補給容器にフ
ィーダを取付け、このフィーダを前記コントローラと電
気的に接続する。こうすることによって真空度を計測し
ながら、電子銃の出力と補給用金属原料の供給を制御す
ることが可能になる。
収容した蒸発用るつぼと、上記金属原料を加熱して溶融
・蒸発させる電子ビームを射出する電子銃と、上記電子
ビームの照射により蒸発した金属蒸気を案内する蒸気封
入容器と、補給用金属原料を収容する補給容器とを真空
容器内に備え、上記真空容器に取付けられた真空計と接
続するコントローラによって電子ビームへの給電を制御
する金属蒸気発生発生装置において、前記補給容器にフ
ィーダを取付け、このフィーダを前記コントローラと電
気的に接続する。こうすることによって真空度を計測し
ながら、電子銃の出力と補給用金属原料の供給を制御す
ることが可能になる。
(実施例)
以下第1図ないし第3図を参照して本発明の詳細な説明
する。
する。
第1図は本発明の方法を実施する金属蒸気発生装置20
の一例を示す模式図である。第3図と同様の箇所には同
一の符号を付してその説明を省略する。
の一例を示す模式図である。第3図と同様の箇所には同
一の符号を付してその説明を省略する。
この金属蒸気発生装置20においては、真空容器2に真
空計21を取付け、この真空計21をコントローラ22
と接続する。そしてコントローラ22は、電子銃6に給
電する電子銃電源23、および補給容器16の下部に取
付けた補給用金属原料15のフィーダ24に給電するフ
ィーダ電源25とも接続する。
空計21を取付け、この真空計21をコントローラ22
と接続する。そしてコントローラ22は、電子銃6に給
電する電子銃電源23、および補給容器16の下部に取
付けた補給用金属原料15のフィーダ24に給電するフ
ィーダ電源25とも接続する。
この金属蒸気発生装置20において本発明の方法を実施
する場合は、まず蒸発用るつぼ4内に金属原料5が満た
され、補給容器16から補給用金属原料15を補給しな
い状態で、電子銃電源23から電子銃6に給電し、電子
ビーム7を射出する。
する場合は、まず蒸発用るつぼ4内に金属原料5が満た
され、補給容器16から補給用金属原料15を補給しな
い状態で、電子銃電源23から電子銃6に給電し、電子
ビーム7を射出する。
電子ビーム7は、偏向磁場8によって偏向され、金属原
料5に照射される。その結果金属原料5は加熱されて溶
融・蒸発し、同位体金属の蒸気流9を連続的に発生する
。
料5に照射される。その結果金属原料5は加熱されて溶
融・蒸発し、同位体金属の蒸気流9を連続的に発生する
。
その後金属蒸気流9は、上述のように選択励起レーザ光
10と電極12.13および蒸気流捕集板14によって
イオン同位体11の分離・回収が行われる。
10と電極12.13および蒸気流捕集板14によって
イオン同位体11の分離・回収が行われる。
このようにして電子ビーム7の照射による金属蒸気流9
の発生が続くと、蒸発用るつぼ4内の金属原料5による
液面は低下するため、金属蒸気流9を連続的に発生させ
るには金属原料5を補給して液面をほぼ一定に保つ必要
が生ずる。このとき本実施例の方法においては、まずコ
ントローラ22から電子銃電源23へ電子銃6への給電
を抑制するよう信号を送る。その結果電子銃電源23か
ら電子銃6への給電は低減され、電子銃7の出力は低下
する。このときの電子銃の出力は元の1/2〜115ぐ
らいにするのが好ましい。そうすると電子ビーム7の照
射量は少なくなり、金属原料5の加熱の程度が低下して
金属蒸気流9の発生量が減少するため、真空容器2内の
気圧は下がる(真空度が高まる)。
の発生が続くと、蒸発用るつぼ4内の金属原料5による
液面は低下するため、金属蒸気流9を連続的に発生させ
るには金属原料5を補給して液面をほぼ一定に保つ必要
が生ずる。このとき本実施例の方法においては、まずコ
ントローラ22から電子銃電源23へ電子銃6への給電
を抑制するよう信号を送る。その結果電子銃電源23か
ら電子銃6への給電は低減され、電子銃7の出力は低下
する。このときの電子銃の出力は元の1/2〜115ぐ
らいにするのが好ましい。そうすると電子ビーム7の照
射量は少なくなり、金属原料5の加熱の程度が低下して
金属蒸気流9の発生量が減少するため、真空容器2内の
気圧は下がる(真空度が高まる)。
このようにして電子銃6の出力を低下させたら、今度は
コントローラ22からフィーダ電源25ヘフイーダ24
への給電を開始するよう信号を送る。
コントローラ22からフィーダ電源25ヘフイーダ24
への給電を開始するよう信号を送る。
するとフィーダ電源25からフィーダ24へ給電が開始
されるが、このときヒータ17も稼働する。
されるが、このときヒータ17も稼働する。
その結果、補給容器16に収容されていた粒状の補給用
金属原料15は、ヒータ17に加熱されて溶融し、さら
にフィーダ24によって下方に送出される。こうして補
給用金属原料15は補給容器16の下端から蒸発用るっ
ぽ4内に滴下し、蒸発用るつぼ4内の金属原料5は補給
される。
金属原料15は、ヒータ17に加熱されて溶融し、さら
にフィーダ24によって下方に送出される。こうして補
給用金属原料15は補給容器16の下端から蒸発用るっ
ぽ4内に滴下し、蒸発用るつぼ4内の金属原料5は補給
される。
すると、金属原料5の増量に伴って一時的に金属上気流
9の発生が増加し、真空容器2内の真空度は低下する。
9の発生が増加し、真空容器2内の真空度は低下する。
しかし前述のように、真空容器2内の気圧は予め十分低
くしであるため、真空容器2内の気圧が直ちに放電を起
こさないための許容水準を超えることはない。
くしであるため、真空容器2内の気圧が直ちに放電を起
こさないための許容水準を超えることはない。
一方この間の真空度の変動は真空容器2に取付けた真空
計21で計測しておき、その計測値はコントローラ22
に伝達する。したがって、真空度が低下して放電を起こ
さないための許容水準に近づいてきたら、コントローラ
22からフィーダ電源25にフィーダ24への給電を停
止するよう信号を送る。するとフィーダ電源25からフ
ィーダ24への給電は停止され、フィーダ24は停止す
る。したがってそれ以降の金属原料5の増量は行われな
い。
計21で計測しておき、その計測値はコントローラ22
に伝達する。したがって、真空度が低下して放電を起こ
さないための許容水準に近づいてきたら、コントローラ
22からフィーダ電源25にフィーダ24への給電を停
止するよう信号を送る。するとフィーダ電源25からフ
ィーダ24への給電は停止され、フィーダ24は停止す
る。したがってそれ以降の金属原料5の増量は行われな
い。
金属原料5の補給が終わってしばらくすると真空度低下
の割合は収まってくる。そして、真空度の水準が電子銃
7の出力を抑える以前の水準に近づいたら、コントロー
ラ22から電子銃電源23へ電子銃6への給電量を元に
戻すよう信号を送る。
の割合は収まってくる。そして、真空度の水準が電子銃
7の出力を抑える以前の水準に近づいたら、コントロー
ラ22から電子銃電源23へ電子銃6への給電量を元に
戻すよう信号を送る。
その結果電子銃電源23から電子銃6への給電は増加し
、電子銃7の出力は元に戻る。したがって電子ビーム7
の照射量が回復し、金属原料5の加熱の程度が高まって
金属蒸気流9の発生量も元の水準に回復する。このため
、真空容器2内の気圧は、電子銃の出力を低下させる以
前の水準に維持される。
、電子銃7の出力は元に戻る。したがって電子ビーム7
の照射量が回復し、金属原料5の加熱の程度が高まって
金属蒸気流9の発生量も元の水準に回復する。このため
、真空容器2内の気圧は、電子銃の出力を低下させる以
前の水準に維持される。
これまで説明した電子銃の出力と真空容器内の気圧の関
係を第2図(A)と(B)にまとめて示す。
係を第2図(A)と(B)にまとめて示す。
このように本実施例によれば、真空容器2に真空計21
を取付け、ここでの計測値をコントローラ22に送る。
を取付け、ここでの計測値をコントローラ22に送る。
そしてコントローラ22は、その計測値を基に電子銃6
の出力と補給用金属原料15のフィーダ24の稼働をコ
ントロールし、金属原料5の補給時に真空容器2内の真
空度が放電を起こさないための許容水準を破らないよう
にする。
の出力と補給用金属原料15のフィーダ24の稼働をコ
ントロールし、金属原料5の補給時に真空容器2内の真
空度が放電を起こさないための許容水準を破らないよう
にする。
以上説明したように、本発明においては、金属原料を収
容した蒸発用るつぼと、上記金属原料を加熱して溶融・
蒸発させる電子ビームを射出する電子銃と、上記電子ビ
ームの照射により蒸発した金属蒸気を案内する蒸気封入
容器と、補給用金属原料を収容する補給容器とを真空容
器内に備えた金属蒸気発生発生装置を運転する際、真空
容器内の真空度が放電を発生しない許容水準を超えるお
それのある金属原料の供給時には、予め電子銃の出力を
下げて電子ビームを照射する。この間真空容器内の真空
度を計測し、その後は真空度が許容水準以下であること
を確認しながら電子銃の出力を上昇させる。したがって
本発明によれば、真空容器内に放電が発生して電子銃が
トリップするおそれはない。
容した蒸発用るつぼと、上記金属原料を加熱して溶融・
蒸発させる電子ビームを射出する電子銃と、上記電子ビ
ームの照射により蒸発した金属蒸気を案内する蒸気封入
容器と、補給用金属原料を収容する補給容器とを真空容
器内に備えた金属蒸気発生発生装置を運転する際、真空
容器内の真空度が放電を発生しない許容水準を超えるお
それのある金属原料の供給時には、予め電子銃の出力を
下げて電子ビームを照射する。この間真空容器内の真空
度を計測し、その後は真空度が許容水準以下であること
を確認しながら電子銃の出力を上昇させる。したがって
本発明によれば、真空容器内に放電が発生して電子銃が
トリップするおそれはない。
また本発明は、上記方法を実施するために、金属原料を
収容した蒸発用るつぼと、」二記金属原料を加熱して溶
融・蒸発させる電子ビームを射出する電子銃と、上記電
子ビームの照射により蒸発した金属蒸気を案内する蒸気
封入容器と、補給用金属原料を収容する補給容器とを真
空容器内に備え、上記真空容器に取付けられた真空計と
接続するコントローラによって電子ビームへの給電を制
御する金属蒸気発生装置において、前記補給容器にフイ
ータを取付け、このフィーダを前記コントローラと電気
的に接続する。こうすることによって真空度を計測しな
がら、電子銃の出力と補給用金属原料の供給を制御する
ことが可能になる。
収容した蒸発用るつぼと、」二記金属原料を加熱して溶
融・蒸発させる電子ビームを射出する電子銃と、上記電
子ビームの照射により蒸発した金属蒸気を案内する蒸気
封入容器と、補給用金属原料を収容する補給容器とを真
空容器内に備え、上記真空容器に取付けられた真空計と
接続するコントローラによって電子ビームへの給電を制
御する金属蒸気発生装置において、前記補給容器にフイ
ータを取付け、このフィーダを前記コントローラと電気
的に接続する。こうすることによって真空度を計測しな
がら、電子銃の出力と補給用金属原料の供給を制御する
ことが可能になる。
第1図は本発明の方法を実施する金属蒸気発生装置の一
例を示す図、第2図(A)と(B)は本発明の実施例に
おける電子銃の出力と真空容器内の気圧の関係を示す図
、第3図は従来の金属蒸気発生装置を示す図、第4図(
A)と(B)は従来の金属蒸気発生装置における電子銃
の出力と真空容器内の気圧の関係を示す図である。 5・・・金属原料、6・・・電子銃、16・・・補給容
器、17・・・真空計、22 ・・・コントローラ、2
4・・・フィダ。 第1図
例を示す図、第2図(A)と(B)は本発明の実施例に
おける電子銃の出力と真空容器内の気圧の関係を示す図
、第3図は従来の金属蒸気発生装置を示す図、第4図(
A)と(B)は従来の金属蒸気発生装置における電子銃
の出力と真空容器内の気圧の関係を示す図である。 5・・・金属原料、6・・・電子銃、16・・・補給容
器、17・・・真空計、22 ・・・コントローラ、2
4・・・フィダ。 第1図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、金属原料を収容した蒸発用るつぼと、上記金属原料
を加熱して溶融・蒸発させる電子ビームを射出する電子
銃と、上記電子ビームの照射により蒸発した金属蒸気を
案内する蒸気封入容器と、補給用金属原料を収容する補
給容器とを真空容器内に備えた金属蒸気発生発生装置を
運転する際、真空容器内の真空度が低下する金属原料の
供給時には電子銃の出力を下げ、その後真空度の回復に
合わせて電子銃の出力を上昇させる金属蒸気発生装置の
運転方法。 2、金属原料を収容した蒸発用るつぼと、上記金属原料
を加熱して溶融・蒸発させる電子ビームを射出する電子
銃と、上記電子ビームの照射により蒸発した金属蒸気を
案内する蒸気封入容器と、補給用金属原料を収容する補
給容器とを真空容器内に備え、上記真空容器に取付けら
れた真空計と接続するコントローラによって電子ビーム
への給電を制御する金属蒸気発生発生装置において、前
記補給容器にフィーダを取付け、このフィーダを前記コ
ントローラと電気的に接続したことを特徴とする金属蒸
気発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25891789A JPH03123627A (ja) | 1989-10-05 | 1989-10-05 | 金属蒸気発生装置およびその運転方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25891789A JPH03123627A (ja) | 1989-10-05 | 1989-10-05 | 金属蒸気発生装置およびその運転方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03123627A true JPH03123627A (ja) | 1991-05-27 |
Family
ID=17326826
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25891789A Pending JPH03123627A (ja) | 1989-10-05 | 1989-10-05 | 金属蒸気発生装置およびその運転方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03123627A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009545721A (ja) * | 2006-08-03 | 2009-12-24 | チタニウム メタルズ コーポレイション | オーバーヒート検知システム |
-
1989
- 1989-10-05 JP JP25891789A patent/JPH03123627A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009545721A (ja) * | 2006-08-03 | 2009-12-24 | チタニウム メタルズ コーポレイション | オーバーヒート検知システム |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6241062B2 (ja) | 極端紫外光光源装置 | |
JPH03123627A (ja) | 金属蒸気発生装置およびその運転方法 | |
CN214375823U (zh) | 一种液态金属靶极紫外光源*** | |
US3996469A (en) | Floating convection barrier for evaporation source | |
JPH03123626A (ja) | 金属蒸気発生装置の運転方法 | |
US4262160A (en) | Evaporator feed | |
EP0080170A1 (en) | Field-emission-type ion source | |
IL48079A (en) | Apparatus for evaporating a material particularly uranium | |
GB2422719A (en) | Method of producing a dopant gas species | |
US4956845A (en) | Metal vapor laser having means to extend lifetime of tube | |
US2789229A (en) | Ion producing mechanism | |
JPH11273894A (ja) | 薄膜形成装置 | |
JPS5842149A (ja) | セシウムイオン源 | |
JPH03262520A (ja) | 金属蒸気発生装置 | |
JPH03283398A (ja) | X線発生装置 | |
JP2618006B2 (ja) | 負電荷発生装置 | |
JPH0386215A (ja) | 金属蒸気発生装置 | |
JPH0445208B2 (ja) | ||
JPS63178832A (ja) | 同位体分離装置 | |
JP2750465B2 (ja) | イオン発生装置 | |
TW202419971A (zh) | 碎屑減低裝置及具備其的光源裝置 | |
JPS6197020A (ja) | 分離回収セル | |
CN112835274A (zh) | 一种液态金属靶极紫外光源*** | |
JPH0372037A (ja) | 金属蒸気発生装置 | |
JPH03233835A (ja) | イオン発生装置 |