JPH0311603A - 磁心 - Google Patents
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- JPH0311603A JPH0311603A JP1144101A JP14410189A JPH0311603A JP H0311603 A JPH0311603 A JP H0311603A JP 1144101 A JP1144101 A JP 1144101A JP 14410189 A JP14410189 A JP 14410189A JP H0311603 A JPH0311603 A JP H0311603A
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- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的コ
（産業上の利用分野）
本発明は磁心に関し、さらに詳しくは、例えば線形加速
器の誘導磁心およびレーザ用パルス電源に用いられる可
飽和磁心などの高出力パルス磁心に関する。
器の誘導磁心およびレーザ用パルス電源に用いられる可
飽和磁心などの高出力パルス磁心に関する。
（従来の技術）
一般に高出力パルス磁心、例えば線形加速器の誘導磁心
は、本質的に１＝１トランスとして動作し二−二次側ギ
ャップに発生する電圧により、磁心中心部を通る荷電粒
子のビームを加速するものである。
は、本質的に１＝１トランスとして動作し二−二次側ギ
ャップに発生する電圧により、磁心中心部を通る荷電粒
子のビームを加速するものである。
また、レーザ用パルス電源装置には最近高出力かつ高電
圧で作動する磁気方式のパルスコンプレッサが用いられ
ている。このパルスコンプレッサは、電源で発生せしめ
たパルス幅の広い所定のパルスを圧縮してパルス幅は狭
いが高出力めパルスに変換する装置である。この変換動
作はそこに組み込まれた磁心の飽和現象を利用するもの
である。
圧で作動する磁気方式のパルスコンプレッサが用いられ
ている。このパルスコンプレッサは、電源で発生せしめ
たパルス幅の広い所定のパルスを圧縮してパルス幅は狭
いが高出力めパルスに変換する装置である。この変換動
作はそこに組み込まれた磁心の飽和現象を利用するもの
である。
従来、このような高出力パルス用の磁心の材料としては
、高い飽和磁束密度、磁化曲線の高角形比などの性質を
有する鉄基非晶質合金薄帯あるいはコバルト基非晶質合
金薄帯と、ポリイミドフィルムなどの高分子フィルムか
らなる電気絶縁層とが交互に積層または巻回されている
磁心が多用されている。
、高い飽和磁束密度、磁化曲線の高角形比などの性質を
有する鉄基非晶質合金薄帯あるいはコバルト基非晶質合
金薄帯と、ポリイミドフィルムなどの高分子フィルムか
らなる電気絶縁層とが交互に積層または巻回されている
磁心が多用されている。
（発明が解決しようとする課題）
従来のように電気絶縁層としてポリイミドフィルムなど
の高分子フィルムと磁性薄帯とを交互に積層または巻回
した状態で熱処理を施した磁心では、高分子フィルムの
熱収縮により磁性薄帯に圧縮応力が加わるなめ、磁化曲
線の角形比が低下し、磁気特性が低下するという問題点
があった。
の高分子フィルムと磁性薄帯とを交互に積層または巻回
した状態で熱処理を施した磁心では、高分子フィルムの
熱収縮により磁性薄帯に圧縮応力が加わるなめ、磁化曲
線の角形比が低下し、磁気特性が低下するという問題点
があった。
上記問題点を鑑みて、本発明では磁性薄帯と電気絶縁層
との間に粉末を介在させることにより熱処理後において
も磁化曲線の角形比が高い、すなわち磁気特性の良好な
磁心を提供することを目的とする。
との間に粉末を介在させることにより熱処理後において
も磁化曲線の角形比が高い、すなわち磁気特性の良好な
磁心を提供することを目的とする。
［発明の構成］
（課題を解決するための手段および作用）本発明は、一
層または複数層よりなる磁性薄帯と、一層また（′よ複
数層よりなる電気絶縁層とが交互に積層または巻回され
ている磁心において、磁性薄帯と電気絶縁層との間に熱
処理時における磁性薄帯と電気絶縁層相互の影響を緩和
する特性を有する介在物を介在させることを特徴とする
磁心である。
層または複数層よりなる磁性薄帯と、一層また（′よ複
数層よりなる電気絶縁層とが交互に積層または巻回され
ている磁心において、磁性薄帯と電気絶縁層との間に熱
処理時における磁性薄帯と電気絶縁層相互の影響を緩和
する特性を有する介在物を介在させることを特徴とする
磁心である。
本発明における磁性薄帯は特に限定されないが鉄基非晶
質合金、コバルト基非晶質合金あるいは鉄基非晶質合金
に微細な結晶粒を析出さぜな磁性薄帯が好ましい。
質合金、コバルト基非晶質合金あるいは鉄基非晶質合金
に微細な結晶粒を析出さぜな磁性薄帯が好ましい。
上記のような薄帯は、所定組成の合金に例えば溶湯急冷
法などを適用して容易に製造することができる。また薄
帯の厚みは格別限定されるものではないが、例えば５〜
４０μｍであることが好ましく、さらには１２〜３０μ
ｍが好ましい。
法などを適用して容易に製造することができる。また薄
帯の厚みは格別限定されるものではないが、例えば５〜
４０μｍであることが好ましく、さらには１２〜３０μ
ｍが好ましい。
また、本発明における介在物は磁心の熱処理時における
加熱に耐え得るものであれば特に限定はされないが、磁
性薄帯同志の絶縁性をより確実なものとするために電気
絶縁性を有するものが好ましい。
加熱に耐え得るものであれば特に限定はされないが、磁
性薄帯同志の絶縁性をより確実なものとするために電気
絶縁性を有するものが好ましい。
上記介在物の中でも、磁性薄帯と電気絶縁層との間に介
在物を挿入する際の作業性および取り扱い性等を考慮す
ると粉末を用いることが好ましい。
在物を挿入する際の作業性および取り扱い性等を考慮す
ると粉末を用いることが好ましい。
磁性薄帯と電気絶縁層との間へ粉末を介在させる方法と
しては、磁性薄帯あるいは電気絶縁層の表面に粉末を付
着させる方法が作業性が容易であり好ましい。
しては、磁性薄帯あるいは電気絶縁層の表面に粉末を付
着させる方法が作業性が容易であり好ましい。
ここで粉末を磁性薄帯に付着させる場合についての方法
をいくつか説明する。
をいくつか説明する。
１）粉末を水中に分散させ、懸濁液としてこの中に磁性
薄帯を浸漬する。
薄帯を浸漬する。
２）電気泳動法を用いる。
３）スプレーにより磁性薄膜表面に粉末を吹き付ける。
などの方法が考えられる。
この場合、粉末は磁性薄帯の片面あるいは両面のいずれ
に付着させた場合においても本発明の目的とする効果が
得られるが、粉末を磁性薄帯の両面に付着させた場合の
方が、磁心として巻回した場合の磁性薄帯の両面に位置
する電気絶縁層による影響が少なく、好ましいものであ
る。
に付着させた場合においても本発明の目的とする効果が
得られるが、粉末を磁性薄帯の両面に付着させた場合の
方が、磁心として巻回した場合の磁性薄帯の両面に位置
する電気絶縁層による影響が少なく、好ましいものであ
る。
また、電気絶縁層は特に限定されるものではないが、高
温において熱収縮を生しる例えばポリイミドフィルムを
用いた場合に効果がより顕著に現れる。さらに、ポリイ
ミドフィルムを用い、磁歪の比較的大きな鉄系非晶質薄
膜を用いた場合が最も顕著である。
温において熱収縮を生しる例えばポリイミドフィルムを
用いた場合に効果がより顕著に現れる。さらに、ポリイ
ミドフィルムを用い、磁歪の比較的大きな鉄系非晶質薄
膜を用いた場合が最も顕著である。
さらに、本発明における粉末については特に限定はされ
ないが、マグネシウム、シリコン、アルミニウム、ジル
コニウム、チタンなどの酸化物。
ないが、マグネシウム、シリコン、アルミニウム、ジル
コニウム、チタンなどの酸化物。
窒化物２炭化物などの電気絶縁性の粉末゛カイ好ましい
。
。
そのなかで゛も１寺にマグネシウム２シリコン、アルミ
ニウムの酸化物が取り扱いが容易であり安価であるとと
もに簡単に入手できるなめ好ましい。
ニウムの酸化物が取り扱いが容易であり安価であるとと
もに簡単に入手できるなめ好ましい。
また、上記した粉末介在物の形状については特に限定さ
れないが、粒径は０．０５〜４０μｍが好ましい。その
理由としては、あまり粒径が小さければ、本発明の目的
とする効果が得られにくいため好ましくない。他方あま
り粒径が大きければ、磁性薄帯から磁心を製造した際に
磁性体占積率が著しく低下するため好ましくない。より
好ましくは粒径が０６５〜１０μｍである。なお、ここ
で粒径とは粉末を内包する最小線の直径を意味するもの
とする。
れないが、粒径は０．０５〜４０μｍが好ましい。その
理由としては、あまり粒径が小さければ、本発明の目的
とする効果が得られにくいため好ましくない。他方あま
り粒径が大きければ、磁性薄帯から磁心を製造した際に
磁性体占積率が著しく低下するため好ましくない。より
好ましくは粒径が０６５〜１０μｍである。なお、ここ
で粒径とは粉末を内包する最小線の直径を意味するもの
とする。
以下、本発明の磁心を得るための具体的な製造方法の１
例を説明する。
例を説明する。
磁性薄帯と電気絶縁性フィルムの少なくとも−方に粉末
、特に好ましくは電気絶縁性粉末を例えば前記粉末を水
中に分散させた懸濁液中に浸漬後乾燥することにより付
着させ、磁性薄帯と電気絶縁性フィルムとを交互に所定
の巻枠、巻心などに積層または巻回し、熱処理を施すこ
とにより製造される。特に直流あるいは交流磁場中で熱
処理を行うと、得られた磁心の角形比などの磁気特性が
増大する。なお、この場合の磁場の大きさとしてはＯ−
５〜１０００ｅ程度であることが好ましく、さらには２
〜２００ｅ程度が好ましい。
、特に好ましくは電気絶縁性粉末を例えば前記粉末を水
中に分散させた懸濁液中に浸漬後乾燥することにより付
着させ、磁性薄帯と電気絶縁性フィルムとを交互に所定
の巻枠、巻心などに積層または巻回し、熱処理を施すこ
とにより製造される。特に直流あるいは交流磁場中で熱
処理を行うと、得られた磁心の角形比などの磁気特性が
増大する。なお、この場合の磁場の大きさとしてはＯ−
５〜１０００ｅ程度であることが好ましく、さらには２
〜２００ｅ程度が好ましい。
なお、眉間に電気絶縁性粉末を介在させた状態で磁性薄
帯と高分子フィルムからなる電気絶縁層とから磁心を製
造する際、交互に積層または巻回するのであるが、製品
や装置の大きさを考慮すると巻回して磁心を製造する手
段をとるほうが生産性などの理由により産業上より実用
的である。
帯と高分子フィルムからなる電気絶縁層とから磁心を製
造する際、交互に積層または巻回するのであるが、製品
や装置の大きさを考慮すると巻回して磁心を製造する手
段をとるほうが生産性などの理由により産業上より実用
的である。
また、磁性薄帯と電気絶縁層の組合わせは、要求される
特性により、適宜選択することができる。
特性により、適宜選択することができる。
例えば、電気絶縁性が強く要求される場合は電気絶縁層
を２層以上のものとしたり、磁気特性が重要な場合は、
磁性薄帯を２層以上のものとすることができる。
を２層以上のものとしたり、磁気特性が重要な場合は、
磁性薄帯を２層以上のものとすることができる。
（実施例）
以下、本発明の詳細な説明する。
（実施例１）
以下、本発明の第１の実施例を説明する。
組成がＦ ｅ７ｓｓ ｉ ９ Ｂ１３ （ａ ｔ％、以
下の実施例、比較例においても同様）である非晶質合金
薄帯（厚さ２２μｍ）を酸化マグネシウム（ＭｇＯ）微
粉末を水中に分散させ、重量比で１％含む懸濁液として
この中に浸した９その後、１５０’Ｃとした電気炉中に
この非晶質合金薄帯を挿入して乾燥させた。この非晶質
合金薄帯とポリイミドフィルム（商品名、ユーピレック
スＳ、宇部興産製、厚さ７．５μｍ）とを交互に巻回し
て外径５０ｍｍ。
下の実施例、比較例においても同様）である非晶質合金
薄帯（厚さ２２μｍ）を酸化マグネシウム（ＭｇＯ）微
粉末を水中に分散させ、重量比で１％含む懸濁液として
この中に浸した９その後、１５０’Ｃとした電気炉中に
この非晶質合金薄帯を挿入して乾燥させた。この非晶質
合金薄帯とポリイミドフィルム（商品名、ユーピレック
スＳ、宇部興産製、厚さ７．５μｍ）とを交互に巻回し
て外径５０ｍｍ。
内径３０ｍｍ、高さ１３ｍｍの巻磁心を成形した。
次いで３８０°Ｃ恒温、１００ｅ直流定磁場にて２時間
熱処理した。
熱処理した。
（比較例１）
実施例１において、非晶質合金薄帯に粉末を付着させず
に巻磁心を成形した。その他は実施例］と同様にした。
に巻磁心を成形した。その他は実施例］と同様にした。
（実施例２）
以下、本発明の第２の実施例を説明する。
組成がＦ ｅ ７ｅＳ １９ Ｂ １３である非晶質合
金薄帯（Ｈさ２２μｍ）を酸化マグネシウム（ＭｇＯ）
微粉末を水中に分散させ、重量比で１％含む分散液とし
てこの中に浸した。その後、１５０°Ｃとした電気炉中
にこの非晶質合金薄帯を挿入して乾燥させた。この非晶
質合金薄帯とポリイミドフィルム（厚さ７．５μｍ）と
を、非晶質合金薄帯２層の眉間に酸化マグネシウムを付
着させていない非晶質合金薄帯１層を挿入した計３層に
対してポリイミドフィルム１層の比率で巻回して外径５
０ｍｍ、内径３０ｍｍ、高さ１３ｍｍの巻磁心を成形し
な。
金薄帯（Ｈさ２２μｍ）を酸化マグネシウム（ＭｇＯ）
微粉末を水中に分散させ、重量比で１％含む分散液とし
てこの中に浸した。その後、１５０°Ｃとした電気炉中
にこの非晶質合金薄帯を挿入して乾燥させた。この非晶
質合金薄帯とポリイミドフィルム（厚さ７．５μｍ）と
を、非晶質合金薄帯２層の眉間に酸化マグネシウムを付
着させていない非晶質合金薄帯１層を挿入した計３層に
対してポリイミドフィルム１層の比率で巻回して外径５
０ｍｍ、内径３０ｍｍ、高さ１３ｍｍの巻磁心を成形し
な。
次いで３８０℃恒温、１００ｅ直流定磁場にて２時間熱
処理した。
処理した。
（比較例２）
実施例２において、非晶質合金薄帯に粉末を付着させず
に巻磁心を成形した。その他は実施例２と同様にした。
に巻磁心を成形した。その他は実施例２と同様にした。
（実施例３）
以下、本発明の第３の実施例を説明する。
組成が（ＣＱｏ、９４Ｆ ｅｏ、ｏ６）７ＯＮ ｉ ３
Ｎｂ１Ｓ ｉ 、１Ｂ１．である非晶質合金薄帯（厚
さ１６μｍ）を酸化マグネシウム（ＭｇＯ）微粉末を水
中に分散させ、重量比で１％含む分散液としてこの中に
浸しな。その後、１５０°Ｃとした電気炉中にこの非晶
質合金薄帯を挿入して乾燥させた。この非晶質合金薄帯
とポリイミドフィルム（厚さ７．５μｍ）とを交互に巻
回して外径５０ｍｍ、内径３０ｍｍ、高さ１３ｍｍの巻
磁心を成形した。次いで４２０°Ｃ恒温、１０ｅ直流定
磁場にて１時間熱処理した。
Ｎｂ１Ｓ ｉ 、１Ｂ１．である非晶質合金薄帯（厚
さ１６μｍ）を酸化マグネシウム（ＭｇＯ）微粉末を水
中に分散させ、重量比で１％含む分散液としてこの中に
浸しな。その後、１５０°Ｃとした電気炉中にこの非晶
質合金薄帯を挿入して乾燥させた。この非晶質合金薄帯
とポリイミドフィルム（厚さ７．５μｍ）とを交互に巻
回して外径５０ｍｍ、内径３０ｍｍ、高さ１３ｍｍの巻
磁心を成形した。次いで４２０°Ｃ恒温、１０ｅ直流定
磁場にて１時間熱処理した。
（比較例３）
実施例３において、非晶質合金薄帯に粉末を付着させず
に巻磁心を成形した。その他は実施例３と同様にした。
に巻磁心を成形した。その他は実施例３と同様にした。
（実施例４）
以下、本発明の第４の実施例を説明する。
組成がＦ ｅ８．Ｓ ｉ ３．５ Ｂ、３，５Ｃ２であ
る非晶質合金薄帯（厚さ２２μｍ）を酸化マグネシウム
（ＭｇＯ）微粉末を水中に分散させ、重量比で１％含む
分散液としてこの中に浸しな。その後、１５０’Ｃとし
た電気炉中にこの非晶質合金薄帯を挿入して乾燥させた
。この非晶質合金薄帯とポリイミドフィルム（厚さ７−
５μｍ）とを交互に巻回して外径５０ｍｍ、内径３０ｍ
ｍ、高さ１３ｍｍの巻磁心を成形した。次いで３６０℃
恒温、１００ｅ直流定磁場にて２時間熱処理した。
る非晶質合金薄帯（厚さ２２μｍ）を酸化マグネシウム
（ＭｇＯ）微粉末を水中に分散させ、重量比で１％含む
分散液としてこの中に浸しな。その後、１５０’Ｃとし
た電気炉中にこの非晶質合金薄帯を挿入して乾燥させた
。この非晶質合金薄帯とポリイミドフィルム（厚さ７−
５μｍ）とを交互に巻回して外径５０ｍｍ、内径３０ｍ
ｍ、高さ１３ｍｍの巻磁心を成形した。次いで３６０℃
恒温、１００ｅ直流定磁場にて２時間熱処理した。
（比較例４）
実施例４において、非晶質合金薄帯に粉末を付着させず
に巻磁心を成形した。その他は実施例４と同様にした。
に巻磁心を成形した。その他は実施例４と同様にした。
（実施例５）
以下、本発明の第５の実施例を説明する。
組成がＦ ｅ ６７ＣＱ １ａｓ ｉ ｓ Ｂ １４で
ある非晶質合金薄帯（厚さ２２μｍ）を酸化マグネシウ
ム（Ｍｇｏ）微粉末を水中に分散させ、重量比で１％含
む分散液としてこの中に浸した。その後、１５０°Ｃと
した電気炉中にこの非晶質合金薄帯を挿入して乾燥させ
た。この非晶質合金薄帯とポリイミドフィルム（厚さ７
．５μｍ）とを交互に巻回して外径５０ｍｍ、内径３０
ｍｍ、高さ１３ｍｍの巻磁心を成形した。次いで３２０
°Ｃ恒温、１００ｅ直流定磁場にて２時間熱処理した。
ある非晶質合金薄帯（厚さ２２μｍ）を酸化マグネシウ
ム（Ｍｇｏ）微粉末を水中に分散させ、重量比で１％含
む分散液としてこの中に浸した。その後、１５０°Ｃと
した電気炉中にこの非晶質合金薄帯を挿入して乾燥させ
た。この非晶質合金薄帯とポリイミドフィルム（厚さ７
．５μｍ）とを交互に巻回して外径５０ｍｍ、内径３０
ｍｍ、高さ１３ｍｍの巻磁心を成形した。次いで３２０
°Ｃ恒温、１００ｅ直流定磁場にて２時間熱処理した。
（比較例５）
実施例５において、非晶質合金薄帯に粉末を付着させず
に巻磁心を成形した。その他は実施例５と同様にした。
に巻磁心を成形した。その他は実施例５と同様にした。
（実施例６）
以下、本発明の第６の実施例を説明する。
組成がＦ ｅ ７８Ｓ ｉ ｏ Ｂ １３である非晶質
合金薄帯（厚さ２２μｍ）を二酸化珪素（ＳｉＯ□）微
粉末を水中に分散させ、重量比で１％含む分散液として
この中に浸した。その後、１５０℃とした電気炉中にこ
の非晶質合金薄帯を挿入して乾燥させた９この非晶質合
金薄帯とポリイミドフィルム（厚さ７，５μｍ）とを交
互に巻回して外径５０１ ｍｍ５−内径３０ ｍ ｍ 、高さ１３ｍｍの巻磁心を
成形した。次いで３８０℃恒温、１００ｅ直流定磁場に
て２時間熱処理した。
合金薄帯（厚さ２２μｍ）を二酸化珪素（ＳｉＯ□）微
粉末を水中に分散させ、重量比で１％含む分散液として
この中に浸した。その後、１５０℃とした電気炉中にこ
の非晶質合金薄帯を挿入して乾燥させた９この非晶質合
金薄帯とポリイミドフィルム（厚さ７，５μｍ）とを交
互に巻回して外径５０１ ｍｍ５−内径３０ ｍ ｍ 、高さ１３ｍｍの巻磁心を
成形した。次いで３８０℃恒温、１００ｅ直流定磁場に
て２時間熱処理した。
（比較例６）
実施例６において、非晶質合金薄帯に粉末を付着させず
に巻磁心を成形した。その他は実施例６と同様にした。
に巻磁心を成形した。その他は実施例６と同様にした。
以上、１２種類の磁心につき恒温下にて下記仕様に基づ
き磁化曲線の角形比、最大磁束密度、保磁力、および動
作磁束密度を測定した。以下、その測定方法を説明する
。
き磁化曲線の角形比、最大磁束密度、保磁力、および動
作磁束密度を測定した。以下、その測定方法を説明する
。
角形比（Ｂｒ／Ｂｍ）、最大磁束密度（Ｂｍ）。
保磁力（Ｈｃ）：直流自動磁気記録計により印加磁界１
００ｅにて測定した。
００ｅにて測定した。
動作磁束密度（ΔＢ）：ΔＢ＝Ｂｒ＋Ｂｍ以上の結果を
まとめて第１表に示した。
まとめて第１表に示した。
２
以下余白
以上、第１表から明らかなように、本発明の磁心によれ
ば、最大磁束密度および保磁力が従来の方法による磁心
と同等でありながら角形比および動作磁束密度は大幅に
向上し、磁気特性の良い磁心が得られる。
ば、最大磁束密度および保磁力が従来の方法による磁心
と同等でありながら角形比および動作磁束密度は大幅に
向上し、磁気特性の良い磁心が得られる。
［発明の効果］
以上、詳細に説明したように、本発明によれば、従来の
磁心に比べて角形比が高くまた動作磁束密度が向上し、
かつ飽和磁束密度、保磁力、が従来の方法により得られ
る磁心と同等である磁心が得られた。
磁心に比べて角形比が高くまた動作磁束密度が向上し、
かつ飽和磁束密度、保磁力、が従来の方法により得られ
る磁心と同等である磁心が得られた。
これにより、本発明は各種の磁心に使用でき、なかでも
磁化曲線の高角形比かつ動作磁束密度が高いという特性
を有効に生かせるので、高出力パルス磁心に適している
。
磁化曲線の高角形比かつ動作磁束密度が高いという特性
を有効に生かせるので、高出力パルス磁心に適している
。
Claims (1)
- 一層または複数層よりなる磁性薄帯と、一層または複
数層よりなる電気絶縁層とが交互に積層または巻回され
ている磁心において、磁性薄帯と電気絶縁層との間に熱
処理時における磁性薄帯と電気絶縁層相互の影響を緩和
する特性を有する介在物を介在することを特徴とする磁
心。
Priority Applications (4)
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|---|---|---|---|
| JP1144101A JPH0311603A (ja) | 1989-06-08 | 1989-06-08 | 磁心 |
| DE69013227T DE69013227T2 (de) | 1989-06-08 | 1990-06-06 | Magnetkern. |
| US07/533,777 US5138393A (en) | 1989-06-08 | 1990-06-06 | Magnetic core |
| EP90110736A EP0401805B1 (en) | 1989-06-08 | 1990-06-06 | Magnetic core |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1144101A JPH0311603A (ja) | 1989-06-08 | 1989-06-08 | 磁心 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0311603A true JPH0311603A (ja) | 1991-01-18 |
Family
ID=15354220
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1144101A Pending JPH0311603A (ja) | 1989-06-08 | 1989-06-08 | 磁心 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5138393A (ja) |
| EP (1) | EP0401805B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0311603A (ja) |
| DE (1) | DE69013227T2 (ja) |
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| JP2001519970A (ja) * | 1997-03-26 | 2001-10-23 | エービービー アクチボラゲット | 制御可能なインダクタのためのコア及びそれを製造するための方法 |
| DE19907320C2 (de) * | 1999-02-20 | 2001-03-08 | Aloys Wobben | Ringkern und dessen Verwendung |
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| JPS57193005A (en) * | 1981-05-23 | 1982-11-27 | Tdk Corp | Amorphous magnetic alloy thin belt for choke coil and magnetic core for the same |
| US4558297A (en) * | 1982-10-05 | 1985-12-10 | Tdk Corporation | Saturable core consisting of a thin strip of amorphous magnetic alloy and a method for manufacturing the same |
| JPS6047401A (ja) * | 1983-08-25 | 1985-03-14 | Matsushita Electric Works Ltd | 磁心 |
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-
1989
- 1989-06-08 JP JP1144101A patent/JPH0311603A/ja active Pending
-
1990
- 1990-06-06 DE DE69013227T patent/DE69013227T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-06-06 EP EP90110736A patent/EP0401805B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-06-06 US US07/533,777 patent/US5138393A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
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|---|---|
| EP0401805B1 (en) | 1994-10-12 |
| DE69013227D1 (de) | 1994-11-17 |
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| US5138393A (en) | 1992-08-11 |
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| EP0401805A3 (en) | 1991-10-30 |
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