JPH0290404A - Reflecting mirror - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、水銀灯などに代表される高圧放電灯、とり
わけ、紫外線の発生量が多いランプを使用する照明器具
等の反射鏡であって、照射物の紫外線劣化防止効果を有
する反射鏡に関する。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a reflector for lighting equipment, etc. that uses a high-pressure discharge lamp such as a mercury lamp, especially a lamp that generates a large amount of ultraviolet rays. The present invention relates to a reflecting mirror that has the effect of preventing ultraviolet deterioration of irradiated objects.
従来、高圧放電灯を使用する照明器具に付設される反射
鏡を作製する方法としては、以下のようなものがある。Conventionally, there are the following methods for manufacturing a reflecting mirror attached to a lighting fixture using a high-pressure discharge lamp.
■ 金属基材（ＡＩ、ステンレス、Ｆｅ等）を別布研磨
した後、電解研磨あるいは化学研磨し、次いでアルマイ
ト加工を施す。■ After polishing the metal base material (AI, stainless steel, Fe, etc.) with a separate cloth, electropolishing or chemical polishing is performed, and then alumite processing is performed.
■ 上記■の方法のアルマイト加工に代えて、有機また
は無機の保護塗装被膜を形成する。■ Instead of alumite processing in method (■) above, an organic or inorganic protective coating is formed.
■ 金属、ガラス、セラミックあるいはプラスチック等
からなる基材に、必要に応じては（金属基材の場合は必
須）下地塗装を施した後、光輝性金属（ＡＩ、Ａｇ等）
膜を蒸着により形成し、さらに有機または無機の保護塗
装被膜を形成する。■ After applying a base coat as necessary (required in the case of metal base materials) to a base material made of metal, glass, ceramic, or plastic, apply a bright metal (AI, Ag, etc.)
A film is formed by vapor deposition, followed by an organic or inorganic protective coating.
■ 上記■の方法の保護塗装被膜に代えて、透明な誘電
体薄膜（ＳｉＯ７，Ａ１２０ｘ 、ＭｇＦｔ等からなる
保護膜）を蒸着により形成する。(2) Instead of the protective coating film in method (2) above, a transparent dielectric thin film (a protective film made of SiO7, A120x, MgFt, etc.) is formed by vapor deposition.
■ 上記■の方法の透明誘電体薄膜（保護膜）として、
光学多層薄膜（たとえば、増反射膜、熱線カット膜、紫
外線カツト膜等）を形成する。■ As a transparent dielectric thin film (protective film) in the method of ■ above,
An optical multilayer thin film (for example, a reflective film, a heat ray blocking film, an ultraviolet ray blocking film, etc.) is formed.
以上のようにして形成される反射鏡には、作動時のラン
プが高温になるために、およそ２００°Ｃ以上の耐熱性
が要求される。したがって、」二記下地塗装や保護塗装
被膜用に使用される塗料等の種類としては、当然、２０
０℃前後で熱劣化を起こさないものに限られる。また、
紫外線の放射量が多いことから、紫外線により劣化しに
くい構成材料が選択されるのである。The reflector formed in the above manner is required to have heat resistance of about 200° C. or more because the lamp becomes hot during operation. Therefore, as a matter of course, the types of paints used for the base coating and protective coating described in 2.
Limited to those that do not cause thermal deterioration at around 0°C. Also,
Since the amount of ultraviolet rays emitted is large, constituent materials that are resistant to deterioration by ultraviolet rays are selected.
上記反射鏡は、ランプ光成分のうち、紫外、赤外、可視
域の全ての光を反射している。換言すると、照射物を劣
化させる紫外線や熱線も反射光中に含まれるわけであり
、様々な問題を引き起こしている。そこで、ランプ光の
内で特に紫外線を照射しないような反射鏡を作製するこ
とが望まれており、上記従来法によれば、下記の二通り
のやり方があるが、それぞれに併記の問題点が残されて
いる。The reflecting mirror reflects all light in the ultraviolet, infrared, and visible regions among the lamp light components. In other words, the reflected light includes ultraviolet rays and heat rays that degrade the irradiated object, causing various problems. Therefore, it is desired to manufacture a reflecting mirror that does not particularly irradiate ultraviolet rays from the lamp light.According to the above conventional method, there are two ways to do it, but each has the problems listed below. left behind.
（Ａ） 反射鏡表面（反射面）に、紫外線吸収剤入り
の透明な保護塗装被膜を形成する；使用に伴って紫外線
吸収剤自身が分解してしまうため、長期間使用した場合
には紫外線吸収効果が消失してしま０３）反射面に光学
多層薄膜（紫外線カントフィルタ）を形成する；反射鏡
の形状は、通常、半球面状のパラボラ形状であるため、
そこに光学多層薄ｌｌ１ｉｉｉ（紫外線カントフィルタ
の場合は、通常、１５層以上）を形成するのは容易なこ
とではない。また、ランプの入射角度が変化するため、
干渉作用で紫外線をカントすることは難しい。さらに、
製造コストも高くつく。(A) A transparent protective coating containing an ultraviolet absorber is formed on the reflecting mirror surface (reflecting surface); the ultraviolet absorber itself decomposes with use, so if used for a long period of time, it will absorb less ultraviolet light. The effect disappears.03) Form an optical multilayer thin film (ultraviolet cant filter) on the reflecting surface; the shape of the reflecting mirror is usually a hemispherical parabolic shape, so
It is not easy to form a thin optical multilayer (usually 15 or more layers in the case of an ultraviolet cant filter) there. Also, since the angle of incidence of the lamp changes,
It is difficult to cant ultraviolet rays due to interference effects. moreover,
Manufacturing costs are also high.
以上の事情に鑑み、この発明は、水銀灯などの高圧放電
灯、特に紫外線発生量の多いランプを使用する照明器具
に付設され、長期間使用しても劣化せずにランプから発
生する紫外線を効率よく吸収し、照射物の紫外線劣化防
止効果を有する反射鏡を提供することを課題とする。In view of the above circumstances, the present invention has been developed to be attached to lighting equipment that uses high-pressure discharge lamps such as mercury lamps, especially lamps that emit a large amount of ultraviolet rays, and to efficiently remove the ultraviolet rays emitted from the lamps without deteriorating even after long-term use. It is an object of the present invention to provide a reflecting mirror that absorbs UV rays well and has the effect of preventing UV deterioration of irradiated objects.
上記課題を解決するため、この発明にかかる反射鏡は、
紫外線を吸収する透明な酸化亜鉛膜が反射面に設けられ
ているようにする。In order to solve the above problems, the reflecting mirror according to the present invention has the following features:
A transparent zinc oxide film that absorbs ultraviolet rays is provided on the reflective surface.
上記酸化亜鉛膜の膜厚は、５００〜３０００人であるこ
とが好ましい。The thickness of the zinc oxide film is preferably 500 to 3000.
同酸化亜鉛膜は、反射面にあらかじめ設けられた低屈折
率物質膜上に形成されていてもよい。The zinc oxide film may be formed on a low refractive index material film previously provided on the reflective surface.
また、酸化亜鉛膜上には、透明な保護膜が形成されてい
てもよい。Further, a transparent protective film may be formed on the zinc oxide film.
さらに、酸化亜鉛膜上に低屈折率物質膜が形成され、同
低屈折率物質膜上にさらに高屈折率物質膜が形成されて
いてもよい。Furthermore, a low refractive index material film may be formed on the zinc oxide film, and a high refractive index material film may be further formed on the low refractive index material film.
酸化亜鉛は、３８０ｎｒｒ１以下の紫外線の吸収率は非
常に高いが可視光線は吸収せずに透過させる、という特
性を有している。したがって、酸化亜鉛膜（薄膜）を設
けることにより、可視光線は失われることなく反射され
ていく一方、紫外線は同酸化亜鉛膜においてほとんどカ
ットされて照射物にまで到達せず、その結果、照射物の
紫外線劣化が防止される。同時に、酸化亜鉛は優れた耐
候性。Zinc oxide has the characteristic that it has a very high absorption rate for ultraviolet rays of 380 nrr1 or less, but does not absorb visible light but transmits it. Therefore, by providing a zinc oxide film (thin film), visible light is reflected without being lost, while most of the ultraviolet rays are blocked by the zinc oxide film and do not reach the irradiated object. UV deterioration is prevented. At the same time, zinc oxide has excellent weather resistance.
耐久性等を備えており、長期間使用してもその効果が失
われることはない。It is durable and does not lose its effectiveness even after long-term use.
この酸化亜鉛膜の膜厚は、５００〜３０００人（乾燥膜
厚；以下同様）であれば、可視光線の吸収を生じること
なく、とりわけ優れた紫外線吸収効果が発揮される。If the thickness of this zinc oxide film is 500 to 3000 (dry film thickness; the same applies hereinafter), a particularly excellent ultraviolet absorption effect will be exhibited without absorption of visible light.
反射面にあらかじめ低屈折率物質膜を設けておき、その
上に上記酸化亜鉛膜を形成するようにすると、この酸化
亜鉛膜が高屈折率物質膜に相当することから増反射効果
が得られ、可視光線反射率を増加させることができる。If a low refractive index material film is provided on the reflective surface in advance and the zinc oxide film is formed thereon, an enhanced reflection effect can be obtained since this zinc oxide film corresponds to a high refractive index material film. Visible light reflectance can be increased.
また、上記酸化亜鉛膜上に透明な保護膜を形成すること
により、酸化亜鉛膜単独の場合よりも表面硬度を向上さ
せることができ、清掃時等に傷が入るような心配も解消
される。加えて、反射鏡の耐薬品性（耐酸、アルカリ性
）を向上させることも可能となる。Furthermore, by forming a transparent protective film on the zinc oxide film, the surface hardness can be improved more than in the case of a zinc oxide film alone, and the fear of scratches during cleaning etc. can be eliminated. In addition, it is also possible to improve the chemical resistance (acid resistance, alkalinity) of the reflecting mirror.
さらに、上記酸化亜鉛膜上に、低屈折率物質膜および高
屈折率物質膜がこの順に形成されていることにより、上
記保護膜と同様、反射鏡の表面硬度や耐食性を向上させ
ることができる。また、上述と同様の増反対効果により
、可視光線反射率を向上させることもできる。Furthermore, by forming a low refractive index material film and a high refractive index material film in this order on the zinc oxide film, it is possible to improve the surface hardness and corrosion resistance of the reflecting mirror, similarly to the above protective film. Further, the visible light reflectance can also be improved by the same increase/reverse effect as described above.
以下に、この発明を、図面を参照しつつ詳しく説明する
。The present invention will be explained in detail below with reference to the drawings.
第１図ないし第３図は、いずれも、基材１の反射面上に
酸化亜鉛膜５が設けられてなる、この発明にかかる反射
鏡の一実施例の断面を模式的に表している。1 to 3 each schematically represent a cross section of an embodiment of a reflective mirror according to the present invention, in which a zinc oxide film 5 is provided on the reflective surface of a base material 1. As shown in FIG.
この基材１としては、ＡＩ、Ａ１合金、ＦｅＦｅ合金、
ステンレス等からなる板状金属材をプレス成形、ヘラ絞
り成形等の成形法によって所定の反射鏡形状に仕上げた
もの、または、ガラス。This base material 1 includes AI, A1 alloy, FeFe alloy,
A plate-shaped metal material made of stainless steel or the like that is finished into a predetermined reflective mirror shape using a forming method such as press molding or spatula drawing, or glass.
セラミックス、プラスチック（たとえばポリカーボネー
ト、ナイロン、ポリイミド等）を金型成形（射出成形、
プレス成形等）により所定の反射鏡形状に仕上げたもの
などが好ましく用いられる。Ceramics, plastics (e.g. polycarbonate, nylon, polyimide, etc.) are molded (injection molding,
A mirror finished into a predetermined shape by press molding, etc. is preferably used.
ここで、プラスチックの場合は、ランプからの熱に耐え
ろる、耐熱性に優れたものを選択する必要がある。In the case of plastic, it is necessary to select a material with excellent heat resistance that can withstand the heat from the lamp.
上記のようにして成形された反射鏡の基材１の反射面（
表面）には、たとえば以下に示すような方法により、鏡
面仕上げを施しておく。The reflective surface of the base material 1 of the reflective mirror formed as described above (
The surface) is given a mirror finish, for example, by the method shown below.
■ 第１図（ωにみるように、上に列記したような金属
基材（たとえばアルミニウム）１表面を別布研磨した後
、電解研磨または化学研磨して鏡面処理を施す。次いで
、アルミ等の金属基材の腐食を抑えるための保護膜とし
て、アルマイト加工によりＡ Ｉ ＝ ０２膜２を形成
する。同アルマイト保護膜２は、低屈折率物質膜（７）
にも相当し、後述のように、増反対効果を併せて期待で
きる。ただし、鏡面処理後のこの保護膜の形成は省略し
てもよいし、アルマイト加工に代えてクリヤー塗装等を
行うこともできる。■ As shown in Figure 1 (ω), the surface of a metal substrate (for example, aluminum) as listed above is polished with a separate cloth, and then subjected to electrolytic polishing or chemical polishing to give it a mirror finish. As a protective film for suppressing corrosion of the metal base material, an A I = 02 film 2 is formed by alumite processing.The alumite protective film 2 is a low refractive index material film (7).
This also corresponds to the increase and decrease effects as described below. However, the formation of this protective film after mirror treatment may be omitted, and clear coating or the like may be performed instead of alumite treatment.
■ 第１図（ｂ）にみるように、上記金属またはガラス
、セラミックス、プラスチック等の基材１表面に下地塗
装を施して塗膜３を形成した後、光輝性金属（ＡＩ、Ａ
ｇ、Ｃｒ、Ｎｉ等）膜４を蒸着により形成する。■ As shown in Figure 1(b), after applying a base coat to the surface of the base material 1 such as the metal, glass, ceramics, plastic, etc. to form a coating film 3, a glittering metal (AI, A
(G, Cr, Ni, etc.) film 4 is formed by vapor deposition.
■ 第２，３図にみるように、ガラス、セラミックスま
たはプラスチック等の基材１上に、直接、上記光輝性金
属膜４を形成する。(2) As shown in FIGS. 2 and 3, the glittering metal film 4 is formed directly on a base material 1 such as glass, ceramics, or plastic.
以上の鏡面仕上げを施した後、仕上げ面、すなわち反射
面に、この発明の特徴である紫外線吸収用の酸化亜鉛膜
５を形成する。なお、増反対のみを考慮した場合には、
鏡面仕上げ面に、あらかじめＳｉｎｇ 、ＭｇＦｚ 、
Ａｌｚ Ｏｘ等からなる低屈折率物質膜を蒸着等により
形成しておき、その上に酸化亜鉛膜（高屈折率物質膜に
相当）を積層することもできる。その際、低屈折率物質
膜の膜厚は６５０〜１１００人、酸化亜鉛膜では５００
〜１０００人程度にすることが好ましい。After the above-mentioned mirror finish, a zinc oxide film 5 for absorbing ultraviolet light, which is a feature of the present invention, is formed on the finished surface, that is, the reflective surface. In addition, when considering only the increase and the opposite,
Sing, MgFz,
It is also possible to form a low refractive index material film made of AlzOx or the like by vapor deposition or the like, and then laminate a zinc oxide film (corresponding to a high refractive index material film) thereon. At that time, the film thickness of the low refractive index material film is 650 to 1100, and the film thickness of the zinc oxide film is 500.
It is preferable to limit the number of participants to about 1,000 people.
この酸化亜鉛膜５の形成方法としては、たとえば、真空
蒸着法、スパンタリング法、イオンアシスト蒸着法、イ
オンブレーティング法等の各種物理的蒸着法（Ｐ Ｖ
Ｄ）が採用され、成膜時には、基板加熱（室温〜４０ｏ
′ｃ）や○ｚ＋Ａｒガスなどの添加を行うようにする。As a method for forming the zinc oxide film 5, for example, various physical vapor deposition methods (PV
D) is adopted, and the substrate is heated (room temperature to 40oC) during film formation.
'c) and ○z+Ar gas, etc. are added.
その他、化学的蒸着法（Ｃ，ＶＤ）あるいはディッピン
グ法などにより酸化亜鉛膜５を形成するようにしてもよ
く、特に限定はされない。In addition, the zinc oxide film 5 may be formed by a chemical vapor deposition method (C, VD) or a dipping method, and is not particularly limited.
上記ディッピング法では、以下のようにして行われる。The above dipping method is performed as follows.
まず、焼成により酸化亜鉛となる原料化合物を適当な溶
剤に熔解し、コーテイング液を調製する。ついで、この
コーテイング液中に、上記鏡面仕上げの施された基材１
を浸漬し、それを−定速度で引き上げた後、乾燥して高
温で焼成を行い、基材１の反射面上に透明な酸化亜鉛膜
５を形成する。なお、同様のコーテイング液を用い、こ
れをスプレー等により塗装して酸化亜鉛膜５を形成する
こともできる。すなわち、基材１の反射面上に均一なコ
ーティングが行われるのであれば、塗装方法等、特に限
定はされないのである。First, a raw material compound that becomes zinc oxide by firing is dissolved in a suitable solvent to prepare a coating liquid. Next, the mirror-finished base material 1 is added to this coating liquid.
is immersed in the substrate, pulled up at a constant speed, dried and fired at a high temperature to form a transparent zinc oxide film 5 on the reflective surface of the substrate 1. Incidentally, the zinc oxide film 5 can also be formed by using a similar coating liquid and applying it by spraying or the like. That is, as long as a uniform coating is applied to the reflective surface of the base material 1, there are no particular limitations on the coating method or the like.
上記コーテイング液中の原料化合物は、亜鉛を含んだ化
合物（＝亜鉛化合物）であれば特に限定はされないが、
たとえば、有機系の亜鉛化合物としては、
（１） オクチル酸亜鉛、２−エチルへキサン酸亜鉛
ナフテン酸亜鉛等のカルボン酸塩（金属石鹸）、（２）
アセチルアセトナト亜鉛等のキレート化合物（錯体）、
□
（３）各種亜鉛アルコキシド、
（４） ジアルキル亜鉛、ジフェニル亜鉛等の有機亜
鉛化合物、
等が最も好ましい一例として挙げられる。また、無機系
のものとしては、硝酸亜鉛、塩化亜鉛等の一般的な塩が
同様に用いられる。ごれらの亜鉛化合物は単独で、ある
いは複数種を併せて使用できる。The raw material compound in the coating liquid is not particularly limited as long as it is a compound containing zinc (=zinc compound);
For example, organic zinc compounds include (1) carboxylates (metal soaps) such as zinc octylate, zinc 2-ethylhexanoate, zinc naphthenate, etc.
Chelate compounds (complexes) such as zinc acetylacetonate,
□ (3) Various zinc alkoxides, (4) Organic zinc compounds such as dialkylzinc and diphenylzinc, etc. are mentioned as the most preferable examples. Furthermore, as inorganic salts, common salts such as zinc nitrate and zinc chloride can be similarly used. These zinc compounds can be used alone or in combination.
上記亜鉛化合物を熔かす溶剤としては、ヴ）芳香族系炭
化水素類（ベンゼン、トルエンキシレン シメン、ナフ
タレン等）、
（イ） アルコール類（イソプロピルアルコール、ブチ
ルアルコール等）、
（つ） ケトン類（アセトン、アセチルアセトン、ジエ
チルケトン等）、
（１）精油系テルペン炭化水素類（ジペンテン、αピネ
ン、テレピン油、ミルセン等）、
等が好ましく用いられるが、これらに限定されることは
なく、沸点、基材に対する濡れ性、溶質である亜鉛化合
物の熔解性などの点を鑑みて、任意の溶剤を使用するこ
とができる。Solvents for melting the above zinc compounds include (v) aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene, cymene, naphthalene, etc.), (b) alcohols (isopropyl alcohol, butyl alcohol, etc.), (v) ketones (acetone, etc.). , acetylacetone, diethyl ketone, etc.); (1) essential oil-based terpene hydrocarbons (dipentene, α-pinene, turpentine, myrcene, etc.); Any solvent can be used in consideration of the wettability of the zinc compound and the solubility of the zinc compound as the solute.
上記溶剤は、上記化合物等の１種からなる単独溶剤でも
よいが、それが低沸点溶剤の場合には、形成される膜が
白濁する恐れもあるため、必要に応じて、適宜、高沸点
溶剤との混合溶剤を調整して用いることが好ましい。ま
た、沸点を上げるという同様の理由から、上記（７）〜
（１）以外の溶剤として、不飽和脂肪酸（たとえば、オ
レイン酸、リノル酸等）を一部添加することも好ましい
。The above-mentioned solvent may be a single solvent consisting of one of the above-mentioned compounds, but if it is a low-boiling point solvent, the formed film may become cloudy, so if necessary, a high-boiling point solvent may be used as appropriate. It is preferable to adjust and use a mixed solvent with. Also, for the same reason as increasing the boiling point, (7) to
It is also preferable to partially add unsaturated fatty acids (eg, oleic acid, linoleic acid, etc.) as a solvent other than (1).
さらに、必要に応じては、その他の各種添加剤をコーテ
イング液に配合することもできる。たとえば、基材への
塗布状態を向上させるために、スクリーン油等のレベリ
ング剤を添加することも好ましい。Furthermore, if necessary, various other additives may be added to the coating liquid. For example, it is also preferable to add a leveling agent such as screen oil in order to improve the coating state on the base material.
コーテイング液の濃度は、特に限定はされないが、おお
よその目安として、ＺｎＯ４度換算で５重量％前後であ
ることが最も好ましい。あまり濃度が高いと、得られる
膜が白濁したり、剥離したりする恐れがあり、一方、あ
まり低すぎるようでは、紫外線を吸収するために必要と
される所定な膜厚が得られない傾向が見られる。The concentration of the coating liquid is not particularly limited, but as a rough guide, it is most preferably around 5% by weight in terms of 4 degrees ZnO. If the concentration is too high, the resulting film may become cloudy or peel off. On the other hand, if the concentration is too low, the desired film thickness required to absorb ultraviolet rays may not be obtained. Can be seen.
焼付は条件（温度２時間等）についても、特に限定され
ることはなく、用いる亜鉛化合物、溶剤等に応じて、適
宜設定されることが好ましい。具体的に例を示すと、上
記のような亜鉛化合物を用いる場合、５００°Ｃ以上の
温度で、３０〜６０分間程度の焼付けを行うことが一般
的に好ましい。The baking conditions (temperature, 2 hours, etc.) are not particularly limited, and are preferably set appropriately depending on the zinc compound, solvent, etc. used. To give a specific example, when using the above zinc compound, it is generally preferable to bake at a temperature of 500° C. or higher for about 30 to 60 minutes.
これにより、亜鉛化合物の分解、酸化反応が完全に行わ
れ、その結果、基材上に透明な酸化亜鉛膜５が形成され
る。This completes the decomposition and oxidation reaction of the zinc compound, and as a result, a transparent zinc oxide film 5 is formed on the base material.
得られる酸化亜鉛膜５の膜厚は、特に限定はされないが
、５００〜３０００人程度であることが好ましい。５０
０人に満たない場合は、充分な紫外線吸収効果が得られ
ない恐れがあり、反対に３０００人を越えると、可視光
線の吸収が生じて反射率が低下する傾向が見られる。こ
こで、この酸化亜鉛膜５は、単層構造であってもよいし
、何層も積層された多層構造となっていてもよい。この
ように、膜の積層数は１層に限定されるものではないた
め、たとえば、１層では紫外線カツト効率が低い（膜が
薄すぎる）場合などには、何層も積層して多層膜にして
厚みをかせぐこともできる。Although the thickness of the resulting zinc oxide film 5 is not particularly limited, it is preferably about 500 to 3000. 50
If the number of people is less than 0, there is a risk that a sufficient ultraviolet absorption effect cannot be obtained.On the other hand, if the number of people is more than 3,000, there is a tendency for visible light to be absorbed and the reflectance to decrease. Here, the zinc oxide film 5 may have a single layer structure or a multilayer structure in which many layers are laminated. In this way, the number of laminated films is not limited to one layer, so if, for example, one layer has low UV-cutting efficiency (the film is too thin), multiple layers can be laminated to form a multilayer film. You can also increase the thickness by
そして、そのようにして得られた酸化亜鉛薄膜全体の厚
みが５００Å以上であれば、この発明における効果が充
分に得られるのである。If the total thickness of the zinc oxide thin film thus obtained is 500 Å or more, the effects of the present invention can be sufficiently obtained.
なお、この発明における酸化亜鉛としては、通常は、Ｚ
ｎＯ組成のものを用いることが好ましいが、これに限定
されることはなく、ＺｎｚＯ等の酸化形態の異なるもの
を併せて、または単独で用いることもできる。Note that the zinc oxide in this invention is usually Z
Although it is preferable to use a material having an nO composition, it is not limited thereto, and materials having different oxidation forms such as ZnzO can be used together or alone.
以上の方法により酸化亜鉛膜５をコートした反射鏡の分
光反射率特性を第５図に示す。同図にみるように、ＡＩ
蒸着膜のみの場合（図中破線）に比べ、酸化亜鉛膜を備
えた場合（図中実線）は、３８０ｎｍ以下の紫外線を弗
素に良くカントしているが、可視光域の反射率がやや低
くなっている。FIG. 5 shows the spectral reflectance characteristics of the reflecting mirror coated with the zinc oxide film 5 by the above method. As shown in the figure, AI
Compared to the case with only a vapor-deposited film (dashed line in the figure), the case with a zinc oxide film (solid line in the figure) can effectively cant ultraviolet rays of 380 nm or less to fluorine, but the reflectance in the visible light range is slightly lower. It has become.
他方、酸化亜鉛膜は表面硬度が低く、傷が入り易いこと
に加え、酸化亜鉛は両性酸化物であって、酸性、アルカ
リ性の両温液に容易に溶けるという性質を有するため、
実際に照明器具の反射鏡として使用する場合には、こう
した点も問題になることがある。On the other hand, zinc oxide film has a low surface hardness and is easily scratched, and since zinc oxide is an amphoteric oxide, it easily dissolves in both acidic and alkaline hot liquids.
These points may also pose problems when actually used as a reflector for lighting equipment.
以上の問題を回避するため、第２図にみるように、酸化
亜鉛膜５上に、さらに透明な保護膜６を設けてもよい。In order to avoid the above problems, a transparent protective film 6 may be further provided on the zinc oxide film 5, as shown in FIG.
この透明保護膜６は、Ｓｉｎｇ。This transparent protective film 6 is made of Sing.
Ａ１□Ｏｘ、ＭｇＦｚ等からなる透明な誘電体膜であっ
てもよいし、シリコーン系、有機シリケート系などの耐
熱性に優れたクリヤー塗料からなる透明塗膜であっても
よく、特に限定はされない。It may be a transparent dielectric film made of A1□Ox, MgFz, etc., or it may be a transparent coating film made of a clear paint with excellent heat resistance such as silicone-based or organic silicate-based material, and is not particularly limited. .
その形成方法についても、任意の方法を採用すればよく
、たとえば、上述の前者（誘電体膜）の場合は真空蒸着
法等により、後者（塗膜）の場合は通常の塗装法により
、容易に形成されうる。As for the formation method, any method may be used; for example, in the case of the former (dielectric film) mentioned above, a vacuum evaporation method etc. can be used, and in the case of the latter (paint film), a normal painting method can be used. can be formed.
透明保護膜６の膜厚は、１〜１０ハ程度であることが好
ましい。あまり厚いと、そのためのコス１−がかかるこ
とに加え、同保護膜６に可視光線の吸収が生して可視光
線透過率が低下し、したがって可視光線反射率も低下す
る恐れがあり、反対に薄すぎると、防食性が悪くなり、
また、干渉作用による可視光線の吸収が起こる傾向がみ
られるためである。しかし、上記範囲に限定されること
はなく、また、多層構造になっていてもよい。The thickness of the transparent protective film 6 is preferably about 1 to 10 mm. If it is too thick, in addition to the additional cost, the protective film 6 may absorb visible light, reducing the visible light transmittance and therefore the visible light reflectance. If it is too thin, the corrosion resistance will deteriorate,
This is also because there is a tendency for absorption of visible light to occur due to interference. However, it is not limited to the above range, and may have a multilayer structure.
他方、第３図にみるように、酸化亜鉛膜５上にＳｉｎｇ
、ＭｇＦｚ 、ＡＩ。０□等の低屈折率物質膜７を形
成し、さらに、Ｔｉｅ、、ＺｒＯ。On the other hand, as shown in FIG.
, MgFz , AI. A low refractive index material film 7 such as 0□ is formed, and furthermore, a film 7 of a low refractive index material such as Tie, ZrO, etc. is formed.
Ｃｅ０ｚ等の高屈折率物質膜８を、各々蒸着法等により
形成することもできる。The high refractive index material film 8 such as CeOz can also be formed by a vapor deposition method or the like.
このような屈折率の異なる膜７および８をこの順に形成
することにより、上述のように、増反射効果が得られて
可視光域における反射率が増加するのであるが、この可
視光線反射率を最も増加させるためには、低屈折率物質
膜７の膜厚を６５０〜１１００人、高屈折率物質膜８の
膜厚を５００〜１０００人程度とすることが好ましい。By forming the films 7 and 8 having different refractive indexes in this order, as mentioned above, an increased reflection effect is obtained and the reflectance in the visible light range increases. In order to maximize the increase, it is preferable that the thickness of the low refractive index material film 7 is about 650 to 1100, and the thickness of the high refractive index material film 8 is about 500 to 1000.
なお、この膜７および８は、各々１層ずつに限定される
１に
とはなく、交互に多層に積層してもよい。Note that the films 7 and 8 are not limited to one layer each, but may be alternately laminated in multiple layers.
以上のように、基材の反射面に少なくとも酸化亜鉛膜を
設けることにより、この発明の課題を解決できる反射鏡
を実現することができる。なお、この発明にかかる反射
鏡が上記一実施例に限定されないことは言うまでもない
。As described above, by providing at least a zinc oxide film on the reflective surface of the base material, a reflective mirror that can solve the problems of the present invention can be realized. It goes without saying that the reflecting mirror according to the present invention is not limited to the above embodiment.
つぎに、この発明のさらに具体的な実施例を、比較例と
併せて説明する。Next, more specific examples of the present invention will be described together with comparative examples.
実施例１
ヘラ絞り成形により得られた直径３５０ｍ、深さ２２０
龍のパラボラ形状のアルミ基材成形品を別布研磨した
のち電解研磨し、さらに、陽極酸化法によりアルマイト
処理を施して、膜厚０．１μｌのＡｌ５ｏ！膜（低屈折
率物質膜に相当）を形成した。次に、Ｉ Ｘ １０”〜
５ Ｘ １０”Ｔｏｒｒの真空中で、電子ビーム蒸着法
によりＺｎＯを蒸着させ（膜厚１０００人）、反射鏡を
完成した（第１図（ω参照）。Example 1 Diameter 350m and depth 220m obtained by spatula drawing
The dragon's parabolic shaped aluminum base molded product was polished with a separate cloth, electrolytically polished, and further alumite treated using an anodizing method to form an Al5o! film with a thickness of 0.1 μl. A film (corresponding to a low refractive index material film) was formed. Next, I x 10”~
In a vacuum of 5 x 10'' Torr, ZnO was deposited by electron beam evaporation (film thickness: 1000 mm) to complete a reflecting mirror (see Fig. 1 (see ω)).
実施例２
直径５８０ｍ、深さ３００龍のパラボラ形状のアルミ基
材成形品を脱脂、乾燥した後、下地塗料として、ポリジ
メチルシロキサンを主成分とするシリコーン塗料を厚み
１０μ璽に塗布し、２００℃で６０分間焼付けた。その
後、ＡＩを蒸着させて（膜厚１０００人）、鏡面仕上げ
を施した。次いで、電子ビーム蒸着法によりＺｎＯを蒸
着させ（膜厚１５００人）、反射鏡を完成した（第１図
（ｂｌ参照）。Example 2 After degreasing and drying a parabolic aluminum base molded product with a diameter of 580 m and a depth of 300 m, a silicone paint containing polydimethylsiloxane as the main component was applied as a base paint to a thickness of 10 μm, and heated at 200°C. Bake for 60 minutes. Thereafter, AI was deposited (film thickness: 1000) to give a mirror finish. Next, ZnO was deposited by electron beam evaporation (film thickness: 1,500 yen) to complete a reflecting mirror (see Fig. 1 (bl)).
実施例３
プレス成形された硬質ガラス基板を１００°Ｃに加熱し
ながら、１×１、Ｏ”〜５ Ｘ １０ ”Ｔｏｒｒの真
空中で抵抗加熱蒸着法により、ＡＩ膜（膜厚１０００人
）を形成した。その後、同一真空槽内で、電子ビーム蒸
着法によりＺｎＯ膜（膜厚１０００人）を形成し、さら
にその上に、同電子ビーム蒸着法によりＳｉＯ□透明保
護膜（膜厚１．５μｍ）を形成し、反射鏡を完成した（
第２図参照）。Example 3 While heating a press-molded hard glass substrate to 100°C, an AI film (thickness: 1000 mm) was formed by resistance heating vapor deposition in a vacuum of 1 x 1, O'' to 5 x 10'' Torr. Formed. After that, in the same vacuum chamber, a ZnO film (thickness: 1000 mm) was formed by electron beam evaporation, and on top of that, a SiO□ transparent protective film (thickness: 1.5 μm) was formed by the same electron beam evaporation method. and completed the reflector (
(See Figure 2).
実施例４
上記実施例３と同様にして、プレス成形された硬質ガラ
ス基板上に膜厚１０００人のＡＩ膜を形成したのち、取
り出して、下記配合のコーテイング液（以下、％は重量
％をあられす）；をスプレー塗装により塗布した。これ
を１５０℃で１０分間乾燥した後、５００℃で３０分間
焼成し、ＺｎＯ膜（膜厚２０００人）を得た。次に、有
機シリケート系塗料を同じくスプレー塗装した後、２０
０℃で２０分間焼成して、透明保護膜（膜厚的２μ１１
）を形成した（第２図参照）。Example 4 After forming an AI film with a thickness of 1000 on a press-molded hard glass substrate in the same manner as in Example 3 above, it was taken out and coated with a coating liquid of the following composition (hereinafter, % means weight %). ) was applied by spray painting. This was dried at 150° C. for 10 minutes and then fired at 500° C. for 30 minutes to obtain a ZnO film (film thickness: 2000 mm). Next, after spraying the same organic silicate paint,
Baked at 0°C for 20 minutes to form a transparent protective film (film thickness: 2μ11).
) was formed (see Figure 2).
実施例５
上記実施例３において、３ｉ０ｚ膜の厚みを９５０人と
し、さらにその上に電子ビーム蒸着法によりＴｉＯ□膜
（膜厚６００人）を形成するようにして、ＺｎＯ膜上に
低屈折率物質（Ｓｉｎ、）膜と高屈折率物質（Ｔ ｉＯ
ｚ ）膜とが形成された反射鏡を作製したく第３図参照
）。Example 5 In Example 3 above, the thickness of the 3i0z film was set to 950 mm, and a TiO□ film (600 mm thick) was further formed on top of it by electron beam evaporation to form a low refractive index film on the ZnO film. Material (Sin) film and high refractive index material (TiO)
(See Figure 3).
実施例６
上記実施例２において、Ｚｎ○の膜厚を３００人とする
他は、同様にして反射鏡を作製した。Example 6 A reflecting mirror was produced in the same manner as in Example 2, except that the Zn◯ film thickness was changed to 300.
実施例７
上記実施例２において、ＺｎＯの膜厚を４０００人とす
る他は、同様にして反射鏡を作製した。Example 7 A reflecting mirror was produced in the same manner as in Example 2, except that the ZnO film thickness was changed to 4000.
比較例１
上記実施例１において、ＺｎＯ膜を形成しないようにす
る伯は同様にして、ＡＩ□伝膜を有する反射鏡を作製し
た（第４図（ω参照）。Comparative Example 1 A reflecting mirror having an AI□ transmission film was produced in the same manner as in Example 1 above, in which the ZnO film was not formed (see FIG. 4 (ω)).
比較例２
上記実施例３において、ＺｎＯ膜を形成しないようにす
る他は同様にして、ＡＩ蒸着膜およびＳｉＯ□透明保護
膜を有する反射鏡を作製した（第４図（ｂ）参照）。Comparative Example 2 A reflecting mirror having an AI vapor-deposited film and a SiO□ transparent protective film was produced in the same manner as in Example 3 except that the ZnO film was not formed (see FIG. 4(b)).
以上の実施例および比較例の各反射鏡サンプルにつき、
分光反射率特性を評価した。For each reflective mirror sample in the above examples and comparative examples,
The spectral reflectance characteristics were evaluated.
各サンプルの２００〜７８０ｎｍにおける分光反射率（
％）を、自記分光光度計（日立製作断裂；Ｕ−３４１０
）により測定し、第６図に示したようなチャー１・を得
た。これに基づき、以下の計算式により、紫外線カツト
率および可視光線反射率を算出した。Spectral reflectance of each sample at 200 to 780 nm (
%) using a self-recording spectrophotometer (Hitachi manufactured rupture; U-3410
), and a char 1 as shown in FIG. 6 was obtained. Based on this, the ultraviolet cut rate and visible light reflectance were calculated using the following formula.
★紫外線カット率ＣＣＰ’） ・第６図中のＢの面積を求める。★Ultraviolet cut rate CCP') - Find the area of B in Figure 6.
（Ａ＋Ｂ）の面積は、図にみるように、（３８０−２０
０） ｒ＋＋ｍ Ｘ １００％−１８０００であるから
、Ａの面積は（１８０００−Ｂ）で求められる。The area of (A+B) is (380-20
0) r++m X 100%-18000, so the area of A can be found as (18000-B).
・したがって、紫外線カット率ＣＰ（％）は、下記式に
より算出される。- Therefore, the ultraviolet ray cut rate CP (%) is calculated by the following formula.
ＣＰ−（Ａ／ （Ａ＋Ｂ））Ｘ１００ −（１８０００−Ｂ） ／ １８０ ★可視光線反射率（Ｔ） ・第４図中のＤの面積を求める。CP-(A/(A+B))X100 -(18000-B) / 180 ★Visible light reflectance (T) - Find the area of D in Figure 4.
（Ｃ＋Ｄ）の面積は、図にみるように、（７８０−３８
０） ｎｍ Ｘ １００％ミ４００００である。The area of (C+D) is (780-38
0) nm x 100% mi 40000.
・したがって、可視光線反射率Ｔ（％）は、下記式によ
り算出される。- Therefore, the visible light reflectance T (%) is calculated by the following formula.
Ｔ−〔Ｄ／（Ｃ十Ｄ）〕×１００ ＝Ｄ／４００ 以上の結果を、第１表に示す。T-[D/(C1D)]×100 =D/400 The above results are shown in Table 1.
第 １ 表
第１表にみるように、酸化亜鉛膜が形成された実施例の
反射鏡では、比較例に比べ、紫外線を非常に良く吸収、
カットしていることが判明した。Table 1 As shown in Table 1, the reflector of the example on which the zinc oxide film was formed absorbed ultraviolet rays much better than the comparative example.
It turned out that it was cut.
また、同酸化亜鉛膜を形成しても、それを形成しない場
合とほぼ同程度の良好な可視光線反射率を維持できるこ
とも判明した。さらに、実施例１〜５にみるように、こ
の酸化亜鉛膜の膜厚が５００〜３０００人程度であれば
、紫外線カツト率および可視光線反射率の双方が共に優
れた反射鏡を得ることができる。実施例６では間膜の厚
みが５００人未満と薄いため、実施例１〜５に比べて紫
外線カット率値が低く、実施例７では反対に、間膜の厚
みが３０００人を越えているため、可視光線反射率が下
がっている。It has also been found that even when the zinc oxide film is formed, it is possible to maintain visible light reflectance as good as when no zinc oxide film is formed. Furthermore, as shown in Examples 1 to 5, if the thickness of this zinc oxide film is about 500 to 3000, it is possible to obtain a reflecting mirror that is excellent in both ultraviolet ray cut rate and visible light reflectance. . In Example 6, the thickness of the membrane is thin, less than 500 mm, so the ultraviolet cut rate value is lower than in Examples 1 to 5. On the contrary, in Example 7, the thickness of the membrane is over 3000 mm. , the visible light reflectance has decreased.
この発明にかかる反射鏡は、酸化亜鉛膜の作用により、
ランプから発生する紫外線を非常に良く吸収するため、
照射物に対し優れた紫外線劣化防止効果を備えている。The reflecting mirror according to the present invention has the following effects due to the action of the zinc oxide film:
Because it absorbs ultraviolet rays emitted from lamps very well,
It has excellent UV deterioration prevention effects on irradiated objects.
したがって、同反射鏡は、水銀灯などの高圧放電灯、特
に紫外線発生量の多いランプを使用する照明器具に用い
た場合に有用であり、この紫外線劣化防止効果は、使用
に伴って薄れる心配がなく、長期にわたって高度に維持
される。同時に、この発明の反射鏡は、可視光線につい
ては吸収することなく反射させるため、可視光線を損失
することなく、有効に利用できるものである。Therefore, this reflector is useful when used in lighting equipment that uses high-pressure discharge lamps such as mercury lamps, especially lamps that emit a large amount of ultraviolet rays, and there is no fear that this ultraviolet deterioration prevention effect will fade with use. , highly maintained over long periods of time. At the same time, since the reflecting mirror of the present invention reflects visible light without absorbing it, it can be used effectively without loss of visible light.
反射面にあらかじめ設けられた低屈折率物質膜上に酸化
亜鉛膜が形成されていれば、増反射効果が得られ、可視
光線反射率の一層優れた反射鏡となる。If a zinc oxide film is formed on a low refractive index material film previously provided on the reflecting surface, an increased reflection effect can be obtained, resulting in a reflecting mirror with even better visible light reflectance.
さらに、上記酸化亜鉛膜上に透明な保護膜を形成するこ
とにより、表面硬度や耐食性に優れた反射鏡を得ること
ができる。また、上記酸化亜鉛膜上に増反射効果を有す
る光学多層膜を形成することにより、表面硬度や耐食性
に優れると共に、可視光線反射率も一層良好な反射鏡を
得ることが可能となる。Furthermore, by forming a transparent protective film on the zinc oxide film, a reflecting mirror with excellent surface hardness and corrosion resistance can be obtained. Further, by forming an optical multilayer film having a reflection-increasing effect on the zinc oxide film, it is possible to obtain a reflecting mirror with excellent surface hardness and corrosion resistance, and even better visible light reflectance.
第１図（ωおよび（ｂ）、第２図ならびに第３図はいず
れも、この発明にかかる反射鏡の一実施例を模式的に表
す概略断面図、第４図（α）および（ｂ）は従来の反射
鏡を模式的に表す概略断面図、第５図はＺｎＯ膜の有無
による分光反射率特性の相違を表すグラフ、第６図は実
施例および比較例において紫外線カツト率および可視光
線反射率の算出法を説明するグラフである。
１・・・基材 ５・・・酸化亜鉛膜 ６・・・透明保護
膜７・・・低屈折率物質膜 ８・・・高屈折率物質膜代
理人 弁理士 松 本 武 彦
ｌＯ卿發２
回毎鉦？FIG. 1 (ω and (b)), FIG. 2, and FIG. is a schematic cross-sectional view schematically showing a conventional reflecting mirror, FIG. 5 is a graph showing the difference in spectral reflectance characteristics depending on the presence or absence of a ZnO film, and FIG. It is a graph explaining the calculation method of the ratio. 1... Base material 5... Zinc oxide film 6... Transparent protective film 7... Low refractive index material film 8... High refractive index material film substitute People Patent Attorney Takehiko Matsumoto 2nd time?
Claims (1)
られている反射鏡。 ２ 酸化亜鉛膜の膜厚が５００〜３０００Åである請求
項１記載の反射鏡。 ３ 反射面にあらかじめ設けられた低屈折率物質膜上に
酸化亜鉛膜が形成されている請求項１または２記載の反
射鏡。 ４ 酸化亜鉛膜上に透明な保護膜が形成されている請求
項１ないし３のいずれかに記載の反射鏡。 ５ 酸化亜鉛膜上に低屈折率物質膜が形成され、同低屈
折率物質膜上にさらに高屈折率物質膜が形成されている
請求項１ないし３のいずれかに記載の反射鏡。[Claims] 1. A reflecting mirror whose reflecting surface is provided with a transparent zinc oxide film that absorbs ultraviolet rays. 2. The reflecting mirror according to claim 1, wherein the zinc oxide film has a thickness of 500 to 3000 Å. 3. The reflecting mirror according to claim 1 or 2, wherein a zinc oxide film is formed on a low refractive index material film provided in advance on the reflecting surface. 4. The reflecting mirror according to claim 1, wherein a transparent protective film is formed on the zinc oxide film. 5. The reflecting mirror according to claim 1, wherein a low refractive index material film is formed on the zinc oxide film, and a high refractive index material film is further formed on the low refractive index material film.
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|---|---|---|---|
| JP63243316A JP2698623B2 (en) | 1988-09-27 | 1988-09-27 | Reflector |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0845327A2 (en) * | 1996-11-27 | 1998-06-03 | Shuji Kawasaki | Buffing apparatus and method |
| JP2003033988A (en) * | 2001-07-23 | 2003-02-04 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | Molded resin article for lighting parts |
-
1988
- 1988-09-27 JP JP63243316A patent/JP2698623B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| TR199701398A3 (en) * | 1996-11-27 | 1999-10-21 | Shuji Kawasaki | Wet type polishing method, accumulation coating method, soot polishing method, soot polishing equipment, soot surface treatment method, plug polishing equipment work support unit and polishing environment |
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| JP2698623B2 (en) | 1998-01-19 |
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