JPH0282026U - - Google Patents
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- JPH0282026U JPH0282026U JP16207888U JP16207888U JPH0282026U JP H0282026 U JPH0282026 U JP H0282026U JP 16207888 U JP16207888 U JP 16207888U JP 16207888 U JP16207888 U JP 16207888U JP H0282026 U JPH0282026 U JP H0282026U
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- Japan
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 1
Description
第１図は本考案の実施例１を示す装置構成図、
第２図は本考案の実施例２を示す装置構成図であ
る。 １……被処理ウエーハ、２……投影露光部、３
……焼きしめ部、４……ウエーハ搬送部、５……
ローダー側カセツト、６……レシーバー側カセツ
ト、７……ウエーハの動き、８……焼きしめ部内
ウエーハ搬送機構、９……排気ダクト。
第２図は本考案の実施例２を示す装置構成図であ
る。 １……被処理ウエーハ、２……投影露光部、３
……焼きしめ部、４……ウエーハ搬送部、５……
ローダー側カセツト、６……レシーバー側カセツ
ト、７……ウエーハの動き、８……焼きしめ部内
ウエーハ搬送機構、９……排気ダクト。
Claims (1)
- 半導体装置の製造のフオトリン工程で用いられ
る投影露光装置において、露光後ベーク処理を行
う焼きしめ部を投影露光部に隣接して有し、露光
処理終了時点から露光後ベーク処理開始までの時
間を一定時間にして搬送し露光処理から露光後ベ
ーク処理を連続して行うことを特徴とする投影露
光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16207888U JPH0282026U (ja) | 1988-12-14 | 1988-12-14 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16207888U JPH0282026U (ja) | 1988-12-14 | 1988-12-14 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0282026U true JPH0282026U (ja) | 1990-06-25 |
Family
ID=31445582
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16207888U Pending JPH0282026U (ja) | 1988-12-14 | 1988-12-14 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0282026U (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7060115B2 (en) | 2000-07-24 | 2006-06-13 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing method, substrate processing apparatus and substrate carrying method |
| JP2008147315A (ja) * | 2006-12-07 | 2008-06-26 | Canon Inc | 露光装置、露光・現像システム及びデバイス製造方法 |
-
1988
- 1988-12-14 JP JP16207888U patent/JPH0282026U/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7060115B2 (en) | 2000-07-24 | 2006-06-13 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing method, substrate processing apparatus and substrate carrying method |
| JP2008147315A (ja) * | 2006-12-07 | 2008-06-26 | Canon Inc | 露光装置、露光・現像システム及びデバイス製造方法 |