JPH0269958A - 半導体ウエーハ用ホルダ - Google Patents

半導体ウエーハ用ホルダ

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JPH0269958A
JPH0269958A JP63222810A JP22281088A JPH0269958A JP H0269958 A JPH0269958 A JP H0269958A JP 63222810 A JP63222810 A JP 63222810A JP 22281088 A JP22281088 A JP 22281088A JP H0269958 A JPH0269958 A JP H0269958A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
semiconductor wafer
recess
holder
magnetic memory
Prior art date
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Pending
Application number
JP63222810A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshihiko Kikuchi
菊池　敏彦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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Publication of JPH0269958A publication Critical patent/JPH0269958A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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    • G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/7075—Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体ウェーハ用ホルダに関する。
〔従来の技術〕
従来、半導体ウェーハ上に設けた半導体素子の検査は良
、不良の判定だけを行い、不良の場合には、その不良チ
ップ領域の表面にインクを塗付けたり、スクラッチイン
カーにより傷を付けたりして印を付けるという方法をと
っていた。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述した従来の検査結果の記録方法は、半導体ウェーハ
のチップ領域の表面に直接臼をつけるのて、良、不良の
検査結果しか記録できないという問題点があった。また
、スクラッチインカーを用いて刻印する場合においては
、素子を破壊してしまうため、再度検査ができないとい
う欠点があった。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の半導体ウェーハ用ボルタは、基板の表面に半導
体ウェーハを収納するために設けた凹部と、前記基板の
前記凹部以外の表面及び裏側の少くとも一つの面に設け
て前記半導体ウェーハの検査データを記憶させるための
磁気記憶部を有する。
〔実施例〕
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
第１図は本発明の第１の実施例を示す平面図である。
図に示すように、基板１の表面に半導体ウェーハを収納
するために設けた凹部２と、凹部２以外の表面に磁気膜
を設けた磁気記憶部３を有する。
第２図は本発明の半導体ウェーハ用ホルタの使用例を示
すブロック図である。
図に示すように、半導体ウェーハ４の特性を測定器５を
用いて測定し、そのデータを記憶部６に記憶させる。次
に、半導体ウェーハ４を収納する半導体ウェーハ用ホル
ダ７の磁気記憶部に記憶部６に記憶されたデータの例え
ば製品名、製造番号、半導体ウェーハの管理番号、半導
体ウェーハのチップ領域の座標とそのチップ領域の測定
データ、良否の判定等のデータを書込みユニット８を使
用して書込み記録する。
第３図（ａ）、（ｂ）は本発明の第２の実施例を示す平
面図及び底面図である。
図に示すように、基板１の裏面に磁気膜を設けた磁気記
憶部３を有する以外は第１の実施例と同じ構成を有する
。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、半導体ウェーハの検査デ
ータを本発明の半導体ウェーハ用ホルタの磁気記憶部に
記憶させ、その半導体ウェーハ用ホルダに検査済の半導
体ウェーハを収納することにより、半導体ウェーハのチ
ップ領域に直接、印をつける必要がなくなる為、同じ半
導体ウェーハを再度検査することが可能になるという効
果がある。また、半導体ウェーハ上の各チップ領域の不
良項目が詳細に記録できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の第１の実施例を示す平面図、第２図は
本発明の半導体ウェーハ用ホルダの使用例を示すブロッ
ク図、第３図（ａ）、（ｂ）は本発明の第２の実施例を
示す平面図及び底面図である。 １・・・基板、２・・・凹部、３・・・磁気記憶部、４
・・・半導体ウェーハ、５・・・測定器、６・・・記憶
部、７・・・半導体ウェーハ用ホルダ、８・・書込みユ
ニット。 尤　１　図 ＝５ ３２　目 （幻 （ｂ） 尤 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 基板の表面に半導体ウェーハを収納するために設けた凹
    部と、前記基板の前記凹部以外の表面及び裏側の少くと
    も一つの面に設けて前記半導体ウェーハの検査データを
    記憶させるための磁気記憶部を有することを特徴とする
    半導体ウェーハ用ホルダ。
JP63222810A 1988-09-05 1988-09-05 半導体ウエーハ用ホルダ Pending JPH0269958A (ja)

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